JPS63303888A - Single crystal growth device - Google Patents
Single crystal growth deviceInfo
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- JPS63303888A JPS63303888A JP13843387A JP13843387A JPS63303888A JP S63303888 A JPS63303888 A JP S63303888A JP 13843387 A JP13843387 A JP 13843387A JP 13843387 A JP13843387 A JP 13843387A JP S63303888 A JPS63303888 A JP S63303888A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
本発明は単結晶成長装置において、ワイヤ巻取り部を昇
降可能な構成とすることにより、種結晶の回転数に対応
してワイヤの実効長を適宜変化させて、共振現象が生じ
ない長さとし、単結晶をネック部で折損する虞れなく安
定に成長させることが出来るようにしたものである。[Detailed Description of the Invention] [Summary] The present invention provides a single crystal growth apparatus in which the effective length of the wire can be changed appropriately in accordance with the rotation speed of the seed crystal by configuring the wire winding section to be able to rise and fall. The length is such that a resonance phenomenon does not occur, and the single crystal can be grown stably without the risk of breakage at the neck portion.
本発明は単結晶成長装置、特にチョクラルスキー法によ
る単結晶成長装置に関する。The present invention relates to a single crystal growth apparatus, and particularly to a single crystal growth apparatus using the Czochralski method.
単結晶の特性の一つに積層欠陥(0xydat ion
Stacking Fault; O3「)密度がある
。One of the characteristics of single crystals is stacking faults (oxydation).
Stacking Fault; O3 has density.
ウェハプロセスにおいてイントリンシックゲッタリング
と呼ばれる結晶処理技術を用いる場合がある。9の場合
には単結晶内にある程度の積層欠陥密度が必要とされる
。ここで、製造するICによって、またある場合にはユ
ーザによっても必要とされる積層欠陥密度は相違する。A crystal processing technique called intrinsic gettering is sometimes used in wafer processing. In the case of 9, a certain level of stacking fault density is required within the single crystal. Here, the stacking fault density required differs depending on the IC to be manufactured and, in some cases, depending on the user.
従って、所定の積層欠陥密度を有する単結晶を成長させ
る必要がある。Therefore, it is necessary to grow a single crystal having a predetermined stacking fault density.
チョクラルスキー法による成長方法によれば、結晶回転
数Reが積層欠陥密度と関係するといわれているが、本
発明者は、繰り返し実験を行なうことによって、結晶回
転数Rcと積層欠陥密度との間に、第4図中ラインIr
示す関係があることを確認した。According to the growth method using the Czochralski method, it is said that the crystal rotation number Re is related to the stacking fault density. However, by conducting repeated experiments, the present inventor has determined that the relationship between the crystal rotation number Rc and the stacking fault density is , the line Ir in Figure 4
It was confirmed that there is a relationship shown.
積層欠陥密度がDlである単結晶を成長させるときには
、結晶回転数をRc+ に定める必要がある。When growing a single crystal with a stacking fault density of Dl, it is necessary to set the crystal rotation speed to Rc+.
第5図中1は種結晶、2はワイヤである。In FIG. 5, 1 is a seed crystal and 2 is a wire.
ワイヤ2の上端を矢印六方向にRC+で回転させること
により、種結晶1が同方向に回転させられる。By rotating the upper end of the wire 2 in the six directions of arrows RC+, the seed crystal 1 is rotated in the same direction.
このとき、種結晶1及びワイヤ2が振り子3となって、
種結晶1が垂直軸4を中心とする半径(振れ)rの円を
描き、ワイヤ2が垂直軸4を中心とする円錐を描く、円
錐振り子運動をする。円錐撮り子運動の振動数はRc+
である。At this time, the seed crystal 1 and the wire 2 become a pendulum 3,
The seed crystal 1 draws a circle with a radius (swing) r centered on the vertical axis 4, and the wire 2 makes a conical pendulum motion, drawing a cone centered on the vertical axis 4. The frequency of the conical camera movement is Rc+
It is.
一方、撮り子3は固有振動数fを有する。固有振動数f
は次式で表わされる。On the other hand, the photographer 3 has a natural frequency f. natural frequency f
is expressed by the following equation.
ここで、9は重力定数、2はワイヤ2の実効長である。Here, 9 is the gravitational constant, and 2 is the effective length of the wire 2.
