JPS63242279A - ハイパ−サ−ミア装置 - Google Patents
ハイパ−サ−ミア装置Info
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- JPS63242279A JPS63242279A JP7902387A JP7902387A JPS63242279A JP S63242279 A JPS63242279 A JP S63242279A JP 7902387 A JP7902387 A JP 7902387A JP 7902387 A JP7902387 A JP 7902387A JP S63242279 A JPS63242279 A JP S63242279A
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- Pending
Links
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Landscapes
- Radiation-Therapy Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
この発明は、癌などの患部を加温して治療するハイパー
サーミア装置に関する。
サーミア装置に関する。
ハイパーサーミア治療では、正常組織の損傷を招かない
よう患部のみを局所的に加温することが重要である。そ
こで、従来より、マイクロ波加温方式のハイパーサーミ
ア装置において、アレイ構造のアプリケータを用いたり
、アプリケータの導波管の先端に波長短縮を行う誘電体
を詰めた金属板レンズを取り付けたりして電磁波を絞る
ことが提案されている（二用佳央他「マイクロ波ハイパ
ーサーミアにおける加温範囲の検討」昭和６１年度電子
通信学会総合全国大会論文集５ＩＯ−５）。
よう患部のみを局所的に加温することが重要である。そ
こで、従来より、マイクロ波加温方式のハイパーサーミ
ア装置において、アレイ構造のアプリケータを用いたり
、アプリケータの導波管の先端に波長短縮を行う誘電体
を詰めた金属板レンズを取り付けたりして電磁波を絞る
ことが提案されている（二用佳央他「マイクロ波ハイパ
ーサーミアにおける加温範囲の検討」昭和６１年度電子
通信学会総合全国大会論文集５ＩＯ−５）。
しかし、従来の電磁波に対してレンズ作用を持たせる構
成は、使用波長に対応して開口を大きくしなければ十分
な効果が得られないという欠点がある。つまり、十分な
効果を望むと、実用上大き過ぎるものとなり、取り扱い
に苦慮することになる。 この発明は、使用波長に依存せずに加温エネルギーの照
射領域を限定でき、局所的な加温を可能にするハイパー
サーミア装置を提供することを目的とする。
成は、使用波長に対応して開口を大きくしなければ十分
な効果が得られないという欠点がある。つまり、十分な
効果を望むと、実用上大き過ぎるものとなり、取り扱い
に苦慮することになる。 この発明は、使用波長に依存せずに加温エネルギーの照
射領域を限定でき、局所的な加温を可能にするハイパー
サーミア装置を提供することを目的とする。
この発明によるハイパーサーミア装置は、被加温体に向
けて加温エネルギーを放射するアプリケータと、該アプ
リケータと被加温体との間に配置された、所定の開口を
有する、加温エネルギー障害物体とを有することを”特
徴とする。
けて加温エネルギーを放射するアプリケータと、該アプ
リケータと被加温体との間に配置された、所定の開口を
有する、加温エネルギー障害物体とを有することを”特
徴とする。
アプリケータと被加温体との間に、超音波や電磁波など
の加温エネルギーを吸収したり、反射したりして加温エ
ネルギーの障害となる物体を配置するとともに、この物
体に所定の開口を設けている。 そこで、その物体の開口においては、アプリケータから
放射された加温エネルギーは何ら阻害されないため、加
温エネルギーの照射領域が限定されることになる。 その結果、使用波長に依存せず、加温領域を限定し、局
所的な加温治療を行うことができる。
の加温エネルギーを吸収したり、反射したりして加温エ
ネルギーの障害となる物体を配置するとともに、この物
体に所定の開口を設けている。 そこで、その物体の開口においては、アプリケータから
放射された加温エネルギーは何ら阻害されないため、加
温エネルギーの照射領域が限定されることになる。 その結果、使用波長に依存せず、加温領域を限定し、局
所的な加温治療を行うことができる。
第１図において、アプリケータ１は電磁波放射用の導波
管型アンテナからなり、給電点１１に同軸ゲーブル１２
を介してたとえば４３０ＭＨｚのマイクロ波電力が供給
される。このアプリケータ１の内部には脱イオン水２が
充填しである。この脱イオン水２はアプリケータ１の大
きさを縮小するだめのものであり、他に純水などの高誘
