JPS63255896A - Semiconductor memory device - Google Patents
Semiconductor memory deviceInfo
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- JPS63255896A JPS63255896A JP62092208A JP9220887A JPS63255896A JP S63255896 A JPS63255896 A JP S63255896A JP 62092208 A JP62092208 A JP 62092208A JP 9220887 A JP9220887 A JP 9220887A JP S63255896 A JPS63255896 A JP S63255896A
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Landscapes
- Static Random-Access Memory (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、MOSFET (絶縁ゲート形電界効果トラ
ンジスタ)で構成された半導体記憶装置に関し、スタテ
ィック型RAM (ランダム・アクセス・メモリ)に有
効な半導体記憶装置に関する。Detailed Description of the Invention [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor memory device composed of a MOSFET (insulated gate field effect transistor), and a semiconductor memory device that is effective for a static RAM (random access memory). Regarding storage devices.
従来、半導体記憶袋W(以下LSIメモリと略す)は、
第3図に示すような構成となっている。Conventionally, semiconductor memory bags W (hereinafter abbreviated as LSI memory) are
The configuration is as shown in FIG.
第3図において、端子Ax−Ay−Din−D。In FIG. 3, terminals Ax-Ay-Din-D.
ut−WE及び酊yば、その外部端子である。なお、第
4図において電源供給端子は省略されている。メモリセ
ルMC1〜4は、そのひとつに具体的回路が示されてい
る。XアドレスデコーダX−DCRは、論理ゲート回路
G1・02等により構成される。これらの論理ゲート回
路G1・02等への入力には、図示しない適当な回路装
置から供給される外部アドレス信号Axが、Xアドレス
バッファX−ADBで受信される。ここで加工された内
部相補アドレス信号axO〜axiが、所定の組み合せ
により印加される。ワード線WLIはX−アドレスデコ
ーダX−DCRで選択され、選択時のワード線WL1は
VCCレベルに上げられる。ut-WE and UT-WE are its external terminals. Note that the power supply terminal is omitted in FIG. 4. A specific circuit for one of the memory cells MC1 to MC4 is shown. The X address decoder X-DCR is composed of logic gate circuits G1/02 and the like. As inputs to these logic gate circuits G1, G02, etc., an external address signal Ax supplied from an appropriate circuit device (not shown) is received by an X address buffer X-ADB. The internal complementary address signals axO to axi processed here are applied in a predetermined combination. Word line WLI is selected by X-address decoder X-DCR, and word line WL1 when selected is raised to VCC level.
他のワード線WL2についても同様である。The same applies to the other word line WL2.
カラムスイッチ回路を構成するMOSFETQ5・Q6
及びQ7・Q8のゲートには、それぞれ、Yアドレスデ
コーダY−DCRから選択信号が供給される。このYア
ドレスデコーダY−DCRは、論理ゲート回路G3・G
4等により構成される。これらの論理ゲート回路G3・
04等への入力には、図示しない適当な回路装置から供
給される外部アドレス信号Ayが、Yアドレスバッファ
Y−ADBで受信される。ここで加工された内部相補ア
ドレス信号ayo−ayiが、所定の組み合せにより印
加される。MOSFETQ5 and Q6 that make up the column switch circuit
A selection signal is supplied from the Y address decoder Y-DCR to the gates of Q7 and Q8, respectively. This Y address decoder Y-DCR is a logic gate circuit G3/G
Consists of 4th grade. These logic gate circuits G3・
04, etc., an external address signal Ay supplied from an appropriate circuit device (not shown) is received by the Y address buffer Y-ADB. The internal complementary address signals ayo-ayi processed here are applied in a predetermined combination.
メモリセルMC1〜MC4のアレイにおける一対のディ
ジット線DO・Do及びDl・「「は、それぞれディジ
ット線選択のための伝送ゲート用MOSFET C5
・C6及びC7・C8から構成されたカラムスイッチ回
路を介して、コモンデータ線CD、σ丁に接続される。A pair of digit lines DO, Do and Dl in the array of memory cells MC1 to MC4 are transmission gate MOSFETs C5 for digit line selection, respectively.
- Connected to common data lines CD and σ through a column switch circuit composed of C6, C7, and C8.