上記の振動数Rc+が固有撮動数fと一致すると、振り
子3は共振状態となり、振れrが増大し、単結晶の成長
が実質上不可能となってしまう。When the above-mentioned frequency Rc+ coincides with the eigenvalue frequency f, the pendulum 3 enters a resonant state, the swing r increases, and single crystal growth becomes substantially impossible.
従って、単結晶インゴットの製造には、振れrを小さく
抑える必要がある。Therefore, in manufacturing a single crystal ingot, it is necessary to suppress the runout r.
ここで、積層欠陥密度との関係で、結晶回転数Rc+の
変更は出来ないため、結晶回転数Rc+は変えずに上記
の振れrを小さく抑える必要がある。Here, since the crystal rotation speed Rc+ cannot be changed due to the relationship with the stacking fault density, it is necessary to suppress the above-mentioned swing r to a small value without changing the crystal rotation speed Rc+.
従来の単結晶成長装置の構成を第6図に示す。 The configuration of a conventional single crystal growth apparatus is shown in FIG.
図中10は炉体、11はプルチャンバである。In the figure, 10 is a furnace body, and 11 is a pull chamber.
12はワイヤ巻き取り部であり、プルチャンバ11の上
部に設けである。Reference numeral 12 denotes a wire winding section, which is provided at the upper part of the pull chamber 11.
13はるつぼであり、炉体10の内部に設けてあり、シ
リコン多結晶が加熱溶融している。14はシリコン多結
晶融液である。A crucible 13 is provided inside the furnace body 10, and polycrystalline silicon is heated and melted therein. 14 is a silicon polycrystalline melt.
15はワイヤ、16はワイヤ15に吊り下げられた種結
晶である。15 is a wire, and 16 is a seed crystal suspended from the wire 15.
17はドラムであり、矢印B方向に回転してワイヤ15
を巻き取ると共に矢印六方向に回転する。17 is a drum, which rotates in the direction of arrow B and carries the wire 15.
It winds up and rotates in the six directions of the arrow.
種結晶16は回転しつつ上昇し、シリコン単結晶18が
成長されてプルチャンバ11内に引き上げられる。The seed crystal 16 rises while rotating, and the silicon single crystal 18 is grown and pulled into the pull chamber 11.
19は撮れ防止部材であり、プルチャンバ11内にこの
内周面により案内されて上下動可能に設けである。この
部材19は中心にリング19aを有し、ワイヤ15はリ
ング19aを挿通している。Reference numeral 19 denotes a photographic prevention member, which is provided in the pull chamber 11 so as to be movable up and down while being guided by the inner peripheral surface thereof. This member 19 has a ring 19a in the center, and the wire 15 passes through the ring 19a.
また部材19は最初は第6図に示すようにプルチャンバ
11の下端に位置しており、単結晶18の引き上げに応
じて上動する。Further, the member 19 is initially located at the lower end of the pull chamber 11 as shown in FIG. 6, and moves upward as the single crystal 18 is pulled.
ワイヤ15の下端近傍がリング19aによりプルチャン
バ11の中心に規制され、種結晶16は振れを制限され
つつ上昇し、単結晶18が成長される。The vicinity of the lower end of the wire 15 is restricted to the center of the pull chamber 11 by the ring 19a, and the seed crystal 16 rises while its deflection is restricted, and the single crystal 18 is grown.
ドラム17の矢印A方向の回転数によっては、種結晶1
6の振れの振動数が、ワイヤ15と種結晶16とが形成
する振り子20の固有振動数と一致する共振現象が生ず
ることがある。Depending on the rotation speed of the drum 17 in the direction of arrow A, the seed crystal 1
A resonance phenomenon may occur in which the vibration frequency of the swing of the pendulum 20 coincides with the natural frequency of the pendulum 20 formed by the wire 15 and the seed crystal 16.
この場合には、種結晶16及び単結晶18が大きく円錐
振り子運動をしようとし、外方に振れようとする力が作
用する。In this case, the seed crystal 16 and the single crystal 18 try to make a large conical pendulum movement, and a force acts to swing them outward.
このように単結晶18に遠心力が作用しているところを
リング19aにより単結晶18の振れを強制的に制限す
るため、単結晶18のネック部18aの負担が大となり
、この個所で折れてしまう事故が起こることがあるとい
う重大な問題点があった。Since the swing of the single crystal 18 is forcibly restricted by the ring 19a when centrifugal force is acting on the single crystal 18 in this way, the load on the neck portion 18a of the single crystal 18 is increased, causing the neck portion 18a of the single crystal 18 to break. There was a serious problem in that accidents could occur.
