JPS63253919A - Optical image converter - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は光画像変換素子、例えば酸化ケイ素ビスマス(
B112S1020.以下rBSOJという。)単結晶
等の有する光導電効果や電気光学効果等の電気光学効果
を利用して、光画像の書き込みや読み出しを行った光画
像変換装置に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Industrial Application Field) The present invention relates to a photoimage conversion element, such as bismuth silicon oxide (
B112S1020. Hereinafter referred to as rBSOJ. ) The present invention relates to an optical image conversion device that writes and reads optical images by utilizing electro-optic effects such as photoconductive effects and electro-optic effects possessed by single crystals.
(従来の技術)
従来よりBSO等の光画像変換素子はインコヒーレント
な光画像をコヒーレントな光画像゛に変換する機能を有
する為、光を利用した2次元画像処理用の素子として種
々研究されている。(Prior Art) Optical image conversion elements such as BSO have traditionally had the function of converting an incoherent optical image into a coherent optical image, and have therefore been studied in various ways as elements for two-dimensional image processing using light. There is.
この他2次元光メモリや2次元ディスプレイとしての応
用も種々研究されている。BSOの中には代表的なもの
としてBSO単結晶の縦方向−次電気光学効果を利用し
たPROM(ポッケルス・リードアウト・オプティカル
・メモリ ) がある。In addition, various applications as two-dimensional optical memory and two-dimensional displays are also being researched. A typical example of BSOs is PROM (Pockels Readout Optical Memory), which utilizes the vertical-order electro-optic effect of a BSO single crystal.
このPROMの基本構造は第4図に示すようにB5O4
1のウェハ両面に絶縁層(パリレン)42を設け、更に
その上に透明電極(酸化インディ’>A)43を設けた
構造となっている。The basic structure of this PROM is B5O4 as shown in Figure 4.
It has a structure in which an insulating layer (parylene) 42 is provided on both surfaces of one wafer, and a transparent electrode (indium oxide>A) 43 is further provided thereon.
まず、書き込み動作は以下のように行なわれる。B50
41の両面に電圧を印加した状態で85041の面上に
2次元画像を結像させるとB5041の光導電性のため
に人力光強度に応じて結晶中にキャリアが生じて、この
キャリアによって結晶画面にかかる電圧が減少する。こ
れにより人力光画像をその強度分布に応じた電圧分布と
して結晶中に記録している。次に読み出しは結晶に印加
されている電圧によって生ずる複屈折性を利用している
。即ちBSOはそのウェハ面に平行で互いに直交する2
つの方向(X方向とX方向)の直線偏光に対して各々屈
折率が異なる。First, a write operation is performed as follows. B50
When a two-dimensional image is formed on the surface of 85041 with voltage applied to both sides of B5041, carriers are generated in the crystal according to the intensity of human light due to the photoconductivity of B5041, and these carriers cause the crystal screen to The voltage applied to is reduced. As a result, the human power light image is recorded in the crystal as a voltage distribution corresponding to the intensity distribution. Readout then takes advantage of the birefringence caused by the voltage applied to the crystal. That is, the BSO is parallel to the wafer surface and perpendicular to each other.
The refractive index is different for linearly polarized light in two directions (X direction and X direction).
従って例えば第5図に示すように偏光板51を介してX
方向とX方向の2等分方向の直線偏光より成る強度Ii
のコヒーレント光をB5O41に入射させる。そうする
とBSOの複屈折性のため結晶両面間の局所的な電圧V
に応じて、入射直線偏光は局所的に楕円偏光となる(ポ
ッケルス効果)。Therefore, for example, as shown in FIG.
Intensity Ii consisting of linearly polarized light in the bisecting directions of the direction and the X direction
The coherent light is made incident on B5O41. Then, due to the birefringence of BSO, the local voltage V between both surfaces of the crystal
Depending on , the incident linearly polarized light locally becomes elliptically polarized (Pockels effect).