このコモンデータ線CD −CDには、読み出し回路D
OBの入力端子と、書き込み回路DIBの出力端子とが
接続される。読み出し回路DOBの出力端子は、データ
出力端子Doutに読み出し信号を送出し、書き込み回
路DIBの入力端子には、データ入力端子Dinから供
給される書き込みデータ信号が印加される。読み出し回
路DOBは、センスアンプを含み、データ出力端子Do
utから読み出し信号を送出する。This common data line CD-CD has a readout circuit D.
The input terminal of OB and the output terminal of write circuit DIB are connected. The output terminal of the read circuit DOB sends a read signal to the data output terminal Dout, and the input terminal of the write circuit DIB is applied with a write data signal supplied from the data input terminal Din. The readout circuit DOB includes a sense amplifier and has a data output terminal Do.
A read signal is sent from ut.
ところが従来の半導体記憶装置は、近年LSIメモリの
集積度が増大し、ビット数も増え、LSIメモリのチッ
プ面積の大部分をセルアレイが占めることにより、レイ
アウト面積が増大するという欠点がある。However, conventional semiconductor memory devices have the disadvantage that the layout area increases as the degree of integration of LSI memory increases in recent years, the number of bits increases, and the cell array occupies most of the chip area of the LSI memory.
上述した従来のスタティック型RAMの構成に対し、本
発明の目的は、上記欠点を解決するため、書き込み信号
の入力によって活性化信号を発生するコントロール回路
と、前記活性化信号によって制御されるワード線パルス
発生回路と、ディジット線ごとに接続されたデータラッ
チ回路を有するという独創的内容を有する半導体記憶装
置を供給することにある。An object of the present invention is to provide a control circuit that generates an activation signal in response to input of a write signal, and a word line controlled by the activation signal, in order to solve the above-mentioned drawbacks of the conventional static RAM configuration described above. An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device having an original content including a pulse generation circuit and a data latch circuit connected to each digit line.
本発明の半導体記憶装置は、活性化信号を発生するコン
トロール回路と、前記活性化信号によって制御され読み
出し時と書き込み時で異なったレベルを出力するワード
線パルス発生回路と、ディジット線ごとに接続されたデ
ータラッチ回路とを備えて構成される。In the semiconductor memory device of the present invention, each digit line is connected to a control circuit that generates an activation signal, and a word line pulse generation circuit that is controlled by the activation signal and outputs different levels during reading and writing. and a data latch circuit.
次に、本発明について図面を参照して説明する。第1図
は本発明のスタティック型RAMによる半導体記憶装置
の一実施例の構成を示すブロック図である。この構成に
おいて、第3図に示した従来例と異なる点は、外部端子
T「がらの書き込み信号の入力によって活性化信号φを
発生するコントロール回路CONと、活性化信号φによ
って制御されるワード線パルス発生回路E1・E2・・
・と、ディジット線ごとに接続されたデータラッチ回路
C1・C2・・・を有している点である。Next, the present invention will be explained with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram showing the structure of an embodiment of a semiconductor memory device using a static RAM according to the present invention. This configuration differs from the conventional example shown in FIG. Pulse generation circuit E1/E2...
・It has data latch circuits C1, C2, . . . connected to each digit line.
第1図において、端子Ax−Dy−Din−Dout−
WE・及びCSは、外部端子である。なお、第1図にお
いて、電源供給端子は省略されている。In FIG. 1, terminals Ax-Dy-Din-Dout-
WE and CS are external terminals. Note that in FIG. 1, the power supply terminal is omitted.
メモリセルMC11〜14は、そのひとつの具体的回路
が示されており、ゲートとドレインか互いに交差結線さ
れた駆動用MO8FET Qll・C12と、MOS
FET Qll・C12のドレインと電源電圧VCC
との間に設けられた情報保持用ポリ(多結晶)シリコン
層で形成された高抵抗R11・R12とによって構成さ
れている。そして、MOSFET Qll・C12と
、高抵抗R11・R12との共通接続点と、相補ディジ
ット線DO・T丁との間にトランスファゲート用MO8
FET C13・C14が配置されている。One specific circuit of memory cells MC11 to MC14 is shown, and includes a drive MO8FET Qll/C12 whose gate and drain are cross-connected to each other, and a MOS
Drain of FET Qll・C12 and power supply voltage VCC
and high-resistance R11 and R12 formed of an information-retaining polysilicon layer provided between the two. Then, a transfer gate MO8 is connected between the common connection point of MOSFET Qll/C12 and high resistance R11/R12 and the complementary digit line DO/T.
