JPS63241948A - Wafer transfer device - Google Patents

Wafer transfer device

Info

Publication number
JPS63241948A
JPS63241948A JP62074053A JP7405387A JPS63241948A JP S63241948 A JPS63241948 A JP S63241948A JP 62074053 A JP62074053 A JP 62074053A JP 7405387 A JP7405387 A JP 7405387A JP S63241948 A JPS63241948 A JP S63241948A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
arm
roller
cassette
circular arc
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP62074053A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0666375B2 (en
Inventor
Katsuyoshi Kudo
勝義 工藤
Yoshinao Kawasaki
義直 川崎
Minoru Soraoka
稔 空岡
Tsunehiko Tsubone
恒彦 坪根
Hironori Kawahara
川原 博宣
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP7405387A priority Critical patent/JPH0666375B2/en
Publication of JPS63241948A publication Critical patent/JPS63241948A/en
Publication of JPH0666375B2 publication Critical patent/JPH0666375B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Feeding Of Articles By Means Other Than Belts Or Rollers (AREA)
  • Sheets, Magazines, And Separation Thereof (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

PURPOSE:To simply position a wafer while the wafer is placed on an arm and to effectively position the wafers individually by forming the abutting part of the arm in a circular arc shape along the circumferential side face of the wafer, and forming the chordal end of the circular arc wider than that of an orientation flat part. CONSTITUTION:The abutting part of an arm 3 is formed in a circular arc shape along the circumference of a wafer 2, and a roller 22 is so disposed as to abut on the wafer 2 at a position wider than the shortest distance of the other end of an orientation flat part to the center line of the circular arc when one end of the orientation flat part is aligned with the circular arc end from the center line of the circular arc at least at both sides to abut on the wafer 2 with the circular arc. When the arm 3 is pressed forward to press the wafer 2 to the abutting part 4 of the arm 3, the wafer 2 is positioned at a predetermined position by the centering action of the roller 22 and the contacting part 4 of the arm even if the orientation flat part is disposed at any position, and then placed on the waver to be transfer. Thus, the wafers are positioned on the arm effectively one by one.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はウェハ搬送装置に係り、特にウェハをクリーン
搬送するのに好適なウェハ搬送装置に関するものである
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a wafer transport device, and particularly to a wafer transport device suitable for cleanly transporting wafers.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来の装置は、例えば、電子材料、1985年3月、第
64頁から第69頁に論じられた“反応性専イオンエツ
チング装置゛′の第4図に記載されているように、カセ
ット内からのウェハのアンロードをアームによって行な
うようになっており、パーティクル発生がおきないよう
に注意されたものがある。
Conventional equipment has been used, for example, as shown in FIG. Some wafers are unloaded by an arm, and care is taken to avoid particle generation.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

上記従来技術は、カセット内からアーム上にウェハを載
置する際に、アーム上でのウェハの位置決めについて配
慮されておらず、このため、あらかじめ、カセット内で
ウェハの位置を正確に決める必要がある。したがって、
カセット内に収納されたウェハのオリフラの方向がまち
まちの場合は。
The above conventional technology does not take into account the positioning of the wafer on the arm when placing the wafer on the arm from within the cassette, and therefore it is necessary to accurately determine the position of the wafer within the cassette in advance. be. therefore,
If the orientation flats of the wafers stored in the cassette are in different directions.

カセット内でのウェハ収納位置がずれて、ウェハ端部が
不揃いとなるので、このような装置では通常、カセット
内でオリフラを合わせ、ウェハの収納位置を揃える作業
を行なう。この作業は、カセット内にウェハを収納した
状filでウェハを回転させるため、ウェハ収納溝部と
のこすれによってパーティクルが発生してウェハに付着
したり、ウェハを回転させるローラに発生したパーティ
クルが付着して、これがざらにウェハに付着したりして
、ウェハの歩留まりを悪くするという問題があった。
Since the wafer storage position within the cassette shifts and the wafer ends become uneven, such an apparatus usually aligns the orientation flat within the cassette to align the wafer storage position. In this process, the wafer is rotated with the wafer stored in the cassette, so particles may be generated due to friction with the wafer storage groove and adhere to the wafer, or the particles generated may adhere to the roller that rotates the wafer. There is a problem in that this adheres roughly to the wafer, reducing the yield of wafers.

