JPH01230245A - Transfer apparatus - Google Patents

Transfer apparatus

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Publication number
JPH01230245A
JPH01230245A JP63260250A JP26025088A JPH01230245A JP H01230245 A JPH01230245 A JP H01230245A JP 63260250 A JP63260250 A JP 63260250A JP 26025088 A JP26025088 A JP 26025088A JP H01230245 A JPH01230245 A JP H01230245A
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JP
Japan
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wafer
gripping piece
wafers
plate
load
Prior art date
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Pending
Application number
JP63260250A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuyoshi Kobayashi
小林 和良
Mizuki Uchida
内田 瑞樹
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Electron Yamanashi Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Yamanashi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Yamanashi Ltd filed Critical Tokyo Electron Yamanashi Ltd
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Publication of JPH01230245A publication Critical patent/JPH01230245A/en
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

PURPOSE:To avoid breakdown and abrasion of disks, by monitoring a load applied on holders when a plurality of the disks which are aligned and contained in a first container at a predetermined interval are held with a pair of holders with the aligned state maintained and transferred into a second container. CONSTITUTION:Wafers 1 are transferred between a first transfer container, i.e., a wafer cassette 2, in which a plurality of semiconductor wafers 1 are contained and a second container for treatment, i.e., a quartz boat 3 for heat treatment. At this time, one group of the groups of a plurality of the aligned wafers is held with facing holder 10a and 10b that can be slid in the up and down directions and transferred. Coil springs 14 having desired spring forces are provided in supporting tools 13a and 13b which support the holder 10a and 10b. Extending force is generated in each spring 14 by the friction load that is yielded between the wafer 1 and a pushing part 8 which pushes up the wafer. The extension is detected with a sensor 15 that is provided at the upper end part of the holder 10a. When the excessive load is applied on the wafer 1, the operation is stopped.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、移換え装置に関する。[Detailed description of the invention] [Purpose of the invention] (Industrial application field) The present invention relates to a transfer device.

(従来の技術) 半導体の製造工程例えば酸化工程、拡散工程。(Conventional technology) Semiconductor manufacturing processes such as oxidation process and diffusion process.

CVD工程、アニール工程等を行なう手段として。As a means to perform CVD process, annealing process, etc.

熱処理装置に主に用いられている。すなわち熱処理用反
応炉内に半導体ウェハを150枚配列搭載し また耐熱
性支持体例えば石英ボートを搬入し、上記ウェハの熱処
理を行なっている。これらの工程を総て自動的に実行す
るためこの熱処理を行なう際には前工程からウェハカセ
ットに収納されて搬送された被処理ウェハを熱処理用上
記石英ボートに移換える操作や、上記熱処理後のウェハ
を上記石英ボートから上記ウェハカセットに移換える操
作を移換え装置で行なっている。
Mainly used in heat treatment equipment. That is, 150 semiconductor wafers are arranged in a heat treatment reactor, a heat-resistant support such as a quartz boat is carried in, and the wafers are heat-treated. All of these steps are automatically executed, so when performing this heat treatment, there are operations such as transferring the wafer to be processed, which has been stored in a wafer cassette and transported from the previous process, to the quartz boat for heat treatment, and the operation after the heat treatment. A transfer device is used to transfer the wafers from the quartz boat to the wafer cassette.

この移換え装置は、下記公報などで周知のように対向配
置した一対の挟持板の各対向面側に所定ピッチの複数の
溝が等間隔で設けられたウェハ保持部と、上記挟持板を
対向方向に相対的に移動する挟持抜駆動部と、上記保持
部をx−y−z方向に移動させるロボット機構により構
成されている。
This transfer device consists of a wafer holder, in which a plurality of grooves at a predetermined pitch are provided at equal intervals on the opposing surfaces of a pair of clamping plates arranged opposite each other, and It is comprised of a clamping/extracting drive unit that moves relatively in the direction, and a robot mechanism that moves the holding unit in the x, y, and z directions.

この移換え装置でウェハカセットと石英ボート間の移換
え動作を行なう。この移換え動作は、例えばウェハをウ
ェハカセットから石英ボートへ移換える場合、まず、ウ
ェハカセット内に収納されている複数枚のウェハを押上
げ機構によりウェハカセット内から予め定められた高さ
に上昇させ、この上昇した複数のウェハを上記ウェハ保
持部の挟持仮に設けられている複数の溝に、ウェハ周辺
部を係合させる如く上記挟持抜駆動部で挟持板を対向方
向に相対的に移動させて、上記複数のウェハを挟持する
。この挟持されたウェハは、石英ボート上まで上記移動
部により搬送され、石英ボート上の所望の位置に搭載す
る。このようにして移換え動作が行なわれている。
This transfer device performs a transfer operation between the wafer cassette and the quartz boat. In this transfer operation, for example, when transferring wafers from a wafer cassette to a quartz boat, the multiple wafers stored in the wafer cassette are first lifted to a predetermined height from within the wafer cassette by a push-up mechanism. and then relatively move the holding plate in the opposite direction by the holding/extracting drive unit so that the periphery of the wafer is engaged with the plurality of raised wafer holding grooves provided in the holding unit. and sandwich the plurality of wafers. This clamped wafer is transported onto the quartz boat by the moving section and mounted at a desired position on the quartz boat. The transfer operation is performed in this manner.

