JPS63255220A - 歯科用ウイルス感染防止剤 - Google Patents
歯科用ウイルス感染防止剤Info
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- JPS63255220A JPS63255220A JP9036387A JP9036387A JPS63255220A JP S63255220 A JPS63255220 A JP S63255220A JP 9036387 A JP9036387 A JP 9036387A JP 9036387 A JP9036387 A JP 9036387A JP S63255220 A JPS63255220 A JP S63255220A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は歯科用ウィルス感染防止剤、詳しくは歯科での
診療・治療の際のウィルス感染を防止・予防するために
用いられる薬剤（以下、感染防止剤と略記）に関するも
のである。
診療・治療の際のウィルス感染を防止・予防するために
用いられる薬剤（以下、感染防止剤と略記）に関するも
のである。
［従来の技術］
従来、歯科診療では、ウィルスに対する感染防止は、は
とんど取上げられでいなかった。
とんど取上げられでいなかった。
［発明が解決しようとする問題点］
最近、ウィルス疾患の有効な治療法の見出されていない
エイズウィルスやヘルペスウィルスの保有者の増加から
、ウィルスの感染を防止する方法の確立が要望されてい
る。歯科治療では、口腔内粘膜の損傷の機会が多く、治
療器具を介して他人との接触があり、ウィルス感染の虞
れがあり、かかるウィルス感染の防止が必要とされてい
る。
エイズウィルスやヘルペスウィルスの保有者の増加から
、ウィルスの感染を防止する方法の確立が要望されてい
る。歯科治療では、口腔内粘膜の損傷の機会が多く、治
療器具を介して他人との接触があり、ウィルス感染の虞
れがあり、かかるウィルス感染の防止が必要とされてい
る。
［問題点を解決するための手段］
本発明者らは、このような歯科治療におけるウィルス感
染の防止につき検討を重ねた結果、特定の界面活性剤が
感染防止に有効であることを見出し、本発明に到達した
。
染の防止につき検討を重ねた結果、特定の界面活性剤が
感染防止に有効であることを見出し、本発明に到達した
。
すなわち、本発明は、一般式（１）で示される第４級窒
素原子含有界面活性剤からなる歯科用ウィルス感染防止
剤である。
素原子含有界面活性剤からなる歯科用ウィルス感染防止
剤である。
（式中、Ｒ１は炭素数８〜２２のアルキル基を有する有
機基：Ｒ２はアルキル基、アルキル置換されていてもよ
いアラルキル基、アシルアミノアルキル基、アシロキシ
アルキル基、アルコキシアルキル基、アルキルポリオキ
シアルキレン基、またはアルキルアリルポリオキシアル
キレン基：Ｒ３゜Ｒ４は同一でも異なっていてもよい炭
素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜４のヒドロキシア
ルキル基または炭素数７〜１４のアラルキル基：Ｘはア
ニオン性対イオンを表す。） −Ｒ１には、アルキル基、アシルアミノアルキル基（ア
ルキルアミドアルキル基）、アシロキシアルキル基およ
びアルコキシアルキル基が含まれ、式Ｒ−またはＲ−Ｚ
−Ａ−で示される基（式中Ｒは炭素数８〜２０のアルキ
ル基、Ｚは一〇〇ＮＨ−。
機基：Ｒ２はアルキル基、アルキル置換されていてもよ
いアラルキル基、アシルアミノアルキル基、アシロキシ
アルキル基、アルコキシアルキル基、アルキルポリオキ
