JPS6329724Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6329724Y2 JPS6329724Y2 JP4123186U JP4123186U JPS6329724Y2 JP S6329724 Y2 JPS6329724 Y2 JP S6329724Y2 JP 4123186 U JP4123186 U JP 4123186U JP 4123186 U JP4123186 U JP 4123186U JP S6329724 Y2 JPS6329724 Y2 JP S6329724Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- adsorber
- adsorption
- regeneration
- helium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 63
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims description 45
- 239000001307 helium Substances 0.000 claims description 43
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 43
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 claims description 37
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 claims description 37
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 34
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 24
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims description 15
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 claims description 15
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 9
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 2
- 238000003795 desorption Methods 0.000 claims description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 10
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 3
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 2
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 2
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 description 2
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052680 mordenite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Hydrogen, Water And Hydrids (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、ヘリウム又は水素ガス中の不純物を
低温吸着除去する高純度ガス精製装置に関するも
のである。最近、原子力分野の高温ガス炉、高速
増殖炉、核融合炉などの冷却材として熱伝達のよ
いヘリウムガスが用いられている。
低温吸着除去する高純度ガス精製装置に関するも
のである。最近、原子力分野の高温ガス炉、高速
増殖炉、核融合炉などの冷却材として熱伝達のよ
いヘリウムガスが用いられている。
