JPS6329945A - Package type wafer reerecting method - Google Patents

Package type wafer reerecting method

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JPS6329945A
JPS6329945A JP61174410A JP17441086A JPS6329945A JP S6329945 A JPS6329945 A JP S6329945A JP 61174410 A JP61174410 A JP 61174410A JP 17441086 A JP17441086 A JP 17441086A JP S6329945 A JPS6329945 A JP S6329945A
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wafer
wafers
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lifters
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Shigeru Takeda
茂 武田
Noriomi Kojima
小島 教臣
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Abstract

PURPOSE:To avoid a biting phenomenon among a boat, a wafer and lifters by releasing clamping by a high-precision positioning means when the wafer is reerected in the boat and lifting or lowering a plurality of lifters, displacing the elevating timing of the lifters. CONSTITUTION:A plural pair of wafer holding means 8 with open-close-able stoppers 7 with mutually opposite pectinate grooves 6 for receiving wafers 3 pushed up by lifters 5 or delivering the wafers 3 to the lifters 5 are provided while a high-precision positioning means 9 for a boat 2 or a cassette 1 is furnished. The clamping of the boat by the high-precision positioning means 9 is released temporarily when the wafers are reerected in the boat 2, and the elevating timing of a plurality of the lifters 5 is displaced and each lifter 5 is lifted or lowered. Accordingly, a biting phenomenon among the boat 2, the wafers 3 and the lifters 5 can be avoided.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体製造工程における拡散装置、減圧式Cv
D装置等のウェーハプロセスに用いられるウェーハ立替
機のうち、1力セツト分のウェーハあるいは複数カセッ
ト分のウェーハを同時に立替する一括式ウエーハ立替機
に係り、特にその立替方法に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a diffusion device in a semiconductor manufacturing process, a reduced pressure type CV
Among wafer advance machines used in wafer processes such as D equipment, the present invention relates to a batch type wafer advance machine that advances one set of wafers or a plurality of cassettes of wafers at the same time, and particularly relates to its advance method.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

拡散装置、減圧式CVD装置等の半導体ウェーハプロセ
スで使用されるウェーハ立替機(カセットとボートとの
ウェーハ自動移載手段)の方式は、枚葉式と一括立替方
式に大別される。
The systems of wafer advance machines (automatic wafer transfer means between cassettes and boats) used in semiconductor wafer processes such as diffusion devices and low-pressure CVD systems are broadly classified into single-wafer systems and batch advance systems.

枚葉式はボートの多溝を検知し、多溝にウェーハを一枚
ずつ入れていく方式であり、一括式は1力セツト分(2
5枚)のウェーハあるいは複数カセット分のウェーハを
同時に立替する方式で、現在主流となっている。
The single wafer type detects the multiple grooves on the boat and inserts wafers one by one into the multiple grooves, while the batch type detects the wafers for one force set (2 wafers).
This is a method that simultaneously transfers 5 wafers or multiple cassettes of wafers, and is currently the mainstream method.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

上記枚葉式はボートの熱変形等に起因する動作ミスを回
避出来る可能性が大である半面、立替に長時間を要し、
塵埃の発生が大となるという問題点がある。
Although the above-mentioned single-wafer type has a high possibility of avoiding operational errors caused by thermal deformation of the boat, etc., it takes a long time to rebuild the boat.
There is a problem that a large amount of dust is generated.

また、一括式は機構動作が少ないため立替時間を短縮出
来、塵埃発生が少なく、十分静かな動作が実現できる半
面、ボート等は高精度加工が要求され、更に長期使用に
よるボートの熱変形に対しては対応する方策が無く、部
分的なウェーハの倒れ、ウェーハやボートの微小な破損
、ボート・つ工−ハ・リフタ相互間の噛み込みによる動
作不良等の問題点があった。
In addition, the all-in-one type has fewer mechanical movements, so it can shorten the turnaround time, generate less dust, and achieve sufficiently quiet operation.However, boats and other objects require high-precision machining, and are more susceptible to thermal deformation of boats due to long-term use. There was no countermeasure for this, and there were problems such as partial wafer toppling, minute damage to wafers and boats, and malfunctions due to jamming between boats, tools, and lifters.