この移換え装置は、特開昭54−34774号、特開昭
62−69633号、特開昭61−224430号、特
公昭61−4186号、実開昭61−97842号、実
開昭61=33443号、実開昭61−27640号公
報により周知である。
This transfer device is disclosed in Japanese Patent Application Laid-open No. 54-34774, Japanese Patent Application Publication No. 62-69633, Japanese Patent Application Publication No. 61-224430, Japanese Patent Publication No. 61-4186, Japanese Utility Model Publication No. 61-97842, Japanese Utility Model Application Publication No. 61-9784, It is well known from No. 33443 and Japanese Utility Model Application Publication No. 61-27640.

(発明が解決しようとする課題) しかしながら上記従来の技術では、ウェハをウェハカセ
ット或いは石英ボートへ挿入する場合、又は挿出する場
合に、一対の挟持板の各対向面側に形成されている所定
ピッチの複数の溝と、ウェハカセット或いは石英ボート
のウェハ設定位置に設けられている所定ピッチの複数の
溝とを一致させ、ウェハを自然に保持部とウェハカセッ
トとの間、又は保持部と石英ボートとの間で移換えるが
、上記保持部とウェハカセット或いは、保持部と石英ボ
ートの各溝が多少のタイミングずれなどで一致せずに位
置ずれがあった場合、又はウェハが上記溝から溝へ移動
する間に何らかの障害があった場合、上記ウェハはスム
ースに移換えできず、上記溝の端部にウェハ表面が接触
して擦れながら移動したり、又、位置ずれがひどい場合
には上記移換え動作ができなかったり、最悪の場合ウェ
ハの破損が発生する問題点があった。また、上記擦れな
がらウェハが移動した場合でも、その時の応力によりウ
ェハ表面の素子パターンにダメージを与え不良が発生す
る問題があった。
(Problem to be Solved by the Invention) However, in the above conventional technology, when inserting or removing a wafer into a wafer cassette or a quartz boat, the predetermined By aligning the plurality of grooves with a predetermined pitch with the plurality of grooves with a predetermined pitch provided at the wafer setting position of the wafer cassette or quartz boat, the wafer is naturally placed between the holding part and the wafer cassette, or between the holding part and the quartz boat. However, if the grooves of the holding part and the wafer cassette, or the holding part and the quartz boat do not match each other due to a slight timing difference, or the wafer is moved from the groove to the quartz boat. If there is any obstacle during the transfer, the wafer cannot be transferred smoothly, and the wafer surface may come into contact with the edge of the groove and move while rubbing, or if the wafer is badly misaligned, the wafer may not be transferred smoothly. There was a problem that the transfer operation could not be performed or in the worst case, the wafer could be damaged. Further, even when the wafer is moved while rubbing as described above, there is a problem in that the stress generated at that time damages the element pattern on the wafer surface and causes defects.

更に、上記ウェハの破損及び摩擦により塵が発生し、こ
の塵の影響により歩留まりが低下する問題点かあった。
Furthermore, the damage and friction of the wafer generates dust, and the influence of this dust lowers the yield.

本発明は上記点に対処してなされたもので、板状物の破
損や摩擦を防止することにより信頼性の高い移換え装置
を提供しようとするものである。
The present invention has been made in response to the above-mentioned problems, and aims to provide a highly reliable transfer device by preventing damage and friction of the plate-shaped object.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

(課題を解決するための手段) 本発明は、予め定められた間隔で第1の収納容器に複数
枚整列収納された板状物を、対向配置した一対の把持片
の対向方向への相対的移動により被支持板状物を整列状
態を維持して把持し、第2の収納容器に移換える装置に
おいて、上記板状物の移換え操作過程で上記板状物又は
把持片にかがる負荷を監視する手段を具備したことを特
徴とする移換え装置を得るものである。
(Means for Solving the Problems) The present invention provides a means for holding a plurality of plate-shaped objects arranged and stored in a first storage container at predetermined intervals, by moving a pair of gripping pieces facing each other in opposite directions. In a device that grips a supported plate-like object while maintaining an aligned state by moving and transfers it to a second storage container, a load applied to the plate-like object or the gripping piece during the transfer operation process of the plate-like object. The purpose of the present invention is to obtain a transfer device characterized in that it is equipped with means for monitoring.

