JPH075821B2 - Electronic parts - Google Patents

Electronic parts

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JPH075821B2
JPH075821B2 JP20701887A JP20701887A JPH075821B2 JP H075821 B2 JPH075821 B2 JP H075821B2 JP 20701887 A JP20701887 A JP 20701887A JP 20701887 A JP20701887 A JP 20701887A JP H075821 B2 JPH075821 B2 JP H075821B2
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bismaleimide
parts
present
allyl
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JP20701887A
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浩 塩見
邦政 神尾
康久 斉藤
裕 長谷川
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住友化学工業株式会社
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Description

【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は耐熱性に優れた電気・電子部品に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Field of Industrial Application> The present invention relates to an electric / electronic component having excellent heat resistance.

<従来技術およびその問題点> 従来半導体等の電気・電子部品はエポキシ樹脂を用いて
成型封止されているものが広く用いられていた。
<Prior Art and Its Problems> Conventionally, electrical and electronic parts such as semiconductors, which are molded and sealed using an epoxy resin, have been widely used.

このエポキシ樹脂封止は、ガラス、金属、セラミックを
用いたハーメチックシール方式に比較して経済的に有利
なために広く実用化されている。しかしながら、近年電
子部品の使用条件は厳しくなる傾向にあり、その結果封
止材料の耐熱性は重要な特性になってきた。
The epoxy resin encapsulation has been widely put into practical use because it is economically advantageous as compared with the hermetic sealing method using glass, metal, or ceramic. However, in recent years, the usage conditions of electronic parts have tended to be severe, and as a result, the heat resistance of the sealing material has become an important characteristic.

従来このような高耐熱性を得る目的には熱硬化性のポリ
イミド樹脂封止が使用されているが、加工性の面では高
温で長時間の加熱が必要であり、経済性の面で大きな欠
点を有している。
Conventionally, thermosetting polyimide resin encapsulation has been used for the purpose of obtaining such high heat resistance, but in terms of workability, heating at high temperature for a long time is required, which is a major drawback in terms of economy. have.

また耐熱性に改良を加えたエポキシ樹脂封止は加工性に
優れているものの、これによって封止された電子部品は
高温時の機械特性、電気特性及び長期の耐熱劣化性など
高度の耐熱性能は不充分であった。
In addition, although the epoxy resin encapsulation with improved heat resistance has excellent workability, the electronic components encapsulated by this have high heat resistance such as mechanical properties at high temperature, electrical properties, and long-term heat deterioration resistance. It was not enough.

<問題点を解決するための手段> このような背景から本発明者は加工性、耐熱性に優れた
電子部品について鋭意検討した結果、特定の樹脂及びマ
レイミド系化合物を含む樹脂組成物により封止された電
子部品が上記目的に適うことを見い出し本発明を完成す
るに至った。
<Means for Solving Problems> From such a background, as a result of diligent study by the present inventor about electronic parts having excellent processability and heat resistance, the present inventors have sealed with a resin composition containing a specific resin and a maleimide compound. The inventors have found that the produced electronic parts meet the above-mentioned object and completed the present invention.

すなわち本発明は、部分的にアリルエーテル化された置
換フェノール類ノボラック樹脂(A)、分子中に2個以
上のマレイミド基を有するポリマレイミド化合物
(B)、及び充填剤(C)からなる樹脂組成物により成
型、封止されている電子部品に関するものである。
That is, the present invention is a resin composition comprising a partially allyl etherified substituted phenol novolac resin (A), a polymaleimide compound (B) having two or more maleimide groups in the molecule, and a filler (C). The present invention relates to an electronic component molded and sealed by a product.

以下に本発明を詳細に説明する。The present invention will be described in detail below.

本発明で使用される部分的にアリルエーテル化された置
換フェノール類ノボラック樹脂(A)とは、アルキル
基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基あるいは
ハロゲン原子で置換されたフェノール類、具体的にはク
レゾール、エチルフェノール、イソプロピルフェノー
ル、ブチルフェノール、オクチルフェノール、ノニルフ
ェノール、ビニルフェノール、イソプロペニルフェノー
ル、フェニルフェノール、ペンジルフェノール、クロル
フェノール、ブロムフェノール、キシレノール、メチル
ブチルフェノール(夫々異性体を含む)等の置換フェノ
ールの一種又は二種以上とホルムアルデヒド、フルフラ
ール、アクロレイン等のアルデヒド類を公知の方法で縮
合反応させて得られる通常2〜15の平均核体数を有する
ノボラック樹脂と塩化アリル、臭化アリル、ヨウ化アリ
ル等のハロゲン化アリルとをアルカリの存在化反応させ
て得られる。
The partially allyl etherified substituted phenol novolac resin (A) used in the present invention is a phenol substituted with an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, an aralkyl group or a halogen atom, specifically, Of substituted phenols such as cresol, ethylphenol, isopropylphenol, butylphenol, octylphenol, nonylphenol, vinylphenol, isopropenylphenol, phenylphenol, pentylphenol, chlorophenol, bromphenol, xylenol, methylbutylphenol (including isomers) A novolak resin usually having an average number of nuclei of 2 to 15 obtained by condensation reaction of one or more kinds with aldehydes such as formaldehyde, furfural, acrolein, etc. by a known method, and a chloride. Lil, allyl bromide, obtained by reacting the presence of an alkali and allyl halide such as allyl iodide.