シアルキレン基、またはアルキルアリルポリオキシアル
キレン基：Ｒ３゜Ｒ４は同一でも異なっていてもよい炭
素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜４のヒドロキシア
ルキル基または炭素数７〜１４のアラルキル基：Ｘはア
ニオン性対イオンを表す。） −Ｒ１には、アルキル基、アシルアミノアルキル基（ア
ルキルアミドアルキル基）、アシロキシアルキル基およ
びアルコキシアルキル基が含まれ、式Ｒ−またはＲ−Ｚ
−Ａ−で示される基（式中Ｒは炭素数８〜２０のアルキ
ル基、Ｚは一〇〇ＮＨ−。
−ＣＯＯ−または−〇−：Ａは炭素数１〜４のアルキレ
ン基を示す。）が挙げられる。
ン基を示す。）が挙げられる。
上記各式中のＲとしては、炭素数８〜２０の、飽和また
は不飽和の、直鎖または側鎖を有する。アルキル基（脂
肪族炭化水素基）、たとえばオクチル、デシル、ドデシ
ル、トリデシル、テトラデシル、オクタデシル、エイコ
シル、オレイル基：Ａとしてはエチレン、プロピレン、
ブチレン基が挙げられる。 Ｒ−Ｚ−Ａ−で示される
基としては、アルキルアミドアルキル基たとえばステア
ラミドエチル基（Ｃ１７Ｈ３５ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２−
）、ステアラミドプロピル基（Ｃ１７Ｈ３５ＣＯＮＨＣ
Ｈ２ＣＨ２ＣＨ２−） ニアシロキシアルキル基たとえ
ばステアロイロキシメチル基：アルコキシアルキル基た
とえばステアリロキシメチル基が挙げられる。
は不飽和の、直鎖または側鎖を有する。アルキル基（脂
肪族炭化水素基）、たとえばオクチル、デシル、ドデシ
ル、トリデシル、テトラデシル、オクタデシル、エイコ
シル、オレイル基：Ａとしてはエチレン、プロピレン、
ブチレン基が挙げられる。 Ｒ−Ｚ−Ａ−で示される
基としては、アルキルアミドアルキル基たとえばステア
ラミドエチル基（Ｃ１７Ｈ３５ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２−
）、ステアラミドプロピル基（Ｃ１７Ｈ３５ＣＯＮＨＣ
Ｈ２ＣＨ２ＣＨ２−） ニアシロキシアルキル基たとえ
ばステアロイロキシメチル基：アルコキシアルキル基た
とえばステアリロキシメチル基が挙げられる。
Ｒ２のアルキル基としては、上記（Ｒ＞のようなアルキ
ル基、および炭素数１〜９の、飽和または不飽和の、直
鎖または側鎖を有する。アルキル基たとえばメチル、エ
チル、ｎ−およびｉ−プロピル。
ル基、および炭素数１〜９の、飽和または不飽和の、直
鎖または側鎖を有する。アルキル基たとえばメチル、エ
チル、ｎ−およびｉ−プロピル。
ブチル、ヘキシル、オクチル、２−エチルヘキシル。
ノニル、プロペニル、ブテニル基：アルキル置換されて
いてもよいアラルキルでいてもよいアラルキル基として
は、ベンジル基、および上記のようなアルキル基で置換
されたベンジル基ニアシルアミノアルキル、アシロキシ
アルキル、アルコキシアルキル基としては、前述のよう
なＲ−Ｚ−Ａ−で示される基、およびＲが上述の炭素数
１−９のアルキル基で置き換わったもの；アルキルポリ
オキシアルキル基、アルキルアリルポリオキシアルキル
基としては、それぞれ式Ｒｓ （ＡＯ）ｎ−およびＲ
ｓ −Ａｒ−（ＡＯ＞ｎ−で示される基〔式中Ｒ５はア
ルキル基、 Ａｒは芳香環（ベンゼン環等）。
いてもよいアラルキルでいてもよいアラルキル基として
は、ベンジル基、および上記のようなアルキル基で置換
されたベンジル基ニアシルアミノアルキル、アシロキシ
アルキル、アルコキシアルキル基としては、前述のよう
なＲ−Ｚ−Ａ−で示される基、およびＲが上述の炭素数
