JPS63248586A - レ−ザ加工装置 - Google Patents
レ−ザ加工装置Info
- Publication number
- JPS63248586A JPS63248586A JP62081452A JP8145287A JPS63248586A JP S63248586 A JPS63248586 A JP S63248586A JP 62081452 A JP62081452 A JP 62081452A JP 8145287 A JP8145287 A JP 8145287A JP S63248586 A JPS63248586 A JP S63248586A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical fiber
- laser beam
- handpiece
- reflected light
- laser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims abstract description 93
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 23
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 8
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract description 4
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 13
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical compound [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001356 surgical procedure Methods 0.000 description 2
- CMJCEVKJYRZMIA-UHFFFAOYSA-M thallium(i) iodide Chemical compound [Tl]I CMJCEVKJYRZMIA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910017000 As2Se3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 1
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGAPATLGJSQQBU-UHFFFAOYSA-M thallium(i) bromide Chemical compound [Tl]Br PGAPATLGJSQQBU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000005619 thermoelectricity Effects 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Laser Surgery Devices (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、レーザ光線を外部に導(導光路として光ファ
イバを用いた光ファイバケーブルを具備したレーザ加工
装置に関するものである。
イバを用いた光ファイバケーブルを具備したレーザ加工
装置に関するものである。
従来の技術
近年、レーザメスやレーザ加工機において炭酸ガスレー
ザやYAGレーザ等のレーザ光線を光ファイバケーブル
で目的部位まで導き2手術や加工が行なわれている。炭
酸ガスレーザ光線の導光路として、ヨウ化タリウムと臭
化タリウムとのこん混晶物KR8−5が挙げられている
。ところが、KH2−5からなる光ファイバは、ある曲
率以上に曲げると折れたり衝撃により破損したりするの
で、光ファイバをケーブル化する場合2曲率制限機構な
どの破損を防止する為の機構を使用しなければいけない
。ところがこの様な防止機構にもかかわらず光ファイバ
が折損したり部分的な熱集中により溶融した場合には、
高出力のレーザ光線が光ファイバケーブルの外被を貫通
し、患者・術者あるいは使用者に、照射されるという危
険が起こる可能性がある。破損が起こる原因として、光
ファイバ材料内の吸収物質の有無が考えられるが、もっ