また、振れ防止部材19はプルチャンバ11内にスライ
ド自在に設けてあり、構造上も複雑となるという問題点
もあった。Further, the anti-shake member 19 is slidably provided within the pull chamber 11, and there is also the problem that the structure is complicated.
本発明は、るつぼ内の原材料融液中にワイヤの先端の種
結晶を浸漬し、プルチャンバの上方のワイヤ巻取り部に
より上記ワイヤを巻き取り上記種結晶を回転させながら
引き上げ、単結晶を成長させる装置において、
上記プルチャンバと上記ワイヤ巻取り部との間に該ワイ
ヤ巻取り部の昇降を可能とする真空ベローズを設け、
且つワイヤの実効長を共振状態を避けるように定めるべ
く、上記種結晶の回転数に応じて上記ワイヤ巻取り部を
昇降させる手段を設けてなる構成としたものである。In the present invention, a seed crystal at the tip of a wire is immersed in a raw material melt in a crucible, the wire is wound up by a wire winding section above a pull chamber, and the seed crystal is pulled up while rotating to grow a single crystal. In the apparatus, a vacuum bellows is provided between the pull chamber and the wire winding section to enable the wire winding section to move up and down, and the seed crystal is provided in order to determine the effective length of the wire so as to avoid a resonance condition. The structure includes means for raising and lowering the wire winding section according to the number of rotations.
真空ベローズは、プルチャンバ内を真空に保ったままワ
イヤ巻取り部の昇降を可能とする。The vacuum bellows allows the wire take-up to be raised and lowered while maintaining a vacuum within the pull chamber.
昇降手段は、ワイヤ巻取り部を昇降させてワイヤの実効
長を変化させる。The elevating means changes the effective length of the wire by elevating and lowering the wire winding section.
ワイヤの実効長は共振状態が避けるように定められる。The effective length of the wire is determined to avoid resonance conditions.
これにより、種結晶の回転数を如何なる値に定めた場合
にも、共振現象の発生が避けられ、単結晶はネックの部
分で折損する虞れなく、安定に成長される。As a result, no matter what value the number of rotations of the seed crystal is set, resonance phenomena can be avoided, and the single crystal can be grown stably without the risk of breaking at the neck portion.
第1図は本発明の一実施例による単結晶製造装2230
を示す。第2図はワイヤの実効長を変えたときの状態を
示す。各図中、第6図に示す構成部分と対応する部分に
は同一符号を付し、その説明は省略する。FIG. 1 shows a single crystal manufacturing apparatus 2230 according to an embodiment of the present invention.
shows. FIG. 2 shows the state when the effective length of the wire is changed. In each figure, parts corresponding to those shown in FIG. 6 are designated by the same reference numerals, and their explanations will be omitted.
31はワイヤ巻取り部であり、コ字形のフレーム32に
支持されている。31 is a wire winding section, which is supported by a U-shaped frame 32.
フレーム32は支柱33に嵌合してあり、油圧駆動型昇
降機構34により、支柱33に沿って上下動する。The frame 32 is fitted onto a column 33 and is moved up and down along the column 33 by a hydraulically driven lifting mechanism 34 .
ワイヤ巻取り部31は、回転部31aと非回転部31b
とよりなり、両者の間に真空状態を保つための磁気シー
ル35が設けである。The wire winding section 31 includes a rotating section 31a and a non-rotating section 31b.
Therefore, a magnetic seal 35 is provided to maintain a vacuum state between the two.
回転部31aは、上記フレーム32の上側の腕部32a
の先端に回転可能に支持されている。回転部31a内に
ドラム17が設けである。非回転部31bはフレーム3
2の下側の腕部32bに固定しである。回転部31aは
、非回転部31bに取り付けであるモータ36によりギ
ヤ機構37を介して矢印へ方向に回転し、内部のドラム
17も同方向に回転する。The rotating part 31a is an upper arm part 32a of the frame 32.
It is rotatably supported at the tip of the A drum 17 is provided within the rotating portion 31a. The non-rotating part 31b is the frame 3
It is fixed to the lower arm part 32b of 2. The rotating part 31a is rotated in the direction of the arrow by a motor 36 attached to the non-rotating part 31b via a gear mechanism 37, and the internal drum 17 is also rotated in the same direction.
