JPS63293449A - Drip detecting device for glass plate - Google Patents

Drip detecting device for glass plate

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JPS63293449A
JPS63293449A JP62128090A JP12809087A JPS63293449A JP S63293449 A JPS63293449 A JP S63293449A JP 62128090 A JP62128090 A JP 62128090A JP 12809087 A JP12809087 A JP 12809087A JP S63293449 A JPS63293449 A JP S63293449A
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JP
Japan
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defect
glass plate
drip
light
defect data
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Application number
JP62128090A
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Japanese (ja)
Inventor
Masaharu Okafuji
岡藤 雅晴
Tatsuo Takeoka
武岡 達夫
Osayoshi Ichinose
一瀬 長義
Junichi Abe
順一 安部
Mitsuo Miyano
宮野 光男
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Yaskawa Electric Corp
Nippon Sheet Glass Co Ltd
Original Assignee
Nippon Sheet Glass Co Ltd
Yaskawa Electric Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To detect a drip distinctively from other defects by providing two photodetectors, an electric signal processing circuit, etc. CONSTITUTION:Photodetectors 12 and 13 photodetect transmitted light and reflected light when a laser spot makes a scan 11 on the defect of a transparent glass plate and photoelectron multiplier tubes 14 and 15 convert those light beams into electric signals. An electric signal processing circuit 16 processes the electric signals from the multiplier tubes 14 and 15 to generate defect data containing information on the kind and size of the defect. Further, an information processor 18 receives a defect pattern and position information from a defect data input circuit 17 and matches it with a defect discrimination pattern table 19 to discriminate the kind, size, etc., of the defect, thereby sending the discrimination result and position information to the an information processor. At this time, a drip sticking on the surface of the glass plate is larger in reflection factor than glass, so when the light spot strikes on the drip, the quantity of reflected light varies. The drip is accurately detected from a combination of detection results of the variation in the quantity of the reflected light.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ガラス板の欠点の一つであるドリップを検出
する検出装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a detection device for detecting drips, which is one of the drawbacks of glass plates.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

ガラス板に存在する欠点としては、製造ラインにおける
バスの錫がガラス板の表面に付着することにより形成さ
れるドリップ、レンガなどの異物がガラス板内部に残る
ことにより形成される異物、はとんど溶けた異物がガラ
ス板内部に尾を引いたような形で残ることにより形成さ
れるフシ、気泡がガラス板内部に残ることにより形成さ
れる泡などがある。
Defects that exist in glass plates include drips that are formed when tin from the bath in the manufacturing line adheres to the surface of the glass plate, and foreign substances that are formed when foreign objects such as bricks remain inside the glass plate. There are ridges formed when melted foreign matter remains inside the glass plate in the form of a trail, and bubbles formed when air bubbles remain inside the glass plate.

このような欠点をガラス仮製造工程中において検出する
欠点検出装置は、その検出結果を透明ガラス板製造工程
へフィードバックさせて欠点の発生をその発生箇所にお
いて防止し、製品の歩留まりの向上を図るために必要と
されている。
A defect detection device that detects such defects during the temporary glass manufacturing process feeds the detection results back to the transparent glass plate manufacturing process to prevent defects from occurring at the location where they occur and improve product yield. is needed.

ガラス板の欠点検出に用いられる検出装置は、ガラス板
に光スポットを走査するフライングスポット型のものが
用いられるが、特にドリップの検出は、どのようなフラ
イングスポット型の欠点検出装置において、透過光の光
量変化を検出することにより行われている。
The detection device used to detect defects on glass plates is a flying spot type that scans a light spot on the glass plate. This is done by detecting changes in the amount of light.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

ドリップは一般の異物と異なり、例えば自動車用合わせ
ガラスの、いわゆるBTL加工工程(加熱して、湾曲さ
せて加圧し合わせる加工)でドリップのサイズが大きく
なる。例えば、0.2mm X O,2III11のド
リップは、BTL加工によって0.5mm X O,5
1111になる。したがって、ガラス板の製造工程の段
階で、例えば0.2++us Xo、2n+s以上のド
リップを検出する必要がある。
Drips are different from general foreign matter, and the size of drips increases, for example, in the so-called BTL processing process (processing of heating, bending, and pressurizing laminated glass for automobiles). For example, a drip of 0.2mm x O, 2III11 becomes 0.5mm
It becomes 1111. Therefore, it is necessary to detect drips of, for example, 0.2++us Xo, 2n+s or more at the stage of the glass plate manufacturing process.

しかし、透過光を検出する従来のドリップ検出装置で、
0.2mm xo、2mmm以上のドリップを検出しよ
うとすると、このサイズ以上の異物をも全て欠点とみな
して検出してしまう結果、製品の歩留まりが悪くなると
いう問題がある。
However, with conventional drip detection devices that detect transmitted light,
If an attempt is made to detect a drip larger than 0.2 mm xo or 2 mm, all foreign objects larger than this size will be detected as defects, resulting in a problem of poor product yield.

本発明の目的は、このような問題を解決し、ドリップを
他の欠点と区別して、すなわち欠点がドリップであるこ
とを識別し、検出することのできる欠点検出装置を提供
することにある。
An object of the present invention is to solve such problems and provide a defect detection device that can distinguish drips from other defects, that is, identify and detect that a defect is a drip.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

本発明は、長さ方向に走行するガラス板を幅方向に光ス
ポットで全面走査し、ガラス板表面に付着するドリップ
を検出するフライングスポット型のドリップ検出装置に
おいて、 前記ガラス板からの透過光を受光する第1の受光手段と
、 前記ガラス板からの反射光を受光する第2の受光手段と
、 前記第1および第2の受光手段で受光された光の光量変
化の組み合わせから、ドリップの存在を検出する処理手
段とを備えることを特徴としている。
The present invention provides a flying spot type drip detection device that detects drips adhering to the surface of the glass plate by scanning the entire surface of a glass plate running in the length direction with a light spot in the width direction. The presence of drip is determined from the combination of the first light receiving means that receives light, the second light receiving means that receives reflected light from the glass plate, and the change in the amount of light received by the first and second light receiving means. It is characterized by comprising a processing means for detecting.

〔作用〕[Effect]

ガラス板の表面に付着したドリップ(錫)は、その光の
反射率がガラスの反射率より大きいので、光スボフトが
ドリップにあたると反射光の光量が変化する。
The light reflectance of drips (tin) attached to the surface of the glass plate is greater than the reflectance of the glass, so when the optical scrubber hits the drips, the amount of reflected light changes.