と多くの要因として光ファイバケーブルの保管時のケア
レスミスによる衝撃や、過大な力による曲げ等が挙げら
れる。この危険を防ぐ為に、光ファイバケーブルを使用
する前や過大な衝撃を光ファイバケーブルに与えたと思
われる時に予め使用可能か可能でないかのチェックを行
なう必要がある。このチェックの従来例として、光ファ
イバケーブルの出射出力をレーザメス装置のパネル上に
設けたパワーモニタによって測定して光ファイバケーブ
ルの伝送効率を求め、この伝送効率の許容値と比較し、
光ファイバケーブルの使用の可否を決定する方法がある
(特開昭57−107151号公報参照)。
ザやYAGレーザ等のレーザ光線を光ファイバケーブル
で目的部位まで導き2手術や加工が行なわれている。炭
酸ガスレーザ光線の導光路として、ヨウ化タリウムと臭
化タリウムとのこん混晶物KR8−5が挙げられている
。ところが、KH2−5からなる光ファイバは、ある曲
率以上に曲げると折れたり衝撃により破損したりするの
で、光ファイバをケーブル化する場合2曲率制限機構な
どの破損を防止する為の機構を使用しなければいけない
。ところがこの様な防止機構にもかかわらず光ファイバ
が折損したり部分的な熱集中により溶融した場合には、
高出力のレーザ光線が光ファイバケーブルの外被を貫通
し、患者・術者あるいは使用者に、照射されるという危
険が起こる可能性がある。破損が起こる原因として、光
ファイバ材料内の吸収物質の有無が考えられるが、もっ
と多くの要因として光ファイバケーブルの保管時のケア
レスミスによる衝撃や、過大な力による曲げ等が挙げら
れる。この危険を防ぐ為に、光ファイバケーブルを使用
する前や過大な衝撃を光ファイバケーブルに与えたと思
われる時に予め使用可能か可能でないかのチェックを行
なう必要がある。このチェックの従来例として、光ファ
イバケーブルの出射出力をレーザメス装置のパネル上に
設けたパワーモニタによって測定して光ファイバケーブ
ルの伝送効率を求め、この伝送効率の許容値と比較し、
光ファイバケーブルの使用の可否を決定する方法がある
(特開昭57−107151号公報参照)。
発明が解決しようとする問題点
しかしこのように光ファイバケーブルの伝送効率だけを
光ファイバの損傷状態の目安にすることには無理がある
。確かに、光ファイバが完全に折れてしまった場合には
伝送効率は、はとんど0%となりこの方法でも破損は認
識できるのであるが、光ファイバ端面の小さなかけや光
ファイバ側面に生じた傷は、伝送効率の変化は小さく、
伝送効率ではこの劣化はほとんど認識できない。またこ
の様な劣化による光ファイバケーブルの焼損が一番多く
生じると考えられる。
光ファイバの損傷状態の目安にすることには無理がある
。確かに、光ファイバが完全に折れてしまった場合には
伝送効率は、はとんど0%となりこの方法でも破損は認
識できるのであるが、光ファイバ端面の小さなかけや光
ファイバ側面に生じた傷は、伝送効率の変化は小さく、
伝送効率ではこの劣化はほとんど認識できない。またこ
の様な劣化による光ファイバケーブルの焼損が一番多く
生じると考えられる。
また、数十Wを検出するパワーモニタは、多くは時定数
が数秒以上と長く、伝送効率の測定中に焼損してしまう
事がおこる。それに、このパワーモニタは、非常に高価
であり装置のコストアップにもなる。
が数秒以上と長く、伝送効率の測定中に焼損してしまう
事がおこる。それに、このパワーモニタは、非常に高価
であり装置のコストアップにもなる。
問題点を解決する為の手段
上記問題を解決する為の本発明の技術的手段は、ハンド
ピースから出射するレーザ光線を吸収する吸収体と、ハ
ンドピースが収納してあるか否かを検出するハンドピー
ス収納検出手段とからなるハンドピース収納部に、ハン
ドピースを挿入し、光ファイバからの拡い角度の反射光
を受光検知する反射光検出素子の出力から光ファイバ損
傷認識回路によって光ファイバの損傷状態を認識する事
にある。
ピースから出射するレーザ光線を吸収する吸収体と、ハ
ンドピースが収納してあるか否かを検出するハンドピー
ス収納検出手段とからなるハンドピース収納部に、ハン
ドピースを挿入し、光ファイバからの拡い角度の反射光
を受光検知する反射光検出素子の出力から光ファイバ損
傷認識回路によって光ファイバの損傷状態を認識する事
にある。
作用
この技術的手段による作用は次の様になる。すなわち、
ハンドピースをハンドピース収納部に挿入し、外部にレ
ーザ光線を照射する前に、光ファイバからの拡い角度の
