JPS63230726A - Molding resin composition - Google Patents

Molding resin composition

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JPS63230726A
JPS63230726A JP6618487A JP6618487A JPS63230726A JP S63230726 A JPS63230726 A JP S63230726A JP 6618487 A JP6618487 A JP 6618487A JP 6618487 A JP6618487 A JP 6618487A JP S63230726 A JPS63230726 A JP S63230726A
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JP
Japan
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compound
resin
epoxy
molecule
resin composition
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Pending
Application number
JP6618487A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Shiomi
浩 塩見
Kunimasa Kamio
神尾 邦政
Yasuhisa Saito
康久 斉藤
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Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Publication date
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  • Epoxy Resins (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a resin composition excellent in processability, moisture resistance, heat resistance and electrical insulation and useful for, e.g., sealing electronic components such as semiconductors, by mixing a specified phenol novolac resin with a polymaleimide compound and an epoxy compound. CONSTITUTION:The title composition comprising a phenol novolac resin (A) having an allyl-etherified phenolic hydroxyl group and a phenolic hydroxyl group having a compound having at least one epoxy group added thereto in the molecule (e.g., one obtained by subjecting a novolac resin and an allyl halide to dehydrohalogenation and performing addition reaction of the remaining phenolic hydroxyl groups with an epoxy compound), a polymaleimide compound (B) having at least two maleimide groups in the molecule and a compound (C) having at least one epoxy group in the molecule (e.g., novolac epoxy resin). This composition is more excellent than a conventional heat-resistant resin composition in processability, heat resistance, moisture resistance and electrical insulation and is suited as a sealing material for electronic components such as semiconductors.

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は成型用樹脂組成物に関し、更に詳しくは加工性
、耐湿性、耐熱性及び電気絶縁性に優れた半導体等の電
子部品の封止等に用いられる成型用樹脂組成物に関する
[Detailed Description of the Invention] <Industrial Application Field> The present invention relates to a resin composition for molding, and more specifically to the encapsulation of electronic components such as semiconductors with excellent processability, moisture resistance, heat resistance, and electrical insulation properties. The present invention relates to a molding resin composition used for, etc.

〈従来の技術及びその問題点〉 従来、半導体等の電子部品の封止に用いられる成型用樹
脂組成物としては、エポキシ樹脂が用いられていた。
<Prior Art and its Problems> Conventionally, epoxy resins have been used as molding resin compositions used for sealing electronic components such as semiconductors.

このエポキシ樹脂封止は、ガラス、金属、セラミックを
用いたハーメチックシール方式に比較して経済的に有利
なために広く実用化されている。しかしながら、近年封
止材料の使用条件は厳しくなる傾向にあり、特に材料の
耐熱性及び耐湿性は重要な特性になっている。
This epoxy resin sealing is economically advantageous compared to hermetic sealing methods using glass, metal, or ceramic, and is therefore widely put into practical use. However, in recent years, the usage conditions for sealing materials have tended to become stricter, and in particular, the heat resistance and moisture resistance of the materials have become important characteristics.

従来このような高耐熱性を得る目的には熱硬化性のポリ
イミド樹脂組成物が使用されているが、加工性の面では
高温で長時間の加熱が必要であり、更に耐湿性が不充分
であったまた耐熱性に改良を加えたエポキシ樹脂組成物
は加工性に優れているものの、高温時の機械特性、電気
特性及び長期の耐熱劣化性など高度の耐熱性能は不充分
であった。
Conventionally, thermosetting polyimide resin compositions have been used to obtain such high heat resistance, but in terms of processability, they require heating at high temperatures for long periods of time, and also have insufficient moisture resistance. Although epoxy resin compositions with improved heat resistance have excellent processability, they are insufficient in high heat resistance performance such as mechanical properties at high temperatures, electrical properties, and long-term heat deterioration resistance.

〈問題点を解決するための手段〉 このような背景から本発明者は加工性、耐熱性、耐湿性
、電気絶縁性等に優れた樹脂組成物について鋭意検討し
た結果、特定の樹脂及びマレイミド系化合物を含む樹脂
組成物が上記の目的に適うことを見出し本発明を完成す
るに至った。
<Means for Solving the Problems> Against this background, the inventors of the present invention have conducted intensive studies on resin compositions with excellent processability, heat resistance, moisture resistance, electrical insulation properties, etc., and have found that certain resins and maleimide-based The inventors discovered that a resin composition containing the compound satisfies the above objectives and completed the present invention.

すなわち本発胡は、アリルエーテル化されたフェノール
性水酸基及び少な(とも1個以上のエポキシ基を有する
化合物で付加されたフェノール性水酸基を分子中に有す
るフェノール類ノボラック樹脂(A)、分子中に2個以
上のマレイミド基を有するポリマレイミド化合物(B)
及び分子中に少なくとも1個以上のエポキシ基を有する
化合物(C)からなる半導体等の電子部品の封止等に用
いられる成型用樹脂組成物である。
In other words, this phenolic novolac resin (A) has an allyl etherified phenolic hydroxyl group and a small number of phenolic hydroxyl groups added with a compound having one or more epoxy groups (A). Polymaleimide compound (B) having two or more maleimide groups
and a molding resin composition used for sealing electronic parts such as semiconductors, which is made of a compound (C) having at least one epoxy group in the molecule.