１−９のアルキル基で置き換わったもの；アルキルポリ
オキシアルキル基、アルキルアリルポリオキシアルキル
基としては、それぞれ式Ｒｓ （ＡＯ）ｎ−およびＲ
ｓ −Ａｒ−（ＡＯ＞ｎ−で示される基〔式中Ｒ５はア
ルキル基、 Ａｒは芳香環（ベンゼン環等）。
Ａは炭素数１〜４のアルキレン基、ｎは１以上の整数（
１，２，３，・・・・・・）を示す。〕が挙げられる。
１，２，３，・・・・・・）を示す。〕が挙げられる。
Ｒ３，Ｒ４の炭素数１〜４のアルキル基、炭素数、７〜
１４のアラルキル基としては、前掲のもの；ヒドロキシ
アルキル基としては、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプ
ロピル、ヒドロキシブチル基が挙げられる。
１４のアラルキル基としては、前掲のもの；ヒドロキシ
アルキル基としては、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプ
ロピル、ヒドロキシブチル基が挙げられる。
アニオン性対イオンＸとしては、ハロゲンイオン（Ｃ１
ｅ、Ｂｒｅ、■ｅナト）、ヒドロキシルイオン、アルキ
ルサルフェートイオン（ＣＨ３０３０３Ｃ’ 。
ｅ、Ｂｒｅ、■ｅナト）、ヒドロキシルイオン、アルキ
ルサルフェートイオン（ＣＨ３０３０３Ｃ’ 。
Ｃ２Ｈｓ ０３０３ ｅ） 、 硫１ｍ−（オン（Ｈ３
Ｏ４ｅ。
Ｏ４ｅ。
Ｈ３Ｏ３ｅ）、 硝酸イオン（ＮＯ３ｅ） 、 ＣＨ３
ＣＯＯｅ。
ＣＯＯｅ。
ＣＨ３Ｃｅ Ｈ４３０３ｅ、 ＣＨ３３０３ｅ、 Ｈ
ｚ ＰＯａｅ。
ｚ ＰＯａｅ。
ＨＣＯＯＣ’等が挙げられる。 などがあげられる。Ｘ
のうちで好ましいものは、ハロゲンイオンとくにＣ１Ｏ
である。
のうちで好ましいものは、ハロゲンイオンとくにＣ１Ｏ
である。
一般式（１）で示される界面活性剤のうち、好ましいも
のとしては、下記のものがある。
のとしては、下記のものがある。
（１）モノ高級アルキル４級アンモニウム塩：〔式中、
Ｒは炭素数１０〜２０（好ましくは１０〜１６）のアル
キル基：Ｒ＋ 、 Ｒ＋＋は同一または箕なっていても
よい炭素数１〜３のアルキルおよび／または炭素数２〜
３のヒドロキシアルキル基（好ましくはメチル基） 、
Ｒ１１＋は炭素数１〜３のアルキル。
Ｒは炭素数１０〜２０（好ましくは１０〜１６）のアル
キル基：Ｒ＋ 、 Ｒ＋＋は同一または箕なっていても
よい炭素数１〜３のアルキルおよび／または炭素数２〜
３のヒドロキシアルキル基（好ましくはメチル基） 、
Ｒ１１＋は炭素数１〜３のアルキル。
炭素数２〜３のヒドロキシアルキルまたはベンジル基（
好ましくはメチル、ベンジル基）を示す。〕（１１）ジ
高級アルキル４級アンモニウム塩：（式中、Ｒは炭素数
１０〜２０（好ましくは１０〜１６）のアルキル基ＳＲ
’、Ｒ”は同一または異なっていてもよい炭素数１〜３
のアルキルおよび／または炭素数２〜３のヒドロキシア
ルキル基（好ましくはメチル基）を示す。〕 本発明の感染防止剤は、一般に、上述のような４級アン
モニウム含有界面活性剤を適当な溶液、たとえば水溶液
、親水性有機溶剤（エタノール。
好ましくはメチル、ベンジル基）を示す。〕（１１）ジ
高級アルキル４級アンモニウム塩：（式中、Ｒは炭素数
１０〜２０（好ましくは１０〜１６）のアルキル基ＳＲ
’、Ｒ”は同一または異なっていてもよい炭素数１〜３
のアルキルおよび／または炭素数２〜３のヒドロキシア
ルキル基（好ましくはメチル基）を示す。〕 本発明の感染防止剤は、一般に、上述のような４級アン
モニウム含有界面活性剤を適当な溶液、たとえば水溶液
、親水性有機溶剤（エタノール。
グリコール、グリセリン、ポリエチレングリコールなと
）溶液または水と親水性有機溶剤との混合溶液、好まし