そこで出力側に入射偏光方向と直交する検光子52を置
くとB5041面上の電圧分布に応じたコヒーレント光
の強度分布として記録されていた人力光画像を読み出す
ことができる。このときの出力光強度■0゛は
となる。但しVは局所電圧、Vπは半波長電圧である。Therefore, by placing an analyzer 52 perpendicular to the incident polarization direction on the output side, it is possible to read out a human light image recorded as the intensity distribution of coherent light corresponding to the voltage distribution on the B5041 surface. At this time, the output light intensity ■0゛ is as follows. However, V is a local voltage and Vπ is a half-wavelength voltage.
一般に入力画像の書き込み光としてはBSOに対して最
も感度の良い波長440nm近傍の青色光、又、画像の
読み出し光には感度の低い赤色光や赤外光を用いている
。Generally, blue light with a wavelength of around 440 nm, which is most sensitive to BSO, is used as input image writing light, and red light or infrared light, which has low sensitivity, is used as image reading light.
そして記録されている画像の消去は青色光の全面照射に
よって行っている。このようにBSOは光画像変換素子
としては感度、解像力、応答速度等の点で優れているが
、半波長電圧が高い為、(例えば波長633nl11で
3900V、波長830nh+で5600V )使用用
途が甚だしく制限されている。この他BSO素子は光学
油性を有しており、結晶中を通過するにつれて偏光面が
回転する為、実質的な半波長電圧は更に上昇する等の問
題があった。The recorded image is erased by irradiating the entire surface with blue light. As described above, BSO is excellent as an optical image conversion element in terms of sensitivity, resolution, response speed, etc., but its high half-wavelength voltage (for example, 3900 V at wavelength 633nl11, 5600V at wavelength 830nh+) severely limits its usage. has been done. In addition, the BSO element has an optical oil property, and as the light passes through the crystal, the plane of polarization rotates, so there is a problem that the actual half-wave voltage further increases.
(発明が解決しようとする問題点)
本発明は光導電効果、電気光学効果等の性質を有する光
画像変換素子を利用して各種の画像情報の書き込みや読
み出しを行う際の、該光画像変換素子への印加電圧の軽
減化を図フた高解像力の光画像変換装置の提供を目的と
する。(Problems to be Solved by the Invention) The present invention provides optical image conversion when writing and reading various image information using an optical image conversion element having properties such as a photoconductive effect and an electro-optic effect. The object of the present invention is to provide a high-resolution optical image conversion device that reduces the voltage applied to an element.
(問題点を解決するための手段)
光学的作用によって電気的性質が変化する光画像変換素
子を利用して画像の書き込み、及び読み出しを行う光画
像変換装置において、該画像の読み出しの際、読み出し
光を前記光画像変換素子に複数回通過させる反射部材を
設けたことである。(Means for solving the problem) In an optical image conversion device that writes and reads images using an optical image conversion element whose electrical properties change due to optical action, when reading out the image, A reflecting member is provided that allows light to pass through the optical image conversion element multiple times.
(実施例)
第1図は本発明の一実施例の概略図である。図中1は光
導電効果や電気光学効果等の電気光学効果を有する光画
像変換素子で、例えばBSO等である。2,2′は絶縁
膜、3.3′は透明電極である。(Embodiment) FIG. 1 is a schematic diagram of an embodiment of the present invention. In the figure, reference numeral 1 denotes an optical image conversion element having an electro-optic effect such as a photoconductive effect or an electro-optic effect, such as a BSO. 2 and 2' are insulating films, and 3 and 3' are transparent electrodes.