本発明で使用される、フェノール類ノボラック樹脂(A
)はアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニ
ル基、あるいはハロゲン原子で胃換されたフェノール類
、又は無置換のフェノール類、具体的にはフェノール、
クレゾール、エチルフェノール、イソプロピルフェノー
ル、ブチルフェノール、オクチルフェノール、ノニルフ
ェノール、ビニルフェノール、インプロペニルフェノー
ル、フェニルフェノール、ベンジルフェノール、クロル
フェノール、ブロムフェノール、キシレノール、メチル
ブチルフェノール、メトキシフェノール、エトキシフェ
ノール、α−メチルベンジルフェノール、β−フェニル
エチルフェノール、ジヒドロキシベンゼン(各々異性体
を含む。)、ビスフェノールA等のフェノール類の一種
又は二種以上と、ホルムアルデヒド、フルフラール、ア
クロレイン、グリオキザール等のアルデヒド類を公知の
方法で縮合反応させて得られる通常2〜15の平均核体
数を有するノボラック樹脂と、塩化アリル、臭化アリル
、ヨウ化アリル等のハロゲン化アリル、及び分子中に少
なくとも1個以上のエポキシ基を有する化合物の各々所
定量を公知の方法により反応することにより得られるそ
の反応方法としては、先ずノボラック樹脂と所定量のハ
ロゲン化アリルを脱ハロゲン化水素反応させた後、残余
のフェノール性水酸基にアルカリの存在下、又は不存在
下分子中に少なくとも1個以上のエポキシ基を有する化
合物を付加反応せしめる方法、或いはその逆の方法、或
いはハロゲン化アリル及び分子中に少なくとも1個以上
のエポキシ基を有する化合物を同時に反応せしめる方法
があるフェノール類ノボラック樹脂(A)を作るのに用
いられる分子中に少なくとも1個以上のエポキシ基を有
する化合物としては、フェノール類、アルコール類、含
窒素化合物等のグリシジルエーテル、カルボン酸類のグ
リシジルエステル、オレフィン類の過酸化物等によるエ
ポキシ化物等が使用できるが、特にアリルグリシジルエ
ーテル、ビニルフェニルグリシジルエーテル、イソプロ
ペニルフェニルグリシジルエーテル、プロペニルフェニ
ルグリシジルエーテル、アリルフェニルグリシジルエー
テル、プロペニルメトキシフェニルグリシジルエーテル
、アリルメトキシフェニルグリシジルエーテル、イソプ
ロペニルメトキシフェニルグリシジルエーテル、グリシ
ジルアクリレート、グリシジルメタクリレート等のオレ
フィン二重結合を有するエポキシ化合物が好ましく使用
できる。
Phenolic novolac resin (A
) is an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkenyl group, or a phenol substituted with a halogen atom, or an unsubstituted phenol, specifically phenol,
Cresol, ethylphenol, isopropylphenol, butylphenol, octylphenol, nonylphenol, vinylphenol, impropenylphenol, phenylphenol, benzylphenol, chlorophenol, bromophenol, xylenol, methylbutylphenol, methoxyphenol, ethoxyphenol, α-methylbenzylphenol, One or more types of phenols such as β-phenylethylphenol, dihydroxybenzene (each including isomers), and bisphenol A are condensed with aldehydes such as formaldehyde, furfural, acrolein, and glyoxal by a known method. a novolac resin which usually has an average number of nuclei of 2 to 15 obtained by The reaction method is obtained by reacting a predetermined amount by a known method. First, a novolac resin and a predetermined amount of allyl halide are subjected to a dehydrohalogenation reaction, and then the remaining phenolic hydroxyl group is reacted with the remaining phenolic hydroxyl group in the presence of an alkali. Or, a method in which a compound having at least one epoxy group in the molecule is subjected to an addition reaction in the absence of the compound, or vice versa, or a method in which an allyl halide and a compound having at least one epoxy group in the molecule are reacted simultaneously. Examples of compounds having at least one epoxy group in the molecule used to make the phenolic novolac resin (A) include phenols, alcohols, glycidyl ethers of nitrogen-containing compounds, and carboxylic acids. Glycidyl esters, epoxidized products of olefin peroxides, etc. can be used, but especially allyl glycidyl ether, vinyl phenyl glycidyl ether, isopropenylphenyl glycidyl ether, propenylphenyl glycidyl ether, allyl phenyl glycidyl ether, propenyl methoxyphenyl glycidyl ether Epoxy compounds having an olefinic double bond such as , allylmethoxyphenylglycidyl ether, isopropenylmethoxyphenylglycidyl ether, glycidyl acrylate, and glycidyl methacrylate can be preferably used.