ここで、未置換水酸基対アリルエーテル化された水酸基
の比の値は好ましくは1/0.2〜9、より好ましくは1/0.3
〜6である。この比が上述の範囲を越えると、硬化性あ
るいは耐熱性が低下する。
Here, the value of the ratio of the unsubstituted hydroxyl group to the allyl etherified hydroxyl group is preferably 1 / 0.2 to 9, more preferably 1 / 0.3.
~ 6. If this ratio exceeds the above range, the curability or heat resistance will decrease.

本発明においては置換フェノール類ノボラックを原料と
しているためクライゼン転移によるフェノール水酸基の
生成は殆ど起こらずアリルエーテル基と水酸基が別々の
芳香環に存在していることが大きな特徴である。
In the present invention, since the substituted phenols novolac is used as a raw material, the generation of the phenol hydroxyl group by Claisen transfer hardly occurs, and the major feature is that the allyl ether group and the hydroxyl group are present in different aromatic rings.

又、ポリマレイミド化合物(B)は一般式(1)で表さ
れるマレイミド基を分子中に2個以上含有する化合物で
ある。
The polymaleimide compound (B) is a compound containing two or more maleimide groups represented by the general formula (1) in the molecule.

(式中、Rは水素原子又は低級アルキル基を表す。) その具体例としては、N,N′−ビスマレイミド化合物と
しては、N,N′−ジフェニルメタンビスマレイミド、N,
N′−フェニレンビスマレイミド、N,N′−ジフェニルエ
ーテルビスマレイミド、N,N′−ジフェニルスルホンビ
スマレイミド、N,N′−ジシクロヘキシルメタンビスマ
レイミド、N,N′−キシレンビスマレイミド、N,N′−ト
リレンビスマレイミド、N,N′−キシリレンビスマレイ
ミド、N,N′−ジフェニルシクロヘキサンビスマレイミ
ド、N,N′−ジクロロジフェニルメタンビスマレイミ
ド、N,N′−ジフェニルシクロヘキサンビスマレイミ
ド、N,N′−ジフェニルメタンビスメチルマレイミド、
N,N′−ジフェニルエーテルビスメチルマレイミド、N,
N′−ジフェニルスルホンビスメチルマレイミド(各々
異性体を含む。)、N,N′−エチレンビスマレイミド、
N,N′−ヘキサメチレンビスマレイミド、N,N′−ヘキサ
メチレンビスメチルマレイミド及びこれらN,N′−ビス
マレイミド化合物とジアミン類を付加させて得られる末
端がN,N′−ビスマレイミド骨格を有するプレポリマ
ー、及びアニリン・ホルマリン重縮合物のマレイミド化
物又はメチルマレイミド化物等が例示できる。特にN,
N′−ジフェニルメタンビスマレイミド、N,N′−ジフェ
ニルエーテルビスマレイミドが好ましい。
(In the formula, R represents a hydrogen atom or a lower alkyl group.) Specific examples thereof include N, N'-diphenylmethane bismaleimide and N, N'-diphenylmethane bismaleimide.
N'-phenylene bismaleimide, N, N'-diphenyl ether bismaleimide, N, N'-diphenylsulfone bismaleimide, N, N'-dicyclohexylmethane bismaleimide, N, N'-xylene bismaleimide, N, N'- Tolylene bismaleimide, N, N'-xylylene bismaleimide, N, N'-diphenylcyclohexane bismaleimide, N, N'-dichlorodiphenylmethane bismaleimide, N, N'-diphenylcyclohexane bismaleimide, N, N'- Diphenylmethanebismethylmaleimide,
N, N′-diphenyl ether bismethylmaleimide, N,
N'-diphenylsulfone bismethylmaleimide (each including isomers), N, N'-ethylene bismaleimide,
N, N'-hexamethylene bismaleimide, N, N'-hexamethylene bismaleimide and N, N'-bismaleimide compound and the terminal obtained by adding diamines with N, N'-bismaleimide skeleton Examples thereof include a prepolymer, a maleimide compound or a methylmaleimide compound of an aniline / formalin polycondensation product. Especially N,
N'-diphenylmethane bismaleimide and N, N'-diphenyl ether bismaleimide are preferred.