くは水性溶液の形にして、使用される。また、ポリエチ
レングリコール／水混合物でペースト状（軟青）にして
使用することもできる、溶液またはペースト中の上記界
面活性剤の濃度（固形分当り）は、通常ｏ、 ｏｏｏｉ
〜０．１重量％。
）溶液または水と親水性有機溶剤との混合溶液、好まし
くは水性溶液の形にして、使用される。また、ポリエチ
レングリコール／水混合物でペースト状（軟青）にして
使用することもできる、溶液またはペースト中の上記界
面活性剤の濃度（固形分当り）は、通常ｏ、 ｏｏｏｉ
〜０．１重量％。
好ましくは０．００１〜０．０１重量％である。溶液の
ｐＨは、用いる界面活性剤の種類により異なるが、一般
に４〜９好ましくは６〜８とくに好ましくは中性（７近
辺）である。
ｐＨは、用いる界面活性剤の種類により異なるが、一般
に４〜９好ましくは６〜８とくに好ましくは中性（７近
辺）である。
本発明の感染防止剤には、上記界面活性剤に加えて、必
要に応じて、種々の添加剤を加えて、その製品形態等を
改善することができる。例えば、非イオン界面活性剤（
ポリオキシエチレン系非イオン界面活性剤、アルキロー
ルアミド系非イオン界面活性剤など）を加えて洗浄性、
起泡性等を強化することができ、また味覚付与剤（甘味
料、酸味料など）、香料や着色剤（染料、顔料）を加え
て感染防止剤の存在の確認１口腔内への適用性改善（不
快感解消）等に役立てたりすることができる。
要に応じて、種々の添加剤を加えて、その製品形態等を
改善することができる。例えば、非イオン界面活性剤（
ポリオキシエチレン系非イオン界面活性剤、アルキロー
ルアミド系非イオン界面活性剤など）を加えて洗浄性、
起泡性等を強化することができ、また味覚付与剤（甘味
料、酸味料など）、香料や着色剤（染料、顔料）を加え
て感染防止剤の存在の確認１口腔内への適用性改善（不
快感解消）等に役立てたりすることができる。
本発明の感染防止剤は歯科診療処置に際して使用される
が、その使用方法としては、歯科診療処置を行う部位に
感染防止剤を適用して治療処置を行う方法、治療処置を
行う前に予め歯科治療器具や手を感染防止剤（溶液）に
浸漬しておいて処置を行う方法、治療処置俊に処置部位
に感染防止剤（ペースト等）を適用する方法、およびこ
れらを組合せた方法をとることができる。感染防止剤の
適用方法としては浸漬、塗布、噴霧などが挙げられる。
が、その使用方法としては、歯科診療処置を行う部位に
感染防止剤を適用して治療処置を行う方法、治療処置を
行う前に予め歯科治療器具や手を感染防止剤（溶液）に
浸漬しておいて処置を行う方法、治療処置俊に処置部位
に感染防止剤（ペースト等）を適用する方法、およびこ
れらを組合せた方法をとることができる。感染防止剤の
適用方法としては浸漬、塗布、噴霧などが挙げられる。
感染防止剤の接触時間は長い方が完全な効果が期待でき
るが、稀薄な溶液（たとえば０．０００１〜０、００１
重量％濃度）で長時間（たとえば１昼夜〜１週間程度）
接触させてもよく（長時間浸漬できる物の場合）、比較
的高い濃度（たとえば０．００２〜Ｏ，ＯＳ重量％）で
短時間（たとえば１０秒〜１０分間）させてもよい（長
時間接触できない場合）。
るが、稀薄な溶液（たとえば０．０００１〜０、００１
重量％濃度）で長時間（たとえば１昼夜〜１週間程度）
接触させてもよく（長時間浸漬できる物の場合）、比較
的高い濃度（たとえば０．００２〜Ｏ，ＯＳ重量％）で
短時間（たとえば１０秒〜１０分間）させてもよい（長
時間接触できない場合）。
また、感染防止剤の効果は比較的高い温度はど増強され
る。例えば治療部位に接触させる場合、体温ないし４５
