JPS6325622B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6325622B2
JPS6325622B2 JP13518280A JP13518280A JPS6325622B2 JP S6325622 B2 JPS6325622 B2 JP S6325622B2 JP 13518280 A JP13518280 A JP 13518280A JP 13518280 A JP13518280 A JP 13518280A JP S6325622 B2 JPS6325622 B2 JP S6325622B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
parts
modified
vinyl monomer
ethylene polymer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP13518280A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS5761041A (en
Inventor
Toshikazu Mizutani
Tetsuji Kakizaki
Akira Itsubo
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Petrochemical Co Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Petrochemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Petrochemical Co Ltd filed Critical Mitsubishi Petrochemical Co Ltd
Priority to JP13518280A priority Critical patent/JPS5761041A/en
Publication of JPS5761041A publication Critical patent/JPS5761041A/en
Publication of JPS6325622B2 publication Critical patent/JPS6325622B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

〔〕 発明の背景 技術分野 本発明は、特に高電圧下にて使用するポリエチ
レン絶縁ケーブルの改良された外部半導電層に適
した材料に関するものである。詳しくは、本発明
は、絶縁層と外部半導電層とが良好に密着してい
ると共に必要に応じ外部半導電層を極めて容易に
剥離することのできる絶縁ケーブルを得るのに適
した半導電性樹脂組成物に関するものである。 高電圧ケーブルにおいては、電界を緩和する目
的から絶縁層の内外層に半導電層が形成されてい
るが、この半導電層としてはコロナ放電防止の意
味から絶縁層に対して隙間なく密着或は接着して
いることが必要である。しかしながら、外部半導
電層と絶縁層とが過度に密着していることは、好
ましいことではない。すなわち、たとえばケーブ
ル相互間を接続する場合に絶縁層から外部半導電
層をはがすことが極めて困難であり、はぎとるの
に長時間を要すると共に絶縁層を傷つけ易く、端
末処理作業に多くの時間や労力或は熟練性が必要
となる。 従来、この種の半導電層として最良とされてい
るエチレン−ビニルエステル共重合体を基材樹脂
とするものが最良とされているが、この半導電層
は、絶縁層を構成するオレフイン重合体と極めて
強力に接着する性質を有していることから、絶縁
層からの剥離性が皆無に等しく、その為ケーブル
端末処理作業は著しく困難なものとなつていた。 従つて、絶縁層と外部半導電層とが良好に密着
していると共に、必要に応じて極めて容易に外部
半導電層を剥離することができ、しかも剥離作業
時にその剥離片が簡単に切断することがないよう
に優れた機械的強度を有する半導電性樹脂組成物
が得られれば、裨益するところは大きい。 先行技術 半導電層材料としては、下記のものが知られて
いる。 (1) エチレン−酢酸ビニル共重合体(高酢酸ビニ
ル含量、例えば35重量%超過のもの。以下高酢
ビEVAと記載する)やエチレン−エチルアク
リレート共重合体等のエチレン−不飽和エステ
ル共重合体にカーボンブラツクを添加したも
の。 (2) 塩素化ポリエチレン、クロルスルホン化ポリ
エチレン、EVA−塩化ビニルグラフト共重合
体、塩素化ポリエチレン−塩化ビニルグラフト
共重合体、ポリ塩化ビニル、クロロプレン等の
含ハロゲン系樹脂の単独ないし相互の混合物ま
たはこれとオレフイン重合体とのブレンドにカ
ーボンブラツクを添加したもの。 (3) ポリスチレン、スチレン共重合体、ブタジエ
ン−アクリロニトリル共重合体、ポリエステル
等とオレフイン重合体とのブレンドにカーボン
ブラツクを添加したもの。 しかしながら、(1)は前述の通り、絶縁層との剥
離性が乏しくて不適当である。 (2)は絶縁層との剥離性の改良を目的に提案され
たものであり、その効果は認められるものの、以
下の問題点を有している。すなわち、ポリエチレ
ンの架橋絶縁ケーブルにあつては水トリー等によ
る絶縁破壊現象を抑制する為に、架橋システムが
湿式架橋法から乾式架橋法に変更される傾向にあ
るところ、乾式架橋法は湿式に比較して一般に架
橋温度が高くなるので、外部半導電層材料の加工
時熱安定性がより一層大きく要求されるが、この
ようなハロゲン含有樹脂或は(1)の高酢酸ビニル
EVA等は高温時熱分解によつて腐食性のガスを
発生し、これが装置の腐食を促したり、ケーブル
の遮蔽銅テープを腐食させてケーブル性能を悪化
させる原因となつている。 (3)は(2)と同様、絶縁層との剥離性向上を目的と
したものであるが、いずれもオレフイン重合体と
の相溶性に乏しく、かつ剥離性改良にはブレンド
量を増す必要があるため、外部半導電層としては
かなり脆弱になり、剥離過程で剥離片が切断して
実用上問題がある。 〔〕 発明の概要 要 旨 本発明は上記の点に解決を与えることを目的と
し、カーボンブラツクを配合すべき基材樹脂とし
て特定の改質エチレン重合体とアクリロニトリル
−ブタジエン共重合体とのブレンドを使用するこ
とによつてこの目的を達成しようとするものであ
る。 従つて、本発明による半導電性樹脂組成物は、
下記(A)〜(C)の各成分を含有すること、を特徴とす
るものである。 (A) (イ)エチレン重合体粒子40〜95重量%、(ロ)芳香
族ビニルモノマーおよび芳香族ビニルモノマー
とα,β−不飽和ニトリルの混合物からなる群
から選ばれる改質ビニルモノマー60〜5重量%
および(ハ)10時間の半減期を得るための分解温度
が50〜130℃であるラジカル重合開始剤の該改
質ビニルモノマー100重量部に対して0.01〜5
重量部、を含む水性懸濁液を、該ラジカル重合
開始剤の分解が実質的に起こらない条件下に該
改質ビニルモノマーの80重量%以上を該エチレ
ン重合体粒子中に含浸させたのち、この水性懸
濁液の温度を50〜130℃に上昇させて該改質ビ
ニルモノマーの重合を完成させる方法で得られ
た改質エチレン重合体97〜40重量部、 (B) アクリロニトリル−ブタジエン共重合体3〜
60重量部、 (C) カーボンブラツク 上記(A)および(B)成分100
重量部に対して3〜150重量部。 効 果 本発明による樹脂組成物は、下記の効果を有す
る。 1 得られる半導電層は、絶縁層と良好に密着す
る。 2 半導電層は、必要に応じて絶縁層から容易に
剥離することができる。 3 優れた機械的強度を有する(可撓性と伸び特
性)。 4 カーボンブラツクの分散性が良好である。 5 優れたカーボンブラツク配合時の加工性およ
び押出加工性を有する。 6 熱安定性に優れ、かつ腐食性の熱分解ガスの
発生が少ない。 本発明者らは、既にこの改質エチレン重合体と
補強改質用ゴム(特に、エチレン−プロピレンゴ
ム、スチレン−共役ジオレフインブロツク共重合
ゴムが好ましい。)とカーボンブラツクからなる
半導電性樹脂組成物を提案したが(特願昭54−
139492号)、本発明はこのような補強改質用ゴム
としてアクリロニトリル−ブタジエン共重合体を
用いることにより充分な導電性能を有すると共に
架橋ポリエチレンとの剥離性/材料強度バランス