10は反射防止膜で一方の透明電極3′側に設けられて
いる。11は開口部で各画素毎に設けられている。12
は反射部であり、これらは一方の透明電極3側の一部に
各画素毎に設けられている。13aは一定の屈折力の集
光用反射面13を複数個有する凹面基板であり、透明電
極3′側に一体的に又は独立に設けられている。10 is an antireflection film provided on one transparent electrode 3' side. Reference numeral 11 denotes an opening provided for each pixel. 12
is a reflective portion, which is provided for each pixel in a part of one transparent electrode 3 side. 13a is a concave substrate having a plurality of condensing reflecting surfaces 13 having a constant refractive power, which are provided integrally or independently on the transparent electrode 3' side.
又、該集光用反射面13は各画素に対応して設けられて
いる。5は人力画像の書き込み光、6は画像の読み出し
光で、例えば紙面に平行な面内に偏光軸を有する直線偏
光より成っている。14は波長選択フィルターであり書
き込み光5の波長の光を透過し、読み出し光6の波長の
光を反射させる分光特性を有している。15は偏光ビー
ムスプリッタ−116は読み出されたコヒーレントな光
画像である。Further, the light collecting reflective surface 13 is provided corresponding to each pixel. Reference numeral 5 indicates manual image writing light, and reference numeral 6 indicates image reading light, which is composed of, for example, linearly polarized light having a polarization axis in a plane parallel to the plane of the paper. Reference numeral 14 denotes a wavelength selection filter which has a spectral characteristic of transmitting light having the wavelength of the writing light 5 and reflecting light having the wavelength of the reading light 6. 15 is a polarizing beam splitter 116 is a coherent optical image read out.
次に本実施例の基本動作をBSOを例にとり説明する。Next, the basic operation of this embodiment will be explained using BSO as an example.
BSOに該BSOに対する吸収波長域の書き込み光を照
射すると、BSO内にキャリアが励起され、光導電効果
のためにキャリアは予め印加しである電圧により移動し
、結晶と絶縁膜境界にトラップされる。トラップされた
キャリアによる電界は印加電界を打ち消す方向に働き、
照射量に応じた、即ち人力画像強度分布に応じた電圧分
布がBSO単結晶内に形成される。When the BSO is irradiated with writing light in the absorption wavelength range for the BSO, carriers are excited within the BSO, and due to the photoconductive effect, the carriers move due to a pre-applied voltage and are trapped at the boundary between the crystal and the insulating film. . The electric field caused by the trapped carriers acts in the direction of canceling the applied electric field,
A voltage distribution is formed in the BSO single crystal according to the irradiation amount, that is, according to the manual image intensity distribution.
ここで書き込み光が照射される前の状態では印加電圧は
BSO単結晶板面に印加された状態となっている。この
とき印加電圧を半波長電圧に設定しておけばBSOを第
5図に示す配置と同様に2つの光学軸Ox、OyがX方
向とX方向に相当するように配置し、2つの光学軸に対
して45度をなす方向に偏光面を有する読み出し光を入
射させたとするとポッケルス効果(1次電気光学効果)
によりBSOに生じた複屈折により、読み出し光の出射
光は入射光の偏光方向と直交する直線偏光となって射出
する。Here, before the writing light is irradiated, the applied voltage is applied to the BSO single crystal plate surface. At this time, if the applied voltage is set to a half-wavelength voltage, the BSO can be arranged so that the two optical axes Ox and Oy correspond to the X direction and the If readout light with a polarization plane is incident in a direction that is 45 degrees to
Due to the birefringence generated in the BSO, the output light of the readout light becomes linearly polarized light orthogonal to the polarization direction of the incident light.
次に書き込み光が照射された後の状態では印加電圧は入
力画像強度分布に応じて変化し、このときの変化量に対
応した電圧分布に応じて読み出し光の偏光状態は変化を
受ける。Next, in the state after the write light is irradiated, the applied voltage changes according to the input image intensity distribution, and the polarization state of the read light changes according to the voltage distribution corresponding to the amount of change at this time.
