JPS63282704A - Manufacture of optical circuit - Google Patents

Manufacture of optical circuit

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JPS63282704A
JPS63282704A JP62117130A JP11713087A JPS63282704A JP S63282704 A JPS63282704 A JP S63282704A JP 62117130 A JP62117130 A JP 62117130A JP 11713087 A JP11713087 A JP 11713087A JP S63282704 A JPS63282704 A JP S63282704A
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JP
Japan
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optical
optical fiber
guide
substrate
forming
Prior art date
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Application number
JP62117130A
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Japanese (ja)
Inventor
Hisaharu Yanagawa
柳川 久治
Kazuki Watanabe
万記 渡辺
Mikio Kokayu
小粥 幹夫
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Furukawa Electric Co Ltd
Original Assignee
Furukawa Electric Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To execute with high accuracy an optical axis alignment of an optical fiber for constituting an optical element, and an optical fiber for input and output by forming a thin layer consisting of a material for constituting a guide on the whole surface of a substrate, and working the thin layer into a desired pattern. CONSTITUTION:First of all, on the whole surface of a quartz substrate 20, a thin film 21 consisting of quartz is formed. Subsequently, on the whole surface of the thin film 21, a photoresist 22 is formed. Thereafter, on the resist 22, a photomask 23 having an opening in only a part corresponding to a pattern forming area of the thin film 21 is formed and photoirradiation is executed, and the resist 22 being right under the opening of the mask 23 is hardened. After having removed the mask 23, the resist 22 is developed and the resist pattern 22 is formed. In the end, by using the pattern 22 as a mask, etching of the thin film 21 is executed, and the guide 21 is formed. Thereafter, in the guide 21 of the substrate 20, an optical fiber 24 is provided, and an axial alignment and a connection of each optical fiber are executed. In such a way, the optical axis alignment with the optical fiber for input and output can be executed with high accuracy.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は光ファイバにより構成された光素子が組み込ま
れた光回路の製造方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Industrial Application Field) The present invention relates to a method of manufacturing an optical circuit incorporating an optical element constructed from an optical fiber.

(従来技術及び発明が解決しようとする問題点)低損失
の光分岐回路として、従来、第5図に示すような石英導
波路が組み込まれたものが知られている0石英は材料と
しての損失が低いため、比較的容易に低損失の回路が得
られるという利点がある。第5図において、石英基板1
上には、石英よりなるY分岐導波路2、該分岐導波路の
入カポ−)2aに接続される入力用光ファイバ3、同じ
く2個の出力ポート2b、2cに夫々接続される出力用
光ファイバ4.5が載!されている。これらの入力及び
出力用光ファイバ3〜5は基板1上に、当該光ファイバ
の外径と略等しい幅で平行に形成された所定長のガイド
6内に配設されることにより、前記分岐導波路20入出
力ポートとの軸合せが行われる。第6図はこのガイド6
に光ファイバが配設された状態を示す断面図であり、基
板1表面全面には石英1i10が形成され、この石英層
lO上に光ファイバ3の外径より僅かに大きな間隔で一
対の平行な壁状のガイド6が紙面に垂直な方向に形成さ
れており、この一対のガイド6により形成される溝内に
光ファイバ3が配設されている。
(Prior art and problems to be solved by the invention) As a low-loss optical branch circuit, a circuit incorporating a quartz waveguide as shown in Fig. 5 has been known. Since the loss is low, there is an advantage that a low-loss circuit can be obtained relatively easily. In FIG. 5, quartz substrate 1
Above, there is a Y-branch waveguide 2 made of quartz, an input optical fiber 3 connected to the input port 2a of the branch waveguide, and an output optical fiber 3 connected to the two output ports 2b and 2c, respectively. Includes fiber 4.5! has been done. These input and output optical fibers 3 to 5 are disposed on the substrate 1 in a guide 6 of a predetermined length formed in parallel with a width approximately equal to the outer diameter of the optical fiber, so that the branch guide Axis alignment with the wave path 20 input/output port is performed. Figure 6 is this guide 6
2 is a cross-sectional view showing a state in which optical fibers are disposed on the substrate 1. Quartz 1i10 is formed on the entire surface of the substrate 1, and on this quartz layer 10, a pair of parallel parallel wires are formed at a spacing slightly larger than the outer diameter of the optical fiber 3. A wall-shaped guide 6 is formed in a direction perpendicular to the plane of the paper, and the optical fiber 3 is disposed within a groove formed by the pair of guides 6.