が更にすぐれることを見い出してなされたもので
ある。上記のように改質されていないエチレン重
合体とアクリロニトリル−ブタジエン共重合体と
は一般に相溶性が乏しく、両者のブレンド物は
各々の分散状態が不良なため充分な材料強度が発
現しない。後者が高ニトリル含量の場合にとりわ
けこの傾向は大きい。しかし、改質エチレン重合
体とアクリロニトリル−ブタジエン共重合体との
組合せでは相溶性が著しく改良され、改質エチレ
ン重合体中にアクリロニトリル−ブタジエン共重
合体が均質分散するため、このゴムは材料強度を
補強する目的を十分発揮する。 〔〕 発明の具体的説明 本発明による半導電性樹脂組成物は、改質エチ
レン重合体(A)、アクリロニトリル−ブタジエン共
重合体(B)およびカーボンブラツク(C)を含有するも
のである。 1 改質エチレン重合体(A) 改質エチレン重合体は、エチレン重合体と特
定の改質ビニルモノマーとをグラフト重合条件
に付して得られたものである。 (1) エチレン重合体 エチレン重合体は、脂肪族モノないしジオ
レフイン重合体のことをいう。このような重
合体の一群は脂肪族モノないしジオレフイン
の単独重合体であり、他の一群はこれらオレ
フイン相互のあるいはこれらオレフインと共
重合性モノマーとの共重合体である。 好ましい具体例としては、たとえば、高圧
法、中圧法または低圧法ポリエチレン、エチ
レン−プロピレン共重合体、エチレン−プロ
ピレン−ブテン−1ランダム共重合体、エチ
レン−(メタ)アクリル酸共重合体(「(メタ)
アクリル酸」は、アクリル酸およびメタクリ
ル酸の何れをも意味するものとする)、エチ
レン−(メタ)アクリル酸エステル共重合体、
不飽和カルボン酸変性ポリエチレン、等を代
表的なものとして挙げることができる。なか
でも高圧法ポリエチレン、エチレン−酢酸ビ
ニル共重合体(EVA含量35〜1重量%程度)
がより好ましい。 (2) 改質ビニルモノマー 改質ビニルモノマーは、(1)芳香族ビニルモ
ノマーおよび(2)芳香族ビニルモノマーとα,
β−不飽和ニトリルの混合物からなる群から
選ばれる。 芳香族ビニルモノマーは、下式で表わされ
る。 式中、R1は水素原子または炭素数1〜4
のアルキル基、R2〜R6はそれぞれ水素原子、
塩素原子、または炭素数1〜4のアルキル基
を示す。 具体的には、たとえばスチレン、メチルス
チレン(ビニルトルエン)、クロロスチレン、
α−メチルスチレン等がある。 α,β−不飽和ニトリルとしては、アクリ
ロニトリル、メタクリロニトリル等が代表的
である。 両モノマーの混合物の場合の使用量比は、
(1):(2)=95:5〜60:40(重量)程度である。 (3) 改質グラフト重合処理 本発明における改質ビニルモノマーによる
エチレン重合体の改質は、下記の内容のもの
である。 すなわち、(1)エチレン重合体粒子(一般に
は1〜7mm径、好ましくは2〜5mm径のも
の)40〜95重量%と(2)改質ビニルモノマー60
〜5重量%と(3)10時間の半減期を得るための
分解温度が50〜130℃であるラジカル重合開
始剤(改質ビニルモノマーに溶存しているこ
とが好ましく、その量は改質ビニルモノマー
100重量部に対し0.01〜5.0重量部)とを、水
性懸濁重合に使用される懸濁剤たとえばポリ
ビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、
メチルセルロースその他あるいは難溶性無機
物質たとえばリン酸カルシウム、酸化マグネ
シウムその他の存在下に、水性媒体中に系の
撹拌が容易に行なわれる任意の濃度で(一般
に水100重量部に対してエチレン重合体およ
び改質ビニルモノマー5〜100重量部)添加
し、撹拌して分散させる。次いで、この水性
懸濁液を使用重合開始剤の分解が実質的に起
こらない範囲内で加熱して、改質ビニルモノ
マーをエチレン重合体粒子中に含浸させる。 含浸処理は含浸促進の点から考えれば加熱
温度は高い方が良いが、重合開始剤の過早分
解によつて含浸前の改質ビニルモノマーが単
独で重合するのを防止する点からは加熱温度
は低い方が良い。好ましい温度は、室温から
50℃程度である。このような温度条件下に改
質ビニルモノマーの80重量%以上、好ましく
は90重量%以上、がエチレン重合体粒子中に
含浸または附着されるまで、すなわち遊離の
改質ビニルモノマー液滴が20重量%未満、好
ましくは10重量%未満、の量となるまで、水
性懸濁液を好ましくは撹拌下に1〜5時間程
度放置する。未含浸の改質ビニルモノマーが
20重量%以上の場合は独立のビニル重合体粒
子が析出する可能性があり、またエチレン重
合体粒子中のビニル重合体の分散が不均一と
なる。なお、遊離の改質ビニルモノマーは次
の重合工程においてエチレン重合体粒子内に
含浸されあるいはエチレン重合体粒子表面に
附着して重合するため、生成物中にはビニル
重合体粒子がエチレン系重合体粒子と独立し
て存在することは事実上認められない。 このようにして用意した水性懸濁液を更に
高温に加熱して改質ビニルモノマーの重合を
完成させることにより、改質エチレン重合体
粒子が得られる。この際、加熱温度は使用重
合開始剤の充分な分解が生じる温度であるべ
きである。しかし130℃を越えないことが必
要である。130℃を越えると生成改質エチレ
ン重合体中にゲル状物質が生じる傾向があ
り、一般には50〜130℃の温度が適当である。 重合開始剤としては、このグラフト重合処
理が水性懸濁重合の技術に従うことから油溶
性のものが使用される。この重合開始剤は、
10時間の半減期を得るための分解温度が50〜
130℃のものであるが、特に、55〜110℃の範
囲内にあるのが好ましい。この分解温度が50
℃未満では、含浸工程中に改質ビニルモノマ
ーの重合が生じるため均質な生成物が得られ
ない。130℃超過では生成物にゲルが生じて
物性上好ましくない。これは過度に温度を上
げる結果、エチレン系重合体の分子間架橋反
応が起きるためと考えられる。開始剤の具体
例としては、オクタノイルパーオキサイド、
ベンゾイルパーオキサイド、シクロヘキサノ
ンパーオキサイド、第三ブチルパーオキシベ
ンゾエート、メチルエチルケトンパーオキサ
イド、2,5−ジメチル−2,5−ジベンゾ
イルパーオキシヘキサン、ジ−第三ブチル−
ジ−パーオキシフタレート、ラウロイルパー
オキサイド、第三ブチルパーオキシピバレー
ト、3,5,5−トリメチルヘキサノイルパ
ーオキサイドなどが挙げられる。 (4) 改質エチレン重合体 このようにして得られたビニルモノマー改
質エチレン重合体は、エチレン重合体と改質
ビニルモノマーグラフトエチレン重合体と改
質ビニル重合体との三成分が混在しており、
グラフト成分の存在によりエチレン重合体と
改質ビニル重合体との相溶性が改良されて改
質ビニル重合体がエチレン重合体マトリツク
ス中に均質微細分散している。 そのため、改質ビニルモノマー単位を増加
してもその均質性は損なわれず、成形品の外
観、物性は優れたものを示す。エチレン重合
体と改質ビニル重合体の単純ブレンド物では
両者の相溶性が不良のため分散状態が悪く、
成形加工段階での層状剥離の発生による外観
悪化および材料物性(特に、伸び特性と耐衝
撃性)が顕著に低下するので、実用性がな
い。 2 アクリロニトリル−ブタジエン共重合体(B) 本発明組成物の樹脂成分のもう一方の必須成
分であるアクリロニトリル−ブタジエン共重合
体としては、アクリロニトリルとブタジエンの
共重合割合が種々異なつたものを使用すること
ができる。具体的には、結合アクリロニトリル
量が15〜50重量%の範囲内で、ムーニー粘度が
20〜140のものが用いられる。本発明でいう
「アクリロニトリル−ブタジエン共重合体」は、
これら必須両モノマーの外に少量のアクリル酸
またはメタアクリル酸を共重合させたカルボキ
シル化ニトリルゴムや、2−メチル−5−ビニ
ルピリジンを共重合させたビニルピリジンター
ポリマー等の改質アクリロニトリル−ブタジエ
ン共重合体をも包含するものである。 これらのアクリロニトリル−ブタジエン共重
合体は、前記改質エチレン重合体との混合物
100重量部に対し3〜60重量部好ましくは5〜
30重量部、の割合で使用される。 アクリロニトリル−ブタジエン共重合体は、
改質エチレン重合体中の改質ビニルモノマー単
位の多い場合(一般には40重量部程度以上)、
すなわちより剥離性を強化する場合、あるいは
カーボンブラツク充填量の多い場合(一般には