例えばある領域に充分に強い光が入射すると、最初の印
加電圧は完全に打ち消され、この領域ではBSO単結晶
には電界が加わらず、BSO単結晶は等方向となり、読
み出し光の偏光状態は入射時と同一の直線偏光状態で射
出する。読み出し光の波長は光導電効果を生じさせない
ようにBSO単結晶に対する透過波長域のものを使用す
る。For example, when sufficiently strong light is incident on a certain region, the initial applied voltage is completely canceled out, no electric field is applied to the BSO single crystal in this region, the BSO single crystal becomes isodirectional, and the polarization state of the readout light changes. The light is emitted in the same linearly polarized state as when the light is emitted. The wavelength of the readout light is within the transmission wavelength range for the BSO single crystal so as not to cause a photoconductive effect.
尚、BSOに対する偏光子及び検光子の偏光軸を互いに
直交させておけば、書き込み光の照射量に応じて読み出
し光の光量が減するネガ型となり、逆に平行させておけ
ばポジ型となる。ネジ型を例にとりBSO単結晶に加わ
りている電圧と2つの光学軸Ox、Oyの位相遅延量Δ
φの関係は波長をλ、BSO単結晶の屈折率をn。、1
次電気光学係数をγ41とすると
Δφ−(2π/λ) n o y 41 (V b −
V c)・・・(2)となる。又位相遅延量Δφと透過
光量■0との関係は■を入射光量強度とすると
70− I−5in2(Δφ/ 2 ) −−
−−−−(3)となる。ここでvbは予めBSO単結晶
に印加されている電圧、Vcはキャリアにより発生した
打ち消し電圧である。If the polarization axes of the polarizer and analyzer for the BSO are set perpendicular to each other, a negative type will be obtained in which the amount of readout light will decrease according to the irradiation amount of the writing light, and on the other hand, if they are made parallel, a positive type will be obtained. . Taking the screw type as an example, the voltage applied to the BSO single crystal and the phase delay amount Δ of the two optical axes Ox and Oy
The relationship between φ is where the wavelength is λ and the refractive index of the BSO single crystal is n. ,1
If the electro-optic coefficient is γ41, then Δφ−(2π/λ) no y 41 (V b −
V c)...(2). Also, the relationship between the phase delay amount Δφ and the amount of transmitted light ■0 is 70-I-5in2 (Δφ/2) -- where ■ is the intensity of the incident light amount.
-----(3). Here, vb is a voltage previously applied to the BSO single crystal, and Vc is a cancellation voltage generated by carriers.
透過光ff1loはΔφ=πのとき最大となり、このと
きの印加電圧は読み出し光の波長に対する半波長電圧V
πである。The transmitted light ff1lo is maximum when Δφ=π, and the applied voltage at this time is the half-wave voltage V with respect to the wavelength of the readout light.
It is π.
1Vb−Vclの最大値はvbであるからIO/Iのダ
イナミック・レンジを大きくとるにはvbをVπに設定
すれば良いことになる。しかしながら本実施例ではvb
を比較的低い値に設定しておき、その代わりに第1図に
示すように読み出し光をBSO内の同一領域で複数回、
通過させることにより、1回通過の位相遅延を加算し、
十分−な半波長位相遅延を得ることを特徴としている。Since the maximum value of 1Vb-Vcl is vb, it is sufficient to set vb to Vπ in order to increase the dynamic range of IO/I. However, in this embodiment, vb
is set to a relatively low value, and instead, the readout light is applied multiple times to the same area in the BSO as shown in Figure 1.
By passing, the phase delay of one pass is added,
It is characterized by obtaining a sufficient half-wavelength phase delay.
特に本実施例では読み出し光をBSO単結晶内を複数回
通過させることにより光学活性を打ち消している。これ
により本実施例におけるBSO単結晶において必要とさ
れる印加電圧は半波長電圧の通過回数分の1としている
。In particular, in this embodiment, the optical activity is canceled by making the readout light pass through the BSO single crystal multiple times. As a result, the applied voltage required for the BSO single crystal in this example is 1/the number of times the half-wave voltage passes.