40は真空ベローズであり、ワイヤ巻取り部31の下部
の非回転部31bとプルチャンバ11との間に設けてあ
り、伸縮自在である。40 is a vacuum bellows, which is provided between the lower non-rotating part 31b of the wire winding part 31 and the pull chamber 11, and is expandable and retractable.
上記より分かるように、昇降機構34によりフレーム3
2が矢印X+ 、X2方向に昇降し、ワイヤ巻取り部3
1が真空ベローズ4oの伸縮を伴って、且つプルチャン
バ11及び炉体10内を真空に保ったまま上下動し、ワ
イヤ16の実効長之が可変される。As can be seen from the above, the frame 3 is
2 moves up and down in the direction of arrow X+ and X2, and the wire winding section 3
1 moves up and down with the expansion and contraction of the vacuum bellows 4o and while keeping the inside of the pull chamber 11 and the furnace body 10 in vacuum, and the effective length of the wire 16 is varied.
なお、第6図に示す撮れ防止部材19は設けられていな
い。Note that the photograph prevention member 19 shown in FIG. 6 is not provided.
次に、上記の装置30の動作について説明する。Next, the operation of the above device 30 will be explained.
まず、積層欠陥密度がD+である単結晶を成長させる場
合について説明する。First, a case will be described in which a single crystal with a stacking fault density of D+ is grown.
この場合には、第4図に基づいて、積層欠陥密度D1に
対応する結晶回転数Rc+でもってワイヤ巻取り部31
を矢印A方向に回転させると共にドラム17を矢印B方
向に回転させる。ワイヤ17は回転しつつドラム17に
巻き取られ、種結晶16及び成長された単結晶18が矢
印へ方向に回転数Rc+で回転しつつ引き上げられる。In this case, based on FIG. 4, the wire winding portion 31 is
is rotated in the direction of arrow A, and the drum 17 is also rotated in the direction of arrow B. The wire 17 is wound around the drum 17 while rotating, and the seed crystal 16 and the grown single crystal 18 are pulled up while rotating at a rotation speed Rc+ in the direction of the arrow.
本発明者は実験の結果、前記の共振現象は単結晶の引き
上げの初期においてのみ生ずることを確認している。As a result of experiments, the present inventor has confirmed that the above-mentioned resonance phenomenon occurs only in the initial stage of pulling a single crystal.
そこで、引き上げ初期のワイヤ実効長之を、これにより
定まる振り子20の固有振動数fが上記の結晶回転数R
c+により生ずる種結晶16の振動数Rc+ と一致し
ないような長さに定める。Therefore, the effective length of the wire at the initial stage of pulling is determined by the natural frequency f of the pendulum 20, which is determined by the crystal rotation speed R.
The length is determined so that it does not match the frequency Rc+ of the seed crystal 16 generated by c+.
第2図はワイヤ実効長を長くして21として固有振動数
fを低下させてf<Rc+ とした場合を示す。FIG. 2 shows the case where the effective length of the wire is increased to 21 and the natural frequency f is lowered so that f<Rc+.
即ち、昇降機構34の駆動により、フレーム32が支柱
33に沿って矢印X1方向に上昇し、ワイヤ巻取り部3
1が真空ベローズ40を引き伸ばしつつ上昇する。これ
により、ワイヤ実効長が長くなって21となる。That is, by driving the elevating mechanism 34, the frame 32 rises in the direction of arrow X1 along the support column 33, and the wire winding section 3
1 rises while stretching the vacuum bellows 40. This increases the effective length of the wire to 21.
これにより、共振状態が避けられ、種結晶16は小さい
振れの状態のまま引き上げられる。この結果、単結晶1
8がそのネック部18aで折損する危険なく安定に成長
して、直径変化が小さく且つ所望の積層欠陥密度D+を
有する単結晶18が得られる。This avoids a resonance state, and the seed crystal 16 is pulled up with a small deflection. As a result, single crystal 1
8 grows stably without the risk of breakage at its neck portion 18a, and a single crystal 18 having a small change in diameter and a desired stacking fault density D+ is obtained.
なお、ワイヤ15の実効長を変えても、プルチャンバ1
1及び炉体1o内は共に真空状態を維持する。Note that even if the effective length of the wire 15 is changed, the pull chamber 1
1 and the inside of the furnace body 1o both maintain a vacuum state.