本発明の目的は、オリフラ合せによる位置決めを行なう
ことなく、アーム上にウェハを載置する間に簡単に位置
決めを行なうことによって、個々にウェハの位置決めを
確実に行なうとともに、パーティクルの発生を押えて、
信頼性が高くクリーンな搬送を行なうことのできるウェ
ハ搬送装置を提供することにある。
An object of the present invention is to easily perform positioning while placing the wafer on an arm without performing positioning by aligning the orientation flat, thereby reliably positioning each wafer and suppressing the generation of particles. ,
It is an object of the present invention to provide a wafer transfer device that can carry out highly reliable and clean transfer.

上記目的は、ウェハをアーム上に載置して搬キするウェ
ハ搬送装置において、アームの根元側のウェハ載置面の
端部にウェハの当接部を設け、アーム上に・l況1ηす
るウェハをアームの先端側から当接部に押し当てる少な
くとも2個以上のローラを具備し、当接部をウニへの円
周側面に沿った円弧状とし、円弧の弦端を少なくともオ
リフラの幅よりも広くして、当接部とローラとの相互調
心作用によってウェハを位置決め可能な配置、すなわち
、ローラとウェハとの接点が、円弧の中心線から両側に
少なくとも円弧端部にオリフラの一端を揃えて円弧部に
ウェハを当接したときのオリフラの他端と円弧の中止線
との最短距離よりも広くなるローラの配置とすることに
より、達成される。
The above purpose is to provide a wafer contact portion at the end of the wafer placement surface on the base side of the arm in a wafer transfer device that places and transports the wafer on an arm, and to place the wafer on the arm. The arm is equipped with at least two or more rollers that press the wafer against the contact part from the tip side, and the contact part is shaped like an arc along the circumferential side of the arm, and the chord end of the arc is at least wider than the width of the orientation flat. The wafer is arranged so that the wafer can be positioned by the mutual alignment between the contact part and the roller, that is, the contact point between the roller and the wafer extends from the center line of the arc to at least one end of the orientation flat on both sides of the arc. This is achieved by arranging the rollers so that the distance is wider than the shortest distance between the other end of the orientation flat and the stop line of the arc when the wafers are aligned and brought into contact with the arc.

〔作   用〕[For production]

アームの当接部をウェハの円周に沿った円弧状とし、ロ
ーラの配置を円弧の中心線から両側に少なくとも円弧端
部にオリフラの一端を揃えて円弧部にウェハを当接した
ときのオリフラの他端と円弧の中心線との最短距離より
も広い位置でローラとウェハとが接するように配置して
いるので、アームを押し進め、ローラによりウェハを押
し出し。
The contact part of the arm is in the shape of an arc along the circumference of the wafer, and the rollers are arranged on both sides from the center line of the arc, with one end of the orientation flat aligned at least at the end of the arc, and the wafer is brought into contact with the arc part. The roller and wafer are arranged so that they touch at a point wider than the shortest distance between the other end and the center line of the arc, so the arm is pushed forward and the roller pushes out the wafer.

ウェハをアームの当接部に押し当てることにより、オリ
フラの位置がどこにあってもローラと当接部との相互調
心作用によって、ウェハが所定の位置に位置決めされ、
その後ウェハ上に載置して搬送するようにしているので
、ウェハが1枚毎に確実にアーム上に位置決めされると
ともに、カセット内でのウェハのこずれが少なくパーテ
ィクルの売込 生を押えられ、信頼性が高くクリーンな搬炎が行なえる
By pressing the wafer against the contact part of the arm, the wafer is positioned at a predetermined position by the mutual alignment between the roller and the contact part, no matter where the orientation flat is located.
Since the wafers are then placed on top of the wafers and transported, each wafer is reliably positioned on the arm, and the wafers are less likely to shift inside the cassette, preventing particle build-up. , allows for highly reliable and clean flame propagation.

〔実 施 例〕〔Example〕

以下、本発明の一実施例を第1図〜第8図により説明す
る。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 8.