冷却材としてのヘリウムガスには、そのガス中
に漏れ及び脱ガスなどのため不純物の含入があ
り、その不純ガスの増加とともに熱伝達効果の減
退及び各種の事故をもたらすようになる。このた
め循環している冷却材ヘリウムガスを一部バイパ
スさせて、そのヘリウムガスを精製し、ヘリウム
ループ内の不純ガス成分を除去する装置が必要に
なる。
に漏れ及び脱ガスなどのため不純物の含入があ
り、その不純ガスの増加とともに熱伝達効果の減
退及び各種の事故をもたらすようになる。このた
め循環している冷却材ヘリウムガスを一部バイパ
スさせて、そのヘリウムガスを精製し、ヘリウム
ループ内の不純ガス成分を除去する装置が必要に
なる。
ヘリウムガスを精製する方法及び装置は種々発
明され実用化されているが、これまでの装置は液
化ヘリウムを実験などに使用した後でその蒸発ヘ
リウムガスを回収して再液化するために精製する
装置であり、効率よく長期間連続使用できるヘリ
ウム精製装置に関するものが少なかつた。
明され実用化されているが、これまでの装置は液
化ヘリウムを実験などに使用した後でその蒸発ヘ
リウムガスを回収して再液化するために精製する
装置であり、効率よく長期間連続使用できるヘリ
ウム精製装置に関するものが少なかつた。
一方電子工業分野のLSI、ICなど集積回路の製
造工程に高純度水素ガスが用いられているこのカ
バーガスとしての水素ガスはそのガス中に微量の
不純ガス（N2，O2など）が含入されると各種の
事故をもたらすため高純度の水素ガスが必要にな
る。このような高純度水素ガスは長期間連続的に
供給されなければならない。
造工程に高純度水素ガスが用いられているこのカ
バーガスとしての水素ガスはそのガス中に微量の
不純ガス（N2，O2など）が含入されると各種の
事故をもたらすため高純度の水素ガスが必要にな
る。このような高純度水素ガスは長期間連続的に
供給されなければならない。
従来のヘリウム又は水素ガス精製装置は熱交換
器、吸着器及び冷媒液化窒素LN2を内蔵した装置
であつた。
器、吸着器及び冷媒液化窒素LN2を内蔵した装置
であつた。
以下第１図に基づいてヘリウムの精製に関する
従来の装置について説明を述べる。以下の説明に
おいて液体窒素をLN2と略記する。精製器Ａ低温
精製中のフローであり、精製器Ｂは加熱再生中の
フローである。精製器Ａでは、精製すべきヘリウ
ムガスが、断熱された容器２１内の第１熱交換器
２２で冷却され、次にLN2３１に浸漬された第２
熱交換器２３でLN2温度（−196℃）附近まで冷
却され吸着器２４でヘリウムガス中の不純ガス成
分を吸着分離される。精製されたヘリウムガス
は、第１熱交換器２２で流入ガスを向流的に冷却
した後、精製ガスとして使用される。冷媒LN2３
１はLN2タンク２６より断熱容器２１内に供給さ
れる。吸着器の再生操作は精製器Ｂについて説明
すると、まず断熱容器２１′内の冷媒LN2をLN2
タンク２６へ回収するため昇圧器２５′により
LN2を気化し精製器Ｂ内を加圧してLN2を回収す
る。次に空気又はN2ガスを加熱して精製器Ｂに
導入して吸着器２４′を加熱再生する。吸着器２
４′から脱着した不純ガスは再生用真空ポンプ３
０にて排気する。加熱再生された吸着器２４′は、
次の精製運転のため冷媒LN2により冷却されてス
タンバイとなる。上記に述べたとおり従来のヘリ
ウムガス精製装置の欠点は次のとおりである。
従来の装置について説明を述べる。以下の説明に
おいて液体窒素をLN2と略記する。精製器Ａ低温
精製中のフローであり、精製器Ｂは加熱再生中の
フローである。精製器Ａでは、精製すべきヘリウ
ムガスが、断熱された容器２１内の第１熱交換器
２２で冷却され、次にLN2３１に浸漬された第２
熱交換器２３でLN2温度（−196℃）附近まで冷
却され吸着器２４でヘリウムガス中の不純ガス成
分を吸着分離される。精製されたヘリウムガス
は、第１熱交換器２２で流入ガスを向流的に冷却
した後、精製ガスとして使用される。冷媒LN2３
１はLN2タンク２６より断熱容器２１内に供給さ
れる。吸着器の再生操作は精製器Ｂについて説明
すると、まず断熱容器２１′内の冷媒LN2をLN2
タンク２６へ回収するため昇圧器２５′により
LN2を気化し精製器Ｂ内を加圧してLN2を回収す
る。次に空気又はN2ガスを加熱して精製器Ｂに
導入して吸着器２４′を加熱再生する。吸着器２
４′から脱着した不純ガスは再生用真空ポンプ３