Y分岐導波路2は、第7図にその断面を示すように、石
英基板1上に形成された石英層10、該石英層10上に
所定の幅で形成された高屈折率のチタニアドープ石英層
IL及び、このチタニアドープ石英層11の前面を覆っ
て形成された石英N12から構成される。即ち、Y分岐
導波路2においては、低屈折率の石英層10.12がタ
ララドとして、高屈折率のチタニアドープ石英層11が
コアとして機能する。
As shown in the cross section of FIG. 7, the Y-branch waveguide 2 includes a quartz layer 10 formed on a quartz substrate 1, and a high refractive index titania-doped quartz layer formed on the quartz layer 10 with a predetermined width. It consists of a layer IL and quartz N12 formed covering the front surface of this titania-doped quartz layer 11. That is, in the Y-branch waveguide 2, the low refractive index quartz layer 10.12 functions as a talarad, and the high refractive index titania-doped quartz layer 11 functions as a core.

このような従来の光分岐回路は、次のようにして製造さ
れる。即ち、先ず、石英基板1の前面に例えば火炎堆積
法により石英NIO及びチタニアドープ石英層11を順
次形成する。しかるのち、通常のフォトリソグラフィー
法及び反応性イオンエツチング法を適用して、チタニア
ドープ石英層11を選択的にエツチングして所望のパタ
ーンを形成する。具体的には、この工程によりY分岐導
波路2のコア部分と、前述のガイド6とが同時に形成さ
れる。
Such a conventional optical branch circuit is manufactured as follows. That is, first, a quartz NIO layer and a titania-doped quartz layer 11 are sequentially formed on the front surface of a quartz substrate 1 by, for example, a flame deposition method. Thereafter, the titania-doped quartz layer 11 is selectively etched using conventional photolithography and reactive ion etching to form a desired pattern. Specifically, through this step, the core portion of the Y-branch waveguide 2 and the aforementioned guide 6 are formed simultaneously.

しかしながら、このような光分岐回路にあっては、円形
のコアを有する光ファイバと、上記第7図に示すような
非円形のコアを有する石英分岐導波路との光電磁界プロ
ファイル不整合による接続損失、並びに、エツチング加
工による分岐導波路のコア形成工程において、不可避的
に生しる界面凹凸による光損失等の損失が看過し難いと
いう問題がある。
However, in such an optical branch circuit, connection loss occurs due to optical electromagnetic field profile mismatch between an optical fiber having a circular core and a quartz branch waveguide having a non-circular core as shown in FIG. In addition, there is a problem in that it is difficult to overlook losses such as optical loss due to interface irregularities that inevitably occur in the step of forming the branch waveguide core by etching.

そこで、上記の問題を解決するために、石英分岐導波路
に代えて、光ファイバにより構成された分岐導波路を使
用した低損失の光分岐回路が提案されている。
Therefore, in order to solve the above problem, a low-loss optical branching circuit has been proposed that uses a branching waveguide made of optical fiber instead of the quartz branching waveguide.

このような、光ファイバよりなる分岐導波路を有する光
回路を形成する場合、例えば、基板上で分岐導波路を構
成する光ファイバ同士、或いは、分岐導波路を構成する
光ファイバと入力もしくは出力用光ファイバとを接合す
る際に、両者の光軸合せを高精度で行い、光回路の挿入
損失をできる限り低減することが望まれている。従来、
かかる基板上での高精度の光軸合せが困難であり、簡便
な工程で光ファイバ同士の光軸合せを行い得る方法が求
められていた。
When forming such an optical circuit having a branch waveguide made of optical fibers, for example, the optical fibers making up the branch waveguide may be connected to each other on the substrate, or the optical fibers making up the branch waveguide may be used for input or output. When joining an optical fiber, it is desired to align the optical axes of the two with high precision and reduce the insertion loss of the optical circuit as much as possible. Conventionally,
It is difficult to align the optical axes with high precision on such a substrate, and there has been a need for a method that can align the optical axes of optical fibers through a simple process.

本発明は上記従来の要請に応えるためになされたもので
、分岐導波路等光ファイバにより構成された光素子を組
み込んだ光回路を製造する方法において、該光素子を構
成する光ファイバと、入力及び出力用光ファイバとの光
軸合わせを簡便な方法で且つ高い精度で行うことが可能
な光回路の製造方法を徒供することを目的とする。
The present invention has been made in response to the above-mentioned conventional demands, and includes a method for manufacturing an optical circuit incorporating an optical element constituted by an optical fiber such as a branching waveguide. Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing an optical circuit, which allows alignment of the optical axis with an output optical fiber in a simple manner and with high precision.