℃程度に加温することにより、より短時間で感染が防止
できる。より高温のかけられる゛器具では、高温はど短
時間（または低濃度）で感染防止が可能である。
る。例えば治療部位に接触させる場合、体温ないし４５
℃程度に加温することにより、より短時間で感染が防止
できる。より高温のかけられる゛器具では、高温はど短
時間（または低濃度）で感染防止が可能である。
［実施例］
以下、実施例により本発明をざらに説明するが。
本発明はこれに限定されるものではない。
実施例で使用した界面活性剤は表１の通りである。
表１
Ｎα 一般式（１）中の記号
ＲＩ Ｒ２Ｒ３Ｒ４Ｘｅ
Ｉ 丁Ｄ Ｈｅ Ｍ
ｅ Ｂｚ Ｃ１ｅＩ［Ｄ
Ｄ Ｍｅ Ｈｅ Ｃｌｅｍ ＨＤ
Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ Ｃ１ｅ［注］
ＴＯ：ステアリル； ）ｌｅ ：メチル； Ｂｚ ：ベ
ンジル：Ｄ二デシルル ：ＨＤ：ヘキサデシル実施例１ 界面活性剤工の０．００１及び０．００２重母％水溶液
からなる本発明の感染防止剤に印象用トレイを１０分間
浸漬しておき、これお歯科治療に用いたのち、このトレ
イの表面を３ｍｌのＰＢＳで洗浄した。
ｅ Ｂｚ Ｃ１ｅＩ［Ｄ
Ｄ Ｍｅ Ｈｅ Ｃｌｅｍ ＨＤ
Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ Ｃ１ｅ［注］
ＴＯ：ステアリル； ）ｌｅ ：メチル； Ｂｚ ：ベ
ンジル：Ｄ二デシルル ：ＨＤ：ヘキサデシル実施例１ 界面活性剤工の０．００１及び０．００２重母％水溶液
からなる本発明の感染防止剤に印象用トレイを１０分間
浸漬しておき、これお歯科治療に用いたのち、このトレ
イの表面を３ｍｌのＰＢＳで洗浄した。
この洗浄液について、下記■、■の方法により、ウィル
ス感染防止効果を試験した。その結果を表２に示す。
ス感染防止効果を試験した。その結果を表２に示す。
■フヱルλに対工盃四里（１）
上記の液から一般に公知の方法（参考文献；：国立予防
衛生研究所学友会ｔｌＡ［ウィルス実験学Ｊ 、Ｊｏｕ
ｒｎａｌ ｏｆ Ｉｍｍｕｎｏｌｏｇｙ １０４，２８
９（１９７０） ）でウィルス含有分画を分離し、検体
とした。ウィルスの定量も公知の方法に準じておこなっ
た（参考文献二同 上）。即ち、１−１ｅ Ｉ ａ細胞
を用い、直径３ｃｍのプラスチックシャレに単層培養し
た後、ＰＢＳ緩衝液で３回洗浄した。
衛生研究所学友会ｔｌＡ［ウィルス実験学Ｊ 、Ｊｏｕ
ｒｎａｌ ｏｆ Ｉｍｍｕｎｏｌｏｇｙ １０４，２８
９（１９７０） ）でウィルス含有分画を分離し、検体
とした。ウィルスの定量も公知の方法に準じておこなっ
た（参考文献二同 上）。即ち、１−１ｅ Ｉ ａ細胞
を用い、直径３ｃｍのプラスチックシャレに単層培養し
た後、ＰＢＳ緩衝液で３回洗浄した。
検体を培地（）ｆＥＮ 、子ウシ血清５％、ＮａＨＣＯ
３０，２％）で段階稀釈したちの各１ｍｌをおのおのの
シャーレ中に入れ、３７℃Ｘ１ｈｒ静置し細胞に吸着さ
せた。次に前記培地に寒天０．８％む前記寒天培地２！
Ｑ１を更に重層し３７℃で１日培養後プラーク数を数え
、これから抑制率（％）を求め、感染防止効果を見た。
３０，２％）で段階稀釈したちの各１ｍｌをおのおのの
シャーレ中に入れ、３７℃Ｘ１ｈｒ静置し細胞に吸着さ
せた。次に前記培地に寒天０．８％む前記寒天培地２！
Ｑ１を更に重層し３７℃で１日培養後プラーク数を数え
、これから抑制率（％）を求め、感染防止効果を見た。
■ウィルスに対する効果（２）
■と同様に検体を別々の細胞を用いて測定する。
ｙｅｒｏ細胞を用い、■と同様単層培養し、続いて洗浄
する。検体を培地（ＨＥＮ 、子ウシ血清３％）で段階