本発明は、従来の透過光の光量変化の検出に加えて、反
射光の光量変化を検出し、これら検出結果の組み合わせ
で、ドリップを精度良く検出しようとするものである。
The present invention detects changes in the amount of reflected light in addition to the conventional detection of changes in the amount of transmitted light, and uses a combination of these detection results to detect drips with high accuracy.

〔実施例〕〔Example〕

次に、本発明のドリップ検出装置の実施例について説明
する。
Next, an embodiment of the drip detection device of the present invention will be described.

第1図に、本発明の一実施例であるドリップ検出装置の
全体構成の概略をブロック図で示す。本実施例のドリッ
プ検出装置は、レーザビームを回転多面鏡で反射させて
、走行中の透明ガラス板にレーザスポットを走査させる
走査器11と、レーザスポットが透明ガラス板の欠点を
走査したときの透過光および反射光をそれぞれ受光する
2個の受光器12.13と、各受光器で受けた光を電気
信号に変換する光電子増倍管14.15と、光電子増倍
管からの電気信号を処理して、欠点の種類および大きさ
の情報を含む欠点データを生成する電気信号処理回路1
6と、この電気信号処理回路で生成された欠点データお
よび信号処理用クロック、ライン同期信号を取込み、欠
点データからガラス板に存在する欠点の種類および大き
さを表すビット配列よりなる欠点パターンを形成し、こ
れに位置情報を付加する欠点データ取込み回路17と、
欠点データ取込み回路17からの欠点パターンおよび位
置情報を受け、欠点パターンと予め保持している欠点識
別パターンテーブル19とを照合して、欠点の種類。
FIG. 1 is a block diagram schematically showing the overall configuration of a drip detection device according to an embodiment of the present invention. The drip detection device of this embodiment includes a scanner 11 that reflects a laser beam with a rotating polygonal mirror to scan a laser spot on a moving transparent glass plate, and a scanner 11 that scans a laser spot on a moving transparent glass plate by reflecting a laser beam on a rotating polygon mirror. Two light receivers 12.13 each receive transmitted light and reflected light, a photomultiplier tube 14.15 converts the light received by each light receiver into an electrical signal, and an electric signal from the photomultiplier tube is Electrical signal processing circuit 1 that processes and generates defect data including information on the type and size of the defect.
6, the defect data, signal processing clock, and line synchronization signal generated by this electrical signal processing circuit are taken in, and a defect pattern consisting of a bit array representing the type and size of the defect present on the glass plate is formed from the defect data. and a defect data acquisition circuit 17 that adds position information to this;
The defect pattern and position information are received from the defect data acquisition circuit 17, and the defect type is checked against the defect identification pattern table 19 held in advance to determine the type of defect.

大きさ等を識別し、識別結果および位置情報を上位の情
報処理装置へ送る情報処理装置18とから構成されてい
る。
It is comprised of an information processing device 18 that identifies the size, etc., and sends the identification result and position information to a higher-level information processing device.

なお、以下の説明上、走査器11と受光器12.13と
光電子増倍管14.15とで検出器20を構成するもの
とする。
In addition, for the following explanation, the detector 20 shall be comprised by the scanner 11, the light receiver 12.13, and the photomultiplier tube 14.15.

第2図は、検出器20の斜視図であり、第3図は、この
検出器を透明ガラス板の走行方向に対し直角な方向から
見た概略構成図であり、第2図と第3図において同一の
要素には同一の番号を付して示している。
FIG. 2 is a perspective view of the detector 20, and FIG. 3 is a schematic configuration diagram of the detector viewed from a direction perpendicular to the direction of travel of the transparent glass plate. Identical elements are designated by the same numbers.

走査器11は、レーザ光を出射するレーザ光源21と、
レーザ光源21からのレーザ光22が入射し、透明ガラ
ス板10が走行する方向(以下、Y軸方向とする)に平
行な軸23を中心に高速回転する回転多面鏡24とを備
えている。なお、第3図に示されているレーザ光源21
の位置は、実際の位置と異なって示されているが、これ
は図面が不明瞭になるのを避けたためである。
The scanner 11 includes a laser light source 21 that emits laser light;
It is provided with a rotating polygon mirror 24 that receives laser light 22 from a laser light source 21 and rotates at high speed around an axis 23 that is parallel to the direction in which the transparent glass plate 10 travels (hereinafter referred to as the Y-axis direction). Note that the laser light source 21 shown in FIG.
The location of is shown different from the actual location to avoid obscuring the drawing.

以上のような構成の走査器は、走行する透明ガラス板l
Oの上方に設置されている。
The scanner configured as described above uses a moving transparent glass plate l.
It is installed above O.

レーザ光源21より出射されたレーザ光22は、高速回
転する回転多面鏡24に入射され、回転多面鏡24によ
りレーザ光22はY軸方向と直角な方向(以下、X軸方
間とする)に振られ、走行する透明ガラス板10に投射
され、ガラス板をX軸方向に走査する。回転多面鏡24
の回転によりその反射面が変わる毎に、レーザ光22は
、透明ガラス板工0を繰返し走査する。透明ガラス板1
0はY軸方向に走行しているから、ガラス板の全面がレ
ーザ光により走査されることとなる。
A laser beam 22 emitted from a laser light source 21 is incident on a rotating polygon mirror 24 that rotates at high speed, and the rotating polygon mirror 24 directs the laser beam 22 in a direction perpendicular to the Y-axis direction (hereinafter referred to as the X-axis direction). The image is swung and projected onto the moving transparent glass plate 10, and the glass plate is scanned in the X-axis direction. Rotating polygon mirror 24
The laser beam 22 repeatedly scans the transparent glass plate work 0 each time its reflective surface changes due to the rotation of the laser beam 22 . transparent glass plate 1
Since the laser beam 0 travels in the Y-axis direction, the entire surface of the glass plate is scanned by the laser beam.

なお、第3図に示されているように、レーザ光22は、
透明ガラス板10に対して、ガラス板面に垂直な法線に
対しY軸方向に入射角αをもって投射する。これは、透
明ガラス板10の裏面で反射され続いて表面で反射され
た光が透過光と干渉することを防止するためである。な
お、αの値は13°以上とするのが望ましい。
Note that, as shown in FIG. 3, the laser beam 22 is
The light is projected onto the transparent glass plate 10 at an incident angle α in the Y-axis direction with respect to the normal line perpendicular to the glass plate surface. This is to prevent light reflected from the back surface of the transparent glass plate 10 and then reflected from the front surface from interfering with transmitted light. Note that it is desirable that the value of α be 13° or more.