(作用効果) 板状物又は把持片にかかる負荷を監視する手段を具備し
たことにより、板状物列と把持片との相対的位置ズレな
ど生じた場合、板状物又は把持片に必要以上の負荷が加
わった場合を直ちに検出し、上記板状物やその接触物の
破損や塵の発生を事前に防止するため、クリーン度の向
上、且つ信頼性の向上が可能となる効果が得られる。
(Effect) By providing a means for monitoring the load applied to the plate-like object or the gripping piece, if a relative positional shift occurs between the plate-like object row and the gripping piece, the load on the plate-like object or the gripping piece will be lower than necessary. It is possible to immediately detect when a load is applied, and to prevent damage to the plate-like object or the objects that come into contact with it, as well as the generation of dust, thereby improving cleanliness and reliability. .

(実施例) 以下、本発明装置を半導体ウェハの移換え工程に適用し
た一実施例につき図面を参照して説明する。
(Example) Hereinafter, an example in which the apparatus of the present invention is applied to a semiconductor wafer transfer process will be described with reference to the drawings.

板状物例えば半導体ウェハ(υを複数枚収納するための
予め定められた間隔で設けられた溝を有する搬送用第1
の収納容器例えばウェハカセット■と、上記ウェハ(ト
)を複数枚搭載するための溝を有する処理用第2の収納
容器例えば熱処理用石英ボート■との間で上記ウェハ■
を自動的に移換える移換え装置(イ)を第1図に示す。
A first conveyor having grooves provided at predetermined intervals for storing a plurality of plate-shaped objects such as semiconductor wafers (υ) is used.
The wafers ■ are stored between a storage container such as a wafer cassette ■ and a second storage container for processing, such as a quartz boat for heat treatment ■ having a groove for mounting a plurality of the wafers (g).
Fig. 1 shows a transfer device (a) that automatically transfers .

この移換え装置(イ)の構成を以下に説明する。The configuration of this transfer device (a) will be explained below.

ウェハカセット■に通常複数枚例えば25枚の板状物例
えば半導体ウェハ(1)が収納され、工程間を搬送する
。上記ウェハ■は板厚方向に所定間隔をおいて上記カセ
ット■内に整列収納可能なされている。このカセット■
が複数個載置自在な如く載置台■が設けられている。こ
の載置台■は、上記ウェハカセット■が搭載されるウェ
ハカセット■搭載位置と、ウェハカセット■に収納した
ウェハ■を受は渡すウェハ受は渡し位置との間をレール
■に沿ってスライド移動するスライド機構■に接続して
おり、上記ウェハカセット■をウェハカセット■搭載位
置とウェハ受は渡し位置に搬送自在と成っている。この
載置台■のウェハカセット■載置部にはウェハカセット
■より小さい孔が設けられており、この孔を貫通自在な
ウェハ押上げ部(8)が配設されている。この押上げ部
(8)は昇降機構(9)により上記載置台0より高い位
置及び低い位置に上下動自在と成っており、またこの押
上げ部(8)の上面は、上記ウェハカセット■に収納さ
れた複数のウェハ■と係合する複数の溝が形成されてい
る。この時の上記溝はウェハ■が挿入状態で横方向に倒
れない程度の安定した深さに設定しておく。
The wafer cassette (2) usually stores a plurality of, for example, 25 plate-shaped objects, such as semiconductor wafers (1), and is transported between processes. The wafers (2) can be arranged and stored in the cassette (2) at predetermined intervals in the thickness direction. This cassette
A mounting table (2) is provided on which a plurality of can be freely placed. This mounting table ■ slides along the rail ■ between the wafer cassette ■ mounting position where the above wafer cassette ■ is loaded and the wafer transfer position where the wafer ■ stored in the wafer cassette ■ is transferred. The wafer cassette (2) is connected to the slide mechanism (2), and the wafer cassette (2) can be freely transported to the wafer cassette (2) loading position and the wafer receiver to the transfer position. A hole smaller than the wafer cassette (2) is provided in the wafer cassette (2) placement portion of this placement table (2), and a wafer push-up portion (8) that can freely pass through this hole is provided. This push-up part (8) can be moved up and down to a higher and lower position than the mounting table 0 by a lifting mechanism (9), and the upper surface of this push-up part (8) is attached to the wafer cassette (2). A plurality of grooves are formed to engage with a plurality of stored wafers. At this time, the groove is set to a stable depth so that the wafer (2) does not fall laterally when inserted.

また、上記押上げ部■の各溝にセンサーを設けてウェハ
カセット■に収納されているウェハO)の位置及び枚数
を検知できるウェハカウンターにより構成すると、ウェ
ハ(1)の監視も同時に行なうことができる。押上げ部
(8)のセンサーは各溝の予め定められた深さ位置に受
光器を設け、この受光器による信号検知の有無により判
断することができる。
In addition, if a sensor is provided in each groove of the push-up part (2) and a wafer counter is configured to detect the position and number of wafers (O) stored in the wafer cassette (2), it is possible to monitor the wafer (1) at the same time. can. The sensor of the push-up part (8) is provided with a light receiver at a predetermined depth position of each groove, and judgment can be made based on whether or not a signal is detected by this light receiver.