第1図にウェハ搬送装置の全体構成を示し、この場合は
ウェハを収納したカセット内からウェハを搬送する場合
について述べる。カセット載置台6は、ハウジング17
内に設けた軸受16によって軸方向に移動可能に案内支
持された軸18の上部に取り付けられて、ウェハ2を収
納したカセット1を上面に載置するようになっている。
FIG. 1 shows the overall configuration of a wafer transfer device, and in this case, a case will be described in which a wafer is transferred from a cassette containing the wafer. The cassette mounting table 6 has a housing 17
It is attached to the upper part of a shaft 18 that is guided and supported so as to be movable in the axial direction by a bearing 16 provided therein, and the cassette 1 containing the wafers 2 is placed on the upper surface.

軸18の下部には雌ねじ部が設けられ、ベルト9および
プーリ8,14を介してモータ15によって駆動される
ねじ軸7が係合しである。プーリ8はねじ軸の下部に取
り付けである。
A female threaded portion is provided at the lower part of the shaft 18, and the threaded shaft 7 driven by the motor 15 via the belt 9 and pulleys 8, 14 is engaged therewith. The pulley 8 is attached to the lower part of the screw shaft.

プーリ14を取り付けたモータ15のモータ軸には、ス
リー、ト板10,11が取り付けてあり、スリット板1
0.11にはセンサ12,13が設けである。
Three and two plates 10 and 11 are attached to the motor shaft of the motor 15 to which the pulley 14 is attached, and the slit plate 1
0.11 is equipped with sensors 12 and 13.

カセット台6の上部で、カセット1内の最下位のウェハ
2より下にウェハ検出センサ5を位置させて設け、該ウ
ェハ2とウェハ検出センサ5との間に図示しない駆動装
置によって出し入れ可能なアーム3を設け、前記ウェハ
2の反アーム3側にローラ22を設けている。この場合
、ローラ22は、軸受21によってウェハ2側へ移動可
能に案内され、板ばね20を介してエアーシリンダ19
に連結しである。板ばね20は衝撃吸収ならびに過荷重
防止の役目を行なう。
A wafer detection sensor 5 is provided at the upper part of the cassette table 6 and below the lowest wafer 2 in the cassette 1, and an arm that can be taken in and out by a drive device (not shown) is provided between the wafer 2 and the wafer detection sensor 5. 3, and a roller 22 is provided on the side opposite to the arm 3 of the wafer 2. In this case, the roller 22 is movably guided by the bearing 21 toward the wafer 2 side, and the air cylinder 19 is moved through the leaf spring 20.
It is connected to. The leaf spring 20 serves to absorb shock and prevent overload.

アーム3の根元側には第2図に示すように、ウェハ2の
径に合わせた円弧状の当接部4が設けてあり、円弧状の
弦幅L1はウェハ2のオリフラの幅りより大きくしであ
る。また、アーム3のウェハ載置面には、この場合、す
べり防止ならびにウェハとの接触面積を少なくするよう
に、シリコンゴム系でなるウェハ支持部材23が3か所
取り付けである。
As shown in FIG. 2, the base side of the arm 3 is provided with an arcuate contact portion 4 that matches the diameter of the wafer 2, and the chord width L1 of the arc is larger than the width of the orientation flat of the wafer 2. It is. Further, in this case, wafer support members 23 made of silicone rubber are attached to the wafer mounting surface of the arm 3 at three locations to prevent slipping and to reduce the contact area with the wafer.

ローラ22は第2図に示すように、当接部4の円弧の中
心線から両側に少なくとも円弧端部にオリフラの一端を
揃えて円弧部にウェハを当接したときのオリフラの他端
と円弧の中心線との最短距離L2よりも広い距*L3で
ローラ22とウェハ2とが接し、中心線から接点までの
距離がL3となるように配置しである。この場合、ロー
ラ22は2個設けである。材質はパーティクルの発生を
防ぐ観点から42フ化エチレン樹脂、ポリアセタール樹
脂、ポリイミド樹脂等の樹脂類が望ましい。
As shown in FIG. 2, the roller 22 is aligned with the other end of the orientation flat when the wafer is brought into contact with the arc with one end of the orientation flat aligned with at least the end of the arc on both sides from the center line of the arc of the contact portion 4. The roller 22 and the wafer 2 are arranged so that the roller 22 and the wafer 2 are in contact with each other at a distance *L3 that is wider than the shortest distance L2 from the center line, and the distance from the center line to the point of contact is L3. In this case, two rollers 22 are provided. From the viewpoint of preventing the generation of particles, the material is preferably a resin such as 42-fluorinated ethylene resin, polyacetal resin, or polyimide resin.