次に、2個の受光器の配置およびその構成について説明
する。走査器が設けられている側とは反対側、すなわち
透明ガラス板10の下方には透過光25を検出する1個
の受光器D1を配置し、透明ガラス板10の上方には反
射光26を検出する1個の受光器D5を配置する。
Next, the arrangement and configuration of the two light receivers will be explained. One photoreceiver D1 for detecting the transmitted light 25 is arranged on the opposite side to the side where the scanner is provided, that is, below the transparent glass plate 10, and above the transparent glass plate 10 for detecting the reflected light 26. One light receiver D5 for detection is arranged.

これら2個の受光器D1.D5は、基本的には同一構造
をしており、X軸方向に細長い線状の受光面を有してい
る。以下、代表的に受光器D’lの構造を説明する。
These two receivers D1. D5 basically has the same structure and has a light receiving surface that is elongated in the X-axis direction. Hereinafter, the structure of the light receiver D'l will be described as a representative example.

第4図は受光器D1の斜視図である。この受光器D1は
、多数本の光ファイバ31を配列してなるものであり、
光ファイバ31の一端を、図示のように2列に配列して
、樹脂などに埋め込み固定し、受光器本体32を構成す
る。配列された多数本の光ファイバの31の端面33が
集合して、細長い線状の受光面34を形成する。光ファ
イバの他端は束ねられて、後述する光電子増倍管に接続
される。
FIG. 4 is a perspective view of the light receiver D1. This light receiver D1 is formed by arranging a large number of optical fibers 31,
One ends of the optical fibers 31 are arranged in two rows as shown in the figure and embedded and fixed in a resin or the like to form a light receiver body 32. The end faces 33 of 31 of the many arranged optical fibers come together to form an elongated linear light receiving surface 34. The other ends of the optical fibers are bundled and connected to a photomultiplier tube, which will be described later.

なお、以上の例では光ファイバを2列に配列しているが
、配列方法はこれに限られるものではない。
Note that in the above example, the optical fibers are arranged in two rows, but the arrangement method is not limited to this.

反射光26を検出する受光器D5は、前述したように光
ファイバで構成してもよいが、散乱ボックスを用い、散
乱ボックスで集光した光を光ファイバで、後述する光電
子増倍管に送るようなものでもよい。この場合、散乱ボ
ックスの受光面には、スリットを有するマスクを設けて
不必要な光を遮蔽するようにするのが好適である。
The light receiver D5 that detects the reflected light 26 may be constructed of an optical fiber as described above, but a scattering box is used and the light collected by the scattering box is sent to a photomultiplier tube, which will be described later, through the optical fiber. Something like this is fine. In this case, it is preferable to provide a mask having slits on the light receiving surface of the scattering box to block unnecessary light.

検出器20(第1図)は、第2図に示すように、さらに
2個の光電子増倍管PMI、PM5を備えており、光電
子増倍管PMIには受光器D1の光ファイバの他端が接
続され、光電子増倍管PM5には受光器D5の光ファイ
バの他端が接続されている。各光電子増倍管では各受光
器で受光した光を電気信号に変換する。
The detector 20 (FIG. 1) further includes two photomultiplier tubes PMI and PM5, as shown in FIG. is connected to the photomultiplier tube PM5, and the other end of the optical fiber of the photoreceiver D5 is connected to the photomultiplier tube PM5. Each photomultiplier tube converts the light received by each photoreceiver into an electrical signal.

また、図示しないが、走査器の回転多面鏡24で反射さ
れたレーザ光22中にはスタートパルス形成用の光ファ
イバが設けられており、この光ファイバで受光した光を
電気信号に変換する光電変換器およびパルス整形器を備
え、スタートパルスSTを形成するようにしている。こ
のスタートパルスSTは、後述する欠点データ取込み回
路において、走査開始の信号として用いられる。
Although not shown, an optical fiber for forming a start pulse is provided in the laser beam 22 reflected by the rotating polygon mirror 24 of the scanner, and a photoelectric fiber is provided to convert the light received by this optical fiber into an electrical signal. It is equipped with a converter and a pulse shaper to form a start pulse ST. This start pulse ST is used as a scanning start signal in a defect data acquisition circuit, which will be described later.

さて、以上のような構成の検出器の動作を、透明ガラス
板10にドリップが存在し、レーザ光がこのドリップを
走査する場合について説明する。
Now, the operation of the detector configured as described above will be described in the case where a drip exists on the transparent glass plate 10 and the laser beam scans this drip.

透明ガラス板にドリップが存在する場合、このドリップ
にレーザ光があたると透過光と反射光の光量に変化を生
じる。
When a drip exists on a transparent glass plate, when this drip is irradiated with a laser beam, a change occurs in the amount of transmitted light and reflected light.

透過光の光量変化は受光器D1で検出され、反射光の光
量変化は受光器D5で検出され、それぞれ光電子増倍管
PMI、PM5に送られ、電気信号に変換される。
Changes in the amount of transmitted light are detected by a photodetector D1, and changes in the amount of reflected light are detected by a photoreceiver D5, which are sent to photomultiplier tubes PMI and PM5, respectively, and converted into electrical signals.

以上のように、検出器20からは、透明ガラス板に存在
する欠点により発生する透過光と反射光の光量変化が電
気信号として、電気信号処理回路16(第1図)に送ら
れる。
As described above, from the detector 20, changes in the amount of transmitted light and reflected light caused by defects in the transparent glass plate are sent as electrical signals to the electrical signal processing circuit 16 (FIG. 1).

次に、検出器の各光電子増倍管PMI、PM5から送ら
れてくる電気信号を処理して、欠点の種類および大きさ
の情叩を含む欠点データを生成する電気信号処理回路1
6の構成について説明する。
Next, an electrical signal processing circuit 1 processes electrical signals sent from each photomultiplier tube PMI, PM5 of the detector to generate defect data including information on the type and size of the defect.
The configuration of No. 6 will be explained.

第5図は、電気信号処理回路の一例を示す。この電気信
号処理回路は、各光電子増倍管PMI。
FIG. 5 shows an example of an electrical signal processing circuit. This electrical signal processing circuit includes each photomultiplier tube PMI.

PM5からの電気信号をそれぞれ処理して欠点データを
生成する欠点データ生成部CT1.CT5から構成され
ている。
A defect data generation unit CT1. that processes the electrical signals from PM5 and generates defect data. It is composed of CT5.

欠点データ生成部CTIは、光電子増倍管PM1からの
電気信号を増幅する増幅器411と、増幅器411から
の信号の立ち下がりを微分するマイナス微分器412と
、マイナス微分器412からの信号のレベルを2つの検
出レベルと比較する比較器413と、比較器413から
出力される2つの信号をそれぞれパルス整形するパルス
整形器414.415とで構成される。
The defect data generation unit CTI includes an amplifier 411 that amplifies the electrical signal from the photomultiplier tube PM1, a negative differentiator 412 that differentiates the falling edge of the signal from the amplifier 411, and a level of the signal from the negative differentiator 412. It is comprised of a comparator 413 that compares two detection levels, and pulse shapers 414 and 415 that pulse-shape the two signals output from the comparator 413, respectively.