FETs C13 and C14 are arranged.
また、これらのメモリセルMC11〜14は、マトリッ
クス状に配置される。同じワード線WLi(WLI・W
L2・・・)に配置されたメモリセルMC11・12・
・・のトランスファゲート用MO6FET C13・
C14等のゲートは、それぞれ対応するワード線WLI
又はWL2に共通に接続され、同じディジット線Di
(DI・D2・・・)およびD i (D I −D2
・・lに配置されたメモリセルMCの入出力端子は、そ
れぞれ対応する一対の相補ディジット線Do −DO及
びDl・「rに接続されている。Further, these memory cells MC11 to MC14 are arranged in a matrix. Same word line WLi (WLI・W
Memory cells MC11, 12, arranged in L2...)
MO6FET C13 for transfer gate of...
Gates such as C14 are connected to the corresponding word line WLI.
or commonly connected to WL2 and the same digit line Di
(DI・D2...) and D i (DI - D2
The input/output terminals of the memory cells MC arranged in .
第1図においてコントロール回路CONは、外部端子T
「・Uyからの入力信号を受けて、内部制御タイミング
信号を形成する。すなわち、コントロール回路CONは
、外部端子T「からライトイネーブル信号を、外部端子
σWがらチップ選択信号を受けて、内部イネーブル信号
T「・活性化信号φ・内部チップセレクト信号−丁など
の内部タイミング信号を形成する。ここで、活性化信号
φは、外部端子T「からの入力信号によって、コントロ
ール回路CONを介して制御される。In FIG. 1, the control circuit CON has an external terminal T
・Receives an input signal from Uy and forms an internal control timing signal.In other words, the control circuit CON receives a write enable signal from external terminal T and a chip selection signal from external terminal σW, and generates an internal control timing signal. The activation signal φ is controlled by the input signal from the external terminal T through the control circuit CON. Ru.
第1図において、XアドレスデコーダX−DCRは、論
理ゲート回路G1・02等により構成される。これらの
論理ゲート回路G1・02等の入力には、図示しない適
当な回路装置から供給される外部アドレス信号Axを受
けるXアドレスバッファX−ADBで加工された内部相
補アドレス信号ax(、−axiが、所定の組み合せに
より印加される。In FIG. 1, the X address decoder X-DCR is composed of logic gate circuits G1.02 and the like. The inputs of these logic gate circuits G1, G02, etc. are supplied with internal complementary address signals ax(, -axi) processed by an X address buffer X-ADB that receives an external address signal Ax supplied from an appropriate circuit device (not shown). , are applied in a predetermined combination.
第1図において、ワード線WLIは、Xアドレスデコー
ダX、−D CRで形成された選択信号を受けるワード
線パルス発生回路E1によって選択される。ここで、ワ
ード線パルス発生回路E1は、コントロール回路CON
から発生される活性化信号φにより制御され、読み出し
時はワード線WL1に(1/ 2 ) Vccレベルの
パルスを一定時間だけ発生し、書き込み時はワード線W
LIにVCCレベルのパルスを一定時間だけ発生する。In FIG. 1, word line WLI is selected by word line pulse generation circuit E1 which receives selection signals formed by X address decoders X and -DCR. Here, the word line pulse generation circuit E1 is connected to the control circuit CON
During reading, a pulse at the (1/2) Vcc level is generated on word line WL1 for a certain period of time, and during writing, it is controlled by activation signal φ generated from word line WL1.
A VCC level pulse is generated on LI for a certain period of time.
他のワード線WL2についても同様である。The same applies to the other word line WL2.
第1図において、メモリセルアレイにおける一対のディ
ジット線Do −DoおよびDl・「丁は、それぞれデ
ィジット線選択のための伝送ゲート用MO9FET
C5・C6及びC7・C8がら構成されたカラムスイッ
チ回路を介して、コモンデータ線CD −CDに接続さ
れる。このコモンデータ線CD −CDには、読み出し
回路DOBの入力端子と書き込み回路DIBの出力端子
とが接続される。読み出し回路DOBの出力端子は、デ
ータ出力端子Doutに読み出し信号を送出し、書き込
み回路DIBの入力端子には、データ入力端子Dinか
ら供給される書き込みデータ信号が印加される。読み出
し回路DOBは、センスアンプを含み、データ出力端子
Doutから読み出し信号を送出する。In FIG. 1, a pair of digit lines Do-Do and Dl in the memory cell array are MO9FETs for transmission gates for digit line selection, respectively.