本発明は、一括式における前記の問題点を改善し、新規
のボートにあっては、要求される精度を緩和し、使用中
のボートにあっては、熱変形の許容値を大きくし、ボー
ト・ウェーハ・リフタ相互間の噛み込みによる動作不良
を回避することができる一括式ウエーハ立替方法を提供
することを目的とするものである。
The present invention improves the above-mentioned problems with the all-in-one type, reduces the required precision for new boats, and increases the tolerance for thermal deformation for boats in use. - It is an object of the present invention to provide a batch wafer reloading method that can avoid malfunctions due to jamming between wafers and lifters.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明方法は上記−柄穴の問題点を解決し、上記目的を
達成するため、図示のようにカセット1またはボート2
の下部よりウェーハ3を押し上げるための櫛状の774
4を有するリフタ5と、カセット1またはボート2の上
部において、リフタ5により押し上げられたウェーハ3
を受け取り、あるいはリフタ5にウェーハ3を受け渡し
するための2互いに対向する櫛状溝6を有する開閉可能
なストッパ7付きウェーハ保持手段8とを複数組具備す
ると共に、ボート2またはカセット1の高精度位置決め
手段9を存する、一括式ウエーハ立替機において、ボー
ト2でのウェーハ立替時に、一時的に上記高精度位置決
め手段9によるボートクランプを解除し、かつ複数のリ
フタ5の昇降タイミングをずらして各リフタ5を昇降さ
せることによりボート・ウェーハ・リフタ相互間の噛み
込み現象を回避するようにしたものである。
The method of the present invention solves the problem of the above-mentioned handle hole and achieves the above object by using a cassette 1 or a boat 2 as shown in the figure.
A comb-shaped 774 for pushing up the wafer 3 from the bottom of the
4 and a wafer 3 pushed up by the lifter 5 at the top of the cassette 1 or boat 2.
The boat 2 or the cassette 1 can be held with high accuracy. In a batch type wafer unloading machine having a positioning means 9, when wafers are unloaded on the boat 2, the boat clamp by the high precision positioning means 9 is temporarily released, and the lifting/lowering timing of the plurality of lifters 5 is staggered to adjust the position of each lifter. By raising and lowering the lifter 5, the phenomenon of jamming between the boat, wafer, and lifter is avoided.

〔実施例〕〔Example〕

第1図は本発明に係る一括式ウェーハ立替機の簡略斜視
図、第2図及び第3図はそれぞれカセットでのウェーハ
立替時及びボートでのウェーハ立替時における要部の簡
略断面図、第4図は第3図のTV−IV線節略断面図、
第5図は第4図のボート溝部の詳細図である。
FIG. 1 is a simplified perspective view of a batch type wafer loading machine according to the present invention, FIGS. 2 and 3 are simplified cross-sectional views of the main parts during wafer loading in a cassette and wafer loading in a boat, respectively. The figure is a schematic cross-sectional view of the TV-IV line in Figure 3,
FIG. 5 is a detailed view of the boat groove shown in FIG. 4.

まず、本発明に係る一捨代ウェーハ立替機について説明
する。
First, the one-time wafer advance machine according to the present invention will be explained.

図中、1は所定枚数(通常25枚)のウェーハ3を多溝
1aに載置するカセットで、複数個設けられている。2
はカセット複数個分のウェーハ3を各ン簿2aに載置す
るボートである。ボート2の溝2aは第5図示のように
7字形になっており、当該溝2aの深さ (実際にウェ
ーハを支える垂直部分の深さ)hは1〜2■請程度であ
る。
In the figure, 1 is a cassette for placing a predetermined number (usually 25) of wafers 3 in multiple grooves 1a, and a plurality of cassettes are provided. 2
is a boat in which wafers 3 corresponding to a plurality of cassettes are placed on each rack 2a. The groove 2a of the boat 2 has a figure 7 shape as shown in Figure 5, and the depth (h) of the groove 2a (the depth of the vertical portion that actually supports the wafer) is about 1 to 2 inches.

5はカセット1またはボート2の下部よりウェーハ3を
押し上げるための櫛状溝4を有するリフタ、8はカセッ
ト1またはボート2の上部においてリフタ5により押し
上げられたウェーハ3を受け取り、あるいはリフタ5に
ウェーハ3を受け渡しするための互いに対向する櫛状溝
6を有する開閉可能なストッパ7付きウェーハ保持手段
(クランパともいう)である。
5 is a lifter having a comb-shaped groove 4 for pushing up the wafer 3 from the lower part of the cassette 1 or boat 2; 8 is the upper part of the cassette 1 or boat 2 for receiving the wafer 3 pushed up by the lifter 5; This is a wafer holding means (also referred to as a clamper) with an openable and closable stopper 7 having comb-shaped grooves 6 facing each other for transferring wafers 3 and 3.

リフタ5とウェーハ保持手段8はカセット1の数と同数
組2両者の櫛状溝4,6が一敗するようフレーム10の
上、下部に対向して接地されている。
The lifter 5 and the wafer holding means 8 are grounded facing the upper and lower parts of the frame 10 so that the comb-shaped grooves 4 and 6 of both sets 2, the same number as the number of cassettes 1, are connected to each other.