欠点データ生成部CT5は、光電子増倍管PM5からの
電気信号を増幅する増幅器421と、増幅器421から
の信号の立ち上がりを微分するプラス微分器422と、
プラス微分器422からの信号のレベルを2つの検出レ
ベルと比較する比較器423と、比較器423から出力
される2つの信号をそれぞれパルス整形するパルス整形
器424.425とで構成される。
The defect data generation unit CT5 includes an amplifier 421 that amplifies the electrical signal from the photomultiplier tube PM5, a plus differentiator 422 that differentiates the rise of the signal from the amplifier 421,
It is comprised of a comparator 423 that compares the level of the signal from the plus differentiator 422 with two detection levels, and pulse shapers 424 and 425 that pulse-shape the two signals output from the comparator 423, respectively.

次に、この電気信号処理回路16の動作について第6図
、第7図の波形図を参照しながら説明する。
Next, the operation of this electrical signal processing circuit 16 will be explained with reference to the waveform diagrams of FIGS. 6 and 7.

まず、欠点データ生成部CTIの動作について説明する
。欠点データ生成部CTIは、受光器D1で検出された
透過光が光電子増倍管PMIで変換された電気信号から
、欠点の種類および大きさの情報を含む欠点データを生
成する。
First, the operation of the defect data generation unit CTI will be explained. The defect data generation unit CTI generates defect data including information on the type and size of the defect from an electric signal obtained by converting transmitted light detected by the light receiver D1 by the photomultiplier tube PMI.

増幅器411は、光電子増倍管PMIから送られてきた
電気信号を増幅する。ここで、検出器のレーザ光が欠点
を含まない透明ガラス板をX軸方向に1走査したときの
増幅器411の出力電圧波形を第6図(a)示す、この
波形は、時刻1.から時刻1.までの1走査の間に受光
器Diに透過光が受光され、その出力レベルがEボルト
であることを示しそいる。このように、受光器DIは1
走査期間の間、透過光を常時受光している。
The amplifier 411 amplifies the electrical signal sent from the photomultiplier tube PMI. Here, FIG. 6(a) shows the output voltage waveform of the amplifier 411 when the laser beam of the detector scans the transparent glass plate free of defects one time in the X-axis direction. From time 1. During one scan up to this point, transmitted light is received by the photoreceiver Di, which indicates that the output level is E volts. In this way, the receiver DI is 1
During the scanning period, transmitted light is constantly received.

透明ガラス板にドリップを含めた欠点が存在する場合に
は、欠点にレーザ光が投射されると透過光の光量が減少
し、第6図(b)に示すように出力波形中に立ち下がり
パルス51が発生する。説明の便宜上、この立ち下がり
パルス51は誇張して示してあり、時刻t3で立ち下が
り、時刻t4で立ち上がっているものとする。この立ち
下がりパルス51の立ち下がりレベルの大きさは欠点の
大きさに比例する。
If a transparent glass plate has defects, including drips, when a laser beam is projected onto the defects, the amount of transmitted light decreases, and a falling pulse appears in the output waveform as shown in Figure 6(b). 51 occurs. For convenience of explanation, this falling pulse 51 is shown in an exaggerated manner, and it is assumed that it falls at time t3 and rises at time t4. The magnitude of the falling level of this falling pulse 51 is proportional to the magnitude of the defect.

マイナス微分器412では、増幅器411からの出力を
マイナス微分しており、第6図(c)に示すように、立
ち下がりパルス51の立ち下がり時刻t。
The negative differentiator 412 negatively differentiates the output from the amplifier 411, and as shown in FIG. 6(c), the falling time t of the falling pulse 51.

で立ち上がる微分パルス52を出力する。この微分パル
スの大きさは、立ち下がりパルス51の立ち下がりレベ
ルに比例している。
A differential pulse 52 that rises at . The magnitude of this differential pulse is proportional to the falling level of the falling pulse 51.

マイナス微分器412からの微分パルス52は比較器4
13に入力される。比較器413は、第6図(e)の波
形中に示すように2つの検出レベルdll+  adz
(d++<dtt)を持っており、これら検出レベルと
入力される微分パルス52の立ち下がりレベルとの比較
を行う。
Differential pulse 52 from negative differentiator 412 is sent to comparator 4
13. The comparator 413 has two detection levels dll+adz as shown in the waveform of FIG. 6(e).
(d++<dtt), and these detection levels are compared with the falling level of the input differential pulse 52.

比較器413は、入力された微分パルスの立ち下がりレ
ベルが検出レベルd、より高い場合には、第1の出力端
子416よりパルスを出力し、検出レベルd1gより高
い場合には第2の出力端子417よリパルスを出力する
。これらパルスはパルス整形器414.415でそれぞ
れ整形され、欠点データDIllI)+gとして出力さ
れる。第6図(C)に示す微分パルス52の場合、立ち
下がりレベルは検出レベルdllより太き(d、2より
小さいから、第6図(d)に示すような欠点データD1
1が出力される。以上のような欠点データDII+  
DI!の別は、欠点の大きさを表している。なお、欠点
データDI+、  I)+zは欠点の種類がドリップ、
異物、フシ、泡のすべての場合について得られる。
When the falling level of the input differential pulse is higher than the detection level d, the comparator 413 outputs the pulse from the first output terminal 416, and when it is higher than the detection level d1g, it outputs the pulse from the second output terminal. 417 outputs a repulse. These pulses are shaped by pulse shapers 414 and 415, respectively, and output as defect data DIllI)+g. In the case of the differential pulse 52 shown in FIG. 6(C), the falling level is thicker than the detection level dll (d is smaller than 2, so the defect data D1 as shown in FIG. 6(d)
1 is output. Defect data DII+ as above
DI! The other represents the size of the defect. In addition, the defect data DI+, I)+z indicates that the type of defect is drip,
Obtained for all cases of foreign bodies, stent, and bubbles.

次に、第7図の波形図を参照して欠点データ生成部CT
5の動作を説明する。欠点データ生成部CT5は、受光
器p5で検出された反射光が光電子増倍管PM5で変換
された電気信号から、ドリップの大きさの情報を含む欠
点データを生成する。
Next, referring to the waveform diagram in FIG. 7, the defect data generation unit CT
The operation of step 5 will be explained. The defect data generation unit CT5 generates defect data including information on the size of drip from an electric signal obtained by converting the reflected light detected by the photoreceiver p5 by the photomultiplier tube PM5.