(問題点を解決するための手段) 上記目的を達成するために本発明によれば、基板表面に
ガイドを形成したのち、該ガイドに沿って、光ファイバ
よりなる光素子と、該光素子にに接続された入力及び出
力用光ファイバとを載置し、前記光素子を形成する光フ
ァイバ同士、並びに、前記光素子を形成する光ファイバ
と前記入力及び出力用光ファイバとの間を接続する光回
路の製造方法において、前記基板表面にガイドを形成す
る工程が、前記基板の全面に前記ガイドを構成する材料
よりなる薄層を形成する工程と、該″FiiJifを所
望のパターンに加工する工程とから構成したものである
(Means for Solving the Problems) In order to achieve the above object, according to the present invention, a guide is formed on the surface of the substrate, and then an optical element made of an optical fiber is connected to the optical element along the guide. The optical fibers forming the optical element are connected to each other, and the optical fibers forming the optical element and the input and output optical fibers are connected to each other. In the method for manufacturing an optical circuit, the step of forming a guide on the surface of the substrate includes a step of forming a thin layer made of a material constituting the guide on the entire surface of the substrate, and a step of processing the "FiiJif" into a desired pattern. It is composed of.

(作用) 基板の全面に形成されたガイド材料よりなる薄層をフォ
トリソグラフィー法等の@相加工法を使用して選択的に
エツチングすることにより、所望のパターンのガイドを
高い精度で形成する。従って、製造コストを上昇させる
ことなく、容易且つ高い精度で軸合せを行うことが可能
となる。又、分岐導波路のパターンを変更する場合は、
エツチング等によりガイドを全て除去したのち、同じ基
板上に新たなパターンのガイドを形成すればよく、基板
を繰り返し使用することができる。
(Function) By selectively etching a thin layer of guide material formed on the entire surface of the substrate using an @phase processing method such as photolithography, a guide with a desired pattern is formed with high precision. Therefore, it is possible to perform axis alignment easily and with high precision without increasing manufacturing costs. Also, when changing the branch waveguide pattern,
After all the guides are removed by etching or the like, a new pattern of guides may be formed on the same substrate, and the substrate can be used repeatedly.

(実施例) 以下、本発明の一実施例を添付図面に基づいて詳述する
(Example) Hereinafter, an example of the present invention will be described in detail based on the accompanying drawings.

本発明の光回路の製造方法は、基板上に光ファイバの軸
合せ用のガイドを形成する工程に特徴を有するものであ
り、以下、このガイド形成工程を第1図に基づいて詳述
する。
The method for manufacturing an optical circuit of the present invention is characterized by the step of forming a guide for alignment of optical fibers on a substrate, and this guide forming step will be described in detail below with reference to FIG. 1.

先ず、石英基板20の全面に火炎堆積法を適用して石英
よりなる薄膜21を形成する(第1図(a))。
First, a flame deposition method is applied to the entire surface of a quartz substrate 20 to form a thin film 21 made of quartz (FIG. 1(a)).

次いで、石英薄膜21の全面にフォトレジスト22を形
成する(第1図(b))、シかるのち、このフォトレジ
スト22上に、石英薄膜21のパターン形成領域に対応
する部分のみに開口を有するフォトマスク23を例えば
印刷形成して光照射を行うことにより、フォトマスク2
3の開口直下のフォトレジストを硬化させる(第1図(
C))、フォトマスク23を除去したのち、レジスト2
2を現像して、レジストパターン22′を形成する(第
1図(d))。
Next, a photoresist 22 is formed on the entire surface of the quartz thin film 21 (FIG. 1(b)). After that, an opening is formed on the photoresist 22 only in a portion corresponding to the pattern formation area of the quartz thin film 21. For example, by printing the photomask 23 and irradiating it with light, the photomask 2
Harden the photoresist directly under the opening No. 3 (see Figure 1 (
C)) After removing the photomask 23, the resist 2 is removed.
2 is developed to form a resist pattern 22' (FIG. 1(d)).