20重量部以上)、すなわち導電性レベルをより
高度にする場合に、さもなければ劣るかも知れ
ない組成物の材料強度を補強するのに特に有意
義である。 3 カーボンブラツク 本発明組成物に使用するカーボンブラツクに
は、フアーネスブラツク、アセチレンブラツ
ク、チヤンネルブラツク、ケツチエンブラツク
等がある。その配合割合は、改質エチレン重合
体とアクリロニトリル−ブタジエン共重合体と
の合計100重量部に対し、3〜150重量部、好ま
しくは3〜80重量部、の範囲である。 4 補助成分 本発明の組成物には、絶縁層との剥離性の要
求レベルに応じて、エチレン重合体を混合し
て、改質エチレン重合体中の改質ビニルモノマ
ー単位の量を減じたり、逆に改質ビニルモノマ
ーの重合体(たとえばポリスチレン)を混合す
ることができる。これらの混合系においても樹
脂層の分散性は極めて良好である。さらに、本
発明の組成物には、架橋剤、安定剤、酸化防止
剤、可塑剤、滑剤等の加工助剤等を使用条件に
応じて適量配合することができる。 5 組成物の調製 本発明の組成物は、バンバリー、ロール、プ
ラベンダープラストグラフなどのバツチ式の混
練機のほかに、一軸押出機、二軸押出機などの
連続式の押出機で容易に得ることができる。配
合順序は特に限定されるものではなく、各成分
を一度に混合して混練する方法のほかに、初め
にバツチ式あるいは連続式の押出機で改質エチ
レン重合体またはアクリロニトリル−ブタジエ
ン共重合体とカーボンブラツクとを混練してお
き、その混練物と改質エチレン重合体または
(および)アクリロニトリル−ブタジエン共重
合体とを混練することもできる。 6 実験例 以下に参考例、実施例、および比較例を示
す。 物性値測定法 (1) 本実験例において用いた剥離試験の方法は
以下の通りである。 半導電性樹脂組成物のシートと、密度
0.920g/c.c.、MI1.0の低密度ポリエチレン
100重量部に架橋剤(ジクミルパーオキサイ
ド)2重量部と老化防止剤(4,4′−ブチリ
デン−ビス(3−メチル−6−第三ブチルフ
エノール))0.3重量部とを配合した絶縁用ポ
リエチレンのシートとを作るべく、圧縮成形
機を使用して、120℃、100Kg/cm2、9分の成
形条件で、厚さ1mm、縦200mm、横200mmの各
シートを夫々得た。 次に上記両シートを重ね合せ、圧縮成形機
にて、180℃、50Kg/cm2、30分間加熱加圧す
ることにより、貼合せシートを作製した。 得られた貼合せシートから、巾0.5インチ、
長さ150mmの試験片を打抜き、引張試験機を
用いて剥離試験を行なつた。 剥離試験は、23℃、65%RHの雰囲気下、
50mm/分の速度で半導電層性樹脂組成物のシ
ートを絶縁用ポリエチレンのシートに対し、
90゜の角度で剥がし、その時の抵抗力を剥離
強度(Kg/0.5インチ)とした。 (2) 体積抵抗率は、横河電機(株)のホイートスト
ンブリツジ型測定器を用い、日本ゴム協会標
準規格「導電性ゴムおよびプラスチツクの体
積抵抗率試験方法」2301−1969に準じて測定
した。 (3) 引張強伸度はJIS K−7113に準じて測定し
た。 (4) 成形加工性は、40mm径押出機にて直径3mm
の円形ストランドを押出成形し、成形品の表
面状態(表面凹凸およびデラミネーシヨンの
有無)を測定した。 参考例 1 内容量50リツトルのオートクレーブ内に純水20
Kgおよび懸濁剤として第三リン酸カルシウム600
gとドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム0.6
gとを加えて水性媒質となし、これにEVA(密度
0.95、MI15.0、酢酸ビニル含量28重量%)3mm径
粒子6Kgを撹拌により懸濁させた。別に重合開始
剤として過酸化ベンゾイル8gおよび第三ブチル
パーオキシベンゾエート4gをスチレン6Kg
(EVA100重量部に対し100重量部)に溶解させ、
これを前記懸濁系に投入し、オートクレーブ内温
度を45℃に昇温させ、その温度で3時間保持して
重合開始剤を含むスチレンをEVA粒子中に含浸
させた。 この水性懸濁液を80℃に昇温してその温度に5
時間、および125℃で5時間維持して、重合を完
結させた。得られた改質樹脂粒子中にはスチレン
重合体成分がEVA100重量部に対して100重量部
存在することが確認された。 参考例 2 参考例1において、改質すべきエチレン重合体
として密度0.943、MI12.0、酢酸ビニル含量20重
量%のEVAを用い、該EVA100重量部に対して
スチレン重量部のかわりにスチレン75重量部とア
クリロニトリル25重量部をフイードして重合を完
結させて、スチレン−アクリロニトリル改質
EVA(スチレン、アクリロニトリル共重合体成分
がEVA100重量部に対して100重量部含有してい
た)を得た。 実施例 1 (1) 参考例1の改質EVA ……80重量部 〔スチレン重合体成分含量 100重量部〕 (2) アクリロニトリル−ブタジエ ン共重合体 ……20重量部 〔JSR NBR N230S(結合 ニトリル量=35重量%)〕100重量部 (3) カーボンブラツク〔デンカ アセチレンブラ
ツク〕 ……40重量部 (4) 老化防止剤〔テトラキス〔メチレン(3,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ−ハイドロ
シンナメート)メタン〕 ……0.1重量部 実施例 2 (1) 参考例1の改質EVA ……48重量部 (2) 参考例1で用いたEVA 〔酢酸ビニル含量28%〕 ……32重量部 (3) アクリロニトリル−ブタジエ ン共重合体 ……20重量部 〔実施例1と同様〕100重量部 (4) カーボンブラツク〔実施例1と同様〕
40重量部 (5) 老化防止剤〔実施例1と同様〕
……0.1重量部 実施例 3 (1) 参考例1の改質EVA ……97及び40重量部 (2) アクリロニトリル−ブタジエ ン共重合体…3及び60重量部 〔実施例1と同様〕100重量部 (3) カーボンブラツク〔実施例1と同様〕
40重量部 (4) 老化防止剤〔実施例1と同様〕 0.1重量部 比較例 1 (1) 参考例1で用いたEVA ……80重量部 (2) アクリロニトリル−ブタジエ ン共重合体 ……20重量部 〔実施例1と同様〕100重量部 (3) カーボンブラツク〔実施例1と同様〕
……40重量部 (4) 老化防止剤〔実施例1と同様〕
……0.1重量部 比較例 2 (1) 参考例1で用いたEVA ……40重量部 (2) GP−ポリスチレン ……40重量部 〔三菱モンサント社製「ダイ ヤレツクスHF−77」〕 (3) アクリロニトリル−ブタジエ ン共重合体 ……20重量部 〔実施例1と同様〕100重量部 (4) カーボンブラツク〔実施例1と同様〕
……40重量部 (5) 老化防止剤〔実施例1と同様〕
……0.1重量部 実施例 4 (1) 参考例2の改質EVA ……90及び80重量部 (2) アクリロニトリル−ブタジエ ン共重合体…10及び20重量部 〔JSR NBR N220S(結合 ニトリル量=40重量%〕100重量部 (3) カーボンブラツク〔実施例1と同様〕
……40重量部 (4) 老化防止剤〔実施例1と同様〕
……0.1重量部 実施例 5 (1) 参考例2の改質EVA ……80重量部 (2) アクリロニトリル−ブタジエ ン共重合体 ……20重量部 〔実施例4と同様〕100重量部 (3) カーボンブラツク〔実施例1と同様〕
……40重量部 (4) 架橋剤〔ジクミルパーオキサイド〕
……1重量部 (5) 老化防止剤〔実施例1と同様〕
……0.5重量部 比較例 3 (1) 参考例2で用いたEVA ……40重量部 (2) アクリロニトリル−スチレン 共重合体 ……40重量部 〔三菱モンサント社製「サン レツクスSAN−C」〕 (3) アクリロニトリル−ブタジエ ン共重合体 ……20重量部 〔実施例4と同様〕100重量部 (4) カーボンブラツク〔実施例1と同様〕
……40重量部 (5) 老化防止剤〔実施例1と同様〕
……0.1重量部 比較例 4 (1) 参考例2の改質EVA ……100重量部 (2) カーボンブラツク〔実施例1と同様〕
……40重量部 (3) 老化防止剤〔実施例1と同様〕
……0.1重量部 実施例 6 実施例1の組成物について、150℃のムーニー
粘度を測定した。 粘度試験はJIS K−6300「未架硫ゴム物理試験
方法」に準じ、L形ローターを用い、予備混練1