上記のように構成された装置による動作を説明する。第
1図において、図示しない制御装置によりモータ15を
回転させて、ねじ軸7を回し軸18を下方向へ移動させ
て、カセット載置台6上のカセット1を降下させると、
カセット1内の最下位に収納されたウェハ2がウェハ検
出センサ5に近づく。
The operation of the apparatus configured as described above will be explained. In FIG. 1, when the motor 15 is rotated by a control device (not shown), the screw shaft 7 is turned, and the shaft 18 is moved downward, and the cassette 1 on the cassette mounting table 6 is lowered.
The wafer 2 stored at the lowest position in the cassette 1 approaches the wafer detection sensor 5.

ウェハ2が所定の位置、すなわち、アーム3が挿入でき
る位置まで下降すると、ウェハ検出センサ5がこれを検
出し制御装置に信号を送って、モータ15を停止させる
When the wafer 2 has descended to a predetermined position, that is, a position where the arm 3 can be inserted, the wafer detection sensor 5 detects this and sends a signal to the control device to stop the motor 15.

この位置で、制御装置によりアーム3をカセット1内へ
挿入し、ウェハ2の下部に位置させる。
In this position, the control device inserts the arm 3 into the cassette 1 and positions it below the wafer 2.

このときのウェハ2とアーム3との関係を第3図に示す
、カセット1は第3図に示すように、最下部のウェハ2
aとアーム3のウェハ支持部材23との間に隙間δを有
するように止められ、アーム3が隙間δをもって挿入さ
れる。このとき、ウェハ2aが位1位ずれして、カセッ
ト1内からはみ出していても、アーム3をカセットl内
へ挿入させることで、カセット1内へウェハ2aを押し
込む。
The relationship between the wafer 2 and the arm 3 at this time is shown in FIG. 3.As shown in FIG.
a and the wafer support member 23 of the arm 3 with a gap δ between them, and the arm 3 is inserted with the gap δ. At this time, even if the wafer 2a is shifted by one position and protrudes from inside the cassette 1, the wafer 2a is pushed into the cassette 1 by inserting the arm 3 into the cassette l.

また、アーム3を挿入した段階ではウエノ\2aおよび
上部のウェハ2bは、ピッチPをもってカセット1内の
溝部に載置して収納されている。
Further, at the stage when the arm 3 is inserted, the wafer 2a and the upper wafer 2b are placed and stored in the groove in the cassette 1 with a pitch P.

この状態で、第1図および第4図に示すように、ローラ
22が、この場合、制御装置によって制御されるエアー
シリンダ19の収縮動作により板ばね20を介してアー
ム3側に移動し、ウニ/\2aをアーム3の根元側へ押
し出す、これにより、ウェハ2aはアーム3の当接部4
に当たって、アーム3に対し位置決めされる。このとき
、ウェハ2aはカセットl内の溝部に支持されて移動す
る。
In this state, as shown in FIGS. 1 and 4, the roller 22 moves toward the arm 3 via the leaf spring 20 by the contraction operation of the air cylinder 19 controlled by the control device in this case, and /\2a is pushed toward the base of the arm 3. As a result, the wafer 2a touches the contact portion 4 of the arm 3.
and is positioned relative to the arm 3. At this time, the wafer 2a is supported by the groove in the cassette l and moves.

この位置決めされる状態を第6図ないし第8図により説
明する。第6図の(a)〜(C)は、アーム3の円弧部
の中心とずれてカセット内に収まっているウェハ2をロ
ーラ22でアーム3の当接部4に押し当てる過程を示し
ている。まず、(a)に示すように、この場合、ローラ
22bがウェハ2に当たってアーム3側へ押し、次に(
b)に示すように、この場合、当接部の一端にウニ/\
2の円周側面が当たって、ローラ22bをさらに押すこ
とによってウェハ2と当接部4の接した点を中心に、こ
の場合、右回転して(C)に示すように、ウェハ2は当
接部4に収められる。
This positioning state will be explained with reference to FIGS. 6 to 8. 6(a) to (C) show the process of pressing the wafer 2, which is housed in the cassette with a deviation from the center of the circular arc portion of the arm 3, against the contact portion 4 of the arm 3 using the roller 22. . First, as shown in (a), in this case, the roller 22b hits the wafer 2 and pushes it toward the arm 3, and then (
In this case, as shown in b), there is a sea urchin/\\ at one end of the contact part.
By further pushing the roller 22b, the wafer 2 is rotated clockwise around the point where the wafer 2 and the contact portion 4 contact each other, as shown in (C). It is stored in the connecting part 4.