最後に、上記レジストパターン22°をマスクとして、
石英薄膜21のエツチング例えば反応性イオンエツチン
グを行うことにより、所望のパターンちのガイド21’
を形成する(第1図(e))。尚、本図では、フォトレ
ジスト22が石英薄膜21のエツチング時に全くエツチ
ングされない場合を示したが、実際には少量ではあるが
フォトレジストもエツチングされるので、深いエツチン
グを行う時には、石英薄膜21とフォトレジスト22と
の間に基板エツチング時にエツチングされにくい材料(
例えば上記の場合はCr)の′gi膜を形成したのち、
フォトレジストによりこのCrFiJ膜上にエツチング
パターンを形成し、この薄膜をマスターとして石英T1
1W4を再びエツチングする工程を付加することが好ま
しい。
Finally, using the resist pattern 22° as a mask,
By etching the quartz thin film 21, for example, by reactive ion etching, a desired pattern is formed in the guide 21'.
(Fig. 1(e)). Although this figure shows a case where the photoresist 22 is not etched at all when etching the quartz thin film 21, in reality the photoresist is also etched, albeit in a small amount, so when deep etching is performed, the quartz thin film 21 and the photoresist 22 are etched. A material that is difficult to be etched during substrate etching (
For example, in the above case, after forming a 'gi film of Cr),
An etching pattern is formed on this CrFiJ film using photoresist, and quartz T1 is etched using this thin film as a master.
It is preferable to add a step of etching 1W4 again.

しかるのち、基板20のガイド21’内に、光ファイバ
24を配設して、軸合せ及び光ファイバ同士の接合を行
うことにより、光回路を完成する。
Thereafter, the optical fibers 24 are arranged within the guides 21' of the substrate 20, and the optical circuits are completed by aligning the axes and joining the optical fibers together.

第2図は、上記した本発明の製造方法を適用して製造さ
れた光分岐回路の一例を示している。即ち、光回路30
は、分岐導波路31、入力用光ファイバ35、出力用光
ファイバ36.37から構成されている0分岐導波路3
1は3本の光ファイバ32.33及び34から構成され
、光ファイバ32と33の間には所望の反射比で光信号
を反射する反射膜38が介在されている。この反射膜3
8は例えば誘電体多層膜により形成することができる。
FIG. 2 shows an example of an optical branch circuit manufactured by applying the manufacturing method of the present invention described above. That is, the optical circuit 30
is a 0-branch waveguide 3 composed of a branch waveguide 31, an input optical fiber 35, and an output optical fiber 36, 37.
1 is composed of three optical fibers 32, 33 and 34, and a reflective film 38 is interposed between the optical fibers 32 and 33 to reflect the optical signal at a desired reflection ratio. This reflective film 3
8 can be formed of a dielectric multilayer film, for example.

光ファイバ34は、光ファイバ32のコア(図示せず)
の光軸が反射膜38にて全反射したときに当該光ファイ
バ34のコア(図示せず)の光軸と整合するように光フ
ァイバ32.33の側面に接合されている。そして、光
ファイバ32の端部は入力用光ファイバ35に、光ファ
イバ33.34の端部は各々出力用光ファイバ36.3
7に、夫々接続されている。これらの入力及び出力用光
ファイバ35〜37、並びに、分岐導波路31を構成す
る各光ファイバ32〜34は、上記工程により基板40
上に形成されたガイド41〜47内に配設されることに
より、互いの光軸合せが行われている。即ち、ガイド4
1〜47は夫々配設される光ファイバの外径と略同等の
間隔で平行に立設された一対の壁状体である。これらの
ガイド内に各光ファイバを配設して、光軸合せを行った
のち、各光ファイバを基板40上に固定して、光分岐回
路30を完成する。かかる光分岐回路30において、入
力用光ファイバ35から分岐導波路31の光ファイバ4
4に入射された光信号は、反射膜38において、所定の
反射比で光ファイバ34に反射されたのち、出力用光フ
ァイバ37に伝播される。
The optical fiber 34 is a core (not shown) of the optical fiber 32.
The optical fibers 32 and 33 are bonded to the side surfaces of the optical fibers 32 and 33 so that the optical axes of the optical fibers 32 and 33 align with the optical axes of the cores (not shown) of the optical fibers 34 when totally reflected by the reflective film 38. The end of the optical fiber 32 is connected to the input optical fiber 35, and the end of the optical fiber 33.34 is connected to the output optical fiber 36.3.
7, respectively. These input and output optical fibers 35 to 37 and each of the optical fibers 32 to 34 constituting the branch waveguide 31 are formed on the substrate 40 by the above process.
Mutual optical axes are aligned by being disposed within guides 41 to 47 formed above. That is, guide 4
Reference numerals 1 to 47 designate a pair of wall-like bodies that are erected in parallel at intervals substantially equal to the outer diameters of the optical fibers respectively disposed. After each optical fiber is arranged within these guides and the optical axes are aligned, each optical fiber is fixed onto the substrate 40 to complete the optical branch circuit 30. In such an optical branching circuit 30, the input optical fiber 35 is connected to the optical fiber 4 of the branching waveguide 31.
The optical signal incident on the optical fiber 34 is reflected by the reflective film 38 to the optical fiber 34 at a predetermined reflection ratio, and then propagated to the output optical fiber 37.