ここで、少なくとも1個以上のエポキシ基を有する化合
物で付加された水酸基対アリルエーテル化された水酸基
の比の値は好ましくは110.1〜19、より好ましく
は110.2〜9である。
Here, the value of the ratio of the hydroxyl group added with the compound having at least one epoxy group to the allyl etherified hydroxyl group is preferably 110.1 to 19, more preferably 110.2 to 9.

又、ポリマレイミド化合物(B)は一般式(1)で表さ
れるマレイミド基を分子中に2個以上含有する化合物で
ある。
Further, the polymaleimide compound (B) is a compound containing two or more maleimide groups represented by the general formula (1) in the molecule.

(式中、Rは水素原子又は低級アルキル基を表す。) その具体例としては、N、 N’−ビスマレイミド化合
物としては、N、  N’−ジフェニルメタンビスマレ
イミド、N、N’−フェニレンビスマレイミド、N、N
’−ジフェニルエーテルビスマレイミド、N、  N’
−ジフェニルスルホンビスマレイミド、N、 N’−ジ
シクロヘキシルメタンビスマレイミド、N、N’−キシ
レンビスマレイミド、N、  N’−)リレンビスマレ
イミド、N、N’−キシリレンビスマレイミド、N、N
’−ジフェニルシクロヘキサンビスマレイミド、N、N
’−ジクロロジフェニルメタンビスマレイミド、N、 
N’−ジフェニルシクロヘキサンビスマレイミド、N、
N’−ジフェニルメタンビスメチルマレイミド、N、 
 N’−ジフェニルエーテルビスメチルマレイミド、N
、N’−ジフェニルスルホンビスメチルマレイミド(各
々異性体を含む。) 、N、  N’−エチレンビスマ
レイミド、N、  N’−ヘキサメチレンビスマレイミ
ド、N、N″−へキサメチレンビスメチルマレイミド及
びこれらN、  N’−ビスマレイミド化合物とジアミ
ン類を付加させて得られる末端がN、 N’−ビスマレ
イミド骨格を有するプレポリマー、及びアニリン・ホル
マリン重縮合物のマレイミド化物又はメチルマレイミド
化物等が例示できる。特にN、N′−ジフェニルメタン
ビスマレイミド、NN +−ジフェニルエーテルビスマ
レイミドが好ましい。
(In the formula, R represents a hydrogen atom or a lower alkyl group.) Specific examples thereof include N, N'-bismaleimide compounds such as N, N'-diphenylmethane bismaleimide, N, N'-phenylene bismaleimide ,N,N
'-diphenyl ether bismaleimide, N, N'
-diphenylsulfone bismaleimide, N,N'-dicyclohexylmethane bismaleimide, N,N'-xylene bismaleimide, N,N'-)rylene bismaleimide, N,N'-xylylene bismaleimide, N,N
'-diphenylcyclohexane bismaleimide, N,N
'-dichlorodiphenylmethane bismaleimide, N,
N'-diphenylcyclohexane bismaleimide, N,
N'-diphenylmethane bismethylmaleimide, N,
N'-diphenyl ether bismethylmaleimide, N
, N'-diphenylsulfone bismethylmaleimide (each includes isomers), N, N'-ethylene bismaleimide, N, N'-hexamethylene bismaleimide, N, N''-hexamethylene bismethylmaleimide, and these Examples include a prepolymer whose end has an N,N'-bismaleimide skeleton obtained by adding an N,N'-bismaleimide compound and a diamine, and a maleimide or methylmaleimide of an aniline/formalin polycondensate. Particularly preferred are N,N'-diphenylmethane bismaleimide and NN+-diphenyl ether bismaleimide.

本発明の(C)成分である分子中に少なくとも1個以上
のエポキシ基を有する化合物としてはフェノール類、ア
ルコール類、含窒素化合物等のグリシジルエーテル、カ
ルボン酸類のグリシジルエステル、オレフィン類の過酸
化物等によるエポキシ化物等が使用できるが、特にアリ
ルグリシジルエーテル、ビニルフェニルグリシジルエー
テル、イソプロペニルフェニルグリシジルエーテル、グ
リシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート等の
オレフィン二重結合を有するエポキシ化合物が好ましく
使用できる。
Examples of compounds having at least one epoxy group in the molecule which are component (C) of the present invention include phenols, alcohols, glycidyl ethers of nitrogen-containing compounds, glycidyl esters of carboxylic acids, and peroxides of olefins. Epoxidized products such as those prepared by E. et al. can be used, and in particular, epoxy compounds having an olefinic double bond such as allyl glycidyl ether, vinyl phenyl glycidyl ether, isopropenylphenyl glycidyl ether, glycidyl acrylate, and glycidyl methacrylate can be preferably used.