次に第1図に示す実施例の動作について説明する。第1
図においてはBSO1に透明電極3゜3′を介して印加
電圧が加えられている。書き込み光5は右側方向よりB
SO1に入射し、左側端面の反射部12で反射した後、
入射側より射出する。この間に光はBSO単結晶に吸収
され、キャリアが形成される。読み出し光6は例えば紙
面に平行な偏光面を有しており、左側より偏光ビームス
プリッタ15を介して開口部11よりBSO1を通過し
て集光用反射面として設けた凹面部13に達する。凹面
部13で反射された読み出し光6は再びBSOlを通過
し開口部11以外の左側端面の反射部12で反射し、B
SO1に入射する。Next, the operation of the embodiment shown in FIG. 1 will be explained. 1st
In the figure, an applied voltage is applied to the BSO 1 via the transparent electrode 3°3'. The writing light 5 is B from the right direction.
After entering the SO1 and being reflected by the reflection section 12 on the left end surface,
Ejects from the incident side. During this time, light is absorbed by the BSO single crystal and carriers are formed. The readout light 6 has, for example, a polarization plane parallel to the plane of the paper, passes through the BSO 1 from the aperture 11 via the polarization beam splitter 15 from the left side, and reaches the concave portion 13 provided as a condensing reflective surface. The readout light 6 reflected by the concave portion 13 passes through the BSOl again and is reflected by the reflecting portion 12 on the left end surface other than the opening 11, and is reflected by the BSOl.
It enters SO1.
このような繰り返しな複数回繰り返す。Repeat this kind of repetition multiple times.
その後、本実施例では同図に示すように読み出し光6が
開口部11の入射位置と同一の、即ち光の往復経路が途
中で戻るような構成を採っている。Thereafter, in this embodiment, as shown in the figure, the readout light 6 is configured to be at the same incident position of the aperture 11, that is, the reciprocating path of the light returns halfway.
この他、例えば第2図に示すように隣接する他の開口部
11aから読み出し光6が出射するように各要素を設定
しても良い。In addition, each element may be set so that the readout light 6 is emitted from another adjacent opening 11a, for example, as shown in FIG. 2.
本実施例では凹面部13の屈折力、及び反射部12の設
定位置を読み出し光の往復回数に応じて決定している。In this embodiment, the refractive power of the concave portion 13 and the set position of the reflecting portion 12 are determined depending on the number of times the readout light goes back and forth.
特に読み出し光6がBSO内で往復し、出射するまでの
間で発散しないように各要素を設定している。開口部1
1又はllaより出射した読み出し光のうち、B50I
によって変調を受けた読み出し光、即ち紙面に垂直な偏
光面を有する光を偏光ビームスプリッタ15で反射し、
コヒーレントな光画像として所定位置に導光している。In particular, each element is set so that the readout light 6 does not diverge while reciprocating within the BSO and before being emitted. Opening 1
Of the readout light emitted from 1 or lla, B50I
The readout light modulated by the polarization beam splitter 15 reflects the readout light, that is, the light having a polarization plane perpendicular to the plane of the paper,
The light is guided to a predetermined position as a coherent optical image.
以上の説明では電気光学結晶としてBSOを使用したが
、本発明ではそれ以外に例えばBi1□Ge O□。(
BGO)、Bj、2Ti 02o、Ba2Na Nb5
0,5(BNN )、Ga As、ZnS、CdS、B
a Ti 03.Li Nb O3,Li Ta 03
等の電気光学結晶も好適である。In the above explanation, BSO was used as the electro-optic crystal, but in the present invention, for example, Bi1□GeO□ is used. (
BGO), Bj, 2Ti 02o, Ba2Na Nb5
0,5(BNN), GaAs, ZnS, CdS, B
a Ti 03. Li Nb O3, Li Ta 03
Electro-optic crystals such as the following are also suitable.