一方、光ファイバ32から反射膜38を透過して光ファ
イバ33に伝播した光信号は出力用光信号36に伝播さ
れる0以上のようにして、所望の分岐比で光信号を分岐
することが可能となる。
On the other hand, the optical signal transmitted from the optical fiber 32 through the reflective film 38 and propagated to the optical fiber 33 is propagated to the output optical signal 36, so that the optical signal can be branched at a desired branching ratio. It becomes possible.

但し、上記の分岐導波路31においては、反射膜38に
て反射した光信号は光ファイバ32のクラッド層を経て
光ファイバ34のコアに伝播されるため、クラッドの厚
さ分の光損失が不可避的に生じる。この光損失を低減す
るためには、例えば、分岐導波路31を構成する光ファ
イバ32.33.34を細径の(クラッドの厚さが小さ
い)光ファイバにより構成する、或いは、第3図に示す
ように、光ファイバ32及び33の側面の、光ファイバ
34を接合する箇所を研晧してクラッド層の厚さを低減
して反射膜38と光ファイバ34の端面との距離を極め
て小さくすればよい。尚、第2図では分岐用光ファイバ
32.33.34と別の入出力用光ファイバ35.36
.37を接続した構成を示したが、分岐用光ファイバ3
2.33.34の一端を延長し、入出力用光ファイバと
してもよい。
However, in the branch waveguide 31 described above, the optical signal reflected by the reflective film 38 is propagated to the core of the optical fiber 34 via the cladding layer of the optical fiber 32, so an optical loss corresponding to the thickness of the cladding is unavoidable. to occur. In order to reduce this optical loss, for example, the optical fibers 32, 33, and 34 constituting the branch waveguide 31 may be constructed of optical fibers with a small diameter (thickness of the cladding is small), or As shown, the distance between the reflective film 38 and the end face of the optical fiber 34 is made extremely small by polishing the side surfaces of the optical fibers 32 and 33 where the optical fiber 34 is joined and reducing the thickness of the cladding layer. Bye. In addition, in FIG. 2, branch optical fibers 32, 33, 34 and another input/output optical fiber 35, 36 are connected.
.. Although the configuration in which 37 is connected is shown, the branch optical fiber 3
One end of 2.33.34 may be extended to serve as an input/output optical fiber.