分で4分後の粘度(ML1+4)を求めた。 比較例 5 実施例1の組成物において、アクリロニトリル
−ブタジエン共重合体のかわりにスチレン−ブタ
ジエン共重合体〔旭化成社製「タフプレン」〕を
用いた以外は実施例1と全く同様の配合で、150
℃のムーニー粘度を測定した。 物性値測定結果 上記実施例および比較例で得られた組成物につ
いて前記の剥離試験等を実施した結果は、下表に
示す通りである。表中、NBRはアクリロニトリ
ル−ブタジエン共重合体をいう。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to materials suitable for improved outer semiconducting layers of polyethylene insulated cables, particularly for use under high voltages. Specifically, the present invention provides a semiconducting material suitable for obtaining an insulated cable in which an insulating layer and an outer semiconducting layer are in good adhesion, and the outer semiconducting layer can be peeled off very easily if necessary. This invention relates to a resin composition. In high-voltage cables, semiconducting layers are formed on the inner and outer layers of the insulating layer for the purpose of alleviating the electric field, but these semiconducting layers are in close contact with the insulating layer without any gaps to prevent corona discharge. It is necessary that it is glued. However, excessive contact between the outer semiconducting layer and the insulating layer is not preferable. In other words, for example, when connecting cables to each other, it is extremely difficult to peel off the external semiconducting layer from the insulating layer, and it takes a long time to peel off, the insulating layer is easily damaged, and the terminal processing requires a lot of time and effort. Or skill is required. Conventionally, the best semiconducting layer of this type is one that uses ethylene-vinyl ester copolymer as the base resin. Because it has an extremely strong adhesion property, it has almost no peelability from the insulating layer, making cable terminal processing extremely difficult. Therefore, the insulating layer and the external semiconductive layer are in good contact with each other, and the external semiconductive layer can be peeled off very easily if necessary, and the peeled pieces can be easily cut during the peeling operation. It would be of great benefit if a semiconductive resin composition could be obtained that has excellent mechanical strength to avoid such problems. Prior Art The following materials are known as semiconducting layer materials. (1) Ethylene-unsaturated ester copolymers such as ethylene-vinyl acetate copolymers (high vinyl acetate content, e.g. exceeding 35% by weight; hereinafter referred to as high-vinyl acetate EVA) and ethylene-ethyl acrylate copolymers Added carbon black to the combination. (2) Single or mixtures of halogen-containing resins such as chlorinated polyethylene, chlorosulfonated polyethylene, EVA-vinyl chloride graft copolymer, chlorinated polyethylene-vinyl chloride graft copolymer, polyvinyl chloride, chloroprene, etc. Carbon black is added to a blend of this and olefin polymer. (3) Carbon black is added to a blend of polystyrene, styrene copolymer, butadiene-acrylonitrile copolymer, polyester, etc. and olefin polymer. However, as described above, (1) is unsuitable due to poor peelability from the insulating layer. (2) was proposed for the purpose of improving the peelability from the insulating layer, and although its effect is recognized, it has the following problems. In other words, in the case of polyethylene cross-linked insulated cables, the cross-linking system tends to be changed from wet cross-linking to dry cross-linking in order to suppress the dielectric breakdown phenomenon caused by water trees, etc. Generally, the crosslinking temperature becomes high, so the material for the outer semiconducting layer is required to have greater thermal stability during processing.