また、上記とは逆に、第3図に示すように昇降機構34
によりフレーム32を下げ、ワイヤ巻取り部31を矢印
×2方向に下げてワイヤ15の実効長を22と短くし、
振り子20の固有振動数fを上げf>Rc+として、共
振状鼓を避けることもできる。Moreover, contrary to the above, as shown in FIG.
The frame 32 is lowered, the wire winding part 31 is lowered in the x2 direction of the arrow, and the effective length of the wire 15 is shortened to 22.
Resonant drums can also be avoided by increasing the natural frequency f of the pendulum 20 so that f>Rc+.
この場合にも、上記の場合と同様に単結晶18は折損の
虞れなく安定に成長される。In this case as well, the single crystal 18 is grown stably without the risk of breakage, as in the above case.
また積層欠陥密度D2の単結晶を製造するときの動作に
ついて説明する。Further, the operation when manufacturing a single crystal with stacking fault density D2 will be explained.
この場合には、第4図よりして結晶回転数RcをRC2
として単結晶を成長させる(第1図参照)ワイヤ実効長
は、撮り子の固有振動数が種結晶の回転数RC2での回
転による振れの振動数よりずれるように定める。In this case, according to FIG. 4, the crystal rotation speed Rc is set to RC2.
(See FIG. 1) The effective length of the wire is determined so that the natural frequency of the photographic element deviates from the vibration frequency of the vibration due to rotation of the seed crystal at the rotation speed RC2.
これにより、共振状態が避けられた状態で、単結晶が製
造される。As a result, a single crystal is manufactured in a state where a resonance state is avoided.
なお本発明者は、実験により、結晶回転数が20 rp
mのときには、ワイヤの実効長が200c!!iのとき
に共振状態となること、及び結晶回転数が30 rom
のときには、ワイヤの実効長が150値のときに共振状
態となることを確認した。このため、結晶回転数が20
rpmのときには、ワイヤ巻取り部31をワイヤ実効
長が例えば250 ctaとなるような高さに定めれば
よい。結晶回転数が30 ramのときには、ワイヤ巻
取り部31をワイヤ実効長が例えば2001となるよう
な高さに定めればよい。In addition, the present inventor has experimentally determined that the crystal rotation speed is 20 rp.
m, the effective length of the wire is 200c! ! i and the crystal rotation speed is 30 rom.
It was confirmed that a resonance state occurs when the effective length of the wire is 150. Therefore, the crystal rotation number is 20
rpm, the wire winding portion 31 may be set at a height such that the effective length of the wire is, for example, 250 cta. When the crystal rotation speed is 30 ram, the wire winding portion 31 may be set at a height such that the effective length of the wire is, for example, 200 mm.
〔発明の効果〕
本発明によれば、ワイヤの実効長を変化させることが出
来るため、種結晶の回転数を如何なる値に定めた場合に
も、共振現象の発生を避けることが出来、然して所望の
積層欠陥密度を有する単結晶をネック部での折損の虞れ
なく且つ安定に成長させることが出来る。[Effects of the Invention] According to the present invention, since the effective length of the wire can be changed, it is possible to avoid the occurrence of a resonance phenomenon even when the rotation speed of the seed crystal is set to any value, and the desired length can be changed. It is possible to stably grow a single crystal having a stacking fault density of 100 mL without the risk of breakage at the neck portion.