又、分子内に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹
脂も使用でき、例えばフェノール、0−クレゾール等の
フェノール類とホルムアルデヒドの反応生成物であるノ
ボラック樹脂から誘導されるノボラック系エポキシ樹脂
、フロログリシン、トリス−(4−ヒドロキシフェニル
)−メタン、1.1.2.2−テトラキス(4−ヒドロ
キシフェニル)エタン等の三価以上のフェノール類から
誘導されるグリシジルエーテル化合物、ビスフェノール
A1ビスフエノールF1ハイドロキノン、レゾルシン等
の二価フェノール類又はテトラブロムビスフェノールA
等のハロゲン化ビスフェノール類から誘導されるジグリ
シジルエーテル化合物、p−アミンフェノール、m−ア
ミノフェノール、4−アミノメタクレゾール、6−アミ
ノメタクレゾール、4.4″−ジアミノジフェニルメタ
ン、3.3’−ジアミノジフェニルメタン、4.4’−
ジアミノジフェニルエーテル、3.4′−ジアミノジフ
ェニルエーテル、1.4−ビス(4−アミノフェノキシ
)ベンゼン、1,4−ビス〈3−アミノフェノキシ)ベ
ンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼ
ン、1.3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、
2,2−ビス(4−アミノフェノキシフェニル)プロパ
ン、p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン
、2.4−トルエンジアミン、2.6−)ルエンジアミ
ン、p−キシリレンジアミン、m−キシリレンジアミン
、1゜4−シクロヘキサンビス(メチルアミン)、1.
3−シクロヘキサンビス(メチルアミン)等から誘導さ
れるアミン系エポキシ樹脂、p−オキシ安息香酸、m−
オキシ安息香酸、テレフタル酸、イソフタル酸等の芳香
族カルボン酸から誘導されるグリシジルエステル系化合
物、5.5−ジメチルヒダントイン等から誘導されるヒ
ダントイン系エポキシ樹脂、2.2−ビス(3,4−エ
ポキシシクロヘキシル)プロパン、2.2−ビスC4−
(2゜3−エポキシプロピル)シクロヘキシル〕プロパ
ン、ビニルシクロヘキセンジオキサイド、3.4−エポ
キシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘ
キサンカルボキシレート等の脂環式エポキシ樹脂その他
N、 N−ジグリシジルアニリン等が例示され、これら
のエポキシ樹脂の一種又は二種以上が使用される。
Epoxy resins having two or more epoxy groups in the molecule can also be used, such as phenol, novolak epoxy resins derived from novolac resins which are reaction products of phenols such as 0-cresol, and formaldehyde, and phloroglycin. , tris-(4-hydroxyphenyl)-methane, glycidyl ether compounds derived from trivalent or higher phenols such as 1.1.2.2-tetrakis(4-hydroxyphenyl)ethane, bisphenol A1 bisphenol F1 hydroquinone , dihydric phenols such as resorcinol, or tetrabromobisphenol A
diglycidyl ether compounds derived from halogenated bisphenols such as p-aminephenol, m-aminophenol, 4-aminometacresol, 6-aminometacresol, 4.4″-diaminodiphenylmethane, 3.3′- Diaminodiphenylmethane, 4.4'-
Diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,4-bis<3-aminophenoxy)benzene, 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1.3-bis(3-aminophenoxy)benzene,
2,2-bis(4-aminophenoxyphenyl)propane, p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, 2.6-)luenediamine, p-xylylenediamine, m-xylylenediamine, 1°4-cyclohexanebis(methylamine), 1.
Amine-based epoxy resin derived from 3-cyclohexanebis(methylamine) etc., p-oxybenzoic acid, m-
Glycidyl ester compounds derived from aromatic carboxylic acids such as oxybenzoic acid, terephthalic acid, and isophthalic acid, hydantoin epoxy resins derived from 5,5-dimethylhydantoin, etc., 2,2-bis(3,4- epoxycyclohexyl)propane, 2,2-bisC4-
Alicyclic epoxy resins such as (2゜3-epoxypropyl)cyclohexyl]propane, vinylcyclohexene dioxide, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, and other N, N-diglycidylaniline, etc. For example, one or more of these epoxy resins may be used.

これらの中では、ノボラック系のエポキシ樹脂が好まし
い。
Among these, novolac-based epoxy resins are preferred.

本発明の樹脂組成物にはエポキシ樹脂硬化剤を併用して
もよく、例えばフェノールノボラックやクレゾールノボ
ラック等のノボラック樹脂、ジアミノジフェニルメタン
やジアミノジフェニルスルホン等の芳香族ポリアミン、
無水ピロメリット酸や無水ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸等の酸無水物等が例示されるが、これらに限定され
るものではない。
The resin composition of the present invention may also contain an epoxy resin curing agent, such as novolac resins such as phenol novolak and cresol novolac, aromatic polyamines such as diaminodiphenylmethane and diaminodiphenylsulfone,
Examples include acid anhydrides such as pyromellitic anhydride and benzophenonetetracarboxylic anhydride, but are not limited thereto.