It is connected to the common data line CD-CD via a column switch circuit composed of C5 and C6 and C7 and C8. The input terminal of the read circuit DOB and the output terminal of the write circuit DIB are connected to this common data line CD-CD. The output terminal of the read circuit DOB sends a read signal to the data output terminal Dout, and the input terminal of the write circuit DIB is applied with a write data signal supplied from the data input terminal Din. The readout circuit DOB includes a sense amplifier and sends out a readout signal from the data output terminal Dout.
第1図において、カラムスイッチ回路を構成するMOS
FET C5・C6及びC7・C8のゲートには、そ
れぞれYアドレスデコーダY−DCRから選択信号が供
給される。このYアドレスデコーダY−DCRは、論理
ゲート回路G3・04等により構成される。これらの論
理ゲート回路G3・G4等の入力には、図示しない適当
な回路装置から供給される外部アドレス信号Ayを受け
るYアドレスバッファY−ADBで加工された内部相補
アドレス信号a310〜ayiが、所定の組み合せによ
り印加される。In Figure 1, the MOS that constitutes the column switch circuit
A selection signal is supplied to the gates of FETs C5, C6 and C7, C8 from a Y address decoder Y-DCR, respectively. This Y address decoder Y-DCR is composed of logic gate circuits G3.04 and the like. The inputs of these logic gate circuits G3, G4, etc. are supplied with internal complementary address signals a310 to ayi processed by a Y address buffer Y-ADB that receives an external address signal Ay supplied from an appropriate circuit device (not shown). is applied by a combination of
また、一対のディジット線Do −Do及びDl・DI
にそれぞれ接続されたデータラッチ回路C1・C2は、
読み出し時において、選択されたディジット線上に現わ
れたメモリセルからのデータをラッチし、増幅し、書き
込み時において、選択されなディジット線上に現われた
書き込み回路DIBからのデータをラッチし、選択され
たメモリセルへ書き込みを行なう、さらに、データラッ
チ回路C1・C2は、選択されたディジット線以外のデ
ィジット線上に現われたメモリセルMCからのデータを
ラッチする。In addition, a pair of digit lines Do-Do and Dl/DI
The data latch circuits C1 and C2 connected to
At the time of reading, the data from the memory cell appearing on the selected digit line is latched and amplified, and at the time of writing, the data from the write circuit DIB appearing on the selected digit line is latched and the data from the memory cell appearing on the selected digit line is latched and amplified. Further, data latch circuits C1 and C2, which perform writing to cells, latch data from memory cells MC appearing on digit lines other than the selected digit line.
また、特に以上の作動に制限されないが、回路の保護の
ため、各ディジット線と電源電圧VCCとの間に抵抗負
荷が設けられている。Further, although not limited to the above operation, a resistive load is provided between each digit line and the power supply voltage VCC to protect the circuit.
次に、第2図の波形図を参照して、読み出し時において
の動作を説明する。第1図の外部アドレス信号Axによ
って、ワード線パルス発生回路E1が選択される。ここ
で、ワード線パルス発生回路E1は、第3図の様な、外
部端子WEからの入力信号(ハイレベル)によってコン
トロール回路CONを介して発生された活性化信号φ(
ロウレベル)に従って制御され、ワード線WL1に(1
/ 2 ) V ccレベルのパルスを一定時間だけ発
生する。ここで、ワード線WLIにVCCレベルのパル
スを発生しない理由は、メモリセルのMO3FET
QllとC13およびC12とC14とのゲート幅の比
すなわちWll/W13およびW12/W14が従来よ
り小となっているため、メモリセルに保持されたデータ
を破壊させないためである。また、ワード線WLIに(
1/ 2 ) Vccレベルのパルスを一定時間のみ発
生するため、ディジット線上にはわずかな電位差が一定
時間のみ現われる。しかしデータラッチ回路C1は、そ
の一定時間のわずかな電位差を検知しラッチし、増幅し
て、出力回路DOBに伝達するので、アクセスのスピー
ドが遅くなることはない、また、他のワード線WL2に
ついても同様である。Next, the operation at the time of reading will be explained with reference to the waveform diagram in FIG. Word line pulse generation circuit E1 is selected by external address signal Ax in FIG. Here, the word line pulse generation circuit E1 generates an activation signal φ(
low level), and the word line WL1 is controlled according to (1 low level).