反射光を検出する事により、光ファイバに生じている傷
やかけ等の劣化を確実に認識できる。
ハンドピースをハンドピース収納部に挿入し、外部にレ
ーザ光線を照射する前に、光ファイバからの拡い角度の
反射光を検出する事により、光ファイバに生じている傷
やかけ等の劣化を確実に認識できる。
実施例
以下本発明の一実施例を添付図面にもとすいて説明する
。第1図はレーザ加工装置の一例としての炭酸ガスレー
ザメス装置の構成図である。炭酸ガスレーザ発振器lか
ら出射する波長10.6μmの赤外線である炭酸ガスレ
ーザ光線2は、赤外透過材料であるジンクセレンからな
る集光レンズ3によって、同じくジンクセレンからなる
ウィンドウ4を通して、ヨウ化タリウムと臭化タリウム
との混晶材料KR5−5を熱間押し出して製作されたφ
0゜5 m mの径を有する赤外光ファイバ5の入射面
6に集光される。この光ファイバ5の入出射端面にはA
s2Se3/KCI/As2Se3の三層構造の反射防
止膜がほどこされている。光ファイバケーブル7は2図
には示していないが曲率制限機構を有し、光ファイバ5
を収納保護する。光ファイバ5を導光したレーザ光線8
は、光ファイバケーブルの先端のハンドピース9の内部
に備えつけられた出射集光レンズ10によって、集光さ
れる。通常手術の場合、この集光点11で切開や蒸散が
おこなわれる。12は、ハンドピース9を収納するハン
ドピース収納部であり、挿入部にハンドピース9が挿入
されているか否かを検知するLEDとフォトセンサから
なるハンドピース収納検出器13が設けられている。ま
た、レーザ光線8が出射する収納部奥側には、炭酸ガス
レーザ光線8をよく吸収する炭化処理した吸収板14が
設けられ、ハンドピース9から出射するレーザ光線8を
吸収し、ハンドピース収納部12の外に漏らす事はない
。
。第1図はレーザ加工装置の一例としての炭酸ガスレー
ザメス装置の構成図である。炭酸ガスレーザ発振器lか
ら出射する波長10.6μmの赤外線である炭酸ガスレ
ーザ光線2は、赤外透過材料であるジンクセレンからな
る集光レンズ3によって、同じくジンクセレンからなる
ウィンドウ4を通して、ヨウ化タリウムと臭化タリウム
との混晶材料KR5−5を熱間押し出して製作されたφ
0゜5 m mの径を有する赤外光ファイバ5の入射面
6に集光される。この光ファイバ5の入出射端面にはA
s2Se3/KCI/As2Se3の三層構造の反射防
止膜がほどこされている。光ファイバケーブル7は2図
には示していないが曲率制限機構を有し、光ファイバ5
を収納保護する。光ファイバ5を導光したレーザ光線8
は、光ファイバケーブルの先端のハンドピース9の内部
に備えつけられた出射集光レンズ10によって、集光さ
れる。通常手術の場合、この集光点11で切開や蒸散が
おこなわれる。12は、ハンドピース9を収納するハン
ドピース収納部であり、挿入部にハンドピース9が挿入
されているか否かを検知するLEDとフォトセンサから
なるハンドピース収納検出器13が設けられている。ま
た、レーザ光線8が出射する収納部奥側には、炭酸ガス
レーザ光線8をよく吸収する炭化処理した吸収板14が
設けられ、ハンドピース9から出射するレーザ光線8を
吸収し、ハンドピース収納部12の外に漏らす事はない
。
シャッタ15は、レーザ発振器1がら出射するレーザ光
線2を、開閉し、シャッタ駆動回路16により駆動され
る。17は、集光レンズ3により集光され光ファイバ5
に入射する円錐状レーザ光線束18を取り巻く位置に配
置してあり、光ファイバの入射面6から反射してくる拡
い角度の反射光19を受光し、それに応じた電圧出方に
変換する反射光検出素子である。光ファイバ損傷状態認
識回路20は、プリアンプと比較回路がらなり。
線2を、開閉し、シャッタ駆動回路16により駆動され
る。17は、集光レンズ3により集光され光ファイバ5
に入射する円錐状レーザ光線束18を取り巻く位置に配
置してあり、光ファイバの入射面6から反射してくる拡
い角度の反射光19を受光し、それに応じた電圧出方に
変換する反射光検出素子である。光ファイバ損傷状態認
識回路20は、プリアンプと比較回路がらなり。
反射光検出素子17からの電圧出力と、中央制御回路で
あるCPU21から指令される損傷しきい値と比較し、
光ファイバの損傷状態の信号をCPU21に出力する。
あるCPU21から指令される損傷しきい値と比較し、
光ファイバの損傷状態の信号をCPU21に出力する。
また、CPU21は、レーザ発振器1に高電圧を供給す