０にて排気する。加熱再生された吸着器２４′は、
次の精製運転のため冷媒LN2により冷却されてス
タンバイとなる。上記に述べたとおり従来のヘリ
ウムガス精製装置の欠点は次のとおりである。
１ 吸着工程からの再生工程並びに再生工程から
の吸着工程の操作の変更毎にLN2の出し入れが
必要になり、操作が複雑になる。
の吸着工程の操作の変更毎にLN2の出し入れが
必要になり、操作が複雑になる。
２ 再生に必要な吸着器２４以外に断熱容器２１
及び各熱交換器２２，２３を加温・冷却するた
めに加温・冷却する時間がかかりすぎる。
及び各熱交換器２２，２３を加温・冷却するた
めに加温・冷却する時間がかかりすぎる。
３ 再生後の冷却及びLN2の回収−充填などの移
送ロスのためLN2の使用量が多い。
送ロスのためLN2の使用量が多い。
４ 再生時の加熱ガスが断熱容器２１に導入され
るため系内に層流になり吸着器を加熱させる伝
達効果が小さい。
るため系内に層流になり吸着器を加熱させる伝
達効果が小さい。
５ 精製器内の冷媒LN2量は吸着器２４を充分に
満たさなければならないため、かなりの貯蔵量
を必要とする。
満たさなければならないため、かなりの貯蔵量
を必要とする。
６ 複筒以上の切替運転の場合、システム、操作
が複雑になる。
が複雑になる。
本考案は微量の窒素及び窒素より高沸点のガス
（以下不純ガスとする）を含んだヘリウム又は水
素ガスから微量の前記不純ガスを低温吸着精製法
によつて除去することからなるヘリウム又は水素
ガスを精製する装置において、再生を必要としな
い熱交換器及び冷媒液化窒素を内蔵した冷却装置
と、再生を必要とする少なくとも２つの吸着器を
含んだ吸着装置の別離された２つの系からなり被
精製ヘリウム又は水素ガスは前記冷却装置と吸着
装置とを流路する構成を有し、前記吸着装置の各
吸着器は吸着系路と再生系路を有しており、前記
吸着系路は液体窒素を冷媒として前記不純ガスを
吸着する機能を持ち、前記再生系路は加熱された
窒素ガスを循環させることにより吸着器を加熱し
て吸着されたガスを脱着させる構成を有し、吸着
器は冷却又は加熱することができる冷却パイプを
内蔵しており、各吸着器で吸着と脱着を交互に行
うことを特徴とするヘリウム又は水素ガスの精製
装置に関する。
（以下不純ガスとする）を含んだヘリウム又は水
素ガスから微量の前記不純ガスを低温吸着精製法
によつて除去することからなるヘリウム又は水素
ガスを精製する装置において、再生を必要としな
い熱交換器及び冷媒液化窒素を内蔵した冷却装置
と、再生を必要とする少なくとも２つの吸着器を
含んだ吸着装置の別離された２つの系からなり被
精製ヘリウム又は水素ガスは前記冷却装置と吸着
装置とを流路する構成を有し、前記吸着装置の各
吸着器は吸着系路と再生系路を有しており、前記
吸着系路は液体窒素を冷媒として前記不純ガスを
吸着する機能を持ち、前記再生系路は加熱された
窒素ガスを循環させることにより吸着器を加熱し
て吸着されたガスを脱着させる構成を有し、吸着
器は冷却又は加熱することができる冷却パイプを
内蔵しており、各吸着器で吸着と脱着を交互に行
うことを特徴とするヘリウム又は水素ガスの精製
装置に関する。
本考案の詳細を第２図のヘリウム精製装置の実
施例に基づいて説明する。本装置は第１熱交換器
２、第２熱交換器３からなる冷却筒１と例えばゼ
オライト系の吸着材を充填した吸着器５を内蔵
し、かつ断熱した精製器４、その吸着器５を再生
するための機器（冷却器７、ブロワー８、加熱器
９）、冷媒LN2を供給するLN2タンク１０などか
ら構成されている。精製器Ａは吸着操作中、精製
器Ｂは再生操作中である。精製器ＡおよびＢの
各々において吸着操作と再生操作を繰返す。精製
されるヘリウムガスはあらかじめ水分、CO2など
を除去した後で、常温で大気圧以上の圧力で供給
され冷却筒１の第１熱交換器２で冷却される。次
いで冷媒LN2１１に浸漬された第２熱交換器３
で、LN2温度（−196℃）附近まで冷却されてか
ら精製器Ａに導入される。
施例に基づいて説明する。本装置は第１熱交換器
２、第２熱交換器３からなる冷却筒１と例えばゼ
オライト系の吸着材を充填した吸着器５を内蔵
し、かつ断熱した精製器４、その吸着器５を再生
するための機器（冷却器７、ブロワー８、加熱器
９）、冷媒LN2を供給するLN2タンク１０などか