/2) Generate a Vcc level pulse for a certain period of time. Here, the reason why a VCC level pulse is not generated on the word line WLI is because the MO3FET of the memory cell
This is because the gate width ratios between Qll and C13 and between C12 and C14, that is, Wll/W13 and W12/W14, are smaller than before, so that the data held in the memory cells is not destroyed. Also, on the word line WLI (
1/2) Since the Vcc level pulse is generated only for a certain period of time, a slight potential difference appears on the digit line only for a certain period of time. However, the data latch circuit C1 detects, latches, amplifies, and transmits the slight potential difference for a certain period of time to the output circuit DOB, so the access speed does not slow down. The same is true.
次に第3図の波形図を参照して、書き込み時においての
動作を説明する。第1図の外部アドレス信号Axによっ
てワード線パルス発生回路E1が選択される。ここで、
ワード線パルス発生回路E1は、第3図の様な外部端子
7丁からの入力信号(ロウレベル)によってコントロー
ル回路CONを介して発生された活性化信号φ(ハイレ
、ベル)に従って制御され、ワード線WLIにVo。レ
ベルの一定時間だけパルスを発生する。ここで、ワード
線WLIに発生するパルスのレベルを(1/2)VCC
レベルにしないのは、ワード線WLIに発生するパルス
のレベルを(1/ 2 ) Vccレベルにすると、書
き込み時間が長くなり、ワード線WLIがハイ状態中に
書き込みができなくなる可能性があるためである。Next, the operation during writing will be explained with reference to the waveform diagram in FIG. Word line pulse generation circuit E1 is selected by external address signal Ax in FIG. here,
The word line pulse generation circuit E1 is controlled according to the activation signal φ (high level, level) generated via the control circuit CON by input signals (low level) from seven external terminals as shown in FIG. Vo on WLI. Generates a pulse for a certain amount of time at the level. Here, the level of the pulse generated on the word line WLI is set to (1/2) VCC.
The reason why this is not done is because if the level of the pulse generated on the word line WLI is set to the (1/2) Vcc level, the write time will become longer and there is a possibility that it will not be possible to write while the word line WLI is in the high state. be.
今、第1図のワード線WLIが選択されて、ワード線W
LIにVCCレベルの一定時間のパルスが発生されてい
て、ディジット線DO・Doが選択されていて、ワード
線WLIとディジット線り。Now, the word line WLI in FIG. 1 is selected, and the word line WLI in FIG.
A constant time pulse of VCC level is generated on LI, digit line DO/Do is selected, and word line WLI and digit line are connected.
・T丁の交差する所にあるメモリセルMC11に書き込
みを行なう場合を考える。ここで、メモリセルMCII
に書き込みを行なうなめに選択されているディジット線
Do −Do上には、書き込み回路DIBからのデータ
が現われている。このディジット線DO・Y丁上に現わ
れたデータは、メモリセルMCIIに書き込まれると同
時に、データラッチ回路C1にもデータがラッチされる
。つまり、書き込み回路DIR1及びデータラッチ回路
C1により、メモリセルMCIIにデータが高速に書き
込まれる。- Consider the case where writing is performed to the memory cell MC11 located at the intersection of the T-trees. Here, memory cell MCII
Data from the write circuit DIB appears on the digit lines Do to Do which are selected in order of writing. The data appearing on the digit lines DO and Y is written into the memory cell MCII, and at the same time, the data is also latched into the data latch circuit C1. That is, data is written into the memory cell MCII at high speed by the write circuit DIR1 and the data latch circuit C1.
ところで書き込み時には、ワード線WLIにVCCレベ
ルの一定時間のパルスが発生されるので、実際に書き込
みを行なわれないメモリセルMCI2のデータが破壊さ
れる恐れがある。そこで、ワード線WLIが、■ccレ
ベルに上がるまでの途中、つまり(1/ 2 ) Vc
cレベルでメモリセルMC12のデータを、データラッ
チ回路C2でラッチしワード線WLIがハイ状態でいる
間、データラッチ回路C2からメモリセルMC12へ随
時ラッチされたデータを書き込むことで、ワード線WL
IにVCCレベルのパルスが発生しても、メモリセルM
C12のデータを破壊しないですませることができる。By the way, at the time of writing, since a pulse of VCC level for a certain period of time is generated on the word line WLI, there is a possibility that the data in the memory cell MCI2 to which writing is not actually performed may be destroyed. Therefore, the word line WLI rises to the ■cc level, that is, (1/2) Vc
The data in the memory cell MC12 is latched at the data latch circuit C2 at the c level, and while the word line WLI is in the high state, the latched data is written from the data latch circuit C2 to the memory cell MC12 at any time.