受光器D5はガラス板の表面からの反射光を常時受光し
ており、光電子増倍管PM5からは、常に電気信号が送
られてくる。第7図(a)は、ドリップが走査された場
合の増幅器421からの電気信号の波形を示す。時刻t
、から時刻t6の間に立ち上がりパルス61が発生して
いる。プラス微分器422では、増幅器421からの出
力をプラス微分しており、第7図(b)に示すように、
立ち上がりパルス61の立ち上がり時刻t、で立ち上が
る微分パルス62を出力する。この微分パルスの大きさ
は、立ち上がりパルス61の立ち上がりレベルに比例し
ている。
The light receiver D5 always receives reflected light from the surface of the glass plate, and the photomultiplier tube PM5 always sends an electric signal. FIG. 7(a) shows the waveform of the electrical signal from the amplifier 421 when the drip is scanned. Time t
, a rising pulse 61 is generated between time t6 and time t6. The positive differentiator 422 positively differentiates the output from the amplifier 421, and as shown in FIG. 7(b),
A differential pulse 62 that rises at the rising time t of the rising pulse 61 is output. The magnitude of this differential pulse is proportional to the rising level of the rising pulse 61.

プラス微分器422からの微分パルス62は比較器42
3に入力される。比較器423は、第7図(b)の波形
中に示すように2つの検出レベルd 51.  d %
1(ds+<dsz)を持っており、これら検出レベル
と入力される微分パルス62の立ち上がりレベルとの比
較を行う。
The differential pulse 62 from the plus differentiator 422 is sent to the comparator 42
3 is input. The comparator 423 detects two detection levels d51. as shown in the waveform of FIG. 7(b). d%
1 (ds+<dsz), and these detection levels are compared with the rising level of the input differential pulse 62.

比較器423は、入力された微分パルス62の立ち上が
りレベルが検出レベルdslより高い場合には第1の出
力端子426よりパルスを出力し、検出レベルdS!よ
り高い場合には第2の出力端子427よリパルスを出力
する。これらパルスはパルス整形器424.425でそ
れぞれ整形され、欠点データD、1゜DSLとして出力
される。第7図(b)に示す微分パルス62の場合、立
ち上がりレベルは検出レベルdslより太き(d、2よ
り小さいから、第7図(c)に示すような欠点データD
S+が出力される。以上のような欠点データD S I
 +  D 52の別は、ドリップの大きさを表してい
る。
When the rising level of the input differential pulse 62 is higher than the detection level dsl, the comparator 423 outputs a pulse from the first output terminal 426, and the detection level dS! If it is higher, a repulse is output from the second output terminal 427. These pulses are shaped by pulse shapers 424 and 425, respectively, and output as defect data D and 1°DSL. In the case of the differential pulse 62 shown in FIG. 7(b), the rising level is thicker than the detection level dsl (d, smaller than 2), so the defect data D as shown in FIG. 7(c)
S+ is output. Defect data DSI as above
+D 52 indicates the size of the drip.

以上説明したように電気信号処理回路16からは、欠点
の種類および大きさを表す情報を含む欠点データDI1
.  DI21  DSII  Dszが出力され、欠
点データ取込み回路17(第1図)に送られる。なお、
以下の説明において、パルスとしての欠点データはビッ
ト“l”に対応するものとする。
As explained above, the electrical signal processing circuit 16 outputs the defect data DI1 including information representing the type and size of the defect.
.. DI21 DSII Dsz is output and sent to the defect data acquisition circuit 17 (FIG. 1). In addition,
In the following description, it is assumed that defective data as a pulse corresponds to bit "1".

次に、欠点データ取込み回路17の構成を説明する。Next, the configuration of the defect data acquisition circuit 17 will be explained.

第8図はその一構成例を示す。この欠点データ取込み回
路は、X軸カウンタ71と、ORユニット72と、分周
回路73と、Y軸カウンタ74と、連続判定部75と、
FIFOメモリ76とを備えており、連続判定部75は
、欠点データ圧縮部77と、X軸連続判定部78と、Y
軸連続判定部79とから構成されている。
FIG. 8 shows an example of its configuration. This fault data acquisition circuit includes an X-axis counter 71, an OR unit 72, a frequency dividing circuit 73, a Y-axis counter 74, and a continuity determination section 75.
The continuity determination section 75 includes a defect data compression section 77, an X-axis continuity determination section 78, and a Y-axis continuity determination section 78.
and an axis continuity determination section 79.

X軸カウンタ71は、X座標分割のためのクロックCL
Kをカウントするカウンタであり、走査開始信号である
スタートパルスSTでリセットされる。このスタートパ
ルスSTは、前述したように検出器20の回転多面鏡2
4を反射したレーザ光を特定の位置でガラスファイバで
取り出し、光電変換後、波形整形して得られる。X軸カ
ウンタ71は欠点データが取り込まれたときのカウンタ
値をX座標位置データとして連続判定部75に出力する
The X-axis counter 71 uses a clock CL for X-coordinate division.
This is a counter that counts K, and is reset by a start pulse ST that is a scan start signal. This start pulse ST is applied to the rotating polygon mirror 2 of the detector 20 as described above.
4 is reflected by a glass fiber at a specific position, photoelectric conversion is performed, and waveform shaping is performed. The X-axis counter 71 outputs the counter value when the defect data is taken in to the continuity determination section 75 as X-coordinate position data.

ORユニット72は、電気信号処理回路からの複数走査
分の欠点データをため込み、所定のタイミングで出力す
るユニットであり、このようなORユニットについては
、特公昭56−39419号公報「欠点検出装置」に開
示されている。
The OR unit 72 is a unit that stores defect data for multiple scans from the electrical signal processing circuit and outputs it at a predetermined timing. Such an OR unit is described in Japanese Patent Publication No. 56-39419 "Defect Detection Device" ” is disclosed.

分周回路73は、パルス発生器(図示せず)から供給さ
れる、ガラス板のライン方向への移動距離に対応したラ
イン同期信号PCを分周して、ORユニット72に入力
する。ORユニット72は、分周されたライン同期信号
PGのタイミングで、ため込んだ欠点データを連続判定
部75に出力する。
The frequency dividing circuit 73 divides the frequency of a line synchronization signal PC corresponding to the moving distance of the glass plate in the line direction, which is supplied from a pulse generator (not shown), and inputs the result to the OR unit 72 . The OR unit 72 outputs the accumulated defect data to the continuity determination section 75 at the timing of the frequency-divided line synchronization signal PG.