第4図は、本発明の製造方法を適用して形成された光回
路の他の例を示し、図において、光回路50は入力用光
ファイバ51及び出力用光ファイバ52〜56、並びに
これらの入力及び出力用光ファイバ51〜56の間に介
在された分岐導波路60から構成されている。この分岐
導波路60は、一端面が入力用光ファイバ51の端面と
接合される光ファイバ61、一端面が該光ファイバ61
の他端面に反射膜80を介して接合され他端面が出力用
光ファイバ52に接合された光ファイバ62、一端面が
光ファイバ61.62の側面に接合された光ファイバ6
3、一端面が光ファイバ63の他端面に反射膜81を介
して直線上に接合された光ファイバ64、一端面が光フ
ァイバ64の他端面に反射膜82を介して接合され他端
面に全反射膜83が形成された光ファイバ65、一端面
が光ファイバ63の側面に接合された光ファイバ66、
一端面が光ファイバ66の他端面に反射膜84を介して
接合され他端面が出力用光ファイバ53に接合された光
ファイバ67、一端面が光ファイバ66の側面に接合さ
れ他端面に全反射膜85が形成された光ファイバ68、
一端面が光ファイバ85の側面に接合され他端面が出力
用光ファイバ54に接合された光ファイバ69、一端面
が光ファイバ64に接合され他端面が出力用光ファイバ
55に接合された光ファイバ70.一端面が光ファイバ
65の側面に接合され他端面が出力用光ファイバ56に
接合された光ファイバ71から構成されている。これら
の入力及び出力用光ファイバ51〜56、並びに、分岐
導波路60を構成する光ファイバ61〜71は夫々前述
した方法卯ち石英膜のフォトリソグラフィー法により基
板100上に形成されたガイド90内に配設されてその
位置決めを行うことにより互いに接合され、且つ、基板
100に固定されている。尚、反射膜80〜85は上記
と同様誘電体多層膜により形成することができる。
FIG. 4 shows another example of an optical circuit formed by applying the manufacturing method of the present invention. In the figure, an optical circuit 50 includes an input optical fiber 51, output optical fibers 52 to 56, and It is composed of a branch waveguide 60 interposed between input and output optical fibers 51 to 56. This branching waveguide 60 includes an optical fiber 61 whose one end surface is joined to the end surface of the input optical fiber 51, and an optical fiber 61 whose one end surface is connected to the end surface of the input optical fiber 51.
An optical fiber 62 whose other end face is joined via a reflective film 80 and whose other end face is joined to the output optical fiber 52, and an optical fiber 6 whose one end face is joined to the side surface of the optical fiber 61 and 62.
3. An optical fiber 64 whose one end face is linearly joined to the other end face of the optical fiber 63 via a reflective film 81; one end face is joined to the other end face of the optical fiber 64 through a reflective film 82 and the other end face is completely an optical fiber 65 on which a reflective film 83 is formed; an optical fiber 66 whose one end surface is joined to the side surface of the optical fiber 63;
An optical fiber 67 whose one end surface is joined to the other end surface of the optical fiber 66 via a reflective film 84 and whose other end surface is joined to the output optical fiber 53, whose one end surface is joined to the side surface of the optical fiber 66 and which is totally reflected by the other end surface. an optical fiber 68 on which a film 85 is formed;
An optical fiber 69 whose one end surface is joined to the side surface of the optical fiber 85 and the other end surface is joined to the output optical fiber 54, and an optical fiber whose one end surface is joined to the optical fiber 64 and the other end surface is joined to the output optical fiber 55. 70. It is composed of an optical fiber 71 whose one end surface is joined to the side surface of the optical fiber 65 and the other end surface is joined to the output optical fiber 56. These input and output optical fibers 51 to 56 and the optical fibers 61 to 71 constituting the branching waveguide 60 are formed in the guide 90 formed on the substrate 100 by the above-mentioned method or quartz film photolithography method. By positioning them, they are joined to each other and fixed to the substrate 100. Incidentally, the reflective films 80 to 85 can be formed of a dielectric multilayer film similarly to the above.

かかる構成の光回路において、入力用光ファイバ51と
出力用光ファイバ52とにより主路を、出力用光ファイ
バ53〜56により分岐路を構成し、反射膜80の反射
比を10:1、反射膜81.82.84の反射比を1=
1とすると、反射膜83及び85は全反射膜であるので
、入力用光ファイバ51から分岐導波路60の光ファイ
バ61に入射された光信号は反射膜80にてその11分
の1が反射されて光信号63に伝播され、残りは光ファ
イバ62を介して出力用光ファイバ52に伝播される。
In the optical circuit having such a configuration, the input optical fiber 51 and the output optical fiber 52 constitute a main path, and the output optical fibers 53 to 56 constitute a branch path, and the reflection ratio of the reflection film 80 is 10:1, and the reflection ratio is 10:1. The reflection ratio of the film 81.82.84 is 1=
1, since the reflective films 83 and 85 are total reflective films, one-eleventh of the optical signal input from the input optical fiber 51 to the optical fiber 61 of the branching waveguide 60 is reflected by the reflective film 80. The remaining signal is propagated to the output optical fiber 52 via the optical fiber 62.