ら構成されている。精製器Ａは吸着操作中、精製
器Ｂは再生操作中である。精製器ＡおよびＢの
各々において吸着操作と再生操作を繰返す。精製
されるヘリウムガスはあらかじめ水分、CO2など
を除去した後で、常温で大気圧以上の圧力で供給
され冷却筒１の第１熱交換器２で冷却される。次
いで冷媒LN2１１に浸漬された第２熱交換器３
で、LN2温度（−196℃）附近まで冷却されてか
ら精製器Ａに導入される。
次にヘリウムガスは精製器ＡのLN2冷却パイプ
６で冷却された吸着器５にて不純ガスを吸着分離
して、高純度ヘリウムに精製し、冷却筒１に戻る。
精製されたヘリウムガスは第１熱交換器２で流入
ガスと熱交換した後、精製ヘリウムガスとして供
給される。一方、冷却筒１に供給する冷媒LN2１１
はLN2タンク１０より吸着器５のLN2冷却パイプ
６を経由して供給される。LN2の自動供給は冷却
筒１のLN2液面計１２とLN2供給弁１６又は１
６′とを連動させて行う。また、冷却筒１で使用さ
れ気化したN2ガスの顕熱を利用して第１熱交換
器２の流入ヘリウムガスを冷却することにより、
第２熱交換器３のLN2の消費を減少させる。
６で冷却された吸着器５にて不純ガスを吸着分離
して、高純度ヘリウムに精製し、冷却筒１に戻る。
精製されたヘリウムガスは第１熱交換器２で流入
ガスと熱交換した後、精製ヘリウムガスとして供
給される。一方、冷却筒１に供給する冷媒LN2１１
はLN2タンク１０より吸着器５のLN2冷却パイプ
６を経由して供給される。LN2の自動供給は冷却
筒１のLN2液面計１２とLN2供給弁１６又は１
６′とを連動させて行う。また、冷却筒１で使用さ
れ気化したN2ガスの顕熱を利用して第１熱交換
器２の流入ヘリウムガスを冷却することにより、
第２熱交換器３のLN2の消費を減少させる。
次に精製器Ｂの再生はヘリウムガスの入口弁１
４′、出口弁１５′、LN2の入口弁１６′、出口弁
１７′を閉止し、LN2冷却パイプ６′のLN2を冷却
器７にて気化し、ブロワー８にて圧送されたN2
ガスを加熱器９にて加熱し、LN2冷却パイプ６′
により吸着器５′を加熱再生する。吸着器５′から
脱着した不純ガスは弁２０′を経て再生用真空ポ
ンプ１３にて真空排気しながら再生を行う。吸着
器５′の加熱再生後、精製済ヘリウムガスを弁１
５′よりパージしてから吸着器５′の冷却を行な
う。吸着器５′の冷却はLN2の入口弁１６′、放出
弁１７′を全開し、LN2にて冷却する。吸着器５
が充分に冷却された後、ヘリウムガスの入口弁１
４′を開いて精製器Ｂは再生が完了し、精製のた
めのスタンバイとする。再生工程において精製ヘ
リウムガスのパージは行なわなくても良い。尚吸
着器５のLN2冷却パイプ６は吸着器に接触させて
コイル状に巻く方法、及び簡単な二重筒式又は吸
着器内にコイル及びパイプを挿入する方法などが
考えられる。吸着器５において不純ガスが破過点
又は破過点に達した後、弁１４を閉じ、弁１４′
を開き冷却装置からの冷却済ガスを吸着器５′に
導入し、吸着器５′で吸着を行ない、吸着器５の
再生系路のバルブを全開させ、吸着器５の再生を
行なう。
４′、出口弁１５′、LN2の入口弁１６′、出口弁
１７′を閉止し、LN2冷却パイプ６′のLN2を冷却
器７にて気化し、ブロワー８にて圧送されたN2
ガスを加熱器９にて加熱し、LN2冷却パイプ６′
により吸着器５′を加熱再生する。吸着器５′から
脱着した不純ガスは弁２０′を経て再生用真空ポ
ンプ１３にて真空排気しながら再生を行う。吸着
器５′の加熱再生後、精製済ヘリウムガスを弁１
５′よりパージしてから吸着器５′の冷却を行な
う。吸着器５′の冷却はLN2の入口弁１６′、放出
弁１７′を全開し、LN2にて冷却する。吸着器５
が充分に冷却された後、ヘリウムガスの入口弁１
４′を開いて精製器Ｂは再生が完了し、精製のた
めのスタンバイとする。再生工程において精製ヘ
リウムガスのパージは行なわなくても良い。尚吸
着器５のLN2冷却パイプ６は吸着器に接触させて
コイル状に巻く方法、及び簡単な二重筒式又は吸
着器内にコイル及びパイプを挿入する方法などが
考えられる。吸着器５において不純ガスが破過点
又は破過点に達した後、弁１４を閉じ、弁１４′
を開き冷却装置からの冷却済ガスを吸着器５′に
導入し、吸着器５′で吸着を行ない、吸着器５の
再生系路のバルブを全開させ、吸着器５の再生を
行なう。
本考案装置では冷却筒の第１熱交換器２及び
