JPS63274620A - Preparation of superconductive material - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は超電導材料の製造方法に関する。より詳細には
、高い超電導臨界温度を肴し、加工性のよい超電導材料
の作製方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a method for producing superconducting materials. More specifically, the present invention relates to a method for producing a superconducting material that has a high superconducting critical temperature and has good workability.
従来の技術
電子の相転移であるといわれるa電導現象は、特定の条
件下で導体の電気抵抗が零の状態となり完全な反磁性を
示す現象である。即ち、超電導下では、超電導体に電流
を流しても電力損失が全く無く、密度の高い電流が永久
に流れ続ける。例えば、超電導技術を電力送電に応用す
れば、現在送電に伴って生じているといわれる約7%の
送電損失を大幅に減少できる。また、高磁場発生用電磁
石としての応用は、例えば、発電技術の分野ではMHD
発電、電動艮等と共に、開発に発電量以上の電力を消費
するともいわれる核融合反応の実現を有利に促進する技
術として期待されている。また磁気浮上列車、電磁気推
進船舶等の動力として、更に、計測・医療の分野でもN
MR1π中間子治療、高エネルギー物理実験装置などへ
の利用が期待されている。BACKGROUND ART The a-conduction phenomenon, which is said to be a phase transition of electrons, is a phenomenon in which the electrical resistance of a conductor becomes zero under certain conditions and exhibits complete diamagnetism. That is, under superconductivity, there is no power loss at all even when current is passed through a superconductor, and a high-density current continues to flow forever. For example, if superconducting technology is applied to power transmission, it will be possible to significantly reduce the approximately 7% power transmission loss that currently occurs with power transmission. In addition, applications as electromagnets for generating high magnetic fields include, for example, MHD in the field of power generation technology.
Along with power generation and electric vehicles, this technology is expected to advantageously promote the realization of nuclear fusion reactions, which are said to consume more electricity than the amount of electricity generated. In addition, N
It is expected to be used in MR1π meson therapy, high-energy physical experiment equipment, etc.
発明が解決しようとする問題点
一方、様々な努力にもかかわらず、超電導材料の超電導
臨界温度Tcは長期間に亘ってNb、Geの23Kを越
えることができなかったが、昨年未来、(La、 Ba
) 、CuO2または(La、 Sr) 2CIJO4
等のに、NiF、型酸化物の焼結材が高いTcをもつ超
電導材料として発見され、非低温超電導を実現する可能
性が大きく高まっている。これらの物質では、30乃至
50にという従来に比べて飛躍的に高いTcが観測され
、70に以上のTc も観測されている。しかしながら
、これまでのところ得られる酸化物超電導材料の超電導
特性は、非常に不安定なものであり、また、超電導現象
が始まる温度と電気抵抗が完全に0となる温度との差(
ΔT)も大きかった。さらに、従来の酸化物超電導体は
、焼結によって作製されるのでたいへん脆く、加工は不
可能に近い。Problems to be Solved by the Invention On the other hand, despite various efforts, the superconducting critical temperature Tc of superconducting materials has not been able to exceed 23K for Nb and Ge. , Ba
) , CuO2 or (La, Sr) 2CIJO4
However, sintered materials of NiF type oxides have been discovered as superconducting materials with high Tc, and the possibility of realizing non-low temperature superconductivity has greatly increased. In these materials, a Tc of 30 to 50, which is significantly higher than that of conventional materials, has been observed, and a Tc of 70 or more has also been observed. However, the superconducting properties of the oxide superconducting materials obtained so far are extremely unstable, and the difference between the temperature at which the superconducting phenomenon begins and the temperature at which the electrical resistance becomes completely zero (
ΔT) was also large. Furthermore, since conventional oxide superconductors are manufactured by sintering, they are extremely brittle and almost impossible to process.
従って、本発明の目的は上記問題を解決し、高Tcでか
つ安定した超電導特性を持ち、加工性も優れている超電
導材料の製造方法を提供するものである。Therefore, an object of the present invention is to solve the above problems and provide a method for manufacturing a superconducting material having high Tc, stable superconducting properties, and excellent workability.