る高電圧発生回路22のコントロールと、シャッタ駆動
回路16のコントロールと、ハンドピース収納検出器1
3の読み込 みも行なう。
る高電圧発生回路22のコントロールと、シャッタ駆動
回路16のコントロールと、ハンドピース収納検出器1
3の読み込 みも行なう。
第2図は9反射光検出素子17とその反射光の関係を示
した斜視図である。反射光検出素子17は、熱伝導率の
高いボロンナイトライドセラミックからなるドーナツ型
基板23がらなり、この基板の内側は数百ミクロンの薄
い厚みをもつフィン24を形成する。また、この基板の
表面には、ビスマス−アンチモンの熱起電能の高い熱転
対をラビリンス状に蒸着した熱伝錐25が形成されてい
る。
した斜視図である。反射光検出素子17は、熱伝導率の
高いボロンナイトライドセラミックからなるドーナツ型
基板23がらなり、この基板の内側は数百ミクロンの薄
い厚みをもつフィン24を形成する。また、この基板の
表面には、ビスマス−アンチモンの熱起電能の高い熱転
対をラビリンス状に蒸着した熱伝錐25が形成されてい
る。
反射光検出の原理を説明すると、集光レンズ3から光フ
ァイバ入射面6に入射するレーザ光線2は、フィン24
に照射することなく内側を通過する。次に光ファイバ5
からの反射光19は、拡い角度の成分がフィン24に照
たり、そのエネルギに応じた温度勾配を基板23に生じ
2反射光検出素子17は、この温度差を熱伝錐25によ
って電圧に変換する。実際に製作した反射光検出素子1
7の時定数は、熱伝導率の高い基板を使用した事から、
数百mm秒と非常に速かった。また、この実施例として
は、温度差を電圧に変換するのに熱転対を用いたが、S
iCからなるサーミスタを用いても同様の検出素子が出
来る。
ァイバ入射面6に入射するレーザ光線2は、フィン24
に照射することなく内側を通過する。次に光ファイバ5
からの反射光19は、拡い角度の成分がフィン24に照
たり、そのエネルギに応じた温度勾配を基板23に生じ
2反射光検出素子17は、この温度差を熱伝錐25によ
って電圧に変換する。実際に製作した反射光検出素子1
7の時定数は、熱伝導率の高い基板を使用した事から、
数百mm秒と非常に速かった。また、この実施例として
は、温度差を電圧に変換するのに熱転対を用いたが、S
iCからなるサーミスタを用いても同様の検出素子が出
来る。
第3図は、正常な光ファイバと損傷した光ファイバの反
射光の角度分布の実験値を示したものであり、liN軸
は反射光の全角を、縦軸は反射光強度を示す。
射光の角度分布の実験値を示したものであり、liN軸
は反射光の全角を、縦軸は反射光強度を示す。
正常な光ファイバからの反射光(白丸)は、狭い角度分
布をもつ入射面からの反射(a)と、もう少し拡い出射
面からの反射(b)と、散乱等と考えられる角度分布の
少ない反射(C)と三つの成分に分離する事が出来る。
布をもつ入射面からの反射(a)と、もう少し拡い出射
面からの反射(b)と、散乱等と考えられる角度分布の
少ない反射(C)と三つの成分に分離する事が出来る。
これに対して、出射側を折損した光ファイバからの反射
光(黒丸)は、入射面からの反射は同程度であるが、出
射面からの反射(b)はな(なり2代わりに角度分布の
少ない反射(c)が増加する。
光(黒丸)は、入射面からの反射は同程度であるが、出
射面からの反射(b)はな(なり2代わりに角度分布の
少ない反射(c)が増加する。
すなわち、正常と損傷との変化の大きな(c)の成分だ
けを検出する事によって、光ファイバの損傷状態を認識
する事は可能と考えられる。この結果から2反射光検出
素子17は、光ファイバの出射面からの反射(b)の影
響の少ない全角で30度以上の反射光だけを受光するよ
う設計しなければいけない。
けを検出する事によって、光ファイバの損傷状態を認識
する事は可能と考えられる。この結果から2反射光検出
素子17は、光ファイバの出射面からの反射(b)の影
響の少ない全角で30度以上の反射光だけを受光するよ
う設計しなければいけない。
第4図は、光ファイバが正常な状態がら損傷状態に移っ
た時の反射光検出素子の出方(d)と光ファイバの伝送
効率(e)の時間変化を示す。この実験は、5分30秒
後に光ファイバの出射端が焼損した例である。光ファイ
バの伝送効率(e)は、4分30秒ぐらいから少しずつ
減少し始め焼損時には零となっている。
た時の反射光検出素子の出方(d)と光ファイバの伝送
効率(e)の時間変化を示す。この実験は、5分30秒