本発明の樹脂組成物の各成分の量的割合は用途、所望の
耐熱性等に応じて適宜選択できる。しかし、一般的には
フェノール類ノボラック樹脂(A)の二重結合に対する
ポリマレイミド化合物(B)の二重結合の比が0.4〜
3となるように選ぶことが好ましい。
The quantitative ratio of each component in the resin composition of the present invention can be appropriately selected depending on the intended use, desired heat resistance, and the like. However, in general, the ratio of the double bonds of the polymaleimide compound (B) to the double bonds of the phenolic novolac resin (A) is 0.4 to
It is preferable to select 3.

又、(C)成分であるエポキシ化合物の量的割合は、樹
脂中(フェノール類ノボラック樹脂(A)+ポリマレイ
ミド化合物(B)+エポキシ化合物(C))の3〜20
重量%が好ましく、より好ましくは5〜15重量%であ
る。エポキシ化合物の添加量が3重量%以下であると、
耐湿性、電気絶縁性の低下を招き、又20重量%以上の
添加は耐熱性を低下させる結果となる。
In addition, the quantitative ratio of the epoxy compound as component (C) is 3 to 20% in the resin (phenolic novolak resin (A) + polymaleimide compound (B) + epoxy compound (C)).
% by weight is preferred, more preferably 5-15% by weight. When the amount of the epoxy compound added is 3% by weight or less,
Moisture resistance and electrical insulation properties are reduced, and addition of 20% by weight or more results in a reduction in heat resistance.

本発明の樹脂組成物中のフェノール類ノボラック樹脂(
A)とポリマレイミド化合物(B)は予め予備反応させ
、プレポリマー化させておくことができる。これにより
、成型性が良好になり、本発明の特徴をさらに高めるこ
とが可能になる。
Phenolic novolak resin in the resin composition of the present invention (
A) and the polymaleimide compound (B) can be reacted in advance to form a prepolymer. This improves moldability and makes it possible to further enhance the features of the present invention.

本発明の樹脂組成物の熱硬化の方法について述べると、
無触媒でも容易に硬化が可能であり、又有機過酸化物、
アゾ化合物等のラジカル重合開始剤を併用して熱硬化す
ることも可能である。このようなラジカル重合開始剤を
例示すると、ベンゾイルパーオキシド、ジ−t−ブチル
パーオキシド、ジクミルパーオキシド、ラウロイルパー
オキシド、アセチルパーオキシド、メチルエチルケトン
パーオキシド、シクロヘキサノンパーオキシド、を−ブ
チルハイドロパーオキシド、アゾビスイソブチロニトリ
ル等がある。その他トリブチルアミン、トリエチルアミ
ン、トリアミルアミン等の三級アミン、塩化ベンジルト
リエチルアンモニウム、水酸化ベンジルトリメチルアン
モニウム等の4級アンモニウム塩、イミダゾール類、ト
リフェニルホスフィン、三弗化ホウ素錯体、遷移金属ア
セチルアセトナート等を併用することも可能である。
Describing the method of thermosetting the resin composition of the present invention,
It can be easily cured without a catalyst, and it can also be cured with organic peroxides,
It is also possible to heat cure using a radical polymerization initiator such as an azo compound. Examples of such radical polymerization initiators include benzoyl peroxide, di-t-butyl peroxide, dicumyl peroxide, lauroyl peroxide, acetyl peroxide, methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, and -butyl hydroperoxide. , azobisisobutyronitrile, etc. Other tertiary amines such as tributylamine, triethylamine, and triamylamine, quaternary ammonium salts such as benzyltriethylammonium chloride and benzyltrimethylammonium hydroxide, imidazoles, triphenylphosphine, boron trifluoride complexes, and transition metal acetylacetonates. It is also possible to use them together.

又硬化速度を調節するために、公知の重合禁止剤を併用
すること可能である。例示すると、2,6−ジーt−ブ
チル−4−メチルフェノール、2. 2’−メチレンビ
ス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4
°−メチレンビス(2,6−ジーt−ブチルフェノール
)、4,4°−チオビス(3−メチル−6−t−ブチル
フェノール)、ハヒドロキノンモノメチルエーテル等の
フェノール類、ハイドロキノン、カテコール、p−t−
ブチルカテコール、2. 5−シーt−ブチルハイドロ
キノン、メチルハイドロキノン、t−ブチルハイドロキ
ノン、ピロガロール等の多価フェノール類、フェノチア
ジン、ベンゾフェノチアジン、アセトアミドフェノチア
ジン等のフェノチアジン系化合物、N−ニトロンジフェ
ニルアミン、N−ニトロンジメチルアミン等のN−ニト
ロソアミン系化合物がある。
Further, in order to control the curing rate, it is possible to use a known polymerization inhibitor in combination. To illustrate, 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, 2. 2'-methylenebis(4-ethyl-6-t-butylphenol), 4,4
Phenols such as °-methylenebis(2,6-di-t-butylphenol), 4,4°-thiobis(3-methyl-6-t-butylphenol), hahydroquinone monomethyl ether, hydroquinone, catechol, p-t-
Butylcatechol, 2. Polyhydric phenols such as 5-sheet t-butylhydroquinone, methylhydroquinone, t-butylhydroquinone, and pyrogallol; phenothiazine compounds such as phenothiazine, benzophenothiazine, and acetamidophenothiazine; -There are nitrosamine compounds.