間」点を解決するための手段
上記した問題点を解決するため種々の実験、検討を繰り
返した結果、本発明は完成されたものであり、本発明に
従うと、周期律表■a、ma族元素から選択された1種
の元素α、周期律表I[a、IIIa族元素でαと同じ
ものを含む元素から選択された1種の元素βおよび周期
律表Ib、nb、■b、 ■a、■a族元累から元素さ
れた少なくとも1種の元素γを含有する合金に、Oまた
は02イオンを注入して酸化物超電導体を生成すること
を特徴とする超電導材料の作製方法が提供される。The present invention has been completed as a result of repeated various experiments and studies in order to solve the above-mentioned problems. One element α selected from the elements, I [a of the periodic table, one element β selected from the elements of group IIIa containing the same elements as α, and the periodic table Ib, nb, ■b, ■ Provided is a method for producing a superconducting material, the method comprising: producing an oxide superconductor by implanting O or 02 ions into an alloy containing at least one element γ from group a, group a. be done.
また、酸素注入を行った後、酸素π囲気中て熱処理をす
ることも好ましい。Further, after oxygen injection, it is also preferable to perform heat treatment in an atmosphere of π oxygen.
作用
上記超電導材料は、
一般式: (αl−X 19 X) T Y Ox(但
し、α、β、Tは、上記定義の元素であり、Xはα÷β
に対するβの原子比で、0,1 ≦x≦0.9であり、
yおよび2は(αl−XβX)を1とした場合に0.4
≦y≦3.0.1≦z≦5となる原子比である)
で表される組成の酸化物であるのが好ましく、例えばB
a−Y−Cu−0系の場合には
Ba2Y+Cuz 0t−x (Xは1以下)、を主
体とする混合相と考えられる。Function The above superconducting material has the general formula: (αl-X 19
The atomic ratio of β to 0,1 ≦x≦0.9,
y and 2 are 0.4 when (αl-XβX) is 1
≦y≦3. The atomic ratio satisfies 0.1≦z≦5). For example, B
In the case of the a-Y-Cu-0 system, it is considered to be a mixed phase mainly consisting of Ba2Y+Cuz 0t-x (X is 1 or less).
上記酸化物はペロブスカイト型酸化物または擬似ペロブ
スカイト型酸化物であることが好ましい。The oxide is preferably a perovskite-type oxide or a pseudo-perovskite-type oxide.
擬似ペロブスカイトとはペロブスカイトに類似した構造
をいい、例えば酸素欠損ペロブスカイト型、オルソロン
ビック型等を含むものである。Pseudo-perovskite refers to a structure similar to perovskite, and includes, for example, oxygen-deficient perovskite type, orthorombic type, and the like.
本発明で使用する合金は、Ba−Y −Cu、 Ba−
La−Cuまたは5r−La−Cuが好ましい。また、
本発4明の方法で使用する合金のαとβの原子比は、上
記α、β、Tの種類に応じて適宜選択できる。すなわち
、Y−BaSLa−Ba、 5r−Ba系の場合にはそ
れぞれY/(Y+Ba)は0.06〜0.94であるこ
とが好ましく 、0.1〜0.4であることがさらに好
ましく、Ba/ (La+Ba)は0.04〜0.96
であることが好ましく、さらに0,08〜0.45であ
ることがさらに好ましく 、Sr/ (La+Sr)は
0.03〜0.95の範囲であることが好ましく 、0
.05〜0.1であることがさらに好ましい。合金の原
子比が上記の範囲からはずれた場合にはいずれも、酸化
物の超電導臨界温度が所望の値とならない。The alloys used in the present invention include Ba-Y-Cu, Ba-
La-Cu or 5r-La-Cu is preferred. Also,
The atomic ratio of α and β in the alloy used in the method of the fourth aspect of the present invention can be appropriately selected depending on the types of α, β, and T described above. That is, in the case of Y-BaSLa-Ba and 5r-Ba systems, Y/(Y+Ba) is preferably 0.06 to 0.94, more preferably 0.1 to 0.4, Ba/ (La+Ba) is 0.04 to 0.96
Sr/(La+Sr) is preferably in the range of 0.03 to 0.95, more preferably 0.08 to 0.45, and Sr/(La+Sr) is preferably in the range of 0.03 to 0.95.
.. It is more preferable that it is 05-0.1. If the atomic ratio of the alloy deviates from the above range, the superconducting critical temperature of the oxide will not reach the desired value.