EVA and the like generate corrosive gases through thermal decomposition at high temperatures, which promotes corrosion of equipment and corrodes cable shielding copper tape, deteriorating cable performance. Similar to (2), (3) is intended to improve the peelability from the insulating layer, but both have poor compatibility with the olefin polymer, and it is necessary to increase the blending amount to improve the peelability. Therefore, the outer semiconducting layer becomes quite fragile, and the peeling pieces break during the peeling process, which poses a practical problem. [] Summary of the Invention The present invention aims to solve the above-mentioned problems, and uses a blend of a specific modified ethylene polymer and an acrylonitrile-butadiene copolymer as a base resin in which carbon black is blended. The aim is to achieve this purpose by using Therefore, the semiconductive resin composition according to the present invention is
It is characterized by containing each of the following components (A) to (C). (A) (a) 40 to 95% by weight of ethylene polymer particles; (b) 60 to 60% modified vinyl monomer selected from the group consisting of an aromatic vinyl monomer and a mixture of an aromatic vinyl monomer and an α,β-unsaturated nitrile. 5% by weight
and (c) 0.01 to 5 parts by weight of a radical polymerization initiator having a decomposition temperature of 50 to 130°C to obtain a half-life of 10 hours per 100 parts by weight of the modified vinyl monomer.
Parts by weight of an aqueous suspension containing 80% by weight or more of the modified vinyl monomer are impregnated into the ethylene polymer particles under conditions where decomposition of the radical polymerization initiator does not substantially occur. 97 to 40 parts by weight of a modified ethylene polymer obtained by raising the temperature of this aqueous suspension to 50 to 130°C to complete the polymerization of the modified vinyl monomer; (B) acrylonitrile-butadiene copolymer; Combine 3~
60 parts by weight, (C) Carbon black 100% of the above (A) and (B) components
3 to 150 parts by weight. Effects The resin composition according to the present invention has the following effects. 1 The resulting semiconducting layer adheres well to the insulating layer. 2. The semiconducting layer can be easily peeled off from the insulating layer if necessary. 3. Has excellent mechanical strength (flexibility and elongation properties). 4. Carbon black has good dispersibility. 5. Excellent processability and extrusion processability when blending with carbon black. 6. Excellent thermal stability and little generation of corrosive thermal decomposition gas. The present inventors have already discovered a semiconductive resin composition consisting of this modified ethylene polymer, a reinforcing rubber (especially preferred is ethylene-propylene rubber or styrene-conjugated diolefin block copolymer rubber), and carbon black. I proposed something (Special application 1984-
139492), the present invention has discovered that by using an acrylonitrile-butadiene copolymer as such a reinforcing and modified rubber, it has sufficient electrical conductivity and further improves the balance of releasability/material strength with cross-linked polyethylene. It was made by As mentioned above, unmodified ethylene polymers and acrylonitrile-butadiene copolymers generally have poor compatibility, and blends of the two do not exhibit sufficient material strength because the dispersion state of each is poor. This tendency is especially strong when the latter has a high nitrile content. However, in the combination of modified ethylene polymer and acrylonitrile-butadiene copolymer, the compatibility is significantly improved, and because the acrylonitrile-butadiene copolymer is homogeneously dispersed in the modified ethylene polymer, this rubber has improved material strength. Fully demonstrate the purpose of reinforcement. [] Detailed Description of the Invention The semiconductive resin composition according to the present invention contains a modified ethylene polymer (A), an acrylonitrile-butadiene copolymer (B), and carbon black (C). 1 Modified ethylene polymer (A) A modified ethylene polymer is obtained by subjecting an ethylene polymer and a specific modified vinyl monomer to graft polymerization conditions. (1) Ethylene polymer Ethylene polymer refers to an aliphatic mono- or diolefin polymer. One group of such polymers is a homopolymer of aliphatic mono- or diolefins, and the other group is a copolymer of these olefins with each other or with a copolymerizable monomer. Preferred specific examples include high-pressure, medium-pressure, or low-pressure polyethylene, ethylene-propylene copolymer, ethylene-propylene-butene-1 random copolymer, ethylene-(meth)acrylic acid copolymer ( Meta)
"acrylic acid" shall mean both acrylic acid and methacrylic acid), ethylene-(meth)acrylic acid ester copolymer,
Representative examples include unsaturated carboxylic acid-modified polyethylene. Among them, high-pressure polyethylene and ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA content of about 35 to 1% by weight)
is more preferable. (2) Modified vinyl monomer Modified vinyl monomer consists of (1) aromatic vinyl monomer and (2) aromatic vinyl monomer and α,
selected from the group consisting of mixtures of β-unsaturated nitriles. The aromatic vinyl monomer is represented by the following formula. In the formula, R 1 is a hydrogen atom or a carbon number of 1 to 4
alkyl group, R 2 to R 6 are each a hydrogen atom,
Indicates a chlorine atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Specifically, for example, styrene, methylstyrene (vinyltoluene), chlorostyrene,
Examples include α-methylstyrene. Typical α,β-unsaturated nitriles include acrylonitrile and methacrylonitrile. In the case of a mixture of both monomers, the usage ratio is:
(1):(2)=about 95:5 to 60:40 (weight). (3) Modified graft polymerization treatment The modification of the ethylene polymer with the modified vinyl monomer in the present invention is as follows. That is, (1) 40 to 95% by weight of ethylene polymer particles (generally 1 to 7 mm diameter, preferably 2 to 5 mm diameter) and (2) 60% by weight of modified vinyl monomer.
~5% by weight and (3) a radical polymerization initiator (preferably dissolved in the modified vinyl monomer) with a decomposition temperature of 50 to 130°C to obtain a half-life of 10 hours; monomer
0.01 to 5.0 parts by weight per 100 parts by weight) of a suspending agent used in aqueous suspension polymerization, such as polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone,
In the presence of methylcellulose or other poorly soluble inorganic substances such as calcium phosphate, magnesium oxide, etc., in an aqueous medium at any concentration that facilitates stirring of the system (generally ethylene polymers and modified vinyl per 100 parts by weight of water). 5 to 100 parts by weight of monomer) and stir to disperse. This aqueous suspension is then heated within a range that does not substantially cause decomposition of the polymerization initiator used to impregnate the modified vinyl monomer into the ethylene polymer particles. In impregnation treatment, a higher heating temperature is better from the point of view of promoting impregnation, but from the viewpoint of preventing the modified vinyl monomer before impregnation from polymerizing alone due to premature decomposition of the polymerization initiator, the heating temperature is higher. The lower the better. Preferred temperatures range from room temperature to
The temperature is around 50℃. Under such temperature conditions, at least 80% by weight, preferably at least 90% by weight, of the modified vinyl monomer is impregnated or deposited into the ethylene polymer particles, i.e. until the free modified vinyl monomer droplets reach 20% by weight. %, preferably less than 10% by weight, the aqueous suspension is preferably left under stirring for about 1 to 5 hours. Unimpregnated modified vinyl monomer
If the amount is 20% by weight or more, independent vinyl polymer particles may precipitate, and the vinyl polymer in the ethylene polymer particles will be non-uniformly dispersed. In addition, in the next polymerization step, the free modified vinyl monomer is impregnated into the ethylene polymer particles or attached to the surface of the ethylene polymer particles and polymerized. In fact, it is not recognized that it exists independently of particles. Modified ethylene polymer particles are obtained by further heating the aqueous suspension prepared in this way to a high temperature to complete polymerization of the modified vinyl monomer. At this time, the heating temperature should be such that the polymerization initiator used is sufficiently decomposed. However, it is necessary that the temperature does not exceed 130℃. If the temperature exceeds 130°C, gel-like substances tend to form in the resulting modified ethylene polymer, so a temperature of 50 to 130°C is generally appropriate. As the polymerization initiator, an oil-soluble one is used since this graft polymerization process follows the technique of aqueous suspension polymerization. This polymerization initiator is
The decomposition temperature is ~50 to obtain a half-life of 10 hours.