カセット1はカセット移動テーブル11に位置決めされ
、このテーブル11はテーブル移動手段1例えばテーブ
ル送りネジ12により第1図の矢印方向。
The cassette 1 is positioned on a cassette moving table 11, and this table 11 is moved in the direction of the arrow in FIG.

第2図においては紙面に垂直な前後方向に移動できるよ
うになっている。
In FIG. 2, it is possible to move in the front and back direction perpendicular to the plane of the paper.

ボート2はボートホームステーション14に設けられ、
ステーション移動手段15により第1図の矢印方向、第
3図の左右方向、第4図においては紙面に垂直な方向に
移動できるようになっている。
The boat 2 is installed at the boat home station 14,
The station moving means 15 allows movement in the direction of the arrow in FIG. 1, in the left-right direction in FIG. 3, and in the direction perpendicular to the plane of the paper in FIG.

カセット1でのウェーハ立替時にはテーブル11を前方
に移動してカセット1をリフタ5とウェーハ保持手段8
との間に導き、テーブル11を寸動してカセット1.リ
フタ5及びウェーハ保持手段8の多溝1a、  4. 
6の位置を一致させる。
When loading wafers in the cassette 1, the table 11 is moved forward and the cassette 1 is moved between the lifter 5 and the wafer holding means 8.
cassette 1. Multi-groove 1a of lifter 5 and wafer holding means 8, 4.
Match the positions of 6.

しかる後、リフタ5をリフタ上下動手段、例えばリフタ
上下送りネジ13により上動させ、1力セント分または
複数カセント分のウェーハ3をリフタ5に受け渡しして
から、ウェーハ保持手段8を開閉してこれに保持させ、
あるいはウェーハ保持手段8よりリフタ5に1力セツト
分または複カセット分のウェーハ3を移載してからリフ
タ5の下降によりカセット1に移すことができる。
Thereafter, the lifter 5 is moved upward by a lifter vertical movement means, for example, the lifter vertical feed screw 13, and one or more force cents worth of wafers 3 is delivered to the lifter 5, and then the wafer holding means 8 is opened and closed. Let this hold,
Alternatively, the wafers 3 for one set or multiple cassettes can be transferred from the wafer holding means 8 to the lifter 5 and then transferred to the cassette 1 by lowering the lifter 5.

また、ボート2でのウェーハ立替時は、ステーション1
4を左方に移動してボート2をリフタ5とウェーハ保持
手段8との間に導き、ボート2.リフタ5及びウェーハ
保持手段8の善導2a、  4. 6の位置を一致させ
、ボート2をステーション14に高精度位置決め手段9
によりクランプする。
Also, when transferring wafers on boat 2, station 1
4 to the left to guide the boat 2 between the lifter 5 and the wafer holding means 8, and move the boat 2. Good guide 2a of lifter 5 and wafer holding means 8, 4. 6, and high-precision positioning means 9 to place the boat 2 at the station 14.
Clamp.

しかる後、カセット1の場合と同様にしてボート2より
ウェーハ保持手段8にあるいはその逆にウェーハ保持手
段8よりボート2に1力セント分または複数カセット分
のウェーハ3を移すことができる。
Thereafter, in the same manner as in the case of the cassettes 1, one or more cassettes worth of wafers 3 can be transferred from the boat 2 to the wafer holding means 8, or vice versa.

従来はこのような一括式ウェーハ立替機において、ボー
ト2でのウェーハ立替時にボート2を定位置に高精度位
置決め手段9によりクランプした上で、複数のリフタ5
を単独または同時に昇降させていた。
Conventionally, in such a batch type wafer unloading machine, when wafers are unloaded on the boat 2, the boat 2 is clamped in a fixed position by a high-precision positioning means 9, and then a plurality of lifters 5
were raised and lowered individually or simultaneously.

本発明では、ボート2でのウェーハ立替時にボート2を
定位置に高精度位置決め手段9によりクランプして位置
決めした後、そのクランプを一時的に解除し、かつ複数
のリフタ5の昇降タイミングをずらして各リフタ5を昇
降させるようにする。
In the present invention, after the boat 2 is clamped and positioned in a fixed position by the high-precision positioning means 9 when wafers are transferred to the boat 2, the clamp is temporarily released, and the timing of raising and lowering the plurality of lifters 5 is staggered. Each lifter 5 is raised and lowered.