LN2に混漬された第２熱交換器３と精製器４とを
分離し、吸着器５又は５′のみ加熱再生ができる
ようにするとともに、吸着器５又は５′の吸着発
生熱及び侵入による温度上昇を除くため吸着器５
又は５′を冷却するLN2パイプ６又は６′をもう
け、かつそのLN2パイプが再生加熱時の加熱パイ
プとすることにより、LN2の回収・充填操作の繰
返しをなくし、かつ再生加熱・冷却する時間を短
縮した。同時にLN2の使用量を減少させることを
可能とした。また連続使用時に複筒以上の精製器
を必要とする場合には、吸着器のみを増加させる
ことが出来るため効率的かつ操作が容易で現実的
なヘリウム精製装置を提供できるものである。本
考案装置において吸着器を３個以上設けると、処
理能力が一層向上する。第２図に示された装置を
使用して水素の精製も実施できる。
LN2に混漬された第２熱交換器３と精製器４とを
分離し、吸着器５又は５′のみ加熱再生ができる
ようにするとともに、吸着器５又は５′の吸着発
生熱及び侵入による温度上昇を除くため吸着器５
又は５′を冷却するLN2パイプ６又は６′をもう
け、かつそのLN2パイプが再生加熱時の加熱パイ
プとすることにより、LN2の回収・充填操作の繰
返しをなくし、かつ再生加熱・冷却する時間を短
縮した。同時にLN2の使用量を減少させることを
可能とした。また連続使用時に複筒以上の精製器
を必要とする場合には、吸着器のみを増加させる
ことが出来るため効率的かつ操作が容易で現実的
なヘリウム精製装置を提供できるものである。本
考案装置において吸着器を３個以上設けると、処
理能力が一層向上する。第２図に示された装置を
使用して水素の精製も実施できる。
実施例 １
第２図に示す装置を用いてヘリウムガスを精製
する実験を行なつた。
する実験を行なつた。
圧 力 １Kg／cm3Ｇ
流 量 3Nm3／Kg
吸着材 ゼオハーブ（大阪酸素工業株式
会社の商品名であり天然モルデ
ナイト系ゼオライトから構成さ
れている。） 吸着温度 −196℃ 再生温度 100℃ ヘリウム中の 不純ガス成分 N2 O2 CO CH4 Ar 50ppm 予め乾燥器を通して水分及びCO2を除去した後
に本発明の装置に上記の条件でヘリウムガスを精
製した。
会社の商品名であり天然モルデ
ナイト系ゼオライトから構成さ
れている。） 吸着温度 −196℃ 再生温度 100℃ ヘリウム中の 不純ガス成分 N2 O2 CO CH4 Ar 50ppm 予め乾燥器を通して水分及びCO2を除去した後
に本発明の装置に上記の条件でヘリウムガスを精
製した。
その結果、ヘリウムガスは99.9999％以上の高
純度ヘリウムガスに精製された。
純度ヘリウムガスに精製された。
実施例 ２
同一の不純ガス成分を同じ割合だけ含む水素ガ
スを実施例１と同じ装置により100℃で加熱再生
後にLN2温度で精製した結果、水素ガスは
99.9999％以上の高純度に精製された。
スを実施例１と同じ装置により100℃で加熱再生
後にLN2温度で精製した結果、水素ガスは
99.9999％以上の高純度に精製された。
本考案の効果は次の通りである。
１ 冷媒LN2の使用量が多い熱交換器系の冷却筒
と再生操作の必要な吸着器系の精製器とを分離
することにより効果的な装置になつた。
と再生操作の必要な吸着器系の精製器とを分離
することにより効果的な装置になつた。
２ １）項の分離により冷媒LN2の回収及び充填
などの繰返しがなくなつたため操作が簡単にな
つた。
などの繰返しがなくなつたため操作が簡単にな
つた。
３ 再生時に熱交換器系の冷却筒を加熱・冷却す
る必要がなくなつたためLN2の使用量が減少で
きる。
る必要がなくなつたためLN2の使用量が減少で
きる。
４ 再生時に吸着器のみを100℃に加熱し、真空
再生及び冷却すればよいから、再生時間の短縮
及び冷却時に必要なLN2の使用量を低減でき
る。
再生及び冷却すればよいから、再生時間の短縮
及び冷却時に必要なLN2の使用量を低減でき
る。
５ 吸着器の吸着発生熱及び熱侵入による温度上
昇を除くため吸着器を冷却するLN2冷却パイプ
が再生加熱時の加熱パイプとして兼用でき、か
つ再生加熱時にパイプ内の加熱N2ガスが乱流
領域にできるため吸着器の加熱効果が大きい。
昇を除くため吸着器を冷却するLN2冷却パイプ
が再生加熱時の加熱パイプとして兼用でき、か