又、本発明の樹脂組成物には無機質充填剤を添加するこ
とができる。特に半導体の封止に用いる場合は必須であ
る。無機充填剤としては、シリカ粉末、アルミナ、タル
ク、炭酸カルシウム、チタンホワイト、クレー、アスベ
スト、マイカ、ベンガラ、ガラス繊維等が挙げられ、特
にシリカ粉末及びアルミナが好ましい。半導体の封止に
用いる場合の無機質充填剤の配合割合は、樹脂組成物全
量中の25〜90重量%であることが必要であり、好ま
しくは60〜80重量%である。
Moreover, an inorganic filler can be added to the resin composition of the present invention. This is especially essential when used for encapsulating semiconductors. Examples of the inorganic filler include silica powder, alumina, talc, calcium carbonate, titanium white, clay, asbestos, mica, red iron oxide, and glass fiber, with silica powder and alumina being particularly preferred. The blending ratio of the inorganic filler when used for encapsulating a semiconductor needs to be 25 to 90% by weight, preferably 60 to 80% by weight, based on the total amount of the resin composition.

本発明において、その他必要に応じて天然ワックス、合
成ワックス、高級脂肪酸及びその金属塩類、若しくはパ
ラフィン等の離型剤あるいはカーボンブラックのような
着色剤、更にはカップリング剤等を添加してもよい。
In the present invention, other natural waxes, synthetic waxes, higher fatty acids and their metal salts, or release agents such as paraffin, coloring agents such as carbon black, and coupling agents may be added as necessary. .

また、三酸化アンチモン、リン化合物、ブロム化エポキ
シ樹脂等の難燃剤を加えてもよい難燃効果を出すために
は、ブロム化エポキシ樹脂が特に好ましい。
In addition, brominated epoxy resins are particularly preferred in order to produce a flame retardant effect that may be supplemented with flame retardants such as antimony trioxide, phosphorus compounds, and brominated epoxy resins.

〈発明の効果〉 本発明の成型用樹脂組成物は主に、半導体等の電子部品
の封止に用いられれ。そして従来知られている耐熱性樹
脂組成物よりも加工性、耐熱性、耐湿性及び電気絶縁性
に優れ、封止用材料として極めて有用な樹脂組成物であ
る。
<Effects of the Invention> The molding resin composition of the present invention is mainly used for sealing electronic components such as semiconductors. The resin composition has superior processability, heat resistance, moisture resistance, and electrical insulation properties than conventionally known heat-resistant resin compositions, and is extremely useful as a sealing material.

〈実施例〉 以下実施例により説明する。<Example> This will be explained below using examples.

参考例1 〔アリルエーテル化〕 温度・計、撹拌器、滴下漏斗及び還流冷却器を付けた反
応器に軟化点90℃の0−クレゾールノボラック樹脂2
36部(2当量)及び反応溶媒としてジメチルホルムア
ミド840部を仕込み、樹脂を完全に溶解させてから9
7%苛性ソーダ41部(1,0当量)を加え、よ(撹拌
する。反応系の温度を40℃に保ちながら塩化アリル8
2部(1,08当量)を1時間で滴下した後50℃まで
昇温し、同温度で5時間保持する。ついでジメチルホル
ムアミドを留去後トルエン300部を仕込み樹脂を溶解
させた後水洗及び濾過により無機塩を除去し、濾液を濃
縮することにより核置換アリル基を有さないアリルエー
テル化率50%、OH当量276g/eqの赤褐色半固
形樹脂262部を得た。
Reference Example 1 [Allyl etherification] 0-cresol novolak resin 2 with a softening point of 90°C was placed in a reactor equipped with a temperature gauge, a stirrer, a dropping funnel, and a reflux condenser.
After charging 36 parts (2 equivalents) and 840 parts of dimethylformamide as a reaction solvent and completely dissolving the resin,
Add 41 parts (1.0 equivalents) of 7% caustic soda and stir. While keeping the temperature of the reaction system at 40°C, add 8 parts of allyl chloride.
After dropping 2 parts (1.08 equivalents) over 1 hour, the temperature was raised to 50°C and maintained at the same temperature for 5 hours. Next, after distilling off dimethylformamide, 300 parts of toluene was added to dissolve the resin, and then the inorganic salts were removed by washing with water and filtration, and the filtrate was concentrated to obtain an allyl etherification rate of 50%, which does not have a nuclear substituted allyl group, and an OH 262 parts of a reddish-brown semisolid resin with an equivalent weight of 276 g/eq was obtained.