後に光ファイバの出射端が焼損した例である。光ファイ
バの伝送効率(e)は、4分30秒ぐらいから少しずつ
減少し始め焼損時には零となっている。
これに対して9反射光検出素子の出方(d)は、光ファ
イバの伝送効率(e)の減少が見えない約3分から、立
ち上がり、伝送効率が初期の90%になった時には、初
期の6倍以上の値を示す。この素子の早い立ち上がりは
、光ファイバに一生じた小さな劣化部分からの反射光を
検出できた事によると考えられる。
イバの伝送効率(e)の減少が見えない約3分から、立
ち上がり、伝送効率が初期の90%になった時には、初
期の6倍以上の値を示す。この素子の早い立ち上がりは
、光ファイバに一生じた小さな劣化部分からの反射光を
検出できた事によると考えられる。
この様に、光ファイバの劣化は、伝送効率を計るだけで
は認識が難しく9本発明である反射光検出素子による方
法がこの認識に適していることがわかる。
は認識が難しく9本発明である反射光検出素子による方
法がこの認識に適していることがわかる。
以上の様な構成と特徴を有した本実施例の動作を以下に
説明する。レーザメス装置の電源を投入後、CPU21
は、ハンドピース収納検出器13からのハンドピース収
納信号を待つ。使用者がハンドピースを挿入し、収納が
確認されると、CPU21は、IOW程度の小さな出力
になるよう高電圧発生回路22に指令をおこし、つぎに
、シャッタ15を開けるようにシャッタ駆動回路16に
指令する。出射したレーザ光線2は、光ファイバ5を導
光し、ハンドピース収納部13の奥に設けられた吸収板
14に吸収される。
説明する。レーザメス装置の電源を投入後、CPU21
は、ハンドピース収納検出器13からのハンドピース収
納信号を待つ。使用者がハンドピースを挿入し、収納が
確認されると、CPU21は、IOW程度の小さな出力
になるよう高電圧発生回路22に指令をおこし、つぎに
、シャッタ15を開けるようにシャッタ駆動回路16に
指令する。出射したレーザ光線2は、光ファイバ5を導
光し、ハンドピース収納部13の奥に設けられた吸収板
14に吸収される。
光ファイバ5からの全角で30度以上の拡い角度の反射
光19は1反射光検出素子17に受光され、電圧出力に
変換される。光ファイバ損傷状態認識回路20は、この
電圧出力を増幅し、CPU21から送られてくるレーザ
出力10Wに対応する反射光検出しきい値き比較し、光
ファイバの正常か否かを判定する。CPU21は、光フ
ァイバ損傷状態認識回路20からの光ファイバ正常信号
を受けて、レーザ光線8を外部に照射可能な手術モード
となる。光ファイバ損傷信号を受けた場合には、光ファ
イバケーブル7の不良表示または。
光19は1反射光検出素子17に受光され、電圧出力に
変換される。光ファイバ損傷状態認識回路20は、この
電圧出力を増幅し、CPU21から送られてくるレーザ
出力10Wに対応する反射光検出しきい値き比較し、光
ファイバの正常か否かを判定する。CPU21は、光フ
ァイバ損傷状態認識回路20からの光ファイバ正常信号
を受けて、レーザ光線8を外部に照射可能な手術モード
となる。光ファイバ損傷信号を受けた場合には、光ファ
イバケーブル7の不良表示または。
異常発生音を出力し、光ファイバケーブル7の使用を禁
じる。
じる。
今回の動作では使用開始時で動作説明を行なったが、使
用中の落下等の原因で、光ファイバケーブル7に負担を
かけた場合にも、使用者が、ハンドピース9をハンドピ
ース収納部13に挿入することによって、光ファイバの
正常か否かを認識するルーチンは、もちろん作動する。
用中の落下等の原因で、光ファイバケーブル7に負担を
かけた場合にも、使用者が、ハンドピース9をハンドピ
ース収納部13に挿入することによって、光ファイバの
正常か否かを認識するルーチンは、もちろん作動する。
また、光ファイバに反射防止膜付きのものを用いたが、
膜付きでないものでも、光ファイバ状態の認識は可能で
ある。
膜付きでないものでも、光ファイバ状態の認識は可能で
ある。
発明の詳細
な説明した様に本発明によれば、ハンドピースをハンド
ピース収納部に挿入し、収納を検知した信号によって、
外部にレーザ光線を放出することなく光ファイバにレー
ザ光線を導光し、光ファイバからの拡い角度の反射光を
検出する事により、光ファイバの損傷状態を確実に認識
して光ファイバケーブルの使用の良否を判定する。また
、全角で30度以上の角度の拡い反射光を検知に利用し
ているので、光ファイバに生じているちいさな傷やかけ