又、凹面部13を有する凹面基板13aは、見掛は上、
2次元的にシリンドリカル・レンズ若しくはハエの目レ
ンズが並んだ形状をしており、レプリカ、コンプレッシ
ョン、インジェクション等のいわゆる成形法、イオン、
プラズマ等を利用したドライ・エツチング法、或は、レ
ジスト等の感光性樹脂を用いたフォトリソ法などを使っ
て得る事ができる。Further, the concave substrate 13a having the concave portion 13 has an upper appearance,
It has a shape in which cylindrical lenses or fly's-eye lenses are lined up two-dimensionally, and it can be used with so-called molding methods such as replica, compression, and injection, ion,
It can be obtained using a dry etching method using plasma or the like, or a photolithography method using a photosensitive resin such as a resist.
上記の凹面基板の代わりに、イオン交換などの手法によ
り、屈折率分布を基板中に形成し、屈折力を得ても良い
。Instead of the above concave substrate, refractive power may be obtained by forming a refractive index distribution in the substrate by a method such as ion exchange.
尚、本実施例おいてBSOl内の読み出し光の通過回数
が少ない場合や開口部が広い場合等、読み出し光の発散
があまり問題とならない場合には凹面部の代わりに単な
る平面部を用いても良い。In addition, in this embodiment, if the number of times the readout light passes through the BSOl is small or the opening is wide, or the divergence of the readout light is not a problem, a simple flat part may be used instead of the concave part. good.
第3図は本発明の光画像変換装置に用いるBSO素子の
他の一実施例の概略図である。同図に示すBSO素子は
次のようにして製造している。FIG. 3 is a schematic diagram of another embodiment of the BSO element used in the optical image conversion device of the present invention. The BSO element shown in the figure is manufactured as follows.
まず透明なガラス基板17にAI膜を2000人の厚さ
に蒸着した後、フォトレジスト(ここではマイクロポジ
ット1350(シプレー製)を使用)を用いて線幅70
μm、ピッチ100μmの格子状A1パターン18を得
た。その上部に絶縁膜としてZr07(酸化ジルコニュ
ーム)19を1000人、さらに、板厚100μmにま
で研磨した(100)面BSO結晶20を透明な接着剤
で密着貼付した。貼付面の反対面に絶縁膜としてZrO
219を2000人、透明電極としてITO(インディ
ラム・ティン・オキサイド)21を1200人成膜した
。First, an AI film is deposited on a transparent glass substrate 17 to a thickness of 2000 mm, and then a line width of 70 mm is coated using photoresist (Microposit 1350 (manufactured by Shipley) is used here).
A grid-like A1 pattern 18 with a pitch of 100 μm and a pitch of 100 μm was obtained. On top of this, 1000 pieces of Zr07 (zirconium oxide) 19 were attached as an insulating film, and a (100)-plane BSO crystal 20 polished to a thickness of 100 μm was adhered with a transparent adhesive. ZrO as an insulating film on the opposite side to the pasting side.
219 was deposited by 2,000 people, and ITO (indylum tin oxide) 21 was deposited by 1,200 people as a transparent electrode.
次いで、その上部よりレプリカ剤を滴下し、マスター基
板を圧着し図のようなシリンダーレンズアレイ状凹面2
2を得た。Next, a replica agent is dripped from above, and the master substrate is pressed to form a cylinder lens array-shaped concave surface 2 as shown in the figure.
I got 2.
以上の膜構成は、B S O(n−1,5) 、 Zr
02(n−2,1、λ/2 )I To (n=1.8
、λ/4)、レプリカ(n=1.5 )となり、B50
−レプリカ間で反射防止効果を有する。レプリカからな
る凹面には、誘電体多層膜によるコールド・フィルター
23が形成され、赤外光は反射するのに対し、可視光は
透過する特性を持つ。The above film structure is BSO(n-1,5), Zr
02(n-2,1,λ/2)I To (n=1.8
, λ/4), replica (n=1.5), and B50
- Has an anti-reflection effect between replicas. A cold filter 23 made of a dielectric multilayer film is formed on the concave surface of the replica, and has the characteristic of reflecting infrared light but transmitting visible light.