光ファイバ63に伝播された光信号は反射膜81で反射
して、その1/2が光ファイバ66に伝播し、更に、反
射膜84で1/2が透過して光ファイバ67へ、残る1
/2が反射して光ファイバ68へ夫々伝播される。そし
て、光ファイバ67から出力用光ファイバ53へ、光フ
ァイバ68から全反射膜85にて全反射して光ファイバ
69を経て出力用光ファイバ54へ夫々伝播する。一方
、反射M81を透過して光ファイバ64に伝播した光信
号は反射膜82にて反射して1/2に減衰して光ファイ
バ70をへて出力用光信号55に伝播される。そして、
反射膜82を透過した残る1/2の光信号は全反射膜8
3にて全反射し、光ファイバ71を経て出力用光ファイ
バ56に伝播される。
The optical signal propagated to the optical fiber 63 is reflected by the reflective film 81, 1/2 of it is propagated to the optical fiber 66, 1/2 is further transmitted by the reflective film 84, and the remaining 1 is transmitted to the optical fiber 67.
/2 are reflected and propagated to the optical fibers 68, respectively. Then, the light is totally reflected from the optical fiber 67 to the output optical fiber 53 and from the optical fiber 68 by the total reflection film 85 and propagated to the output optical fiber 54 via the optical fiber 69, respectively. On the other hand, the optical signal transmitted through the reflection M81 and propagated to the optical fiber 64 is reflected by the reflection film 82, attenuated to 1/2, and propagated to the output optical signal 55 through the optical fiber 70. and,
The remaining 1/2 of the optical signal transmitted through the reflective film 82 is transferred to the total reflective film 8.
3, and is propagated to the output optical fiber 56 via the optical fiber 71.

従って、反射膜80にて反射した光信号は分岐路となる
出力用光ファイバ53〜56に夫々1/4ずつ出力され
ることとなる。
Therefore, the optical signal reflected by the reflective film 80 is output to the output optical fibers 53 to 56, which serve as branch paths, by 1/4 each.

このような光分岐回路は、例えば、センタからの光信号
を複数個の分岐点において、複数個の端末に順次分配す
るシステムの当該各分岐点に配設する光部品として有用
である。
Such an optical branch circuit is useful, for example, as an optical component disposed at each branch point of a system that sequentially distributes optical signals from a center to a plurality of terminals at a plurality of branch points.

尚、上記の光回路においては、分岐導波路60を構成す
る各光ファイバ61〜71の長さを正確に制御すること
が必要であるが、例えば、微調整ステージ付マイクロラ
ッピング装置を使用して、光ファイバを切断すると共に
、鏡面状の端面を形成することにより可能となる。
In the above-mentioned optical circuit, it is necessary to accurately control the length of each optical fiber 61 to 71 constituting the branch waveguide 60. This is possible by cutting the optical fiber and forming a mirror-like end surface.

尚、本発明の製造方法は上記した分岐導波路を有する光
回路のみならず、例えば光合波分波器等を有する回路等
種々の光回路に適用しうろことは言うまでもない。
It goes without saying that the manufacturing method of the present invention can be applied not only to the optical circuit having the branching waveguide described above, but also to various optical circuits such as a circuit having an optical multiplexer/demultiplexer.