Y軸カウンタ74は、分周回路73からの分周されたラ
イン同期信号PGをカウントし、欠点データ入力時に、
カウント値をX座標位置データとして連続判定部75に
出力する。なお、Y軸カウンタ74のリセットはソフト
的に行われる。
The Y-axis counter 74 counts the frequency-divided line synchronization signal PG from the frequency dividing circuit 73, and when defect data is input,
The count value is output to the continuity determination section 75 as X coordinate position data. Note that the Y-axis counter 74 is reset by software.

第9図にORユニット72の一例を示す。このORユニ
ット72は、複数種類の欠点データDIl。
FIG. 9 shows an example of the OR unit 72. This OR unit 72 generates a plurality of types of defect data DIl.

D1□、Ds+、Dszにそれぞれ対応した、論理和回
路OR++、OR+z、ORs+、0Rszと、ランダ
ムアクセスメモリRAM++、RAM+z、RAM5+
Logical sum circuits OR++, OR+z, ORs+, 0Rsz corresponding to D1□, Ds+, and Dsz, respectively, and random access memories RAM++, RAM+z, and RAM5+
.

RAM、2と、ゲート回路a11.  elf、  c
S、、  Gstとから構成されている。
RAM, 2, and gate circuit a11. elf, c
It is composed of S,, Gst.

第10図および第11図は、ORユニット72の動作の
理解を助けるための図であり、第10図はレーザスポッ
トによる走査と、クロックCLKおよび分周後のライン
同期信号PCとの関係を示す模式図、第11図はORユ
ニットのRA M lrへの欠点データD、のため込み
状態を示す図である。これら図面を参照してORユニッ
ト72に一例として欠点データD11がため込まれる動
作について説明する。分周後のライン同期信号PCの間
に、レーザスポットによりX軸方向にガラス板がn回走
査されるものとする。また、ORユニット72の各RA
Mのアドレスは1000番地まであるものとする。各R
AMのアドレスは、クロックCLKが何個目のクロック
であるかに対応している。
10 and 11 are diagrams to help understand the operation of the OR unit 72, and FIG. 10 shows the relationship between scanning by the laser spot, the clock CLK, and the line synchronization signal PC after frequency division. The schematic diagram, FIG. 11, is a diagram showing a state in which defect data D is stored in the RAM lr of the OR unit. The operation of storing the defect data D11 in the OR unit 72 as an example will be described with reference to these drawings. It is assumed that the glass plate is scanned n times in the X-axis direction by the laser spot during the frequency-divided line synchronization signal PC. In addition, each RA of the OR unit 72
It is assumed that M has addresses up to 1000. Each R
The AM address corresponds to the number of the clock CLK.

さて、第10図に示すように透明ガラス板10にドリッ
プ80がある場合、1回目の走査で電気信号処理回路か
ら入力される欠点データDIlがRA M r 1に書
き込まれ、アドレス502.503番地にビット“l”
が立つ、2回目の走査で入力された欠点データDISは
、RA M s 、から読み出された欠点データと論理
和回路ORI+においてORがとられた後、RA M 
+ +に再書き込みされ、・・・第n回目の走査で入力
された欠点データD11は、RAM、lから読み出され
た欠点データと論理和回路OR目においてORがとられ
た後、RAMIIに再書き込みされ、最終的にアドレス
501番地から504番地にビット“1”が格納される
。このようにしてRAM11にため込まれた欠点データ
D、は、分周回路73で分周されたライン同期信号PG
のタイミングでゲート回路Ct+を経て連続判定部75
に出力される。
Now, when there is a drip 80 on the transparent glass plate 10 as shown in FIG. 10, the defect data DIl input from the electric signal processing circuit in the first scan is written to RAM r 1 and stored at addresses 502 and 503. bit “l”
The defect data DIS inputted in the second scan is ORed with the defect data read from RAM s in the OR circuit ORI+, and then
The defect data D11 rewritten to + and inputted in the n-th scan is ORed with the defect data read from the RAM I in the OR circuit, and then transferred to RAM II. The data is rewritten and finally bit "1" is stored in addresses 501 to 504. The defect data D stored in the RAM 11 in this way is the line synchronization signal PG whose frequency is divided by the frequency dividing circuit 73.
At the timing of , the continuity determination unit 75 passes through the gate circuit Ct+.
is output to.

連続判定部75は、ORユニット72からの欠点データ
を圧縮し、圧縮された欠点データの種別を出力する欠点
データ圧縮部77と、圧縮された欠点データのX軸方向
の連続性を判定して、X軸方向のスタートアドレスとエ
ンドアドレスを出力するX軸連続判定部78と、圧縮さ
れた欠点データのY軸方向の連続性を判定して、Y軸方
向のスタートアドレスとエンドアドレスを出力するY軸
連続判定部79とから構成されている。
The continuity determination section 75 compresses the defect data from the OR unit 72 and outputs the type of the compressed defect data, and the defect data compression section 77 determines the continuity of the compressed defect data in the X-axis direction. , an X-axis continuity determination unit 78 that outputs a start address and an end address in the X-axis direction, and an X-axis continuity determination unit 78 that determines the continuity of the compressed defect data in the Y-axis direction and outputs a start address and an end address in the Y-axis direction. It consists of a Y-axis continuity determination section 79.

さて、このような構成の連続判、足部75の動作を、第
12図および第13図を参照しながら説明する。第12
図はζ欠点データを圧縮する欠点データ圧縮部77の動
作を概念的に説明するための図、第13図は、X軸連続
判定部78およびY軸連続判定部79の動作を説明する
ために、圧縮後の欠点データのビット配列の例を示す図
である。
Now, with reference to FIGS. 12 and 13, the operation of the continuous leg portion 75 having such a configuration will be explained. 12th
The figure is a diagram for conceptually explaining the operation of the defect data compression unit 77 that compresses ζ defect data, and FIG. 13 is a diagram for explaining the operation of the X-axis continuity determination unit 78 and the Y-axis continuity determination unit 79. FIG. 2 is a diagram showing an example of a bit arrangement of defect data after compression.

ORユニット72からは、種別毎の欠点データD、、、
D、、、D、、、D、、が出力されて(るが、第12図
に示すように、各種別毎の欠点データは、X軸アドレス
およびY軸アドレス方向に2次元のビット配列を有して
いる。今、3次元空間を考えて、これら2次元配列欠点
データD++、D+□+  DSl+D、!がX軸方向
に配列されているものとすると、ORユニット72から
は3次元の欠点データ群D1.。
The OR unit 72 outputs defect data D for each type.
D, , , D, , , D, are output (However, as shown in Figure 12, the defect data for each type is a two-dimensional bit array in the X-axis address and Y-axis address directions. Now, considering a three-dimensional space, and assuming that these two-dimensional array defect data D++, D+□+DSl+D,! are arranged in the X-axis direction, the OR unit 72 outputs three-dimensional defect data. Data group D1.