稀釈したちの各１ｍｌをおのおののシャーレ中に入れ、
３７℃Ｘ１．５ｈｒ静置し細胞に吸着させた。次に前記
培地に寒天１．０％を含む寒天培地３ｍｌを重層し、３
７℃で培養、え。５日月、ソセトうヮウッｌ’（１：３
０００遷含む前記寒天培地２＋１１１を更に重層し３７
℃で２日培養後プラーク数を数え、これから抑制率（％
）を求め、感染防止効果を見た。
する。検体を培地（ＨＥＮ 、子ウシ血清３％）で段階
稀釈したちの各１ｍｌをおのおののシャーレ中に入れ、
３７℃Ｘ１．５ｈｒ静置し細胞に吸着させた。次に前記
培地に寒天１．０％を含む寒天培地３ｍｌを重層し、３
７℃で培養、え。５日月、ソセトうヮウッｌ’（１：３
０００遷含む前記寒天培地２＋１１１を更に重層し３７
℃で２日培養後プラーク数を数え、これから抑制率（％
）を求め、感染防止効果を見た。
実施例２
界面活性剤工に代えて界面活性剤■を用いた他は、実施
例１と同様にして、感染防止剤処理を行い、その効果を
試験した。
例１と同様にして、感染防止剤処理を行い、その効果を
試験した。
その結果を表２に示す。
実施例３
界面活性剤工に代えて界面活性剤■を用いた他は、実施
例１と同様にして、感染防止剤処理を行い、その効果を
試験した。
例１と同様にして、感染防止剤処理を行い、その効果を
試験した。
その結果を表２に示す。
表２
［発明の効果］
本発明の４級アンモニウム含有界面活性剤からなる感染
防止剤は、歯科診療・治療において、器具やてと接触せ
しめることにより、ウィルスの活性を低下せしめること
ができ、歯科診療の際に起こり得るウィルス性疾患の感
染を防止することができる。
防止剤は、歯科診療・治療において、器具やてと接触せ
しめることにより、ウィルスの活性を低下せしめること
ができ、歯科診療の際に起こり得るウィルス性疾患の感
染を防止することができる。
エイズウィルス等のような変異性の高いウィルス性疾患
の有効な治療法の未だ見出されていない現状において、
本発明の感染防止剤は歯科診療に適用することにより、
かかる疾患に感染する機会を著しく低減するという効果
を奏する。
の有効な治療法の未だ見出されていない現状において、
本発明の感染防止剤は歯科診療に適用することにより、
かかる疾患に感染する機会を著しく低減するという効果
を奏する。
手続補正書
昭和６２年 ７月１７日
１、事件の表示
昭和６２年特許願第９０３６３号
２、発明の名称
歯科用ウィルス感染防止剤
３、補正をする者
自 発
５、補正により増加する発明の数
６、補正の対象
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、一般式（１）で示される第４級窒素原子含有界面活
性剤からなる歯科用ウィルス感染防止剤。 ▲数式、化学式、表等があります▼（１） （式中、Ｒ＿１は炭素数８〜２２のアルキル基を有する
有機基；Ｒ＿２はアルキル基、アルキル置換されていて
もよいアラルキル基、アシルアミノアルキル基、アシロ
キシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルキルポリ
オキシアルキレン基、またはアルキルアリルポリオキシ
アルキレン基；Ｒ＿３、Ｒ＿４は同一でも異なっていて
もよい炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜４のヒド
ロキシアルキル基または炭素数７〜１４のアラルキル基
；Ｘはアニオン性対イオンを表す。） ２、一般式（１）中、Ｒ＿１が炭素数１０〜１６のアル
キル基；Ｒ＿２、Ｒ＿３が炭素数１〜３のアルキル基；
Ｒ＿４がベンジル基である、特許請求の範囲第１項記載
の感染防止剤。 ３、一般式（１）中、Ｒ＿１、Ｒ＿２が炭素数１０〜１