電体を充填しても良い。このアプリケータ１の開口方向
に電磁波が放射されるので、治療を要する生体７をその
方向におく。 このアプリケータ１と生体７との間に、容器４に入れら
れた塩水５と絞り板６とが配置される。 容器４は生体７との密着性を持たせるためある程度の可
撓性を有する必要がある。この容器４に入れられた塩水
５は、純水等に塩を溶かして人体筋肉相当（０，２％〜
０．３％塩水、４３０ＭＨｚの場合）とした電磁波吸収
体となっている。この塩水５は、生体７の表面を冷却し
て表面の過熱を防止するため、循環させるのが望ましく
、この実施例でも給水口４１から供給され排水口４２よ
り排水されることによって循環させられている。アプリ
ケータ１内の脱イオン水２と混合しないよう隔壁３が設
けられている。 絞り板６は銅板などの電磁波反射材で構成されており、
その中央に所定の大きさの開口が設けである。そのため
、アプリケータ１がら放射された電磁波は絞り板６の開
口以外の部分で反射され、開口を通るもののみが生木に
照射される。この絞り板６での反射波がアプリケータ１
の開口電界分布を乱すので、これを避けるため電磁波吸
収体である塩水５が配置される。アプリケータ１の給電
点１１付近の脱イオン水２は電磁波の吸収の少ない物質
であり、アプリケータ１内での損失を小さくしている。 この絞り板６は、開口の大きさが小さければ小さいほど
絞り効果が大きい。すなわち、アプリケータ１からの放
射軸に平行な断面での電界分布強度を測定してみると、
第２図に示すように、絞り板６がないときが点線８１、
絞り板６の開口の大きさをアプリケータ１の開口の大き
さと同じにしたときが実線８２、絞り板６の開口の大き
さをアプリケータ１の開口の大きさの半分にしたときが
１点鎖線となる。また、放射軸に直角な平面Ｐ−Ｐ面で
の電界強度分布は第３図のようになる。この第３図Ａ、
Ｂ、Ｃは絞り板６からの距離Ｚ＝１．３．５ｃｍのＰ−
２面での電界強度分布をそれぞれ表し、点線、実線、１
点鎖線は上記と同じに開口の大きさに対応するものであ
る。これらから、開口を小さくすると絞り効果が大きく
なるが、それは絞り板６の近傍でのみ言えることであっ
て、遠方ではかえって広がることもあることが分かる。 そこで、絞り板６としては開口の大きさを調整できるよ
うな構造とすることが、実際の加温領域の大きさに対応
でき、実用上望ましい。 第４図は他の実施例を示すものである。この図で示す実
施例では、電磁波吸収体である塩水５はリング型容器９
に満たされ、給水口９１から供給され排水口９２より排
水されることにより循環されている。この場合、リング
型になった塩水５の領域で電磁波が吸収されるが、その
中央の脱イオン水２の領域では電磁波の吸収が小さくな
っている。そのため、このリング型の領域を占める塩水
５自体が、アプリケータ１から生体７に向けて放射され
る電磁波に対して絞り効果を生じることになる。 なお、上記の２つの実施例では加温エネルギーとして電
磁波を照射することとしたか、超音波を照射する場合で
も同様に適用できる。超音波の場合は、吸収体としてた
とえばヒマシ油などを使用する。
管型アンテナからなり、給電点１１に同軸ゲーブル１２
を介してたとえば４３０ＭＨｚのマイクロ波電力が供給
される。このアプリケータ１の内部には脱イオン水２が
充填しである。この脱イオン水２はアプリケータ１の大
きさを縮小するだめのものであり、他に純水などの高誘
電体を充填しても良い。このアプリケータ１の開口方向
に電磁波が放射されるので、治療を要する生体７をその
方向におく。 このアプリケータ１と生体７との間に、容器４に入れら
れた塩水５と絞り板６とが配置される。 容器４は生体７との密着性を持たせるためある程度の可
撓性を有する必要がある。この容器４に入れられた塩水
５は、純水等に塩を溶かして人体筋肉相当（０，２％〜
０．３％塩水、４３０ＭＨｚの場合）とした電磁波吸収
体となっている。この塩水５は、生体７の表面を冷却し
て表面の過熱を防止するため、循環させるのが望ましく
、この実施例でも給水口４１から供給され排水口４２よ
り排水されることによって循環させられている。アプリ
ケータ１内の脱イオン水２と混合しないよう隔壁３が設
けられている。 絞り板６は銅板などの電磁波反射材で構成されており、
その中央に所定の大きさの開口が設けである。そのため
、アプリケータ１がら放射された電磁波は絞り板６の開
口以外の部分で反射され、開口を通るもののみが生木に
照射される。この絞り板６での反射波がアプリケータ１
の開口電界分布を乱すので、これを避けるため電磁波吸
収体である塩水５が配置される。アプリケータ１の給電
点１１付近の脱イオン水２は電磁波の吸収の少ない物質
であり、アプリケータ１内での損失を小さくしている。 この絞り板６は、開口の大きさが小さければ小さいほど