なお、例えば、第7図に示すようにウェハ2のオリフラ
が当接部4の円弧部分に掛かつている場合には、オリフ
ラの角と当接部4との接点0を中心に、右回りのモーメ
ントF+11と左回りのモーメントF、lz とが掛か
り、この場合F、11<Fl 12であるため、ウェハ
2は接点0を中心に右回転しようとするが、この場合、
ウェハ2の中心が接点0とローラ22aとを結ぶ線より
も左側にある(すなわち、ウェハ2が接点0を中心とし
て右回転しようとした場合、接点0を中心とする半径で
ある接点0とローラ22aとを結ぶ距離が段々長くなる
)ので、ウェハ2の右回転運動はローラ22aに拘束さ
れて回転できないので、当接部4の円弧の中心とウェハ
2の中心とが一致して、ウェハ2を位置決めできる。な
お、オリフラが反対側に位置する場合は、力の作用関係
が逆になるだけで、同様に位置決めできる。
For example, when the orientation flat of the wafer 2 hangs over the arcuate portion of the contact part 4 as shown in FIG. The moment F+11 and the counterclockwise moment F,lz are applied, and in this case, F,11<Fl 12, so the wafer 2 tries to rotate clockwise around the contact point 0, but in this case,
The center of wafer 2 is on the left side of the line connecting contact 0 and roller 22a (that is, if wafer 2 tries to rotate clockwise around contact 0, the center of wafer 2 is on the left side of the line connecting contact 0 and roller 22a). 22a), the clockwise rotation movement of the wafer 2 is restrained by the roller 22a and cannot be rotated. can be positioned. Note that when the orientation flat is located on the opposite side, positioning can be performed in the same way, just by reversing the relationship of force.

また、例えば、第8図に示すようにウェハ2のオリフラ
がローラ22a、22b部に傾いである場合には、ロー
ラ22bのみがウェハ2に作用し、その力F2はウェハ
2と円弧部とが接した位置に作用するので、ウェハ2の
中心から作用点がずれていても、ウェハ2を円弧部に押
し当てる方の力が強く、ウェハ2を回転させるまでには
至らないので、当接部4の円弧の中心とウェハ2の中心
とを一致させて位置決めできる。
Further, for example, when the orientation flat of the wafer 2 is inclined toward the rollers 22a and 22b as shown in FIG. Since it acts on the contact point, even if the point of action is shifted from the center of the wafer 2, the force that presses the wafer 2 against the arcuate portion is stronger and does not reach the point of rotating the wafer 2, so the contact portion The center of the arc 4 and the center of the wafer 2 can be aligned and positioned.

次に、ウェハ2&かアーム3に対して位置決めされた後
は第5図に示すように、ローラ22を元の位置に戻しウ
ェハ2aから離して、カセット載置台6を移動量Sだけ
下降させる。これにより、アーム3のウェハ支持部材2
3上にウェノ飄2aが載置される。その後は、アーム3
を移動させてウェハ2aをカセット1内から搬出する。
Next, after the wafer 2 and the arm 3 have been positioned, the roller 22 is returned to its original position and separated from the wafer 2a, and the cassette mounting table 6 is lowered by a moving amount S, as shown in FIG. As a result, the wafer support member 2 of the arm 3
3, the weno bag 2a is placed on it. After that, arm 3
is moved to carry out the wafer 2a from the cassette 1.

なお、カセット載置台6を下降させる移動量Sの制御は
Note that the movement amount S for lowering the cassette mounting table 6 is controlled as follows.

第1図に示すモータ15の回転をセンサ12,13で検
出して、検出信号を制御装置に送り、制御装置でモータ
15の回転量を積算してカセット載置台6の移動量に換
算し、モータ15を制御して行なわれる。
The rotation of the motor 15 shown in FIG. 1 is detected by the sensors 12 and 13, a detection signal is sent to the control device, and the control device integrates the amount of rotation of the motor 15 and converts it into the amount of movement of the cassette mounting table 6. This is done by controlling the motor 15.