Even if a VCC level pulse occurs on I, memory cell M
It is possible to avoid destroying the C12 data.
以上説明した様に本発明は、メモリセルのトランスファ
ゲート用MO3FETのゲート幅とメモリセルの駆動用
MO3FETのゲート幅との比を従来より小さくするこ
とにより、メモリセルの面積を小さくすることができた
ので、LSIメモリのチップ面積の大部分を占めるメモ
リセルアレイの面積を従来の1/2〜1/3にでき、L
SIメモリのチップ面積を20〜30%小さくすること
ができるという効果がある。As explained above, the present invention can reduce the area of the memory cell by making the ratio of the gate width of the MO3FET for the transfer gate of the memory cell and the gate width of the MO3FET for driving the memory cell smaller than before. As a result, the area of the memory cell array, which occupies most of the chip area of LSI memory, can be reduced to 1/2 to 1/3 of the conventional area, resulting in LSI
This has the effect that the chip area of the SI memory can be reduced by 20 to 30%.
第1図は本発明のスタティック型RAMによる半導体記
憶装置の一実施例の構成を示すブロック図、第2図は第
1図に示す本発明の一実施例の動作タイミングを示す図
表、第3図は従来の技術によるスタティック型RAMに
よる半導体記憶装置の一例の構成図である。
CON・・・コントロール回路、El・E2・・・ワー
ド線パルス発生回路、C1・C2・・・データラッチ回
路、X−ADB・・・Xアドレスバッファ、Y−ADB
・・・Yアドレスバッファ、X−DCR・・・Xアドレ
スデコーダ、Y−DCR・・・Yアドレスデコーダ、M
C11〜14・・・メモリセル、DIB・・・書き込み
回路、DOB・・・読み出し回路。FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of an embodiment of a semiconductor memory device using a static RAM of the present invention, FIG. 2 is a diagram showing the operation timing of the embodiment of the present invention shown in FIG. 1, and FIG. 1 is a configuration diagram of an example of a semiconductor memory device using a static RAM according to the prior art. CON...Control circuit, El/E2...Word line pulse generation circuit, C1/C2...Data latch circuit, X-ADB...X address buffer, Y-ADB
...Y address buffer, X-DCR...X address decoder, Y-DCR...Y address decoder, M
C11-14...Memory cell, DIB...Write circuit, DOB...Read circuit.
Claims (1)
ロール回路と、前記活性化信号によって制御され読み出
し時と書き込み時で異なったレベルを出力するワード線
パルス発生回路と、ディジット線ごとに接続されたデー
タラッチ回路とを具備することを特徴とする半導体記憶
装置。A semiconductor memory device includes a control circuit that generates an activation signal, a word line pulse generation circuit that is controlled by the activation signal and outputs different levels during reading and writing, and a data latch connected to each digit line. A semiconductor memory device comprising a circuit.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62092208A JPS63255896A (en) | 1987-04-14 | 1987-04-14 | Semiconductor memory device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62092208A JPS63255896A (en) | 1987-04-14 | 1987-04-14 | Semiconductor memory device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63255896A true JPS63255896A (en) | 1988-10-24 |
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ID=14048027
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62092208A Pending JPS63255896A (en) | 1987-04-14 | 1987-04-14 | Semiconductor memory device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63255896A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04170793A (en) * | 1990-11-02 | 1992-06-18 | Nec Corp | Integrated circuit containing memory |
JP2009277341A (en) * | 2008-05-14 | 2009-11-26 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co Ltd | Write assist circuit for improving write margin of sram cell |
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1987
- 1987-04-14 JP JP62092208A patent/JPS63255896A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH04170793A (en) * | 1990-11-02 | 1992-06-18 | Nec Corp | Integrated circuit containing memory |
JP2009277341A (en) * | 2008-05-14 | 2009-11-26 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co Ltd | Write assist circuit for improving write margin of sram cell |
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