(発明の効果) 以上説明したように本発明によれば、基板表面にガイド
を形成したのち、該ガイドに沿って、光ファイバよりな
る光素子と、該光素子にに接続された入力及び出力用光
ファイバとを載置し、前記光素子を形成する光ファイバ
同士、並びに、前記光素子を形成する光ファイバと前記
入力及び出力用光ファイバとの間を接続する光回路の製
造方法において、前記基板表面にガイドを形成する工程
が、前記基板の全面に前記ガイドを構成する材料よりな
る薄層を形成する工程と、該薄層を所望のパターンに加
工する工程とから構成したので、分岐導波路のパターン
に応じて高い精度でガイドを形成することができ、且つ
、得られたガイド内に光ファイバを配設することにより
光ファイバ同士の光軸合せを簡便且つ極めて高い精度で
行うことが可能となり、その結果、光回路における挿入
損失が低減される。
(Effects of the Invention) As explained above, according to the present invention, after forming a guide on the surface of a substrate, an optical element made of an optical fiber is connected along the guide, and an input and an output connected to the optical element. In the manufacturing method of an optical circuit, the optical fibers forming the optical element are placed, and the optical fibers forming the optical element are connected to each other, and the optical fiber forming the optical element and the input and output optical fibers are connected. Since the step of forming the guide on the surface of the substrate consists of a step of forming a thin layer made of the material constituting the guide on the entire surface of the substrate, and a step of processing the thin layer into a desired pattern, there is no branching. A guide can be formed with high precision according to a waveguide pattern, and optical axes of optical fibers can be aligned easily and with extremely high precision by arranging optical fibers within the obtained guide. As a result, insertion loss in the optical circuit is reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の光回路の製造方法の主要部であるガイ
ドの形成工程を示す工程説明図、第2図は本発明の製造
方法を通用して得られた光分岐回路の一例を示す上面図
、第3図は第2図の光分岐回路において接続損失を低減
したときの一部拡大図、第4図は本発明の製造方法を適
用して得られた光分岐回路の他の例を示す上面図、第5
図jよ従来の石英導波路を有する光分岐回路の上面図、
第6図は第5図のVl−Vl線に沿う断面図、第7図は
第5図の■−■線に沿う断面図である。 20.40.100・・・石英基板、21・・・石英薄
膜、21゜・・・ガイド、22・・・レジスト、31.
60・・・分岐導波路、35.51・・・入力用光ファ
イバ、361.37.52〜56・・・出力用光ファイ
バ、32〜34.61〜71・・・光ファイバ、41〜
47.90・・・ガイド、38.80〜85・・・反射
膜。
FIG. 1 is a process explanatory diagram showing the step of forming a guide, which is the main part of the optical circuit manufacturing method of the present invention, and FIG. 2 shows an example of an optical branch circuit obtained by using the manufacturing method of the present invention. A top view, FIG. 3 is a partially enlarged view of the optical branch circuit shown in FIG. 2 when connection loss is reduced, and FIG. 4 is another example of an optical branch circuit obtained by applying the manufacturing method of the present invention. Top view showing 5th
Figure j is a top view of a conventional optical branch circuit with a quartz waveguide.
6 is a cross-sectional view taken along the line Vl--Vl in FIG. 5, and FIG. 7 is a cross-sectional view taken along the line ■--■ in FIG. 20.40.100...Quartz substrate, 21...Quartz thin film, 21°...Guide, 22...Resist, 31.
60... Branch waveguide, 35. 51... Input optical fiber, 361. 37. 52-56... Output optical fiber, 32-34. 61-71... Optical fiber, 41-
47.90...Guide, 38.80-85...Reflection film.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)基板表面にガイドを形成したのち、該ガイドに沿
って、光ファイバよりなる光素子と、該光素子にに接続
された入力及び出力用光ファイバとを載置し、前記光素
子を形成する光ファイバ同士、並びに、前記光素子を形
成する光ファイバと前記入力及び出力用光ファイバとの
間を接続する光回路の製造方法において、前記基板表面
にガイドを形成する工程が、前記基板の全面に前記ガイ
ドを構成する材料よりなる薄層を形成する工程と、該薄
層を所望のパターンに加工する工程とからなることを特
徴とする光回路の製造方法。
(1) After forming a guide on the substrate surface, an optical element made of an optical fiber and input and output optical fibers connected to the optical element are placed along the guide, and the optical element is In the method for manufacturing an optical circuit that connects optical fibers to be formed and between optical fibers forming the optical element and the input and output optical fibers, the step of forming a guide on the surface of the substrate includes the step of forming a guide on the surface of the substrate. A method for manufacturing an optical circuit, comprising the steps of: forming a thin layer made of a material constituting the guide on the entire surface of the guide; and processing the thin layer into a desired pattern.
(2)前記薄層を所望のパターンに加工する工程が、フ
ォトリソグラフィー法により前記所望のパターンに対応
するマスクを形成する工程と、該マスクを使用して前記
薄層のエッチングを行う工程とからなることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の光回路の製造方法。
(2) The step of processing the thin layer into a desired pattern includes forming a mask corresponding to the desired pattern by photolithography, and etching the thin layer using the mask. A method for manufacturing an optical circuit according to claim 1, characterized in that:
(3)前記光素子が光分岐結合器であることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の光回路の製造方法。
(3) The method for manufacturing an optical circuit according to claim 1, wherein the optical element is an optical branching coupler.
(4)前記光素子が光合波分波器であることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の光回路の製造方法。
(4) The method for manufacturing an optical circuit according to claim 1, wherein the optical element is an optical multiplexer/demultiplexer.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040050503A (en) * 2002-12-10 2004-06-16 한국과학기술연구원 Align-Socket manufacturing method for optical fiber by made of photoresist
KR100458285B1 (en) * 2002-12-10 2004-11-26 한국과학기술연구원 Method for manufacturing V groove structure using photoresist
US9341784B2 (en) 2010-02-12 2016-05-17 Adc Telecommunications (Shanghai) Distribution Co., Ltd. Optical fiber filter device and method for manufacturing the same

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