以上説明した動作を繰り返し、カセット1内のウェハ2
を順次下から搬出する。
Repeat the above-described operation to remove wafer 2 in cassette 1.
are carried out sequentially from the bottom.

なお、アーム3の当接部4の高さは、第5図に示すよう
に、ウェハ2aをアーム3上にa鐙したときに、上部の
ウェハ2bが位置ずれしてカセット1内からはみ出して
いる場合でも、上部のウェハ2bに当たらないように隙
間α1を有するようにしである。当接部4の高さHとウ
ェハ2a、2bとは次式の関係に設定する。なお、第5
図において、2bは移動後の上部ウェハを示し、2b’
は移動前の上部ウェハを示す、2aは移動後の下部ウェ
ハを示し、2a”は移動前の下部ウェハを示し、2a″
は下部ウェハがアーム3上に載置されずそのまま下降し
たと仮定した場合の位置を示す。
Note that the height of the contact portion 4 of the arm 3 is such that when the wafer 2a is placed in the stirrup on the arm 3, the upper wafer 2b is displaced and protrudes from the inside of the cassette 1, as shown in FIG. Even if the wafer 2b is in contact with the upper wafer 2b, a gap α1 is provided to prevent the wafer 2b from hitting the upper wafer 2b. The height H of the contact portion 4 and the wafers 2a, 2b are set in the following relationship. Furthermore, the fifth
In the figure, 2b indicates the upper wafer after movement, and 2b'
indicates the upper wafer before movement, 2a indicates the lower wafer after movement, 2a'' indicates the lower wafer before movement, 2a''
indicates the position assuming that the lower wafer is not placed on the arm 3 and descends as it is.

P−(α。+αl)<H<δ−−−−−−−−  (1
)ここで、 H:ウェハ支持部材23上面からの当接部4の高さ P :カセット1内のウェハ収納部溝ピッチδ :アー
ム3挿入時のウェハ支持部材23上面からウェハ2a下
面の隙間 α0:アーム3上ヘウエハ2aを載置するときのウェハ
2aの移動量(α、=S− δ) α1 :カセットl移動後のウェハ2b下面と当接部4
上面との最小隙間 S :アーム3上ヘウェハ2aを載置するときのカセッ
ト1の移動量 である。
P-(α.+αl)<H<δ−−−−−−− (1
) Here, H: Height of the contact portion 4 from the top surface of the wafer support member 23 P: Wafer storage groove pitch in the cassette 1 δ: Gap between the top surface of the wafer support member 23 and the bottom surface of the wafer 2a when the arm 3 is inserted α0 : Amount of movement of wafer 2a when placing wafer 2a on arm 3 (α,=S−δ) α1 : Lower surface of wafer 2b and contact portion 4 after cassette l has been moved
Minimum gap S with the upper surface: This is the amount of movement of the cassette 1 when placing the wafer 2a on the arm 3.

以上、木−実施例によれば、アーム3に設けた当接部4
に所定の間隔で設けたローラ22によってウェハ2を押
し当てることにより、ウェハ2の搬出ごとにアーム3に
対して所定の位置にウェハ2を位置決めすることができ
、また、カセット1内でウェハ2をずらす量が少ないの
で、パーティクルの発生を押えることができ、信頼性が
高くクリーンな搬出を行なうことができる。
As described above, according to the embodiment, the contact portion 4 provided on the arm 3
By pressing the wafer 2 against the rollers 22 provided at predetermined intervals, the wafer 2 can be positioned at a predetermined position relative to the arm 3 each time the wafer 2 is carried out. Since the amount of displacement is small, the generation of particles can be suppressed, and reliable and clean transport can be performed.

また、ローラ22によるウェハ2の押し出しを、カセッ
ト1の溝部にウェハ2が載置されているときに行なうの
で、ウェハ2とカセット1の溝部との接触が少なくパー
ティクルの発生を減することができる。
Further, since the wafer 2 is pushed out by the roller 22 while the wafer 2 is placed in the groove of the cassette 1, there is less contact between the wafer 2 and the groove of the cassette 1, and the generation of particles can be reduced. .

また、ウェハ2の押し出しにローラ22を用いているた
め、ウェハ2とローラ22との接触がころがり接触とな
り、パーティクルの発生が極めて少なくなる。
Further, since the roller 22 is used to push out the wafer 2, the wafer 2 and the roller 22 come into contact with each other by rolling, and the generation of particles is extremely reduced.