以上の構成の素子の外部には凹面22と反対側に偏光ビ
ーム・スプリッタが素子面と450の角度で配置されて
いる。On the outside of the device having the above configuration, a polarizing beam splitter is arranged on the side opposite to the concave surface 22 at an angle of 450 with respect to the device surface.
次に第3図に示すBSO素子を第1図に示す位置に配置
したときの動作を説明する、280vの静電界を、A1
電極−ITO電極間に印加しておく。書き込み光として
第1図に示すような人力画像を青色光で照明しBSO面
に結像する。書き込み光に照射された部分は電界により
変化を来している。読み出し光は波長8300人の半導
体レーザーを使用し、偏光ビーム・スプリッタを通過後
、紙面に平行な偏光方向をもって素子に入射する。入射
光は素子内で約10回往復し、開口部より出射する。こ
の時、書き込み光の強度に応じて、紙面と垂直方向の偏
光成分が増加し、その成分のみ偏光ビーム・スプリッタ
で反射される。Next, to explain the operation when the BSO element shown in FIG. 3 is placed in the position shown in FIG.
A voltage is applied between the electrode and the ITO electrode. A manual image as shown in FIG. 1 is illuminated with blue light as a writing light and imaged on the BSO surface. The portion irradiated with the writing light changes due to the electric field. The readout light uses a semiconductor laser with a wavelength of 8300 nm, and after passing through a polarizing beam splitter, it enters the element with a polarization direction parallel to the plane of the paper. The incident light reciprocates approximately 10 times within the element and exits from the aperture. At this time, the polarized light component in the direction perpendicular to the paper surface increases depending on the intensity of the writing light, and only that component is reflected by the polarizing beam splitter.
このときの反射光を用いることにより半導体レーザ光に
よるコヒーレント光画像を得ている。By using the reflected light at this time, a coherent optical image by semiconductor laser light is obtained.
この他のBSO素子としての構成は、例えば第3図に示
すガウス基板17にITO膜を1000人の厚さに成膜
し、その上部にフォト・レジストを用いたリフト・オフ
法によりコールド・フィルターを線幅40μm、ピッチ
60μmの格子状に設ける。Another configuration of the BSO element is, for example, by forming an ITO film to a thickness of 1000 nm on a Gaussian substrate 17 shown in FIG. are arranged in a grid pattern with a line width of 40 μm and a pitch of 60 μm.
その他の構成は第3図に示す構成と同様である。この場
合静電界は両ITO電極間に印加される。本実施例では
光画像の解像度が格子状パターンのピッチがより微細で
あるためと、書き込み光がほぼ素子を1回で通過するた
め(第3図の実施例では、AIパターンで反射されるこ
とにより、少なくとも2回通過する)、第3図の実施例
と比較して高くなっている。但し、有効な光量は少なく
なる為、感度は低くなっている。この他目的と応じて種
々の構成を採ることができる。The rest of the configuration is the same as the configuration shown in FIG. In this case an electrostatic field is applied between both ITO electrodes. In this embodiment, the resolution of the optical image is improved because the pitch of the grid pattern is finer, and because the writing light passes through the element almost once (in the embodiment shown in Fig. 3, it is reflected by the AI pattern). (at least two passes) compared to the embodiment of FIG. However, since the effective amount of light is reduced, the sensitivity is low. In addition, various configurations can be adopted depending on the purpose.
(発明の効果)
本発明によればn1述の如く画像の読み出し光を光画像
変換素子中を複数回通過させる構成を採ることにより、
該光画像変換素子への印加電圧の軽減を図った、使用用
途の拡大が可能な光画像変換装置を達成することができ
る。(Effects of the Invention) According to the present invention, by adopting a configuration in which the image readout light passes through the optical image conversion element multiple times as described in n1,
It is possible to achieve an optical image conversion device that can be used in a wide range of applications by reducing the voltage applied to the optical image conversion element.