各リフタ5の昇降タイミングをずらすには、例えばボー
ト2よりウェーハ保持手段8にウェーハ3を受け渡す場
合、各リフタ5を順次所定時間遅らせて上昇させ、また
逆にボート2がウェーハ保持手段8よりウェーハ3を受
け取る場合は各リフタ5を順次所定時間遅らせて下降さ
せればよい。
In order to shift the timing of raising and lowering each lifter 5, for example, when transferring wafers 3 from the boat 2 to the wafer holding means 8, each lifter 5 is raised sequentially with a delay of a predetermined time, or conversely, when the boat 2 is transferred from the wafer holding means 8 to When receiving wafers 3, each lifter 5 may be lowered in sequence with a predetermined delay.

Hは各リフタ5の昇降途中における時間差に基づく高さ
の差で、ボート2の溝2aの深さ11より十分に大きな
値、即ちH3−hになるようにするが、hは1〜2鰭程
度であるのでHの値もそれ程大きな値にはならず、極く
小さな値でよい。
H is the height difference based on the time difference during the raising and lowering of each lifter 5, and is set to a value sufficiently larger than the depth 11 of the groove 2a of the boat 2, that is, H3-h, but h is 1 to 2 fins. Therefore, the value of H is not so large, and may be a very small value.

このようにボート2を定位置に高精度に位置決めした後
、そのクランプを解除しているためと、各リフタ5を順
次時間差をつけて昇降させるため、上昇するリフタ5に
よってボート2の/112a内のウェーハ3が上方に出
る場合、あるいは下降するリフタ5によってボート2の
溝2a内にウェーハ3が入る場合、たとえボート2の一
部が熱変形していて各リフタ5とウェーハ保持手段8の
善導4,6に一致しないボート2の溝2aがあったとし
ても、その溝2aへのウェーハ3の出入時にボート2が
ステーション14上で微動してボート2の溝2aとリフ
タ5のR4が一致するから、ボート2の溝2aとリフタ
5の溝4がウェーハ3を介して噛み込むようなおそれは
ない。
After the boat 2 is positioned in a fixed position with high precision in this way, the clamp is released, and each lifter 5 is raised and lowered sequentially with a time lag, so that the rising lifter 5 moves the boat 2 within /112a. When the wafers 3 come out upwards, or when the wafers 3 enter the grooves 2a of the boat 2 by the descending lifters 5, even if a part of the boat 2 is thermally deformed, it is difficult to properly guide each lifter 5 and the wafer holding means 8. Even if there is a groove 2a of the boat 2 that does not match the grooves 4 and 6, the boat 2 moves slightly on the station 14 when the wafer 3 enters or exits the groove 2a, and the groove 2a of the boat 2 and R4 of the lifter 5 match. Therefore, there is no fear that the groove 2a of the boat 2 and the groove 4 of the lifter 5 will come into contact with each other via the wafer 3.

また、各リフタ5の昇降タイミングをずらすことにより
複数カセント分2例えば100枚(4力セント分) 、
 150枚(6カセット分)のウェーハの立替えも、1
力セツト分(25枚)単位で逐次行うことになるため、
ボート全長全溝間に要求される寸法誤差の許容値を大き
くでき、ボートの熱変形に対して対応性の高い立替機と
することができる。
In addition, by shifting the timing of raising and lowering each lifter 5, the number of sheets for multiple cents 2, for example, 100 sheets (for four cents),
Advance delivery of 150 wafers (6 cassettes) is also possible in 1 hour.
Since it will be performed sequentially in units of force set (25 sheets),
It is possible to increase the allowable value of dimensional error required between all the grooves along the entire length of the boat, and it is possible to provide an uprighting machine that is highly responsive to thermal deformation of the boat.

本実施例では各リフタ5を順次時間差をつけて昇降させ
るようにした場合を説明したが、各リフタ5の高さ位置
を構造的に最初から8寸法ずつずらしておいてもよい。
In this embodiment, a case has been described in which each lifter 5 is raised and lowered sequentially with a time difference, but the height position of each lifter 5 may be structurally shifted by 8 dimensions from the beginning.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

即ち、本発明によれば、ボート2でのウェーハ立替時に
ボート2を定位置に高精度位置決め手段9によりクラン
プして位置決めした後、そのクランプを解除し、かつ複
数のリフタ5の昇降タイミングをずらして各リフタ5を
昇降させる方法であるため、たとえボート2の一部が熱
変形していて各リフタ5とウェーハ保持手段8の善導4
,6に一致しないボート2の?n2aがあったとしても
、その?R2aへのウェーハ3の出入時にボート2がス
テーション14上で微動してボート2の溝2aとリフタ
5の溝4が一致するから、ボート・ウェーハ・リフタ相
互間の噛み込み現象を回避することができる。
That is, according to the present invention, after the boat 2 is clamped and positioned in a fixed position by the high-precision positioning means 9 when wafers are transferred to the boat 2, the clamp is released, and the timing of raising and lowering the plurality of lifters 5 is shifted. Since this is a method in which each lifter 5 is raised and lowered by
, of boat 2 that does not match 6? Even if there was n2a, that? When the wafers 3 enter and exit R2a, the boat 2 moves slightly on the station 14, and the groove 2a of the boat 2 and the groove 4 of the lifter 5 match, so it is possible to avoid the phenomenon of jamming between the boat, wafer, and lifter. can.