つ再生加熱時にパイプ内の加熱N2ガスが乱流
領域にできるため吸着器の加熱効果が大きい。
６ 冷却筒に入れる冷媒LN2の貯蔵量は第２熱交
換器を浸漬する程度でよいため、冷却筒の容量
は必要最小限にすることができ冷却筒のバツク
グランドの熱侵入量を低減できる。
換器を浸漬する程度でよいため、冷却筒の容量
は必要最小限にすることができ冷却筒のバツク
グランドの熱侵入量を低減できる。
７ 精製器には、多層真空断熱された吸着器を必
要に応じて何基でも内蔵できるため、設置スペ
ースが小さく運転操作が容易になる。
要に応じて何基でも内蔵できるため、設置スペ
ースが小さく運転操作が容易になる。
８ 本システムは複筒以上の切替運転の場合、冷
却筒を１基、精製器を１基（吸着器のみ複筒以
上）にすればよいので装置コストが安く、運転
コストも低減でき、かつ全系システムが簡単で
操作が容易になる。
却筒を１基、精製器を１基（吸着器のみ複筒以
上）にすればよいので装置コストが安く、運転
コストも低減でき、かつ全系システムが簡単で
操作が容易になる。
９ 精製すべきヘリウム又は水素ガス中に空気成
分が多い場合には第２熱交換器の後に空気凝縮
器を付加することにより空気成分を凝縮分離す
ることも可能である。この場合も熱交換器など
の再生操作などは必要としない。
分が多い場合には第２熱交換器の後に空気凝縮
器を付加することにより空気成分を凝縮分離す
ることも可能である。この場合も熱交換器など
の再生操作などは必要としない。
10 本考案はヘリウムガスを冷却材として使用す
るよう原子炉のヘリウムループ及び材料試験用
などのヘリウムループ、大型ヘリウム液化冷凍
機用循環ループなどのように微量な不純ガス
（N2，O2，CO，CH4，Arなど）を含んだ大流
量のヘリウムガスを高純度（99.999％以上）に
精製し、循環するシステムに適する。
るよう原子炉のヘリウムループ及び材料試験用
などのヘリウムループ、大型ヘリウム液化冷凍
機用循環ループなどのように微量な不純ガス
（N2，O2，CO，CH4，Arなど）を含んだ大流
量のヘリウムガスを高純度（99.999％以上）に
精製し、循環するシステムに適する。
第１図は従来のガス精製装置の概略図、第２図
は本考案のガス精製装置の概略図である。 １……冷却筒、２……第１熱交換器、３……第
２熱交換器、４……精製器 Ａ 精製中、Ｂ 再
生中、５……吸着器、６……LN2冷却パイプ、７
……冷却器、８……ブロワー、９……加熱器、１
０……LN2タンク、１１……LN2、１２……LN2
液面計、１３……再生用真空ポンプ、１４……
He又はH2入口弁、１５……He又はH2出口弁、
１６……LN2入口弁、１７……LN2出口弁、１８
……放出弁、１９……再生ガス循環弁、２０……
再生用真空排気弁。
は本考案のガス精製装置の概略図である。 １……冷却筒、２……第１熱交換器、３……第
２熱交換器、４……精製器 Ａ 精製中、Ｂ 再
生中、５……吸着器、６……LN2冷却パイプ、７
……冷却器、８……ブロワー、９……加熱器、１
０……LN2タンク、１１……LN2、１２……LN2
液面計、１３……再生用真空ポンプ、１４……
He又はH2入口弁、１５……He又はH2出口弁、
１６……LN2入口弁、１７……LN2出口弁、１８
……放出弁、１９……再生ガス循環弁、２０……
再生用真空排気弁。
Claims (1)
- 微量の窒素及び窒素より高沸点のガス（以下不
純ガスと云う）を含んだヘリウム又は水素ガスか
ら微量の前記不純ガスを低温吸着精製法によつて
除去することからなるヘリウム又は水素ガスを精
製する装置において、再生を必要としない熱交換
器及び冷媒液化窒素を内蔵した冷却装置と、再生
を必要とする少なくとも２つの吸着器を含んだ吸
着装置の別離された２つの系からなり被精製ヘリ
ウム又は水素ガスは前記冷却装置と吸着装置とを
流路する構成を有し、前記吸着装置の各吸着器は
吸着系路と再生系路を有しており、前記吸着系路
は液体窒素を冷媒として前記不純ガスを吸着する
機能をもち、前記再生系路は加熱された窒素ガス
を循環させることにより吸着器を加熱して吸着さ
れたガスを脱着させる構成を有し、吸着器は冷却
又は加熱することができる冷却パイプを内蔵して
おり、各吸着器で吸着と脱着を交互に行うことを