この判断は正常配置も意味している。この押上げ部(8
)で上記ウェハカセット■に収納されている複数枚のウ
ェハ0)を押上げ、 (1’)の位置に設定した時、こ
のウェハ(1)を挟持する一対の支持体例えば2枚の把
持片(10a) (10b)が移換え機構(11)に連
結している駆動部(12)に接続状態で配置している。
This judgment also means normal placement. This push-up part (8
) to push up the multiple wafers 0) stored in the wafer cassette ■ and set it to the position (1'), a pair of supports, for example two gripping pieces, that hold the wafers (1) (10a) and (10b) are arranged in a connected state to a drive section (12) connected to a transfer mechanism (11).

この把持片(10a) (lob)の各対向面側には、
上記複数のウェハ(1)を挟持するための図示しない複
数の溝が上記ウェハカセット■と同様に形成されている
。また、との把持片(10a) (10b)の下端部の
断面は、上端部の断面より厚く、ウェハ■を把持する如
く突出している。このような形状の把持片(10a)(
10b)は、駆動部(12)の把持片保持具(13a)
 (13b)に接続しているが、この接続部には図示し
ないスライド機構が設けられており、このスライド機構
により上記把持片(10a) (10b)は保持具(1
3a) (13b)上を夫々鉛直方向にスライド移動自
在と成っている。また、この把持片(10a) (10
b)の鉛直方向の移動を制限するコイルスプリング(1
4)がウェハ■移動方向と平行に例えば把持片(10a
) (LOb)と保持具(13a) (13b)との間
に設けられている。この時のコイルスプリング(14)
のバネ力は、把持片(10a)(10b)で把持するウ
ェハ■にかかる必要以上の負荷に対して伸縮する程度に
設定する。このようにスライド移動自在に設けられた上
記把持片(10a)(10b)の少なくとも一方の把持
片例えば把持片(10a)のウェハ把持部を除(部分例
えば把持片(10a)末端部に、ウェハ又は把持片の負
荷を監視する手段例えば把持片(10a) (lob)
の位置ずれを検出するマグネットセンサー(15)の一
部であるマグネット部が設けられ、又、上記把持片(1
0a)が多少上昇した場合の上記保持具(13a)のマ
グネット部と対向する位置に上記センサー(15)の上
限用センサ一部が配設され、更に上記把持片(10a)
が多少下降した場合の上記保持具(13a)のマグネッ
ト部と対向する位置に上記センサー(15)の下限用セ
ンサ一部が配設されている。この上限用センサー部及び
下限用センサ一部を設けたことにより、上記把持片(1
0a) (10b)でウェハωを把持した場合、ウェハ
α)にかかる必要以上の負荷が、把持片(10a)(1
0b)のスライド移動で多少吸収され、このスライド移
動により上記センサー(15)のマグネット部が上限用
センサ一部或いは下限用センサ一部に接近し、この接近
によりどちらかのセンサ一部が上記把持片(10a) 
(LOb)の移動を検知して、移換え装置に)の動作停
止や所定の警告を出力するように構成されている。この
ように構成された把持片(loa)(10b)と保持具
(13a) (13b)の間隔は通常挟持するウェハ0
)の直径より長く設定され、この間隔は所望の長さに設
定自在と成っている。また、この保持具(13a) (
13b)は、上記移換え機構(11)に連設している複
数本のシャフト例えば4本のシャフト(16)により支
持されており、上記保持具(13a)(13b)が相対
的に移動自在に例えば保持具(13a)をシャフト(1
7)の駆動により上記シャフト(16)に沿って移動自
在とし、又、上記ウェハカセット■に近設した上記石英
ボート■上方まで、移換え機構(11)に内設している
シャフト駆動部により移動自在と成っている。上記石英
ボート■は載置台(18)上の予め定められた位置に載
置自在と成っており、この載置台(18)は、上記石英
ボート■が搭載される搭載位置と、次工程の装置にこの
石英ボート■を受は渡す受は渡し位置との間でレール(
19)に沿って移動自在な搬送機+i!(20)に接続
している。このようにして移換え装置に)が構成されて
いる。
On each opposing surface side of this gripping piece (10a) (lob),
A plurality of grooves (not shown) for holding the plurality of wafers (1) are formed in the same way as in the wafer cassette (2). Further, the cross section of the lower end of the gripping pieces (10a) and (10b) is thicker than the cross section of the upper end, and protrudes to grip the wafer (2). A gripping piece (10a) having such a shape (
10b) is a grip piece holder (13a) of the drive part (12)
(13b), this connecting portion is provided with a sliding mechanism (not shown), and this sliding mechanism allows the gripping pieces (10a) and (10b) to
3a) and (13b), each of which can be slid vertically. Moreover, this gripping piece (10a) (10
b) A coil spring (1) that limits the vertical movement of
4), for example, a gripping piece (10a) parallel to the wafer movement direction.