第1図は本発明の一実施例の概略図、第2図。
第3図は各々本発明の他の一実施例の一部分の概略図、
第4図、第5図は各々従来の光画像変換装置の説明図で
ある。
図中、1,20はB5O12,2′は絶縁板、3.3’
、21は透明電極、5は書き込み光、6は読み出し光、
10は反射防止膜、11.llaは開口部、12は反射
部、13は凹面部、14は波長選択フィルター、15は
偏光ビームスプリッタ−116はコヒーレントな光画像
、17はガラス基板、18はAIパターンである。FIG. 1 is a schematic diagram of an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic diagram of an embodiment of the present invention. FIG. 3 is a schematic diagram of a portion of another embodiment of the present invention;
FIGS. 4 and 5 are explanatory diagrams of conventional optical image conversion devices, respectively. In the figure, 1 and 20 are B5O12, 2' is an insulating plate, and 3.3'
, 21 is a transparent electrode, 5 is a writing light, 6 is a reading light,
10 is an antireflection film; 11. lla is an aperture, 12 is a reflective part, 13 is a concave part, 14 is a wavelength selection filter, 15 is a polarizing beam splitter, 116 is a coherent optical image, 17 is a glass substrate, and 18 is an AI pattern.
Claims (4)
変換素子を利用して画像の書き込み、及び読み出しを行
う光画像変換装置において、該画像の読み出しの際、読
み出し光を前記光画像変換素子に複数回通過させる反射
部材を設けたことを特徴とする光画像変換装置。(1) In an optical image conversion device that writes and reads images using an optical image conversion element whose electrical properties change due to optical action, when reading out the image, readout light is transmitted to the optical image conversion element. An optical image conversion device characterized by comprising a reflecting member that allows the light to pass through the image multiple times.
させる為の開口部が設けられており前記反射部材は、該
開口部より入射し、該光画像変換素子を通過した読み出
し光を再入射させる為に、該光画像変換素子の一部及び
/又は、該光画像変換素子と独立に設けられていること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の光画像変換装
置。(2) A part of the optical image conversion element is provided with an opening for inputting the readout light, and the reflecting member receives the readout light that enters through the opening and passes through the optical image conversion element. 2. The optical image conversion device according to claim 1, wherein the optical image conversion device is provided as a part of the optical image conversion device and/or independently of the optical image conversion device for re-incidence.
とを特徴とする特許請求の範囲第2項記載の光画像変換
装置。(3) The optical image conversion device according to claim 2, wherein the aperture is provided corresponding to each pixel.
に対応して設けられていることを特徴とする特許請求の
範囲第3項記載の光画像変換装置。(4) The optical image conversion device according to claim 3, wherein a part of the reflecting member is a light collecting reflecting surface and is provided corresponding to each pixel.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8848587A JPS63253919A (en) | 1987-04-10 | 1987-04-10 | Optical image converter |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8848587A JPS63253919A (en) | 1987-04-10 | 1987-04-10 | Optical image converter |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63253919A true JPS63253919A (en) | 1988-10-20 |
Family
ID=13944098
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8848587A Pending JPS63253919A (en) | 1987-04-10 | 1987-04-10 | Optical image converter |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63253919A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02267519A (en) * | 1989-04-07 | 1990-11-01 | Victor Co Of Japan Ltd | Method and device for processing image information |
JPH0651302A (en) * | 1992-07-27 | 1994-02-25 | Victor Co Of Japan Ltd | Display device |
-
1987
- 1987-04-10 JP JP8848587A patent/JPS63253919A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02267519A (en) * | 1989-04-07 | 1990-11-01 | Victor Co Of Japan Ltd | Method and device for processing image information |
JPH0651302A (en) * | 1992-07-27 | 1994-02-25 | Victor Co Of Japan Ltd | Display device |
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