等の劣化を確実にまた早期に認識出来る。熱伝導率の高
いセラミック基板を用いた事により、数十Wを検出する
パワーモニタタイプに比べて、迅速に認識できる。また
、高価なパワーモニタを使用していないのでコストダウ
ンが可能である。
ピース収納部に挿入し、収納を検知した信号によって、
外部にレーザ光線を放出することなく光ファイバにレー
ザ光線を導光し、光ファイバからの拡い角度の反射光を
検出する事により、光ファイバの損傷状態を確実に認識
して光ファイバケーブルの使用の良否を判定する。また
、全角で30度以上の角度の拡い反射光を検知に利用し
ているので、光ファイバに生じているちいさな傷やかけ
等の劣化を確実にまた早期に認識出来る。熱伝導率の高
いセラミック基板を用いた事により、数十Wを検出する
パワーモニタタイプに比べて、迅速に認識できる。また
、高価なパワーモニタを使用していないのでコストダウ
ンが可能である。
第1図は本発明の一実施例におけるレーザ加ニー 1
q − 装置の原理図、第2図は同装置の反射光検出素子と反射
光の関係を示した斜視図、第3図は光ファイバからの反
射光の性質を示した特性図、第4図は光ファイバが正常
な状態から損傷状態に変化した時の反射光検出素子の出
力と光ファイバの伝送効率の時間変化を示した特性図で
ある。 2−−レーザ光線、3−一集光しンズ、5−−光ファイ
バ、9−−ハンドピース、12−−ハンドピース収納部
、13−−ハンドピース収納検出器、14−一吸収板、
15−−シャッタ、17一一反射光検出素子、19−−
反射光、20−導光ファイバ損傷状態認識回路、2l−
−CPU代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 ほか1名第
3図 及、−偽書 (良) 第4ff1 時同
q − 装置の原理図、第2図は同装置の反射光検出素子と反射
光の関係を示した斜視図、第3図は光ファイバからの反
射光の性質を示した特性図、第4図は光ファイバが正常
な状態から損傷状態に変化した時の反射光検出素子の出
力と光ファイバの伝送効率の時間変化を示した特性図で
ある。 2−−レーザ光線、3−一集光しンズ、5−−光ファイ
バ、9−−ハンドピース、12−−ハンドピース収納部
、13−−ハンドピース収納検出器、14−一吸収板、
15−−シャッタ、17一一反射光検出素子、19−−
反射光、20−導光ファイバ損傷状態認識回路、2l−
−CPU代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 ほか1名第
3図 及、−偽書 (良) 第4ff1 時同
Claims (3)
- (1)レーザ光線発生手段と、レーザ光線の外部への出
射を制御するシャッタと、レーザ光線を伝送する光ファ
イバと、この光ファイバを収納する光ファイバケーブル
と、この光ファイバケーブルのレーザ光線の出射部であ
るハンドピースを収納し、このハンドピースから出射す
るレーザ光線を吸収する吸収体と、前記ハンドピースが
収納してあるか否かを検出するハンドピース収納検出手
段とからなるハンドピース収納部と3レーザ光線を集光
して前記光ファイバに入射させる集光レンズと、この集
光レンズにより集光される円錐状光束を取り巻く位置に
配置して前記光ファイバからの拡い角度の反射光を受光
検知する反射光検出素子と、この反射光検出素子の出力
から前記光ファイバの損傷状態を認識する光ファイバ損
傷認識回路と、前記レーザ光線発生手段と前記シャッタ
と前記ハンドピース収納検出手段と前記光ファイバ損傷
認識回路の駆動または取り込みの制御を行なう中央制御
回路とからなるレーザ加工装置。 - (2)反射光検出素子の受光する反射光は、全角で30
度以上である特許請求の範囲第1項記載のレーザ加工装
置。 - (3)中央制御回路は、ハンドピースがハンドピース収
納部に収納した事をハンドピース収納検出手段によって
認識した後に、シャッタの開放を行なってレーザ光線を
光ファイバに入射させ、次に前記光ファイバ損傷状態認
識回路の出力から前記光ファイバは正常である時だけ、
レーザ光線の外部照射を可能にする事を特徴とする特許