) (LOb) and the holders (13a) (13b). Coil spring at this time (14)
The spring force is set to such an extent that the wafer (10a) (10a) (10b) expands and contracts in response to an excessive load applied to the wafer (10b) held by the gripping pieces (10a) (10b). At least one of the gripping pieces (10a) and (10b) provided so as to be slidably movable, for example, the wafer gripping part of the gripping piece (10a) (for example, at the end of the gripping piece (10a), the wafer or means for monitoring the load on the gripping piece, e.g. gripping piece (10a) (lob).
A magnet part that is a part of a magnetic sensor (15) for detecting the positional deviation of the gripping piece (1) is provided.
A part of the upper limit sensor of the sensor (15) is disposed at a position facing the magnet part of the holder (13a) when the gripping piece (10a) is slightly raised.
A portion of the lower limit sensor of the sensor (15) is disposed at a position facing the magnet portion of the holder (13a) when the holder (13a) is slightly lowered. By providing this upper limit sensor part and a part of the lower limit sensor, the above-mentioned gripping piece (1
When the wafer ω is gripped by the gripping pieces (10a) (10b), an excessive load on the wafer α) is applied to the gripping pieces (10a) (10b).
0b), and this sliding movement causes the magnet part of the sensor (15) to approach a part of the upper limit sensor or a part of the lower limit sensor, and as a result of this approach, either part of the sensor grips the above. Piece (10a)
It is configured to detect the movement of (LOb) and output a predetermined warning to stop the operation of (LOb) to the transfer device. The interval between the gripping piece (loa) (10b) and the holder (13a) (13b) configured in this way is normally set to 0.
), and this interval can be set to any desired length. In addition, this holder (13a) (
13b) is supported by a plurality of shafts, for example, four shafts (16), which are connected to the transfer mechanism (11), and the holders (13a) and (13b) are relatively movable. For example, attach the holder (13a) to the shaft (1
The wafer cassette (7) can be moved freely along the shaft (16) by the drive of the wafer cassette (11), and the wafer cassette (11) can be moved up to above the quartz boat (2) located close to the wafer cassette (2) by the shaft drive unit installed in the transfer mechanism (11). It is movable. The quartz boat (■) can be placed at a predetermined position on a mounting table (18), and this mounting table (18) has a mounting position where the quartz boat (■) is mounted and a device for the next process. ■ Pass this quartz boat to the rail between the passing position and the passing position.
19) Transport machine that can be moved freely along +i! (20) is connected. In this way, a transfer device) is constructed.