〔エポキシ化合物付加〕[Epoxy compound addition]

温度計、撹拌器及び還流冷却器を付けた反応器に上記ア
リルエーテル化物220.8部(0,8当量)、エポキ
シ当量116 g/eqのアリルグリシジルエーテル9
4.0aB(0,81当量)及び反応溶媒としてアセト
ニトリル730部を仕込み、樹脂を完全に溶解させてか
ら48%苛性ソーダ水溶液6.7部を加え、反応系の温
度を80℃に保ちながら同温度で12時間保持する。
In a reactor equipped with a thermometer, a stirrer, and a reflux condenser, 220.8 parts (0.8 equivalents) of the above allyl ether compound and allyl glycidyl ether 9 with an epoxy equivalent of 116 g/eq were added.
Charge 4.0aB (0.81 equivalents) and 730 parts of acetonitrile as a reaction solvent, and after completely dissolving the resin, add 6.7 parts of a 48% caustic soda aqueous solution, and heat the reaction system at the same temperature while keeping it at 80°C. Hold for 12 hours.

次いでリン酸で中和後、アセトニトリルを留去してから
トルエン730部を仕込み樹脂を溶解させた後、水洗及
び濾過により無機塩を除去し、濾液を濃縮することによ
り二重結合当量196g/eQの褐色粘稠液状樹脂30
8部を得た。この樹脂をALE−1とする参考例2 〔アリルエーテル化〕 参考例1において97%苛性ソーダ62部(1,5当量
)、塩化アリル120部(1゜58当量)を用いた以外
は同様にして核置換アリル基を有さないアリルエーテル
化率75%、OH当量592g/eQの赤橙色粘稠液状
樹脂282部を得た。
Next, after neutralizing with phosphoric acid, acetonitrile was distilled off, 730 parts of toluene was charged, and the resin was dissolved. Inorganic salts were removed by water washing and filtration, and the filtrate was concentrated to obtain a double bond equivalent of 196 g/eQ. Brown viscous liquid resin 30
I got 8 copies. Reference Example 2 using this resin as ALE-1 [Allyl etherification] Same procedure as in Reference Example 1 except that 62 parts (1.5 equivalents) of 97% caustic soda and 120 parts (1°58 equivalents) of allyl chloride were used. 282 parts of a reddish-orange viscous liquid resin having an allyl etherification rate of 75% and an OH equivalent of 592 g/eQ, which does not have a nuclear substituted allyl group, was obtained.

〔エポキシ化合物付加〕[Epoxy compound addition]

参考例1において上記アリルエーテル化物236.8部
(0,4当量〉、アリルグリシジルエーテルに代えてエ
ポキシ当量75g/eqのグリシドール30.8部(0
,41当量)を用いた以外は同様にして二重結合当量2
23g/eqの褐色粘稠液状樹脂262部を得た。この
樹脂をALE−2とする。
In Reference Example 1, 236.8 parts (0.4 equivalents) of the above allyl etherified product and 30.8 parts (0.4 parts) of glycidol having an epoxy equivalent of 75 g/eq were used instead of allyl glycidyl ether.
, 41 equivalents) in the same manner except that double bond equivalents 2
262 parts of a brown viscous liquid resin of 23 g/eq was obtained. This resin is designated as ALE-2.

参考例3 参考例1においてアリルグリシジルエーテルに代えてエ
ポキシ当量195g/eqo:)m−イソプロペニルフ
ェニルグリシジルエーテル158部(0,81当量)を
用いた以外は同様にして二重結合当量235g/eQの
褐色半固形樹脂370部を得た。この樹脂をALE−3
とする。
Reference Example 3 A double bond equivalent of 235 g/eQ was prepared in the same manner as in Reference Example 1 except that 158 parts (0.81 equivalents) of epoxy equivalent:) m-isopropenylphenyl glycidyl ether was used in place of allyl glycidyl ether. 370 parts of a brown semi-solid resin were obtained. This resin is ALE-3
shall be.

参考例4 〔プレポリマー化〕 参考例1において得られたALE−1の100部とN、
N’−ジフェニルメタンビスマレイミド137部を11
四つロフラスコ中に仕込み、160℃まで昇温し溶融混
合した後、この温度で2時間かきまぜながら反応させプ
レポリマーを得た。これをプレポリマーAとする。
Reference Example 4 [Prepolymerization] 100 parts of ALE-1 obtained in Reference Example 1 and N,
137 parts of N'-diphenylmethane bismaleimide to 11 parts
The mixture was charged into a four-bottle flask, heated to 160° C., melted and mixed, and reacted at this temperature for 2 hours with stirring to obtain a prepolymer. This will be referred to as prepolymer A.

参考例5 〔プレポリマー化〕 ALE−1の代わりにALE−2の100部用い、N、
 N’−ジフェニルメタンビスマレイミドの量を102
部とした以外は、参考例4と同様にしてプレポリマーを
得た。これをプレポリマーBとする。
Reference Example 5 [Prepolymerization] Using 100 parts of ALE-2 instead of ALE-1, N,
The amount of N'-diphenylmethane bismaleimide was 102
A prepolymer was obtained in the same manner as in Reference Example 4 except that This will be referred to as prepolymer B.