本発明の方法従うと、0または02イオンが合金に向は
照射される。イオン源としては、RF型イオン源、マイ
クロ波イオン源、およびPIG型イオン源等が使用でき
、原料ガスは02やC02が使用できる。○または02
イオンを照射にすることより、合金を酸化し、酸化物超
電導体を生成する。このように合金に酸素イオンを照射
して酸化することにより酸化物の結晶構造および酸素欠
損が理想的な状態となり、Tc値が向上する。According to the method of the invention, the alloy is irradiated with 0 or 02 ions. As the ion source, an RF type ion source, a microwave ion source, a PIG type ion source, etc. can be used, and as the source gas, 02 or C02 can be used. ○ or 02
Irradiation with ions oxidizes the alloy and produces an oxide superconductor. By irradiating the alloy with oxygen ions and oxidizing it in this way, the crystal structure and oxygen vacancies of the oxide are brought into an ideal state, and the Tc value is improved.
さらに、細く絞ったイオンビームを用いたり、合金表面
に適当なマスクをかけることにより、合金の必要な部分
のみを酸化し、超電導体とすることができる。これによ
り、例えば薄膜状の合金上に超電導回路を形成したり、
バルクの合金の一部を超電導体とし、その後加工するこ
とも可能である。Furthermore, by using a narrowly focused ion beam or applying an appropriate mask to the alloy surface, only the necessary portions of the alloy can be oxidized to become a superconductor. This allows, for example, to form superconducting circuits on thin film alloys,
It is also possible to make part of the bulk alloy into a superconductor and then process it.
本発明の好ましい1態様に従うと、イオン注入した後の
合金を熱処理する。すなわち、酸素注入後の合金を8(
14)℃まで加熱し、この温度を8時間保持した後、1
0℃/分以下の冷却速度で徐冷する。According to a preferred embodiment of the present invention, the alloy after ion implantation is heat treated. That is, the alloy after oxygen injection is 8(
14) After heating to ℃ and maintaining this temperature for 8 hours, 1
Cool slowly at a cooling rate of 0°C/min or less.
この熱処理は、酸素分圧が1気圧以上の酸素含有雰囲気
下で行うことが好ましい。この熱処理により、注入され
た酸素イオンが合金表面層から内部へ拡散し、酸化物の
均一性を向上させるとともに、酸素欠損を適正にし、特
にΔTを小さくするのに有効である。This heat treatment is preferably performed in an oxygen-containing atmosphere with an oxygen partial pressure of 1 atm or more. This heat treatment causes the implanted oxygen ions to diffuse into the alloy from the surface layer, improving the uniformity of the oxide, optimizing oxygen vacancies, and is particularly effective in reducing ΔT.
次に本発明の方法を実施するために用いる装置について
説明する。第1図は、本発明の超電導酸化物材料の作製
に用いたRF型イオン照射装置の概略図である。Next, the apparatus used to carry out the method of the present invention will be explained. FIG. 1 is a schematic diagram of an RF type ion irradiation device used for producing the superconducting oxide material of the present invention.
第1図に示す装置は、チャンバ1、チャンバ1に取りつ
けられた、高周波コイル3、高周波電極4およびイオン
引き出し電極5からなるイオン源およびイオン源に対向
してチャンバl内に配置された原料合金2とから主に構
成されている。チャンバ1は排気孔7を介して真空ポン
プ(不図示)に接続され、内部を真空にすることができ
る。The apparatus shown in FIG. 1 consists of a chamber 1, an ion source attached to the chamber 1, consisting of a high-frequency coil 3, a high-frequency electrode 4, and an ion extraction electrode 5, and a raw material alloy disposed in the chamber 1 facing the ion source. It is mainly composed of 2. The chamber 1 is connected to a vacuum pump (not shown) through an exhaust hole 7, so that the inside can be evacuated.
チャンバ1には、雲囲気ガスの導入孔6が取りつけられ
、イオン源には、02ガスを取り込む導入孔6、および
排気孔7が取りつけられている。The chamber 1 is provided with an introduction hole 6 for the cloud surrounding gas, and the ion source is provided with an introduction hole 6 for taking in the 02 gas and an exhaust hole 7.
該装置を用い、本発明の方法を実現する手順を以下に説
明する。まず、原料合金2を取りつけたチャンバ1およ
びイオン源内部を排気し、真空にする。次いで、チャン
バl内に^rおよび02ガスをそれぞれ設定した分圧だ
け導入する。イオン源にも02ガスを導入する。その後
、イオン源の高周波コイルに高周波電力を、イオン引き
出し電極にイオン加速電圧をかける。この操作により、
酸素イオンがイオン源から合金に照射される。The procedure for implementing the method of the present invention using the apparatus will be described below. First, the chamber 1 to which the raw material alloy 2 is attached and the inside of the ion source are evacuated to create a vacuum. Next, the ^r and 02 gases are introduced into the chamber 1 at predetermined partial pressures. 02 gas is also introduced into the ion source. Then, high-frequency power is applied to the high-frequency coil of the ion source, and ion acceleration voltage is applied to the ion extraction electrode. With this operation,
Oxygen ions are applied to the alloy from an ion source.