次に、上述した構成の移換え装置による半導体ウェハの
移換え動作を説明する。
Next, a semiconductor wafer transfer operation using the transfer apparatus having the above-described configuration will be described.

次工程装置が例えば熱処理装置である場合、まず、m送
機構(20)を上記載置位置までレール(12)に沿っ
て移動させる。この搭載位置で、上記搬送機構(20)
に設けられている載置台(18)上に石英ボート■を搭
載し、この石英ボート■を載置台(18)上で位置決め
する。この位置決めされた石英ボート(3)を所望のウ
ェハ搭載位置へ移動する。また、他方のスライド機構■
はウェハカセット■搭載位置に設定し、載置台0上に複
数のウェハカセット■を搭載する。このウェハカセット
■を搭載した搬送機構■は受は渡し位置へ移動し、位置
決めする。そして、ウェハカセット■搭載位置の載置台
■に形成された孔を貫通して下方に待機していた押上げ
部(8)が昇降機構0)の駆動で上昇する。この時、上
記ウェハカセット■内に収納されている複数枚例えば2
5枚のウェハ■は、押上げ部(8)の上面に形成された
各ウェハ(1)に係合する複数の溝に挿入され、各ウェ
ハ0)が横方向に倒れない安定状態で、上記押上げ部(
8)の上昇によりウェハカセット■より上方即ち(1′
)の位置へ押上げる。この押上げたウェハ(1)は、上
記押上げ部(8)の各溝に設けられたセンサー例えば透
過型センサー(図示せず)により各ウェハ(ト)の位置
及び枚数を検知する。この位置及び枚数から、保持具(
13a) (13b)に接続されている把持片(10a
) (10b)で上記複数枚のウェハ■を把持する位置
を判断して、この把持片(10a)(10b)の適合す
る位置で把持する。このウェハ■を把持する動作は、ま
ず、上記(1′)の位置に押上げられたウェハ■を上記
把持片(10a) (10b)に設けられている所定ピ
ッチの溝に係合させる如く上記保持具(13a)を図示
しない駆動機構に連設したシャフト(17)により、保
持具(13b)方向にシャフト(16)に沿って移動さ
せる。そして、上記各溝に複数のウェハ■が係合した時
点で、上記保持具(13a)の駆動を停止させ、上記ウ
ェハ■を押上げていた押上げ部(ハ)を下降させる。こ
の時、上記ウェハ■は、下端部が対向方向に突出した形
状の把持片(10a) (10b)により把持状態とな
っているため、落下す令ことなく支持されている。そし
て、この把持状態で駆動部(12)により上記ウェハ■
を石英ボート■上へ移動させ、この石英ボート■の予め
定められた位置に整列状態を維持して搭載する。このよ
うな、ウェハカセット■から石英ボート■上の移換えを
ウェハ■の枚数に応じて数回繰り返す。
If the next process device is, for example, a heat treatment device, first, the m feed mechanism (20) is moved along the rail (12) to the above-mentioned placement position. At this mounting position, the transport mechanism (20)
The quartz boat (■) is mounted on the mounting table (18) provided in the quartz boat (18), and the quartz boat (2) is positioned on the mounting table (18). This positioned quartz boat (3) is moved to a desired wafer loading position. In addition, the other slide mechanism ■
is set at the wafer cassette ■ mounting position, and a plurality of wafer cassettes ■ are mounted on the mounting table 0. The transport mechanism (■) equipped with this wafer cassette (■) moves the receiver to the transfer position and positions it. Then, the push-up part (8), which passes through a hole formed in the mounting table (2) at the wafer cassette (1) loading position and is waiting below, is raised by the driving of the lifting mechanism (0). At this time, the plurality of wafers stored in the wafer cassette ■, for example, two
The five wafers (■) are inserted into a plurality of grooves that engage with each wafer (1) formed on the upper surface of the push-up part (8), and in a stable state where each wafer (0) does not fall laterally, the above-mentioned Push-up part (
8) rises above the wafer cassette ■, that is, (1'
) to the position. The position and number of each wafer (1) that has been pushed up is detected by a sensor, for example, a transmission type sensor (not shown) provided in each groove of the pushing up section (8). From this position and number of sheets, the holder (
13a) The gripping piece (10a) connected to (13b)
) In step (10b), the positions at which the plurality of wafers (1) are to be gripped are determined, and the gripping pieces (10a) and (10b) are gripped at suitable positions. The operation of gripping the wafer ■ is as follows: First, the wafer ■ pushed up to the position (1') is engaged with the grooves of a predetermined pitch provided in the gripping pieces (10a) (10b). The holder (13a) is moved along the shaft (16) in the direction of the holder (13b) by a shaft (17) connected to a drive mechanism (not shown). Then, when a plurality of wafers (1) are engaged with each of the grooves, the drive of the holder (13a) is stopped, and the push-up portion (3) that was pushing up the wafers (3) is lowered. At this time, the wafer (1) is held by the gripping pieces (10a) (10b) whose lower ends protrude in opposite directions, so that the wafer (2) is supported without falling. Then, in this gripping state, the drive unit (12) drives the wafer
are moved onto the quartz boat ■ and mounted on the quartz boat ■ at a predetermined position while maintaining the alignment state. Such transfer from the wafer cassette (2) onto the quartz boat (2) is repeated several times depending on the number of wafers (2).

この後、複数枚のウェハ■を搭載した石英ボート■を搬
送機構(13)の移動により受は渡し位置に搬送設定し
、この石英ボート■を次工程の例えば熱処理装置へ搬送
するエレベータ−へ受は渡す。
After that, the quartz boat ■ loaded with a plurality of wafers ■ is set to be transported to the transfer position by the movement of the transport mechanism (13), and the quartz boat pass it on.

また、上記熱処理装置からの処理済ウェハ■は、上記動
作と逆に行なわれ、石英ボート(3)を搬送機構(20
)の移動により受は渡し位置から搭載位置へ移動し、こ
の位置で同様に石英ボート■とウェハカセット■との間
でウェハ■を移換える。
Furthermore, the processed wafers (2) from the heat treatment apparatus are transported by the quartz boat (3) to the transport mechanism (20
) moves the receiver from the transfer position to the loading position, and at this position the wafer ■ is similarly transferred between the quartz boat ■ and the wafer cassette ■.