第1図は本発明の一実施例による単結晶成長装置を示す
図、
第2図は第1図の装置においてワイヤの実効長を長くし
たときの状態を示す図、
第3図は第1図の装置においてワイヤの実効長を短くし
たとぎの状態を示す図、
第4図は積層欠陥密度と結晶回転数との関係を示す図、
第5図は種結晶の円錐振り子運動を説明する図、第6図
は従来の単結晶成長装置を示す図である。
図において、
10は炉体、
11はプルチャンバ、
13はるつぼ、
14はシリコン多結晶融液、
15はワイヤ、
16は種結晶、
17はドラム、
18はシリコン単結晶、
18aはネック部、
20は振り子、
30は単結晶成長装置、
31はワイヤ巻取り部、
31aは回転部、
31bは非回転部、
32はフレーム、
33は支柱、
34は油圧駆動型昇降機構、
35は磁気シール、
36はモータ、
37はギヤ機構、
40は真空ベローズである。
盃早結晶べに央1
30饗持&Iべ長袋1
歪皐活し呻滋量
箒1図Oゼ5賢1;ちい1f74ヤリリε秒8にも欠i
くしたヒ之の、軟部を刊す間第3図
第4図
第5図 第6図FIG. 1 is a diagram showing a single crystal growth apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a diagram showing a state in which the effective length of the wire is lengthened in the apparatus of FIG. 1, and FIG. 3 is a diagram similar to that shown in FIG. Figure 4 is a diagram showing the relationship between stacking fault density and crystal rotation speed, Figure 5 is a diagram explaining the conical pendulum motion of the seed crystal, FIG. 6 is a diagram showing a conventional single crystal growth apparatus. In the figure, 10 is a furnace body, 11 is a pull chamber, 13 is a crucible, 14 is a polycrystalline silicon melt, 15 is a wire, 16 is a seed crystal, 17 is a drum, 18 is a silicon single crystal, 18a is a neck part, 20 is a A pendulum, 30 is a single crystal growth device, 31 is a wire winding part, 31a is a rotating part, 31b is a non-rotating part, 32 is a frame, 33 is a column, 34 is a hydraulically driven lifting mechanism, 35 is a magnetic seal, 36 is a 37 is a gear mechanism, and 40 is a vacuum bellows. Sake early crystal beniou 1 30 meals & I be long bag 1 distorted and active groaning quantity broom 1 figure Oze 5 wise 1;
Figure 3 Figure 4 Figure 5 Figure 6
Claims (1)
し、プルチャンバの上方のワイヤ巻取り部により上記ワ
イヤを巻き取り上記種結晶を回転させながら引き上げ、
単結晶を成長させる装置において、 上記プルチャンバ(11)と上記ワイヤ巻取り部(31
)との間に該ワイヤ巻取り部の昇降を可能とする真空ベ
ローズ(40)を設け、 且つワイヤの実効長を共振状態を避けるように定めるべ
く、上記種結晶の回転数に応じて上記ワイヤ巻取り部を
昇降させる手段(32、33、34)を設けてなること
を特徴とする単結晶成長装置。[Claims] A seed crystal at the tip of a wire is immersed in a raw material melt in a crucible, the wire is wound up by a wire winding section above a pull chamber, and the seed crystal is pulled up while rotating;
In the apparatus for growing a single crystal, the pull chamber (11) and the wire winding section (31) are provided.
), and in order to determine the effective length of the wire so as to avoid a resonance state, a vacuum bellows (40) is provided between the A single crystal growth apparatus characterized by being provided with means (32, 33, 34) for raising and lowering a winding section.
Priority Applications (1)
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JP13843387A JPS63303888A (en) | 1987-06-02 | 1987-06-02 | Single crystal growth device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13843387A JPS63303888A (en) | 1987-06-02 | 1987-06-02 | Single crystal growth device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63303888A true JPS63303888A (en) | 1988-12-12 |
Family
ID=15221860
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13843387A Pending JPS63303888A (en) | 1987-06-02 | 1987-06-02 | Single crystal growth device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63303888A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04260686A (en) * | 1991-02-08 | 1992-09-16 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | Device of pulling up single crystal |
JP2002029887A (en) * | 2000-07-21 | 2002-01-29 | Komatsu Electronic Metals Co Ltd | Single crystal pulling-up device |
WO2010117601A2 (en) | 2009-03-31 | 2010-10-14 | Memc Electronic Materials, Inc. | Systems and methods for weighing a pulled object |
-
1987
- 1987-06-02 JP JP13843387A patent/JPS63303888A/en active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04260686A (en) * | 1991-02-08 | 1992-09-16 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | Device of pulling up single crystal |
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WO2010117601A2 (en) | 2009-03-31 | 2010-10-14 | Memc Electronic Materials, Inc. | Systems and methods for weighing a pulled object |
WO2010117601A3 (en) * | 2009-03-31 | 2010-12-16 | Memc Electronic Materials, Inc. | Systems and methods for weighing a pulled object |
CN102449444A (en) * | 2009-03-31 | 2012-05-09 | Memc电子材料有限公司 | Systems and methods for weighing a pulled object |
JP2012522250A (en) * | 2009-03-31 | 2012-09-20 | エムイーエムシー・エレクトロニック・マテリアルズ・インコーポレイテッド | System and method for weighing a pulled object |
US8347740B2 (en) | 2009-03-31 | 2013-01-08 | Memc Electronic Materials, Inc. | Systems for weighing a pulled object having a changing weight |
US8691008B2 (en) | 2009-03-31 | 2014-04-08 | Memc Electronic Materials, Inc. | Systems for weighing a pulled object |
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