実施例
以下に本発明を実施例により説明するが、本発明の技術
的範囲はこれらの実施例に何等制限されるものではない
ことは勿論である。EXAMPLES The present invention will be explained below using examples, but it goes without saying that the technical scope of the present invention is not limited to these examples in any way.
第1図に示したRF型イオン照射装置を用いて超電導薄
膜を作製した。A superconducting thin film was produced using the RF type ion irradiation device shown in FIG.
各実施例の作製条件は第1表に示す通りである。The manufacturing conditions for each example are shown in Table 1.
実施例1 原料合金2として、Y、BaおよびCuをy、aa。Example 1 As raw material alloy 2, Y, Ba and Cu were mixed in y and aa.
Cuのモル比が1:2:3となるように混合して作製し
た合金を20X30X2 m+nの大きさに加工して用
いた。An alloy prepared by mixing Cu at a molar ratio of 1:2:3 was processed into a size of 20×30×2 m+n and used.
チャンバ1内に、上記合金2を装着した。次いでチャン
バ1内を真空に排気し、〜10−’Torrとした。イ
オン源内も同様に真空に排気してかろ、1、 OX 1
0−”Torrの02を導入した。高周波コイルに高周
波電力を流し、同時にイオン引き出し電極にも電圧をか
けた。それぞれの電力、電圧は高周波電力が50W1イ
オン引き出し電極にかけた加速電圧が2(14)k V
である。作製条件を第1表に示した。The alloy 2 was placed inside the chamber 1. Next, the inside of the chamber 1 was evacuated to ~10-' Torr. Evacuate the inside of the ion source to vacuum as well, 1, OX 1
02 of 0-" Torr was introduced. High-frequency power was applied to the high-frequency coil, and voltage was also applied to the ion extraction electrode at the same time. The high-frequency power was 50W, the acceleration voltage applied to the ion extraction electrode was 2 (14 )kV
It is. The manufacturing conditions are shown in Table 1.
実施例2
原料合金2として、la、 [laおよびCuをLa、
8a。Example 2 As raw material alloy 2, la, [la and Cu were replaced with La,
8a.
Cuのモル比が1:2:3となるように作製した合金を
20 X30 ×2 amの大きさに加工して用いた。An alloy prepared with a Cu molar ratio of 1:2:3 was processed into a size of 20 x 30 x 2 am and used.
作製の手順は実施例1と同様であり、作製条件は第1表
に示しである。The manufacturing procedure is the same as in Example 1, and the manufacturing conditions are shown in Table 1.
実施例3
原料合金2として、1aSSrおよびCuをしa、 S
r。Example 3 As the raw material alloy 2, 1aSSr and Cu were used.
r.
Cuのモル比が1:2+3となるように作製した合金を
20X30X2 m+aの大きさに加工して用いた。作
製の手順は実施例1と同様であり、作製条件は第1表に
示しである。An alloy prepared so that the molar ratio of Cu was 1:2+3 was processed into a size of 20×30×2 m+a and used. The manufacturing procedure is the same as in Example 1, and the manufacturing conditions are shown in Table 1.
実施例4
実施例1と同様な材料で、同様な手順により作製した酸
化物を150Torrの02雲囲気で8(14)℃まで
加熱し、8時間保持した後、8℃/分の冷却速度で室温
まで冷却した。Example 4 An oxide prepared using the same material and the same procedure as in Example 1 was heated to 8 (14) °C in a 150 Torr 02 cloud atmosphere, held for 8 hours, and then heated at a cooling rate of 8 °C/min. Cooled to room temperature.
次いで、得られた各々の酸化物の抵抗を測定するためサ
ンプルを作製した。抵抗測定を行うサンプルは、作製し
た酸化物の両端部分に、さらに真空蒸着で一対の^l電
極を形成し、このAI電極にリード線をハンダ付けした
。Next, samples were prepared to measure the resistance of each of the obtained oxides. For the sample to be subjected to resistance measurement, a pair of ^l electrodes were further formed by vacuum evaporation on both ends of the produced oxide, and lead wires were soldered to these AI electrodes.