本発明の樹脂組成物の各成分の量的割合は用途、所望の
耐熱性等に応じて適宜選択できる。しかし、一般的には
部分アリルエーテル化フェノール類ノボラック樹脂
(A)の二重結合と水酸基に対するポリマレイミド化合
物(B)の二重結合の比が0.4〜8となるように選ぶこ
とが好ましい。
The quantitative ratio of each component of the resin composition of the present invention can be appropriately selected depending on the application, desired heat resistance and the like. However, it is generally preferred that the ratio of the double bond of the partially allyl etherified phenol novolak resin (A) to the double bond of the polymaleimide compound (B) to the hydroxyl group is 0.4 to 8.

いずれの成分のどちらか一方が上述の範囲より多いと、
硬化性、耐熱性が低下する。
If either component is more than the above range,
Curability and heat resistance decrease.

また本発明による樹脂組成物中のフェノール類ノボラッ
ク樹脂(A)とポリマレイミド樹脂(B)は予め予備反
応させ、プレポリマー化させておくことが出来る。これ
により、成型性がさらに良好となり、本発明の特徴をさ
らに高めることが可能になる。
Further, the phenolic novolak resin (A) and the polymaleimide resin (B) in the resin composition according to the present invention can be preliminarily reacted and prepolymerized. Thereby, the moldability is further improved, and the features of the present invention can be further enhanced.

本発明で用いられる充填剤(C)としては溶融シリカ、
結晶シリカ、アルミナ、タルク、炭酸カルシウム、チタ
ンホワイト、クレー、アスベスト、マイカ、ベンガラ、
ガラス繊維等が挙げられるが、中でも特に溶融シリカ、
結晶シリカ、アルミナが好ましく用いられる。
As the filler (C) used in the present invention, fused silica,
Crystalline silica, alumina, talc, calcium carbonate, titanium white, clay, asbestos, mica, red iron oxide,
Examples include glass fibers, but among others, fused silica,
Crystalline silica and alumina are preferably used.

さらに、充填剤の配合割合は、半導体の封止に用いる場
合には樹脂組成物全量中の25〜90重量%であることが必
要であり、好ましくは60〜80重量%である。
Further, when used for sealing a semiconductor, the blending ratio of the filler needs to be 25 to 90% by weight, preferably 60 to 80% by weight, based on the total amount of the resin composition.

本発明の樹脂組成物の熱硬化の方法について述べると、
無触媒でも容易に硬化が可能であるが、硬化促進剤を用
いることによりさらに容易に硬化せしめることが可能と
なる。このような触媒について例示すると、トリフェニ
ルホスフィン、トリ−4−メチルフェニルホスフィン、
トリ−4−メトキシフェニルホスフィン、トリブチルホ
スフィン、トリオクチルホスフィン、トリ−2−シアノ
エチルホスフィンなどの有機ホスフィン化合物、またベ
ンゾイルパーオキシド、ジ−t−ブチルパーオキシド、
ジクミルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、アセ
チルパーオキシド、メチルエチルケトンパーオキシド、
シクロヘキサノンパーオキシド、t−ブチルハイドロパ
ーオキシド、アゾビスイソブチロニトリル等のラジカル
重合開始剤その他トリブチルアミン、トリエチルアミ
ン、トリアミルアミン等の三級アミン、塩化ベンジルト
リエチルアンモニウム、水酸化ベンジルトリメチルアン
モニウム等の4級アンモニウム塩、イミダゾール類、三
弗化ホウ素錯体、遷移金属アセチルアセトナート等が例
示されるが、これらに限定されるものではない。
The method of thermosetting the resin composition of the present invention will be described.
Although it can be easily cured without a catalyst, it can be further easily cured by using a curing accelerator. Examples of such a catalyst include triphenylphosphine, tri-4-methylphenylphosphine,
Organic phosphine compounds such as tri-4-methoxyphenylphosphine, tributylphosphine, trioctylphosphine and tri-2-cyanoethylphosphine, benzoyl peroxide, di-t-butyl peroxide,
Dicumyl peroxide, lauroyl peroxide, acetyl peroxide, methyl ethyl ketone peroxide,
Radical polymerization initiators such as cyclohexanone peroxide, t-butyl hydroperoxide and azobisisobutyronitrile, and other tertiary amines such as tributylamine, triethylamine and triamylamine, benzyltriethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium hydroxide, etc. Examples thereof include quaternary ammonium salts, imidazoles, boron trifluoride complexes, transition metal acetylacetonates, and the like, but are not limited thereto.