Dot、  Dss、  Dsxが出力されると考える
ことができる。欠点データ圧縮部77は、3次元欠点デ
ータ群all、  D、t+  Ds+、  Dsgを
、X軸アドレスおよびY軸アドレス対応に、X軸方向に
全欠点データのORをとり、圧縮された2次元の欠点デ
ータDBを形成する。第12図では、欠点データD、l
と欠点データI)szにのみビット“l”が立っている
例を示している。
It can be considered that Dot, Dss, and Dsx are output. The defect data compression unit 77 ORs all defect data in the X-axis direction for the three-dimensional defect data group all, D, t+ Ds+, Dsg corresponding to the X-axis address and the Y-axis address, and converts the three-dimensional defect data group all, D, t+ Ds+, Dsg into compressed two-dimensional Create a defect data DB. In FIG. 12, defect data D, l
An example is shown in which bit "l" is set only in defect data I)sz.

第13図は、以上のような考えに基づいて圧縮された欠
点データのビット配列の例を示す。
FIG. 13 shows an example of a bit array of defect data compressed based on the above idea.

X軸連続判定部78およびY軸連続判定部79はビット
“1”のX軸方向およびY軸方向の連続性をそれぞれチ
ェックし、ビット61″の途切れを検出する。検出した
途切れに対しパラメータによりX軸方向およびY軸方向
に結合するか否かを決定する。
The X-axis continuity determination section 78 and the Y-axis continuity determination section 79 check the continuity of bit "1" in the X-axis direction and the Y-axis direction, respectively, and detect a break in bit 61''. Determine whether to combine in the X-axis direction and Y-axis direction.

第13図(a)は、X軸連続判定部78およびY軸連続
判定部79のバラーータが共に0の場合の連続判定によ
り合成された欠点データブロックを示す。
FIG. 13(a) shows a defect data block synthesized by continuity determination when both the varata of the X-axis continuity determination section 78 and the Y-axis continuity determination section 79 are 0.

X軸連続判定部78からは、この欠点データブロックの
X軸スタートアドレスとして500番地が、X軸エンド
アドレスとして503番地が出力される。
The X-axis continuity determination unit 78 outputs address 500 as the X-axis start address and address 503 as the X-axis end address of this defective data block.

一方、Y軸連続判定部79からは、欠点データブロック
のY軸スタートアドレスとして100番地がY軸エンド
アドレスとして103番地が出力される。
On the other hand, the Y-axis continuity determination unit 79 outputs address 100 as the Y-axis start address of the defective data block and address 103 as the Y-axis end address.

第13図(b)は、X軸連続判定部78およびY軸連続
判定部79のパラメータが共に1の場合の連続判定によ
り合成された欠点データブロックを示す。
FIG. 13(b) shows a defect data block synthesized by continuity determination when the parameters of the X-axis continuity determination section 78 and the Y-axis continuity determination section 79 are both 1.

パラメータが1の場合には、1つのアドレスにビット″
1”の途切れがあっても結合し、図示のような欠点デー
タブロックを合成する。この場合、X軸連続判定部78
からは、この欠点データブロックのX軸スタートアドレ
スとして500番地が、X軸エンドアドレスとして50
3番地が出力される。
If the parameter is 1, the bit"
Even if there is a 1" discontinuity, they are combined and a defective data block as shown is synthesized. In this case, the X-axis continuity determination unit 78
From here, address 500 is the X-axis start address of this defective data block, and address 50 is the X-axis end address.
Address 3 is output.

一方、Y軸連続判定部79からは、欠点データブロック
のY軸スタートアドレスとして101番地が、Y軸エン
ドアドレスとして103番地が出力される。
On the other hand, the Y-axis continuity determination unit 79 outputs address 101 as the Y-axis start address and address 103 as the Y-axis end address of the defective data block.

このようにビット“1”の途切れを補間して結合する連
続判定を行うことにより、1個の欠点がレーザスポット
により走査されたとき、複数の受光器からの欠点データ
の発生のタイミングがずれたような場合に、これらを1
個の欠点からの欠点データであると認識させることが可
能となる。
By performing continuous judgment that interpolates and combines the discontinuous bits of "1" in this way, when a single defect is scanned by a laser spot, the timing of generation of defect data from multiple receivers is shifted. In such a case, use these as 1
This makes it possible to recognize that the data is defect data from individual defects.

Y軸連続判定部79は、ビット“1”の連続性が途切れ
た時点で、欠点データブロック内に立っているビット“
1”、すなわち欠点データの種別を欠点パターンとして
、X軸連続判定部78およびY軸連続判定部79からは
欠点データブロックのX軸方向のスタートアドレス、エ
ンドアドレスおよびY軸方向のスタートアドレス、エン
ドアドレスを欠点の位置情報としてFIFOメモリ76
に出力する。なお、Y軸連続判定部79には、ビット“
1”のY軸方向の連続が所定の長さ続(と強制的に切り
、欠点パターンおよび位置情報をFIFOメモリ76に
出力させる機能を有している。
The Y-axis continuity determination unit 79 determines whether the bit "1" standing in the defective data block is determined when the continuity of the bit "1" is interrupted.
1'', that is, the type of defect data is a defect pattern, and the X-axis continuity determination unit 78 and Y-axis continuity determination unit 79 determine the start address, end address, and start address, end address in the X-axis direction, and the start address, end address in the Y-axis direction of the defect data block. FIFO memory 76 with address as defect position information
Output to. Note that the Y-axis continuity determination unit 79 has a bit “
1'' in the Y-axis direction is forcibly cut for a predetermined length, and the defect pattern and position information are output to the FIFO memory 76.

FIFOメモリ76は、送られてきた欠点パターンおよ
び位置情報を格納し、ダイレクトメモリアクセスで情報
処理装置18のメモリに転送する。
The FIFO memory 76 stores the sent defect pattern and position information, and transfers it to the memory of the information processing device 18 by direct memory access.