Although the temperature is 130°C, it is particularly preferably within the range of 55 to 110°C. This decomposition temperature is 50
If the temperature is less than 0.degree. C., polymerization of the modified vinyl monomer will occur during the impregnation process, and a homogeneous product will not be obtained. If the temperature exceeds 130°C, a gel will form in the product, which is unfavorable in terms of physical properties. This is thought to be because an intermolecular crosslinking reaction of the ethylene polymer occurs as a result of excessively raising the temperature. Specific examples of initiators include octanoyl peroxide,
Benzoyl peroxide, cyclohexanone peroxide, tert-butyl peroxybenzoate, methyl ethyl ketone peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-dibenzoyl peroxyhexane, di-tert-butyl-
Di-peroxyphthalate, lauroyl peroxide, tert-butyl peroxypivalate, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, and the like. (4) Modified ethylene polymer The vinyl monomer-modified ethylene polymer thus obtained is a mixture of three components: ethylene polymer, modified vinyl monomer-grafted ethylene polymer, and modified vinyl polymer. Ori,
The presence of the graft component improves the compatibility between the ethylene polymer and the modified vinyl polymer, so that the modified vinyl polymer is homogeneously and finely dispersed in the ethylene polymer matrix. Therefore, even if the number of modified vinyl monomer units is increased, its homogeneity is not impaired, and the molded product exhibits excellent appearance and physical properties. A simple blend of ethylene polymer and modified vinyl polymer has poor compatibility between the two, resulting in poor dispersion.
It is not practical because the appearance deteriorates due to the occurrence of delamination during the molding process and the physical properties of the material (especially elongation properties and impact resistance) are significantly reduced. 2 Acrylonitrile-butadiene copolymer (B) As the acrylonitrile-butadiene copolymer which is the other essential component of the resin component of the composition of the present invention, copolymers with various copolymerization ratios of acrylonitrile and butadiene may be used. Can be done. Specifically, when the amount of bound acrylonitrile is within the range of 15 to 50% by weight, the Mooney viscosity is
20 to 140 are used. The "acrylonitrile-butadiene copolymer" referred to in the present invention is
Modified acrylonitrile-butadiene, such as carboxylated nitrile rubber made by copolymerizing a small amount of acrylic acid or methacrylic acid in addition to these two essential monomers, and vinylpyridine terpolymer made by copolymerizing 2-methyl-5-vinylpyridine. It also includes copolymers. These acrylonitrile-butadiene copolymers are mixed with the modified ethylene polymer.
3 to 60 parts by weight, preferably 5 to 100 parts by weight
Used in a proportion of 30 parts by weight. Acrylonitrile-butadiene copolymer is
When there are many modified vinyl monomer units in the modified ethylene polymer (generally about 40 parts by weight or more),
In other words, when the releasability is to be further strengthened, or when the carbon black filling amount is large (generally
20 parts by weight or more), i.e. higher conductivity levels, are particularly useful for reinforcing the material strength of the composition, which may otherwise be poor. 3 Carbon Black Carbon blacks used in the composition of the present invention include furnace black, acetylene black, channel black, butthorn black, and the like. The mixing ratio thereof is in the range of 3 to 150 parts by weight, preferably 3 to 80 parts by weight, based on a total of 100 parts by weight of the modified ethylene polymer and the acrylonitrile-butadiene copolymer. 4 Auxiliary Components Depending on the required level of peelability from the insulating layer, the composition of the present invention may be mixed with an ethylene polymer to reduce the amount of modified vinyl monomer units in the modified ethylene polymer, or Conversely, polymers of modified vinyl monomers (eg polystyrene) can be mixed. Even in these mixed systems, the dispersibility of the resin layer is extremely good. Furthermore, processing aids such as crosslinking agents, stabilizers, antioxidants, plasticizers, lubricants, etc. can be added to the composition of the present invention in appropriate amounts depending on the conditions of use. 5 Preparation of Composition The composition of the present invention can be easily obtained using a continuous extruder such as a single-screw extruder or a twin-screw extruder in addition to a batch-type kneader such as a Banbury, Roll, or Prabender Plastograph. be able to. The order of blending is not particularly limited, and in addition to mixing and kneading each component at once, it is also possible to first mix the components with a modified ethylene polymer or acrylonitrile-butadiene copolymer in a batch or continuous extruder. It is also possible to knead carbon black and then knead the kneaded product with the modified ethylene polymer or/and the acrylonitrile-butadiene copolymer. 6 Experimental Examples Reference examples, working examples, and comparative examples are shown below. Physical property measurement method (1) The peel test method used in this experimental example is as follows. Sheet of semiconductive resin composition and density
0.920g/cc, MI1.0 low density polyethylene
For insulation, 100 parts by weight is mixed with 2 parts by weight of a crosslinking agent (dicumyl peroxide) and 0.3 parts by weight of an anti-aging agent (4,4'-butylidene-bis(3-methyl-6-tert-butylphenol)). In order to make polyethylene sheets, each sheet with a thickness of 1 mm, a length of 200 mm, and a width of 200 mm was obtained using a compression molding machine under molding conditions of 120° C., 100 kg/cm 2 , and 9 minutes. Next, the above-mentioned two sheets were overlapped and heated and pressed at 180° C. and 50 kg/cm 2 for 30 minutes using a compression molding machine to produce a laminated sheet. From the obtained laminated sheet, a width of 0.5 inch,
A test piece with a length of 150 mm was punched out and a peel test was performed using a tensile tester. The peel test was conducted at 23℃ and 65%RH.
A sheet of semiconductive layered resin composition is applied to a sheet of insulating polyethylene at a speed of 50 mm/min.
The film was peeled off at a 90° angle, and the resistance force at that time was defined as the peel strength (Kg/0.5 inch). (2) Volume resistivity was measured using a Wheatstone bridge type measuring device manufactured by Yokogawa Electric Corporation in accordance with the Japan Rubber Association standard "Volume resistivity test method for conductive rubber and plastics" 2301-1969. . (3) Tensile strength and elongation were measured according to JIS K-7113. (4) Molding processability is 3 mm in diameter using a 40 mm diameter extruder.
A circular strand was extrusion molded, and the surface condition of the molded product (surface irregularities and presence or absence of delamination) was measured. Reference example 1 20 liters of pure water in an autoclave with a capacity of 50 liters
Kg and tricalcium phosphate as suspending agent 600
g and sodium dodecylbenzenesulfonate 0.6
g to form an aqueous medium, and EVA (density
0.95, MI 15.0, vinyl acetate content 28% by weight) 6 kg of 3 mm diameter particles were suspended by stirring. Separately, add 8 g of benzoyl peroxide and 4 g of tert-butyl peroxybenzoate as a polymerization initiator to 6 kg of styrene.