」1記のようにウェハカセット■と石英ボート■の間で
ウェハ(υの移換えが実行される。これは、ウェハカセ
ット■と石英ボート■と一対の把持片(loa) (1
0b)とが正確に位置決めされた条件下で実行されるよ
うに成っているが、ウェハ■をウェハカセット■或いは
石英ボート■へ把持片(10a)(tob)により挿入
する場合、又は、挿出する場合に、上記把持片(10a
) (10b)とウェハカセット■或いは1把持片(1
0a) (10b)と石英ボート■の各溝が一致せずに
位置ずれがあった場合、上記ウェハ(υは自然に移換え
できず、多少の位置ずれの場合には、上記溝の端部にウ
ェハ■表面が接触して擦れながら移動し、又、位置ずれ
がひどい場合には上記移換え動作ができなかったり、最
悪の場合ウェハ(1)の破損が発生してウェハ(0表面
に形成されているパターンにダメージを与えてしまう。
As described in Section 1, the transfer of wafers (υ) is performed between the wafer cassette ■ and the quartz boat ■.
0b) is carried out under precisely positioned conditions, but when inserting the wafer into the wafer cassette or into the quartz boat by means of the gripping piece (10a) (tob), When the gripping piece (10a
) (10b) and wafer cassette ■ or 1 gripping piece (1
0a) If the grooves of (10b) and the quartz boat ■ do not match and there is a misalignment, the wafer (υ) cannot be transferred naturally, and if there is a slight misalignment, the end of the groove If the wafer (1) surface comes into contact with the wafer (1) and moves while rubbing, or if the positional deviation is severe, the above transfer operation may not be possible, or in the worst case, the wafer (1) may be damaged and the wafer (1) may be damaged. This will damage the pattern being used.

そのため、ウェハωを把持する把持片(10a) (1
0b)を、予め定められた位置を基準として多少上下動
する構成例えば保持具(13a) (13b)と、この
保持具(13a)(13b)上を上下方向にスライド移
動可能な把持片(1oa) (10b)との間に、所望
のバネ力を有するコイルスプリング(14)を設けた構
成とし1例えばウェハカセット■内から押上げ部(8)
で押上げられたウェハωを上記把持片(10a) (1
0b)で把持する。この時1把持片(loa) (10
b)の溝と上記押上げ部(8)の溝との位置が多少ずれ
ている場合、押上げ部(8)上の溝に挿入されているウ
ェハ(υを把持片(10a) (10b)で把持して挿
出すると、ウェハ(υと押上げ部0の溝との摩擦により
負荷がかかり、この負荷により上記コイルスプリング(
14)が伸びて、把持片(10a)の上端部に設けられ
たセンサー(15)で上記コイルスプリング(14)の
伸びを検知し、ウェハ(1)に過剰の負荷がかかってい
ることを認識してウェハ■の挿入或いは挿出動作を停止
する。次に、上記ウェハ(1)のずれを補正する動作を
、ソフトウェアで把持片(loa) (10b)をウェ
ハ0)のずれを補正する方向に移動させる等して実行す
る。この補正後のウェハ(1)は自然に挿入・出され、
ウェハ0表面に形成されているパターンにダメージを与
えることなく移換え動作を行なうことができる。
Therefore, the gripping piece (10a) (1
0b) can be moved up and down somewhat with respect to a predetermined position, for example, a holder (13a) (13b), and a gripping piece (1oa ) (10b) is provided with a coil spring (14) having a desired spring force.
The wafer ω pushed up by the gripping piece (10a) (1
0b). At this time, 1 gripping piece (LOA) (10
If the grooves in b) and the grooves in the push-up part (8) are slightly misaligned, hold the wafer (υ) inserted in the groove in the push-up part (8) with the gripping pieces (10a) (10b). When the wafer is gripped and inserted, a load is applied due to friction between the wafer (υ) and the groove of the push-up section 0, and this load causes the coil spring (
14) is extended, the sensor (15) provided at the upper end of the gripping piece (10a) detects the extension of the coil spring (14), and recognizes that an excessive load is being applied to the wafer (1). Then, the insertion or ejection operation of the wafer (2) is stopped. Next, the operation of correcting the displacement of the wafer (1) is executed by using software, such as moving the gripping piece (LOA) (10b) in the direction of correcting the displacement of the wafer (0). After this correction, the wafer (1) is inserted and taken out naturally,
The transfer operation can be performed without damaging the pattern formed on the surface of the wafer 0.

また、上記コイルスプリング(14)は、ウェハωにか
かる負荷を監視することのみならず、上記把持片(10
a) (10b)の下端部が障害物に接触した場合も、
コイルスプリング(14)が縮むことによりセンサー(
15)で上限を検出して、動作停止等の安全対策を行な
うことができる。
Further, the coil spring (14) is used not only to monitor the load applied to the wafer ω, but also to monitor the load applied to the wafer ω.
a) If the lower end of (10b) comes into contact with an obstacle,
When the coil spring (14) contracts, the sensor (
15), it is possible to detect the upper limit and take safety measures such as stopping the operation.