また、アーム3のウェハ2の載置部にすべり止めのウェ
ハ支持部材23を取り付けているので、位置決めされた
ウェハ2をカセッ)lから搬出する際に、ウェハ2がず
れることがない。
Furthermore, since a non-slip wafer support member 23 is attached to the wafer 2 placement portion of the arm 3, the wafer 2 will not shift when the positioned wafer 2 is carried out from the cassette (1).

さらに、ローラ22とローラ22を動かすエアーシリン
ダ19との間に板ばね20を介しているので、ウェハ2
に強い衝撃を与えることがなく、ウェハ2の損傷を防ぐ
ことができる。板ばね20は衝二役を吸収できるもので
あれば、他のものに置き換えられる。
Furthermore, since the leaf spring 20 is interposed between the roller 22 and the air cylinder 19 that moves the roller 22, the wafer 2
Damage to the wafer 2 can be prevented without applying a strong impact to the wafer 2. The leaf spring 20 can be replaced with another one as long as it can absorb the double duty.

なお、木−実施例ではカセット1を下降させてウェハ2
をアーム3上にa置する構成としていたが、アーム3を
上昇させてウェハ2を載置するようにしても良い。
In addition, in the tree embodiment, the cassette 1 is lowered and the wafer 2
Although the configuration is such that the wafer 2 is placed a on the arm 3, the arm 3 may be raised to place the wafer 2 thereon.

また、本−実施例はカセット内からウェハを搬出する場
合について述べたが、ウェハの位置決めを行なって搬送
するものとしてはこれに限られるものではない。
Furthermore, although this embodiment has been described with respect to the case where the wafer is carried out from within the cassette, the case where the wafer is positioned and carried is not limited to this.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によれば、オリフラ合せによる位置決めを行なう
ことなく、アーム上にウェハを載置する間に簡単に位置
決めを行なうことができ、個々にウェハの位置決めを確
実に行なうことができるとともに、パーティクルの発生
を押えることができ医 るので、信頼性が高くクリーンなin、1を行なうこと
ができるという効果がある。
According to the present invention, it is possible to easily perform positioning while placing the wafer on the arm without performing positioning by aligning the orientation flat, it is possible to reliably position each wafer, and it is also possible to prevent particles. This has the effect of being able to perform a highly reliable and clean in-1 test because the occurrence can be suppressed and treated.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例であるウェハ搬送装置を示す
縦断面図、第2図は第1図をA−Aから見た平面図、第
3図から第5図はウェハとアームとの位置関係を示す縦
断面図、第6図から第8図はウェハの位置決めの様子を
示す平面図である。 1−−−−−一カセット、2−一−−−−ウェハ、3−
−−−−−アーム、4−−−−−一当接部、5−−一−
−ウェハ検出センサ、  6−−−−−−カセツト載置
台、19−−一−−−エアーシリンダ、22−−−−−
一ローライ3図 第5図
FIG. 1 is a longitudinal cross-sectional view showing a wafer transfer device that is an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan view of FIG. 1 taken from A-A, and FIGS. 6 to 8 are plan views showing how the wafer is positioned. 1-----1 cassette, 2--1--wafer, 3-
------Arm, 4-----1 contact part, 5--1-
- Wafer detection sensor, 6-----Cassette mounting table, 19--1--Air cylinder, 22-----
1 Rollei 3 Figure 5

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1、ウェハをアーム上に載置して搬送するウェハ搬送装
置において、前記アームの根元側のウェハ載置面の端部
に前記ウェハの当接部を設け、前記アーム上に載置する
ウェハを前記アームの先端側から前記当接部に押し当て
る少なくとも2個以上のローラを具備し、前記当接部を
前記ウェハの円周側面に沿った円弧状とし、該円弧の弦
幅を少なくともオリエンテーションフラット(以下、「
オリフラ」という。)の幅よりも広くして、前記ローラ
を前記当接部と前記ローラとの相互調心作用により前記
ウェハを前記アームに位置決め可能な配置としたことを
特徴とするウェハ搬送装置。
1. In a wafer transfer device that places and transfers a wafer on an arm, a wafer contact portion is provided at the end of the wafer placement surface on the base side of the arm, and the wafer placed on the arm is The arm is provided with at least two or more rollers that press against the abutting portion from the tip side, the abutting portion is shaped like an arc along the circumferential side of the wafer, and the chord width of the arc is at least orientation flat. (below,"
It's called OriFura. ), and the roller is arranged so that the wafer can be positioned on the arm by mutual alignment between the contact portion and the roller.
JP7405387A 1987-03-30 1987-03-30 Wafer transfer method Expired - Lifetime JPH0666375B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7405387A JPH0666375B2 (en) 1987-03-30 1987-03-30 Wafer transfer method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7405387A JPH0666375B2 (en) 1987-03-30 1987-03-30 Wafer transfer method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS63241948A true JPS63241948A (en) 1988-10-07
JPH0666375B2 JPH0666375B2 (en) 1994-08-24