また、各リフタ5の昇降タイミングをずらすことにより
複数カセント分のウェーハの立替えも、1力セント分単
位で逐次行うことになるため、ボート全長全溝間に要求
される寸法誤差の許容値を大きくでき、ボートの熱変形
に対して対応性の高い立替機とすることができる。
In addition, by shifting the timing of raising and lowering each lifter 5, the wafers for multiple cages can be moved sequentially in units of 1 force cent. It is possible to make the stand-up machine large and highly responsive to thermal deformation of the boat.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明に係る一捨代ウェーハ立替機の簡略斜視
図、第2図及び第3図はそれぞれカセットでのウェーハ
立替時及びボートでのウェーハ立替時における要部の簡
略断面図、第4図は第3図のIV−IV線簡略断面図、
第5図は第4図のボート溝部の詳細図である。 1・・・・・・カセット、1a・・・・・・溝、2・・
・・・・ボート、2a・・・・・・溝、3・・・・・・
ウェーハ、4・・・・・・櫛状溝、5・・・・・・リフ
タ、6・・・・・・櫛状溝、7・・・・・・ストッパ、
8・・・・・・ウェーハ保持手段、9・・・・・・高精
度位置決め手段。
FIG. 1 is a simplified perspective view of a one-time wafer stacking machine according to the present invention, and FIGS. 2 and 3 are simplified cross-sectional views of the main parts during wafer stacking in a cassette and wafer stacking in a boat, respectively. Figure 4 is a simplified sectional view taken along the line IV-IV in Figure 3;
FIG. 5 is a detailed view of the boat groove shown in FIG. 4. 1...Cassette, 1a...Groove, 2...
...Boat, 2a...Ditch, 3...
Wafer, 4... Comb-shaped groove, 5... Lifter, 6... Comb-shaped groove, 7... Stopper,
8...Wafer holding means, 9...High precision positioning means.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  カセット1またはボート2の下部よりウェーハ3を押
し上げるための櫛状の溝4を有するリフタ5と、カセッ
ト1またはボート2の上部において、リフタ5により押
し上げられたウェーハ3を受け取り、あるいはリフタ5
にウェーハ3を受け渡しするための、互いに対向する櫛
状溝6を有する開閉可能なストッパ7付きウェーハ保持
手段8とを複数組具備すると共に、ボート2またはカセ
ット1の高精度位置決め手段9を有する、一括式ウェー
ハ立替機において、ボート2でのウェーハ立替時に、一
時的に上記高精度位置決め手段9によるボートクランプ
を解除し、かつ複数のリフタ5の昇降タイミングをずら
して各リフタ5を昇降させることによりボート・ウェー
ハ・リフタ相互間の噛み込み現象を回避するようにした
ことを特徴とする一括式ウェーハ立替方法。
A lifter 5 having a comb-shaped groove 4 for pushing up the wafer 3 from the lower part of the cassette 1 or the boat 2;
It is equipped with a plurality of sets of wafer holding means 8 with openable and closable stoppers 7 having comb-shaped grooves 6 facing each other for transferring wafers 3 to and from the wafer 3, and also has means 9 for highly accurate positioning of the boat 2 or the cassette 1. In the batch type wafer unloading machine, when wafers are unloaded on the boat 2, the boat clamp by the high-precision positioning means 9 is temporarily released, and the lifting timings of the plurality of lifters 5 are staggered to raise and lower each lifter 5. A batch wafer reloading method characterized by avoiding jamming between the boat, wafers, and lifter.
JP61174410A 1986-07-23 1986-07-23 Batch type wafer replacement method Expired - Lifetime JP2514633B2 (en)

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5991735U (en) * 1982-12-10 1984-06-21 日本電気ホームエレクトロニクス株式会社 Semiconductor wafer transfer equipment
JPS6142126A (en) * 1984-08-02 1986-02-28 Toshiba Corp Wafer boat transfer mechanism

Patent Citations (2)

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JP2514633B2 (en) 1996-07-10

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