参考例6 〔プレポリマー化〕 参考例3において得られたALE−3の100部とN、
N’−ジフェニルメタンビスマレイミド137部を10
0℃に加熱した2本ロールにより、溶融混合し約20分
間反応させプレポリマーを得た。これをプレポリマーC
とする。
Reference Example 6 [Prepolymerization] 100 parts of ALE-3 obtained in Reference Example 3 and N,
137 parts of N'-diphenylmethane bismaleimide in 10
The mixtures were melt-mixed using two rolls heated to 0°C and reacted for about 20 minutes to obtain a prepolymer. This is prepolymer C
shall be.

実施例1〜5、比較例1 参考例3で得られるフェノール類ノボラック樹脂ALE
−3及び参考例4〜6で得られるプレポリマーA−Cと
、N、 N’−ジフェニルメタンビスマレイミド、0−
タレゾールノ。
Examples 1 to 5, Comparative Example 1 Phenolic novolac resin ALE obtained in Reference Example 3
-3 and the prepolymers A-C obtained in Reference Examples 4 to 6, and N,N'-diphenylmethane bismaleimide, 0-
Talezorno.

ボラック型エポキシ樹脂、硬化促進剤、充填剤、カップ
リング剤及び離型剤を、表−1に示した配合に従って5
0〜120℃X5分の条件で加熱ロールにより溶融混練
し冷却後粉砕して各々の樹脂組成物を得た。次にこれら
の組成物を175℃X70kg/cm” X5分の条件
でトランスファー成型し、200℃X5hr後硬化を行
った後、物性評価を行った。そ、の結果を表−2に示す
Borac type epoxy resin, curing accelerator, filler, coupling agent, and mold release agent were added according to the formulation shown in Table 1.
Each resin composition was obtained by melt-kneading using heated rolls under the conditions of 0 to 120°C for 5 minutes, cooling, and pulverizing. Next, these compositions were transfer molded under the conditions of 175° C. x 70 kg/cm” x 5 minutes, and after post-curing at 200° C. for 5 hours, the physical properties were evaluated. The results are shown in Table 2.

比較例2 0−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当
量195g/eq)、フェノールノボラック樹脂(OH
当量110g/eQ)、硬化促進剤、充填剤、離型剤及
びカップリング剤を表−1に示した配合に従って、実施
例と同様の方法で混練し樹脂組成物を得た。次にこれを
175℃X70kg/cm’ X5分の条件でトランス
ファー成型し、180tX5hr後硬化を行った後、物
性評価を行った。その結果を表−2に示す。
Comparative Example 2 0-cresol novolac type epoxy resin (epoxy equivalent: 195 g/eq), phenol novolac resin (OH
equivalent weight 110 g/eQ), a curing accelerator, a filler, a mold release agent, and a coupling agent were kneaded in the same manner as in Examples according to the formulation shown in Table 1 to obtain a resin composition. Next, this was transfer molded under the conditions of 175° C. x 70 kg/cm' x 5 minutes, and after post-curing for 180 t x 5 hr, the physical properties were evaluated. The results are shown in Table-2.

表−2より明らかなように、本発明による組成物で得ら
れる硬化物は優れた耐熱性、耐湿性及び電気絶縁性を有
していることがわかる。
As is clear from Table 2, the cured product obtained from the composition according to the present invention has excellent heat resistance, moisture resistance, and electrical insulation properties.

さらに、本発明による組成物は175℃程度の温度で短
時間硬化可能であり、又流れ性も良好であり、優れた加
工性を有していることがわかる。
Furthermore, it can be seen that the composition according to the present invention can be cured for a short time at a temperature of about 175°C, has good flowability, and has excellent processability.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)アリルエーテル化されたフェノール性水酸基及び
少なくとも1個以上のエポキシ 基を有する化合物で付加されたフェノール 性水酸基を分子中に有するフェノール類ノ ボラック樹脂(A)、分子中に2個以上の マレイミド基を有するポリマレイミド化合 物(B)及び分子中に少なくとも1個以上 のエポキシ基を有する化合物(C)からな る成型用の樹脂組成物。
(1) Phenolic novolac resin (A) having in its molecule a phenolic hydroxyl group added with a compound having an allyl etherified phenolic hydroxyl group and at least one epoxy group, and a phenolic novolac resin (A) having two or more maleimides in the molecule A resin composition for molding comprising a polymaleimide compound (B) having a group and a compound (C) having at least one epoxy group in the molecule.
(2)化合物(C)がノボラック系エポキシ樹脂である
特許請求の範囲第1項の成型用 の樹脂組成物。
(2) The resin composition for molding according to claim 1, wherein the compound (C) is a novolak epoxy resin.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003500509A (en) * 1999-05-21 2003-01-07 アルバート カポテ ミグエル High performance cyanate-bismaleimide-epoxy resin compositions for printed circuits and encapsulants

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JP2003500509A (en) * 1999-05-21 2003-01-07 アルバート カポテ ミグエル High performance cyanate-bismaleimide-epoxy resin compositions for printed circuits and encapsulants

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