これらの中でも、有機ホスフィン化合物が特に好まし
い。
Among these, organic phosphine compounds are particularly preferable.

又硬化速度を調節するために、公知の重合禁止剤を併用
することも可能である。例示すると、2,6−ジ−t−ブ
チル−4−メチルフェノール、2,2′−メチレンビス
(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4′−
メチレンビス(2,6−ジ−t−ブチルフェノール)、4,
4′−チオビス(8−メチル−6−t−ブチルフェノー
ル)、ハイヒドロキノンモノメチルエーテル等のフェノ
ール類、ハイドロキノン、カテコール、p−t−ブチル
カテコール、2,5−ジ−t−ブチルハイドロキノン、メ
チルハイドロキノン、t−ブチルハイドロキノン、ピロ
ガロール等の多価フェノール類、フェノチアジン、ベン
ゾフェノチアジン、アセトアミドフェノチアジン等のフ
ェノチアジン系化合物、N−ニトロソジフェニルアミ
ン、N−ニトロソジメチルアミン等のN−ニトロソアミ
ン系化合物がある。
It is also possible to use a known polymerization inhibitor together in order to adjust the curing rate. For example, 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, 2,2'-methylenebis (4-ethyl-6-t-butylphenol), 4,4'-
Methylenebis (2,6-di-t-butylphenol), 4,
Phenols such as 4′-thiobis (8-methyl-6-t-butylphenol) and high hydroquinone monomethyl ether, hydroquinone, catechol, pt-butylcatechol, 2,5-di-t-butylhydroquinone, methylhydroquinone, There are polyhydric phenols such as t-butylhydroquinone and pyrogallol, phenothiazine compounds such as phenothiazine, benzophenothiazine and acetamidophenothiazine, and N-nitrosamine compounds such as N-nitrosodiphenylamine and N-nitrosodimethylamine.

本発明の電子部品の成型封止に用いられる樹脂組成物に
は公知のエポキシ樹脂及びエポキシ硬化剤を併用しても
よい。これらについて例示すると、エポキシ樹脂として
は、フェノール、o−クレゾール等のフェノール類とホ
ルムアルデヒドの反応生成物であるノボラック樹脂から
誘導されるノボラック系エポキシ樹脂、フロログリシ
ン、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)−メタン、1,
1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン
等の三価以上のフェノール類から誘導されるグリシジル
エーテル化合物、ビスフェノールA、ビスフェノール
F、ハイドロキノン、レゾルシン等の二価フェノール類
又はテトラブロムビスフェノールA等のハロゲン化ビス
フェノール類から誘導されるジグリシジルエーテル化合
物、p−アミノフェノール、m−アミノフェノール、4
−アミノメタクレゾール、6−アミノメタクレゾール、
4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′−ジアミノジ
フェニルメタン、4,4′−ジアミノジフェニルエーテ
ル、3,4′−ジアミノジフェニルエーテル、1,4−ビス
(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(3−
アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノ
フェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノ
キシ)ベンゼン、2,2−ビス(4−アミノフェノキシフ
ェニル)プロパン、p−フェニレンジアミン、m−フェ
ニレンジアミン、2,4−トルエンジアミン、2,6−トルエ
ンジアミン、p−キシリレンジアミン、m−キシリレン
ジアミン、1,4−シクロヘキサンビス(メチルアミ
ン)、1,3−シクロヘキサンビス(メチルアミン)等か
ら誘導されるアミン系エポキシ樹脂、p−オキシ安息香
酸、m−オキシ安息香酸、テレフタル酸、イソフタル酸
等の芳香族カルボン酸から誘導されるグリシジルエステ
ル系化合物、5,5−ジメチルヒダントイン等から誘導さ
れるヒダントイン系エポキシ樹脂、2,2−ビス(3,4−エ
ポキシシクロヘキシル)プロパン、2,2−ビス[4−
(2,3−エポキシプロピル)シクロヘキシル]プロパ
ン、ビニルシクロヘキセンジオキサイド、3,4−エポキ
シシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサ
ンカルボキシレート等の脂環式エポキシ樹脂その他N,N
−ジグリシジルアニリン等があり、これらのエポキシ樹
脂の一種又は二種以上が使用される。
A known epoxy resin and epoxy curing agent may be used in combination in the resin composition used for molding and sealing the electronic component of the present invention. Illustrating these, examples of the epoxy resin include a novolac-based epoxy resin derived from a novolac resin, which is a reaction product of phenols such as phenol and o-cresol, and formaldehyde, phloroglysin, tris- (4-hydroxyphenyl)-. Methane, 1,
Glycidyl ether compounds derived from trihydric or higher phenols such as 1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, dihydric phenols such as bisphenol A, bisphenol F, hydroquinone and resorcin, or tetrabromobisphenol A Diglycidyl ether compounds derived from halogenated bisphenols such as p-aminophenol, m-aminophenol, 4
-Aminometacresol, 6-aminometacresol,
4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (3-
Aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 2,2-bis (4-aminophenoxyphenyl) propane, p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, 2,6-toluenediamine, p-xylylenediamine, m-xylylenediamine, 1,4-cyclohexanebis (methylamine), 1,3-cyclohexanebis (methyl Amine-based epoxy resins, glycidyl ester-based compounds derived from aromatic carboxylic acids such as p-oxybenzoic acid, m-oxybenzoic acid, terephthalic acid and isophthalic acid, 5,5-dimethylhydantoin Hydantoin-based epoxy resin derived from etc., 2,2-bis (3,4-epoxycyclohexyl) propane, 2,2- The [4-
Alicyclic epoxy resins such as (2,3-epoxypropyl) cyclohexyl] propane, vinylcyclohexenedioxide, and 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate Other N, N
-Diglycidyl aniline and the like, and one or more of these epoxy resins are used.