Family

ID=13536060

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7405387A Expired - Lifetime JPH0666375B2 (en) 1987-03-30 1987-03-30 Wafer transfer method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0666375B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130123334A (en) * 2012-05-02 2013-11-12 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Substrate processing apparatus, adjustment method and storage medium

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS501639A (en) * 1973-05-07 1975-01-09
JPS5441079A (en) * 1977-09-08 1979-03-31 Kobatoron Kk Device for inspecting semiconductor
JPS592135A (en) * 1982-06-28 1984-01-07 Nec Corp Block transferring system of data
JPS592135U (en) * 1982-06-28 1984-01-09 株式会社東芝 wafer rotation device
JPS59107140A (en) * 1982-12-11 1984-06-21 Toyotomi Kogyo Co Ltd Structure of bath heater and the like
JPS59107140U (en) * 1982-12-29 1984-07-19 日本電気ホームエレクトロニクス株式会社 Semiconductor wafer transfer equipment
JPS61273441A (en) * 1985-05-23 1986-12-03 Canon Inc Wafer transfer device
JPS6247542U (en) * 1985-09-10 1987-03-24

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS501639A (en) * 1973-05-07 1975-01-09
JPS5441079A (en) * 1977-09-08 1979-03-31 Kobatoron Kk Device for inspecting semiconductor
JPS592135A (en) * 1982-06-28 1984-01-07 Nec Corp Block transferring system of data
JPS592135U (en) * 1982-06-28 1984-01-09 株式会社東芝 wafer rotation device
JPS59107140A (en) * 1982-12-11 1984-06-21 Toyotomi Kogyo Co Ltd Structure of bath heater and the like
JPS59107140U (en) * 1982-12-29 1984-07-19 日本電気ホームエレクトロニクス株式会社 Semiconductor wafer transfer equipment
JPS61273441A (en) * 1985-05-23 1986-12-03 Canon Inc Wafer transfer device
JPS6247542U (en) * 1985-09-10 1987-03-24

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130123334A (en) * 2012-05-02 2013-11-12 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Substrate processing apparatus, adjustment method and storage medium
JP2013235870A (en) * 2012-05-02 2013-11-21 Tokyo Electron Ltd Substrate processing apparatus, adjustment method and storage medium

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0666375B2 (en) 1994-08-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7328812B2 (en) Overhead travelling carriage
US20050017529A1 (en) Active edge gripping end effector
JP2007109748A (en) Method and device for conveying wiring board
CN101140856A (en) Adhesive tape cutting method and tape cutting apparatus
JPS63241948A (en) Wafer transfer device
JP2002264065A (en) Wafer conveying robot
JP3664589B2 (en) Substrate transport apparatus and substrate transport method
JPH0212939A (en) Device for transferring semiconductor wafer
JPH01199786A (en) Handling device
JPH026011Y2 (en)
JP4144000B2 (en) Wafer centering device
JPS6097124A (en) Treater for stacked tabular body
JPS6341806B2 (en)
JPH0526754Y2 (en)
CN214055520U (en) Feeding device for positioning plates
JPS61152439A (en) Centering device in belt-type material supplying device
WO2021124862A1 (en) Inspection device
JPS61217450A (en) Apparatus for conveying and positioning thin plate
JP3518903B2 (en) Lifting device for cylindrical substrate
JPH085023B2 (en) Grab unit
KR920004054Y1 (en) Wafer loading system
JPS6119863Y2 (en)
JPH01271317A (en) Attitude controller for sintered body
JPH01288534A (en) Hand device for work in laminated sheet form
CN116262354A (en) Industrial robot and control method for industrial robot

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070824

Year of fee payment: 13