作製条件と得られたTc s Tcf (iffff抗
抵抗全に0になる温度)の計測結果を併せて第1表に示
す。Table 1 shows the manufacturing conditions and the measurement results of Tc s Tcf (the temperature at which the iffff resistance becomes completely zero).
この結果、本発明の方法により酸化物の結晶構造、酸素
濃度を適正に制御し、優れた特性を持つ超電導酸化物が
作製できることがわかった。As a result, it was found that the method of the present invention can appropriately control the crystal structure and oxygen concentration of the oxide and produce a superconducting oxide with excellent properties.
第1表
実施例4の熱処理 温 度 8(14)℃保持時
間 8時間
冷却速度 8℃/分
発明の詳細
な説明したように、本発胡により、従来の超電導体より
も遥かに高いTCをもつ超電導酸化物を製造することが
可能となる。また、加工も容易であるので高く安定した
Tcを有する超電導材として、線材あるいは小部品に広
く利用することができる。Table 1 Heat treatment of Example 4 Temperature: 8 (14)°C Holding time: 8 hours Cooling rate: 8°C/min As described in detail of the invention, the present invention allows a much higher TC than conventional superconductors. It becomes possible to produce superconducting oxides with Furthermore, since it is easy to process, it can be widely used as a superconducting material having a high and stable Tc for wire rods or small parts.
第1図は本発明の方法を実施するのに用いるRF型ビイ
オン照射装置一例の概略図であるっ(主な参照番号)
l・・チャンバ、 2・・原料合金、3・・高
周波コイル、 4・・高周波電源、5・・イオン
加速電源、 6・・ガス導入孔、7・・排気孔、FIG. 1 is a schematic diagram of an example of an RF type bioion irradiation device used to carry out the method of the present invention (main reference numbers): 1. Chamber, 2. Raw material alloy, 3. High frequency coil, 4. ...High frequency power supply, 5.. Ion acceleration power supply, 6.. Gas introduction hole, 7.. Exhaust hole,
Claims (16)
の元素α、周期律表IIa、IIIa族元素でαと同じもの
を含む元素から選択された1種の元素βおよび周期律表
I b、IIb、IIIb、IVa、VIIIa族元素から選択され
た少なくとも1種の元素γを含有する合金に、Oまたは
O_2イオンを注入して酸化物超電導体を生成すること
を特徴とする超電導材料の作製方法。(1) One element α selected from the elements of groups IIa and IIIa of the periodic table, one element β selected from the elements of groups IIa and IIIa of the periodic table that include the same elements as α, and the periodic table
A superconducting material characterized in that an oxide superconductor is produced by implanting O or O_2 ions into an alloy containing at least one element γ selected from group Ib, IIb, IIIb, IVa, and VIIIa elements. How to make
を特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の超電導材料
の作製方法。(2) The method for producing a superconducting material according to claim 1, wherein the alloy is heat-treated after oxygen ion implantation.
、酸化物超電導体とすることを特徴とする特許請求の範
囲第1項または第2項に記載の超電導材料の作製方法。(3) The method for producing a superconducting material according to claim 1 or 2, characterized in that oxygen ions are implanted only into necessary portions of the alloy to form an oxide superconductor.
、α、β、γは、上記定義の元素であり、xはα÷βに
対するβの原子比で、0.1≦x≦0.9であり、yお
よびzは(α_1_−_xβ_x)を1とした場合に0
.4≦y≦3.0、1≦z≦5となる原子比である) で表される組成の酸化物であることを特徴とする特許請
求の範囲第1項乃至第3項のいずれか1項に記載の超電
導材料の作製方法。(4) The oxide superconductor has the general formula: (α_1_−_xβ_x)γ_yO_2 (where α, β, and γ are the elements defined above, x is the atomic ratio of β to α÷β, and 0. 1≦x≦0.9, and y and z are 0 when (α_1_−_xβ_x) is 1
.. 4≦y≦3.0, 1≦z≦5 (atomic ratio such that 1≦z≦5) The method for producing the superconducting material described in Section 1.
とを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第4項のいず
れか1項に記載の超電導材料の作製方法。(5) The method for producing a superconducting material according to any one of claims 1 to 4, wherein the alloy is an alloy of Ba, Y, and Cu.
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第4項のい
ずれか1項に記載の超電導材料の作製方法。(6) The method for producing a superconducting material according to any one of claims 1 to 4, wherein the alloy is an alloy of Ba, La, and Cu.