絞り効果が大きい。すなわち、アプリケータ１からの放
射軸に平行な断面での電界分布強度を測定してみると、
第２図に示すように、絞り板６がないときが点線８１、
絞り板６の開口の大きさをアプリケータ１の開口の大き
さと同じにしたときが実線８２、絞り板６の開口の大き
さをアプリケータ１の開口の大きさの半分にしたときが
１点鎖線となる。また、放射軸に直角な平面Ｐ−Ｐ面で
の電界強度分布は第３図のようになる。この第３図Ａ、
Ｂ、Ｃは絞り板６からの距離Ｚ＝１．３．５ｃｍのＰ−
２面での電界強度分布をそれぞれ表し、点線、実線、１
点鎖線は上記と同じに開口の大きさに対応するものであ
る。これらから、開口を小さくすると絞り効果が大きく
なるが、それは絞り板６の近傍でのみ言えることであっ
て、遠方ではかえって広がることもあることが分かる。 そこで、絞り板６としては開口の大きさを調整できるよ
うな構造とすることが、実際の加温領域の大きさに対応
でき、実用上望ましい。 第４図は他の実施例を示すものである。この図で示す実
施例では、電磁波吸収体である塩水５はリング型容器９
に満たされ、給水口９１から供給され排水口９２より排
水されることにより循環されている。この場合、リング
型になった塩水５の領域で電磁波が吸収されるが、その
中央の脱イオン水２の領域では電磁波の吸収が小さくな
っている。そのため、このリング型の領域を占める塩水
５自体が、アプリケータ１から生体７に向けて放射され
る電磁波に対して絞り効果を生じることになる。 なお、上記の２つの実施例では加温エネルギーとして電
磁波を照射することとしたか、超音波を照射する場合で
も同様に適用できる。超音波の場合は、吸収体としてた
とえばヒマシ油などを使用する。
この発明のハイパーサーミア装置によれば、アプリケー
タが大きくなったりすることもなく、加温領域を限定し
、局所的に加温することによって、より望ましいハイパ
ーサーミア治療を行うことができる。
タが大きくなったりすることもなく、加温領域を限定し
、局所的に加温することによって、より望ましいハイパ
ーサーミア治療を行うことができる。
第１図はこの発明の一実施例の断面図、第２図は放射軸
に平行な断面での電界強度分布を示す図、第３図Ａ、Ｂ
、Ｃは第２図のＰ−Ｐ面での電界強度分布を示すグラフ
、第４図は他の実施例の断面図である。 １・・・アプリケータ、２・・・脱イオン水、３・・・
隔壁、４・・・容器、５・・・塩水、６・・・絞り板、
７・・・生体、９・・・リング型容器、１１・・・給電
点、１２・・・同軸ケーブル、４１．９１・・・給水口
、４２．９２・・・排水口。 洛３回
に平行な断面での電界強度分布を示す図、第３図Ａ、Ｂ
、Ｃは第２図のＰ−Ｐ面での電界強度分布を示すグラフ
、第４図は他の実施例の断面図である。 １・・・アプリケータ、２・・・脱イオン水、３・・・
隔壁、４・・・容器、５・・・塩水、６・・・絞り板、
７・・・生体、９・・・リング型容器、１１・・・給電
点、１２・・・同軸ケーブル、４１．９１・・・給水口
、４２．９２・・・排水口。 洛３回
Claims (1)
- （１）被加温体に向けて加温エネルギーを放射するアプ
リケータと、該アプリケータと被加温体との間に配置さ
れた、所定の開口を有する、加温エネルギー障害物体と
を有することを特徴とするハイパーサーミア装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7902387A JPS63242279A (ja) | 1987-03-31 | 1987-03-31 | ハイパ−サ−ミア装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7902387A JPS63242279A (ja) | 1987-03-31 | 1987-03-31 | ハイパ−サ−ミア装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63242279A true JPS63242279A (ja) | 1988-10-07 |
Family
ID=13678343
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7902387A Pending JPS63242279A (ja) | 1987-03-31 | 1987-03-31 | ハイパ−サ−ミア装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63242279A (ja) |
-
1987
- 1987-03-31 JP JP7902387A patent/JPS63242279A/ja active Pending
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