請求の範囲第2項記載のレーザ加工装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62081452A JPS63248586A (ja) | 1987-04-02 | 1987-04-02 | レ−ザ加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62081452A JPS63248586A (ja) | 1987-04-02 | 1987-04-02 | レ−ザ加工装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63248586A true JPS63248586A (ja) | 1988-10-14 |
Family
ID=13746796
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62081452A Pending JPS63248586A (ja) | 1987-04-02 | 1987-04-02 | レ−ザ加工装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63248586A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11060905B2 (en) | 2016-12-06 | 2021-07-13 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Laser device |
-
1987
- 1987-04-02 JP JP62081452A patent/JPS63248586A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11060905B2 (en) | 2016-12-06 | 2021-07-13 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Laser device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4347688B2 (ja) | 光ファイバー装置 | |
US6347178B1 (en) | Optical fibre apparatus | |
US4423726A (en) | Safety device for laser ray guide | |
US8586893B2 (en) | Rapid detection of imminent failure in optical thermal processing of a substrate | |
US4556875A (en) | Irradiated power monitoring system for optical fiber | |
US4716288A (en) | Security device for detecting defects in transmitting fiber | |
JP2006292424A (ja) | 光ファイバモニタ装置およびレーザ加工システム | |
JP2000221108A (ja) | 光ファイバ健全性検査装置 | |
JPS63248586A (ja) | レ−ザ加工装置 | |
JP4220707B2 (ja) | レーザ加工ヘッド | |
JP3399204B2 (ja) | レーザ発振器の調整装置 | |
JP2732117B2 (ja) | レーザ装置 | |
JPH034918Y2 (ja) | ||
JPS62163947A (ja) | 光フアイバの状態監視装置 | |
JP2001025889A (ja) | レーザ光出射装置 | |
US20040228437A1 (en) | In-situ monitoring system for bonding process and method therefor | |
JP2003124545A (ja) | レーザシステムにおいて熱的に管理されたビームダンプへレーザビームを向ける装置及び方法 | |
JP3291997B2 (ja) | 光加熱用集光装置 | |
JPH0579934B2 (ja) | ||
CN113441834B (zh) | 一种激光加工检测装置 | |
JPH0677862B2 (ja) | レ−ザ加工装置におけるレ−ザ光監視装置 | |
JP2001343558A (ja) | 高エネルギー光伝送装置 | |
JPS60181629A (ja) | 光学フアイバ−損傷検知装置 | |
JPS6066226A (ja) | レ−ザ加工装置のレンズ汚れ検出装置 | |
JPS6110738A (ja) | 光フアイバの状態監視装置 |