６のアルキル基；Ｒ＿３、Ｒ＿４が炭素数１〜３のアル
キル基である、特許請求の範囲第１項記載の感染防止剤
。 ４、一般式（１）中、Ｘがハロゲンイオン、ヒドロキシ
ルイオン、アルキルサルフェートイオン、硫酸イオンお
よび硝酸イオンからなる群から選ばれる、特許請求の範
囲第１、２または３項記載の感染防止剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9036387A JPS63255220A (ja) | 1987-04-13 | 1987-04-13 | 歯科用ウイルス感染防止剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9036387A JPS63255220A (ja) | 1987-04-13 | 1987-04-13 | 歯科用ウイルス感染防止剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63255220A true JPS63255220A (ja) | 1988-10-21 |
Family
ID=13996455
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9036387A Pending JPS63255220A (ja) | 1987-04-13 | 1987-04-13 | 歯科用ウイルス感染防止剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63255220A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1054042A1 (en) * | 1999-05-05 | 2000-11-22 | Ciba SC Holding AG | Process for the preparation of pigment compositions |
| JP2004083562A (ja) * | 2002-07-03 | 2004-03-18 | Asahi Denka Kogyo Kk | 抗菌剤 |
| JP2019515873A (ja) * | 2016-02-25 | 2019-06-13 | ノビオ リミテッド | 抗微生物活性基を含むマイクロまたはナノ粒子組成物 |
-
1987
- 1987-04-13 JP JP9036387A patent/JPS63255220A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1054042A1 (en) * | 1999-05-05 | 2000-11-22 | Ciba SC Holding AG | Process for the preparation of pigment compositions |
| JP2000327943A (ja) * | 1999-05-05 | 2000-11-28 | Ciba Specialty Chem Holding Inc | 顔料組成物の製造方法 |
| JP2004083562A (ja) * | 2002-07-03 | 2004-03-18 | Asahi Denka Kogyo Kk | 抗菌剤 |
| JP2019515873A (ja) * | 2016-02-25 | 2019-06-13 | ノビオ リミテッド | 抗微生物活性基を含むマイクロまたはナノ粒子組成物 |
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