(100 parts by weight for 100 parts by weight of EVA),
This was put into the suspension system, the temperature inside the autoclave was raised to 45°C, and the temperature was maintained for 3 hours to impregnate the styrene containing the polymerization initiator into the EVA particles. This aqueous suspension was heated to 80℃ and maintained at that temperature for 5 minutes.
The polymerization was completed by holding at 125° C. for 5 hours. It was confirmed that the obtained modified resin particles contained 100 parts by weight of a styrene polymer component based on 100 parts by weight of EVA. Reference Example 2 In Reference Example 1, EVA with a density of 0.943, MI of 12.0, and vinyl acetate content of 20% by weight was used as the ethylene polymer to be modified, and 75 parts by weight of styrene was added to 100 parts by weight of the EVA instead of parts by weight of styrene. and 25 parts by weight of acrylonitrile to complete the polymerization, resulting in styrene-acrylonitrile modification.
EVA (the styrene/acrylonitrile copolymer component was contained in an amount of 100 parts by weight based on 100 parts by weight of EVA) was obtained. Example 1 (1) Modified EVA of Reference Example 1...80 parts by weight [Styrene polymer component content 100 parts by weight] (2) Acrylonitrile-butadiene copolymer...20 parts by weight [JSR NBR N230S (bonded nitrile Amount = 35% by weight)] 100 parts by weight (3) Carbon black [Denka Acetylene Black] ...40 parts by weight (4) Anti-aging agent [Tetrakis [Methylene (3,5
-di-tert-butyl-4-hydroxy-hydrocinnamate) methane] ...0.1 part by weight Example 2 (1) Modified EVA of Reference Example 1 ...48 parts by weight (2) EVA used in Reference Example 1 [Vinyl acetate content 28%] ...32 parts by weight (3) Acrylonitrile-butadiene copolymer ...20 parts by weight [same as Example 1] 100 parts by weight (4) Carbon black [same as Example 1]
40 parts by weight (5) Anti-aging agent [Same as Example 1]
...0.1 part by weight Example 3 (1) Modified EVA of Reference Example 1 ...97 and 40 parts by weight (2) Acrylonitrile-butadiene copolymer...3 and 60 parts by weight [Same as Example 1] 100 parts by weight Part (3) Carbon black [Same as Example 1]
40 parts by weight (4) Anti-aging agent [same as Example 1] 0.1 part by weight Comparative Example 1 (1) EVA used in Reference Example 1...80 parts by weight (2) Acrylonitrile-butadiene copolymer...20 Parts by weight [same as Example 1] 100 parts by weight (3) Carbon black [Same as Example 1]
...40 parts by weight (4) Anti-aging agent [Same as Example 1]
...0.1 part by weight Comparative Example 2 (1) EVA used in Reference Example 1 ...40 parts by weight (2) GP-polystyrene ...40 parts by weight [Dialex HF-77 manufactured by Mitsubishi Monsanto] (3) Acrylonitrile-butadiene copolymer...20 parts by weight [same as Example 1] 100 parts by weight (4) Carbon black [same as Example 1]
...40 parts by weight (5) Anti-aging agent [Same as Example 1]
...0.1 part by weight Example 4 (1) Modified EVA of Reference Example 2 ...90 and 80 parts by weight (2) Acrylonitrile-butadiene copolymer...10 and 20 parts by weight [JSR NBR N220S (bonded nitrile amount = 40% by weight] 100 parts by weight (3) Carbon black [Same as Example 1]
...40 parts by weight (4) Anti-aging agent [Same as Example 1]
...0.1 parts by weight Example 5 (1) Modified EVA of Reference Example 2 ...80 parts by weight (2) Acrylonitrile-butadiene copolymer ...20 parts by weight [same as Example 4] 100 parts by weight (3 ) Carbon black [Same as Example 1]
...40 parts by weight (4) Crosslinking agent [dicumyl peroxide]
...1 part by weight (5) Anti-aging agent [Same as Example 1]
...0.5 parts by weight Comparative Example 3 (1) EVA used in Reference Example 2 ...40 parts by weight (2) Acrylonitrile-styrene copolymer ...40 parts by weight ["Sanrex SAN-C" manufactured by Mitsubishi Monsanto] (3) Acrylonitrile-butadiene copolymer...20 parts by weight [same as Example 4] 100 parts by weight (4) Carbon black [same as Example 1]
...40 parts by weight (5) Anti-aging agent [Same as Example 1]
...0.1 parts by weight Comparative Example 4 (1) Modified EVA of Reference Example 2 ...100 parts by weight (2) Carbon black [same as Example 1]
...40 parts by weight (3) Anti-aging agent [Same as Example 1]
...0.1 part by weight Example 6 The Mooney viscosity of the composition of Example 1 at 150°C was measured. The viscosity test was conducted in accordance with JIS K-6300 "Physical test method for uncross-cured rubber" using an L-shaped rotor and pre-kneading 1.
The viscosity (ML 1+4 ) after 4 minutes was determined. Comparative Example 5 In the composition of Example 1, 150
The Mooney viscosity in °C was measured. Measurement Results of Physical Properties The results of the peel test etc. performed on the compositions obtained in the above Examples and Comparative Examples are shown in the table below. In the table, NBR refers to acrylonitrile-butadiene copolymer.

【表】【table】

【表】【table】

【表】 *2 層状剥離による押出品の表面悪化。
[Table] *2 Surface deterioration of extruded product due to delamination.

【表】 結果の解析 (1) 表−1および2より明らかなように、本発明
の組成物は絶縁ポリエチレン層との剥離性、材
料強度、成形加工性、導電性の各項目につい
て、外部半導電層材料としての条件に充分満足
するバランスのとれた特性を有している。加え
るに特に低酢酸ビニル含量のEVAを基材樹脂
とした場合には、成形加工時の熱安定性に優れ
るため工業的に有効な外部半導電層を提供しう
るものである。 (2) 表−1において、改質EVAへのアクリロニ
トリル−ブタジエン共重合体のブレンドは、カ
ーボン充填系の強靭性(引張強伸度)向上に非
常に大きな効果を有しており、かつ剥離強度も
若干改良される。また、この共重合体の有する
優れた導電性、成形加工性を阻害しない。比較
例のEVAとアクリロニトリル−ブタジエン共
重合体、EVAとポリスチレンとアクリロニト
リル−ブタジエン共重合体のブレンド系はブレ
ンド相溶性が悪く、表−1に示されるように分
散不良によつて材料強度、成形加工性等が悪化
して実用的に不適なものとなる。 (3) 表−2において、改質EVAへのアクリロニ
トリル−ブタジエン共重合体のブレンドは表−
1と同様、カーボンブラツク充填改質EVAの
強靭性を大巾に向上させる。これは改質EVA
中のビニルモノマー単位と該共重合体の相溶性
が良好なことに起因すると考えられる。また、
本発明組成物に架橋剤を併用すると引用強伸度
が大巾に向上し、外部半導電層として十分な材
料強度をもつにいたる。 (4) 更に、他のゴム充填系に比較し、本発明の組
成物は分散性が良好な為か、表−3に示すよう
に粘度上昇が小さく、ケーブル押出時の加工面
で有利となる。
[Table] Analysis of results (1) As is clear from Tables 1 and 2, the composition of the present invention has excellent peelability from the insulating polyethylene layer, material strength, moldability, and electrical conductivity. It has well-balanced properties that fully satisfy the requirements as a conductive layer material. In addition, especially when EVA with a low vinyl acetate content is used as the base resin, it can provide an industrially effective outer semiconducting layer because of its excellent thermal stability during molding. (2) In Table 1, blending of acrylonitrile-butadiene copolymer with modified EVA has a very large effect on improving the toughness (tensile strength and elongation) of carbon-filled systems, and also has peel strength. is also slightly improved. Moreover, it does not inhibit the excellent conductivity and moldability of this copolymer. Comparative examples of blend systems of EVA and acrylonitrile-butadiene copolymer, and blend systems of EVA, polystyrene, and acrylonitrile-butadiene copolymer had poor blend compatibility, and as shown in Table 1, material strength and molding process were affected by poor dispersion. The properties of the product deteriorate, making it unsuitable for practical use. (3) In Table 2, the blend of acrylonitrile-butadiene copolymer into modified EVA is shown in Table 2.