情報処理装置18は、欠点の種類、欠点の大きさを判断
するための欠点識別パターン19を予め保持しており、
欠点データ取込み回路17から送られてきた欠点パター
ンと照合し、欠点の種類、大きさを識別する。欠点がド
リップの場合には、欠点データD11またはI)tzに
加えて欠点データD!i++  [)szが必ず欠点パ
ターン中に存在するから、情報処理装置では欠点識別パ
ターンテーブルとの照合でその欠点がドリップであるこ
とを認識できる。また、ドリップの大きさは、欠点パタ
ーン中にいずれの欠点データが存在するかによって識別
される。情報処理装置18は、さらに、欠点データ取込
み回路17から送られてきた位置情報から欠点の位置を
識別し、これら識別結果を上位の情報処理装置へ送る。
The information processing device 18 holds in advance a defect identification pattern 19 for determining the type of defect and the size of the defect.
The defect pattern sent from the defect data acquisition circuit 17 is compared to identify the type and size of the defect. If the defect is a drip, in addition to the defect data D11 or I)tz, the defect data D! Since i++[)sz always exists in the defect pattern, the information processing device can recognize that the defect is a drip by comparing it with the defect identification pattern table. Further, the size of the drip is identified depending on which defect data exists in the defect pattern. The information processing device 18 further identifies the location of the defect from the location information sent from the defect data acquisition circuit 17, and sends these identification results to the higher-level information processing device.

上位の情報処理装置では、送られてきた情報に基づいて
、製造ライン工程、採板工程などの制御を行う。
The upper level information processing device controls the manufacturing line process, plate sampling process, etc. based on the sent information.

以上、透明板ガラスの識別型欠点検出装置について説明
したが、本発明はこの実施例にのみ限定されるものでは
なく、本発明の範囲内で種々の変形、変更が可能なこと
は勿論である。
Although the identification type defect detection device for transparent plate glass has been described above, the present invention is not limited to this embodiment, and it goes without saying that various modifications and changes can be made within the scope of the present invention.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、本発明によれば、ガラス板の表面
に付着したドリップを、他の欠点、例えば異物、フシ、
泡と識別して検出し、さらにその大きさを検出すること
ができるので、小さなドリップを有効に検出することが
可能となる。
As explained above, according to the present invention, drips adhering to the surface of a glass plate can be removed from other defects such as foreign matter, stylus, etc.
Since it is possible to identify and detect bubbles and further detect their size, it becomes possible to effectively detect small drips.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、本発明のドリップ検出装置の一実施例の基本
構成を示すブロック図、 第2図は、検出器の斜視図、 第3図は、検出器の側面図、 第4図は、受光器の斜視図、 第5図は、電気信号処理回路のブロック図、第6図およ
び第7図は、電気信号処理回路の動作を説明するための
波形図、 第8図は、欠点データ取込み回路のブロック図、第9図
は、ORユニットの回路図、 第10図および第11図は、ORユニットの動作を説明
するための図、 第12図および第13図は、連続判定部の動作を説明す
るための図である。 10・・・・・透明ガラス板 11・・・・・走査器 12、13・・・受光器 14、15・・・光電子増倍管 16・・・・・電気信号処理回路 17・・・・・欠点データ取込み回路 18・・・・・情報処理装置 19−・・・・欠点識別パターンテーブル20・・・・
・検出器 21・・・・・レーザ光源 24・・・・・回転多面鏡 71・・・・・X軸カウンタ 72・・・・・ORユニット 73・・・・・分周回路 74・、・・・・Y軸カウンタ 75・・・・・連続判定部 76・・・・・FIFOメモリ 77・・・・・欠点データ圧縮部 78・・・・・X軸連続判足部 79・・・・・Y軸連続判足部 代理人 弁理士  岩 佐  義 幸 し一==−−==−===−−J 第2図 第3図 冨 へ 第4図 t、                  t22O2 第7図 第9図 第10図 Y 第12図
FIG. 1 is a block diagram showing the basic configuration of an embodiment of the drip detection device of the present invention; FIG. 2 is a perspective view of the detector; FIG. 3 is a side view of the detector; Figure 5 is a block diagram of the electrical signal processing circuit; Figures 6 and 7 are waveform diagrams for explaining the operation of the electrical signal processing circuit; Figure 8 is defect data acquisition. A block diagram of the circuit, FIG. 9 is a circuit diagram of the OR unit, FIGS. 10 and 11 are diagrams for explaining the operation of the OR unit, and FIGS. 12 and 13 are the operations of the continuity determination section. FIG. 10... Transparent glass plate 11... Scanners 12, 13... Light receivers 14, 15... Photomultiplier tube 16... Electric signal processing circuit 17... - Defect data acquisition circuit 18... Information processing device 19 -... Defect identification pattern table 20...
・Detector 21... Laser light source 24... Rotating polygon mirror 71... X-axis counter 72... OR unit 73... Frequency dividing circuit 74... ... Y-axis counter 75 ... Continuity judgment section 76 ... FIFO memory 77 ... Defect data compression section 78 ... X-axis continuous format foot section 79 ...・Y-Axis Continuous Judgment Attorney Patent Attorney Yoshikazu Iwasa ==--==-===--J Figure 2 Figure 3 To the bottom Figure 4 t, t22O2 Figure 7 Figure 9 Figure 10 Y Figure 12

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)長さ方向に走行するガラス板を幅方向に光スポッ
トで全面走査し、ガラス板表面に付着するドリップを検
出するフライングスポット型のドリップ検出装置におい
て、 前記ガラス板からの透過光を受光する第1の受光手段と
、 前記ガラス板からの反射光を受光する第2の受光手段と
、 前記第1および第2の受光手段で受光された光の光量変
化の組み合わせから、ドリップの存在を検出する処理手
段とを備えることを特徴とするガラス板のドリップ検出
装置。
(1) In a flying spot type drip detection device that scans the entire surface of a glass plate traveling in the length direction in the width direction with a light spot and detects drips adhering to the surface of the glass plate, the transmitted light from the glass plate is received. A second light receiving means receives reflected light from the glass plate, and the presence of drip is determined from the combination of changes in the amount of light received by the first and second light receiving means. A drip detection device for a glass plate, comprising a processing means for detecting drip.
JP62128090A 1987-05-27 1987-05-27 Drip detecting device for glass plate Pending JPS63293449A (en)

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US07/298,747 US4914309A (en) 1987-05-27 1988-05-25 Discriminating type flaw detector for light-transmitting plate materials
DE88904637T DE3882905T2 (en) 1987-05-27 1988-05-25 SENSORS FOR DIFFERENTIATING ERRORS IN LIGHT-TRANSMITTING RAIL-SHAPED MATERIAL.
EP88904637A EP0315697B1 (en) 1987-05-27 1988-05-25 Discriminative flaw detector for light-transmissive sheet material
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011043415A (en) * 2009-08-21 2011-03-03 Central Glass Co Ltd Detection method and device of deposit on glass plate surface

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JPS5737023A (en) * 1980-08-11 1982-03-01 Nissan Motor Co Ltd Driving gear of stepless speed change auxiliary equipment for automobile engine

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