上記実施例ではウェハ(1)又は把持片(loa) (
10b)にかかる負荷を監視する手段を、把持片の連結
部に鉛直方向に伸縮するコイルスプリングと、このコイ
ルスプリング伸縮方向への把持片の位置ずれを検出する
センサーで構成したが、この機構に限定するものではな
く、例えば片持ち支持されているシャフト(16)の移
換え機構(11)方向の一端側に上記シャフト(16)
のたわみを検出する歪センサーを設け、上記シャフト(
16)の他端側に設けた支持板でウェハ(ト)を把持し
た時のウェハ■の下方へかかる負荷を、上記歪センサー
によりシャフト(16)のたわみを検出しても同様な効
果を得ることができる。
In the above embodiment, the wafer (1) or the gripping piece (LOA) (
The means for monitoring the load applied to 10b) is composed of a coil spring that expands and contracts in the vertical direction at the connection part of the gripping piece, and a sensor that detects the positional deviation of the gripping piece in the direction of expansion and contraction of this coil spring. For example, the shaft (16) cantilevered at one end of the shaft (16) in the direction of the transfer mechanism (11).
A strain sensor is installed to detect the deflection of the shaft (
16) A similar effect can be obtained by detecting the deflection of the shaft (16) using the strain sensor, which is applied to the load applied downward to the wafer (■) when the wafer (G) is gripped by the support plate provided on the other end. be able to.

以上述べたようにこの実施例によれば、板状物又は把持
片にかかる負荷を監視する手段を具備したことにより、
板状物又は把持片に必要以上の負荷が加わった場合を検
出し、上記板状物やその接触物の破損や塵の発生を事前
に防止するため、クリーン度の向上、且つ信頼性の向上
が可能となる。
As described above, according to this embodiment, by providing the means for monitoring the load applied to the plate-like object or the gripping piece,
Detects when an excessive load is applied to a plate-like object or gripping piece, and prevents damage or dust generation to the plate-like object or objects in contact with it, improving cleanliness and reliability. becomes possible.

また、半導体ウェハの移換えにおいては、ウェハ表面に
形成されているパターンへダメージを与えることがなく
、歩留まりを向上することができる。
Furthermore, when transferring semiconductor wafers, the pattern formed on the wafer surface is not damaged, and the yield can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明装置の一実施例を説明するための移換え
装置の構成図である。 1・・・ウェハ、     4・・・移換え装置。 10a、10b・・・把持片、   11・・・移換え
機構、13a、13b・・・保持具、   14・・・
コイルスプリング、15・・・センサー。 特許出願人  チル山梨株式会社
FIG. 1 is a block diagram of a transfer device for explaining one embodiment of the device of the present invention. 1... Wafer, 4... Transfer device. 10a, 10b...Gripping piece, 11...Transfer mechanism, 13a, 13b...Holder, 14...
Coil spring, 15...sensor. Patent applicant Chill Yamanashi Co., Ltd.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)予め定められた間隔で第1の収納容器に複数枚整
列収納された板状物を、対向配置した一対の把持片の対
向方向への相対的移動により被支持板状物を整列状態を
維持して把持し、第2の収納容器に移換える装置におい
て、上記板状物の移換え操作過程で上記板状物又は把持
片にかかる負荷を監視する手段を具備したことを特徴と
する移換え装置。
(1) A plurality of plate-like objects are aligned and stored in a first storage container at predetermined intervals, and the supported plate-like objects are aligned by relative movement in opposite directions of a pair of opposing gripping pieces. The device maintains and grips the object and transfers it to a second storage container, characterized by comprising means for monitoring the load applied to the plate-like object or the gripping piece during the process of transferring the plate-like object. Transfer device.
(2)負荷を監視する手段は、把持片の連結部に鉛直方
向に伸縮するコイルスプリングと、このコイルスプリン
グ伸縮方向ヘの上記把持片の位置ずれを検出するセンサ
ーから成ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の移換え装置。
(2) A patent characterized in that the means for monitoring the load comprises a coil spring that expands and contracts in the vertical direction at the connecting portion of the gripping piece, and a sensor that detects a positional deviation of the gripping piece in the direction of expansion and contraction of the coil spring. A transfer device according to claim 1.
(3)板状物又は把持片に負荷がかかった場合に移換え
動作を停止し、上記負荷を取り除く位置に板状物及び把
持片を相対的に移動することを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の移換え装置。
(3) A claim characterized in that when a load is applied to the plate-like object or the gripping piece, the transfer operation is stopped, and the plate-like object and the gripping piece are relatively moved to a position where the load is removed. Transfer device according to item 1.
JP63260250A 1987-11-16 1988-10-14 Transfer apparatus Pending JPH01230245A (en)

Priority Applications (1)

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JP63260250A JPH01230245A (en) 1987-11-16 1988-10-14 Transfer apparatus

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62-290406 1987-11-16
JP29040687 1987-11-16
JP63260250A JPH01230245A (en) 1987-11-16 1988-10-14 Transfer apparatus

Publications (1)

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ID=26544522

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
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JP (1) JPH01230245A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0992704A (en) * 1995-09-21 1997-04-04 Nakajima:Kk Transfer system for semiconductor silicon wafer
US6055694A (en) * 1998-11-30 2000-05-02 Tsk America, Inc. Wafer scrubbing machine
KR100265757B1 (en) * 1997-05-09 2000-09-15 윤종용 Wafer status checking sensor for prevention of miss loading in wafer processing equipment

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