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第4項のい
ずれか1項に記載の超電導材料の作製方法。(7) The method for producing a superconducting material according to any one of claims 1 to 4, wherein the alloy is an alloy of Sr, La, and Cu.
至0.94の範囲であることを特徴とする特許請求の範
囲第5項に記載の超電導材料の作製方法。(8) The method for producing a superconducting material according to claim 5, wherein the atomic ratio Y/(Y+Ba) of the alloy is in the range of 0.06 to 0.94.
4乃至0.96の範囲であることを特徴とする特許請求
の範囲第6項に記載の超電導材料の作製方法。(9) The atomic ratio Ba/(La+Ba) of the above alloy is 0.0
7. The method for producing a superconducting material according to claim 6, wherein the superconducting material is in the range of 4 to 0.96.
03乃至0.95の範囲であることを特徴とする特許請
求の範囲第7項に記載の超電導材料の作製方法。(10) The atomic ratio Sr/(La+Sr) of the above alloy is 0.
8. The method for producing a superconducting material according to claim 7, wherein the superconducting material is in the range of 0.03 to 0.95.
至0.4であることを特徴とする特許請求の範囲第8項
に記載の超電導材料の作製方法。(11) The method for producing a superconducting material according to claim 8, wherein the atomic ratio Y/(Y+Ba) of the alloy is 0.1 to 0.4.
08乃至0.45であることを特徴とする特許請求の範
囲第9項に記載の超電導材料の作製方法。(12) The atomic ratio Ba/(La+Ba) of the above alloy is 0.
08 to 0.45, the method for producing a superconducting material according to claim 9.
05乃至0.1であることを特徴とする特許請求の範囲
第10項に記載の超電導材料の作製方法。(13) The atomic ratio Sr/(La+Sr) of the above alloy is 0.
11. The method for producing a superconducting material according to claim 10, wherein the superconducting material has a particle diameter of 0.05 to 0.1.
請求の範囲第1項乃至第13項のいずれか1項に記載の
超電導材料の作製方法。(14) The method for producing a superconducting material according to any one of claims 1 to 13, wherein the alloy is a thin film.
許請求の範囲第1項乃至第13項のいずれか1項に記載
の超電導材料の作製方法。(15) The method for producing a superconducting material according to any one of claims 1 to 13, wherein the alloy is bulk.
、マイクロ波イオン源、およびPIG型イオン源である
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第15項の
いずれか1項に記載の超電導材料の作製方法。(16) According to any one of claims 1 to 15, wherein the ion source for the ion implantation is an RF type ion source, a microwave ion source, or a PIG type ion source. A method for producing the superconducting material described.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62107796A JPS63274620A (en) | 1987-04-30 | 1987-04-30 | Preparation of superconductive material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP62107796A JPS63274620A (en) | 1987-04-30 | 1987-04-30 | Preparation of superconductive material |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63274620A true JPS63274620A (en) | 1988-11-11 |
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ID=14468249
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP62107796A Pending JPS63274620A (en) | 1987-04-30 | 1987-04-30 | Preparation of superconductive material |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63274620A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0597588A (en) * | 1991-03-27 | 1993-04-20 | Kokusai Chodendo Sangyo Gijutsu Kenkyu Center | Production of oxide superconductor film |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5331971A (en) * | 1976-09-06 | 1978-03-25 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Forming method of metal oxide film or semiconductor oxide film |
JPS5797688A (en) * | 1980-12-10 | 1982-06-17 | Ibm | Method of reacting surface |
JPH01100003A (en) * | 1987-03-27 | 1989-04-18 | Massachusetts Inst Of Technol <Mit> | Production fo superconductive oxide and superconductive oxide/metal composite material |
-
1987
- 1987-04-30 JP JP62107796A patent/JPS63274620A/en active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5331971A (en) * | 1976-09-06 | 1978-03-25 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Forming method of metal oxide film or semiconductor oxide film |
JPS5797688A (en) * | 1980-12-10 | 1982-06-17 | Ibm | Method of reacting surface |
JPH01100003A (en) * | 1987-03-27 | 1989-04-18 | Massachusetts Inst Of Technol <Mit> | Production fo superconductive oxide and superconductive oxide/metal composite material |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0597588A (en) * | 1991-03-27 | 1993-04-20 | Kokusai Chodendo Sangyo Gijutsu Kenkyu Center | Production of oxide superconductor film |
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