Similar to 1, it greatly improves the toughness of carbon black-filled modified EVA. This is modified EVA
This is thought to be due to the good compatibility between the vinyl monomer units in the copolymer and the copolymer. Also,
When a crosslinking agent is used in combination with the composition of the present invention, the quoted strength and elongation are greatly improved, and the material has sufficient strength as an outer semiconductive layer. (4) Furthermore, compared to other rubber filling systems, the composition of the present invention exhibits a small increase in viscosity as shown in Table 3, probably because it has good dispersibility, which is advantageous in terms of processing during cable extrusion. .

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 下記(A)〜(C)の各成分を含有することを特徴と
する、半導電性樹脂組成物。 (A) (イ)エチレン重合体粒子40〜95重量%、(ロ)芳香
族ビニルモノマーおよび芳香族ビニルモノマー
とα,β−不飽和ニトリルの混合物からなる群
から選ばれる改質ビニルモノマー60〜5重量%
および(ハ)10時間の半減期を得るための分解温度
が50〜130℃であるラジカル重合開始剤の該改
質ビニルモノマー100重量部に対して0.01〜5
重量部、を含む水性懸濁液を、該ラジカル重合
開始剤の分解が実質的に起こらない条件下に該
改質ビニルモノマーの80重量%以上を該エチレ
ン重合体粒子中に含浸させたのち、この水性懸
濁液の温度を50〜130℃に上昇させて該改質ビ
ニルモノマーの重合を完成させる方法で得られ
た改質エチレン重合体97〜40重量部、 (B) アクリロニトリル−ブタジエン共重合体3〜
60重量部、 (C) カーボンブラツク 上記(A)および(B)成分100
重量部に対して3〜150重量部。
[Scope of Claims] 1. A semiconductive resin composition characterized by containing each of the following components (A) to (C). (A) (a) 40 to 95% by weight of ethylene polymer particles; (b) 60 to 60% modified vinyl monomer selected from the group consisting of an aromatic vinyl monomer and a mixture of an aromatic vinyl monomer and an α,β-unsaturated nitrile. 5% by weight
and (c) 0.01 to 5 parts by weight of a radical polymerization initiator having a decomposition temperature of 50 to 130°C to obtain a half-life of 10 hours per 100 parts by weight of the modified vinyl monomer.
Parts by weight of an aqueous suspension containing 80% by weight or more of the modified vinyl monomer are impregnated into the ethylene polymer particles under conditions where decomposition of the radical polymerization initiator does not substantially occur. 97 to 40 parts by weight of a modified ethylene polymer obtained by raising the temperature of this aqueous suspension to 50 to 130°C to complete the polymerization of the modified vinyl monomer; (B) acrylonitrile-butadiene copolymer; Combine 3~
60 parts by weight, (C) Carbon black 100% of the above (A) and (B) components
3 to 150 parts by weight.
JP13518280A 1980-09-30 1980-09-30 Semiconducting resin composition Granted JPS5761041A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13518280A JPS5761041A (en) 1980-09-30 1980-09-30 Semiconducting resin composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13518280A JPS5761041A (en) 1980-09-30 1980-09-30 Semiconducting resin composition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5761041A JPS5761041A (en) 1982-04-13
JPS6325622B2 true JPS6325622B2 (en) 1988-05-26

Family

ID=15145746

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13518280A Granted JPS5761041A (en) 1980-09-30 1980-09-30 Semiconducting resin composition

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5761041A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02142310U (en) * 1989-04-27 1990-12-03
JPH0620116U (en) * 1992-05-25 1994-03-15 和男 山口 Glass windows of passenger vehicles

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60190404A (en) * 1984-03-10 1985-09-27 Denki Kagaku Kogyo Kk Suspension polymerization of vinyl chloride
JPS61141703A (en) * 1984-12-14 1986-06-28 Shin Etsu Chem Co Ltd Suspension polymerization of vinyl chloride monomer
JPH03127403A (en) * 1989-09-29 1991-05-30 Union Carbide Chem & Plast Co Inc Insulated electric conductor
FR2809226B1 (en) * 2000-05-19 2002-07-26 Sagem CROSSLINKABLE SEMICONDUCTOR COMPOSITION AND ELECTRICAL CABLE WITH SEMICONDUCTOR FILM

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02142310U (en) * 1989-04-27 1990-12-03
JPH0620116U (en) * 1992-05-25 1994-03-15 和男 山口 Glass windows of passenger vehicles

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5761041A (en) 1982-04-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4412938A (en) Semiconducting resin compositions
EP1366498B1 (en) Semiconducting shield compositions
EP0129617B1 (en) Semiconducting compositions and wires and cables using the same
US3873494A (en) Oil-resistant and aging-resistant elastomers
AU2002240535A1 (en) Semiconducting shield compositions
JPH02169644A (en) Preparation of filled water/crosslinkable
JPS63280754A (en) Fireproofing halogen-free thermoplastic polymer composition
EP1198513A1 (en) Mixtures of thermoplastic elastomers and polar polymers
JPS6325622B2 (en)
JPS58222140A (en) Semi-conductive resin composition
US4374952A (en) Nitrile rubber/EPDM graft blends
JPS6225693B2 (en)
JPS59143203A (en) Semiconductive resin composition
JP3222198B2 (en) High insulator made of ethylene copolymer or its composition and power cable using the same
CA1220589A (en) Blends of grafted acrylate polymers and mass-made abs- type resins
CN112778745B (en) Modified polyphenylene ether and thermoplastic elastomer, preparation method and application thereof, and composition for preparing thermoplastic elastomer
JPS59139503A (en) Semiconductive resin composition
JPH10279769A (en) Readily peelable semiconducting resin composition and its production
JP3465340B2 (en) Thermoplastic resin composition
JPH0127116B2 (en)
JPH1192600A (en) Easily-peelable semiconductive resin composition
JPS5912504A (en) Semiconductive resin composition
JP3133145B2 (en) High insulator made of ethylene copolymer or its composition and power cable using the same
JPH0439811A (en) Outside semiconductor layer material easy to be peeled off for electric wire
JPS638984B2 (en)