特徴とするヘリウム又は水素ガスの精製装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4123186U JPS6329724Y2 (ja) | 1986-03-20 | 1986-03-20 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4123186U JPS6329724Y2 (ja) | 1986-03-20 | 1986-03-20 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61164232U JPS61164232U (ja) | 1986-10-11 |
| JPS6329724Y2 true JPS6329724Y2 (ja) | 1988-08-09 |
Family
ID=30550864
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4123186U Expired JPS6329724Y2 (ja) | 1986-03-20 | 1986-03-20 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6329724Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2685766B2 (ja) * | 1987-10-29 | 1997-12-03 | 日本パイオニクス株式会社 | 水素ガスの精製方法および装置 |
-
1986
- 1986-03-20 JP JP4123186U patent/JPS6329724Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61164232U (ja) | 1986-10-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4270938A (en) | Processes for decontaminating nuclear process off-gas streams | |
| US3501923A (en) | Process for decontaminating radioactive fluids | |
| CN107364832A (zh) | 一种低温氢气纯化装置及控制方法 | |
| KR100873375B1 (ko) | 폐헬륨가스의 정제 방법과 장치 | |
| KR100902911B1 (ko) | 폐헬륨가스 농축정제장치 | |
| JPH07280432A (ja) | 空気の蒸留のためのプラント及びその方法 | |
| JP2000233909A (ja) | 単結晶製造炉からの排ガスアルゴンの精製方法 | |
| JPS6156009B2 (ja) | ||
| JP4276354B2 (ja) | ネオン回収方法及び装置 | |
| JPS6329724Y2 (ja) | ||
| JP3172886B2 (ja) | ヘリウムガス精製装置及びその運転方法 | |
| JPS557565A (en) | Helium or hydrogen gas purification apparatus | |
| JP4313882B2 (ja) | クローズドｔｓａ法によるメタノール分解ガス中の有機不純物の除去方法 | |
| JP3138917B2 (ja) | 半導体ガスの低温精製装置 | |
| JPH09122432A (ja) | 圧力スイング吸着法によるガス分離装置 | |
| JPH0579715A (ja) | ヘリウム精製装置 | |
| JPH01297120A (ja) | ヘリウムガス精製用吸着器の再生方法 | |
| JPH04310509A (ja) | 窒素中の不純酸素の除去方法 | |
| JP3054062B2 (ja) | 精製器 | |
| JPH0531331A (ja) | 水素同位体の分離方法 | |
| CN115388616B (zh) | 采用增压液化的火星表面二氧化碳连续捕集系统及其方法 | |
| CN106512640A (zh) | 纯化装置 | |
| JPH0127865Y2 (ja) | ||
| JPS6125619A (ja) | 冷熱を利用した圧力スイング式ガス分離方法 | |
| JPS6353470B2 (ja) |