又エポキシ樹脂硬化剤についても公知のものが使用で
き、例えばフェノールノボラックやクレゾールノボラッ
ク等のノボラック樹脂、ジアミノジフェニルメタンやジ
アミノジフェニルスルホン等の芳香族ポリアミン、無水
ピロメリット酸や無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸
等の酸無水物等が例示されるが、これらに限定されるも
のではない。
Known epoxy resin curing agents can also be used, for example, novolac resins such as phenol novolac and cresol novolac, aromatic polyamines such as diaminodiphenylmethane and diaminodiphenylsulfone, and acids such as pyromellitic dianhydride and benzophenone tetracarboxylic anhydride. Examples thereof include anhydrides, but are not limited to these.

本発明において、樹脂組成物にはその他必要に応じてシ
リコーンオイル天然ワックス、合成ワックス、高級脂肪
酸及びその金属塩類、若しくはパラフィン等の離型剤あ
るいはカーボンブラックのような着色剤、更にはカップ
リング剤を添加してもよい。また、三酸化アンチモン、
リン化合物、ブロム化エポキシ樹脂等の難燃剤を加えて
もよい。このようにして、得られた樹脂組成物はロール
あるいはコニーダー等の一般の混練機により、溶融混練
することによりコンパウンド化が可能である。
In the present invention, the resin composition may further include a silicone oil natural wax, a synthetic wax, a higher fatty acid and a metal salt thereof, a release agent such as paraffin or a colorant such as carbon black, and a coupling agent, if necessary. May be added. Also, antimony trioxide,
A flame retardant such as a phosphorus compound or a brominated epoxy resin may be added. The resin composition thus obtained can be compounded by melt-kneading with a general kneader such as a roll or a cokneader.

本発明の電子部品は、このコンパウンドを用い160〜200
℃程度の温度でトランスファー成型あるいは圧縮成型す
ることによって容易に作成することができる。
The electronic component of the present invention is 160-200 using this compound.
It can be easily prepared by transfer molding or compression molding at a temperature of about ° C.

<発明の効果> かくして、本発明によって得られた電子部品は従来知ら
れている電子部品よりも、耐熱性、低応力性等に極めて
優れている。
<Effects of the Invention> Thus, the electronic component obtained by the present invention is extremely superior in heat resistance, low stress, etc., to the conventional electronic components.

<実施例> 以下実施例により説明する。<Examples> Examples will be described below.

参考例1 温度計、撹拌機、滴下漏斗及び還流冷却器を付けた反応
器に軟化点90℃のo−クレゾールノボラック樹脂236部
(2当量)及び反応溶媒としてジメチルスルホキシド84
0部を仕込み、樹脂を完全に溶解させてから97%苛性ソ
ーダ28.7部(0.7当量)を加え、よく撹拌する。反応系
の温度を40℃に保ちながら塩化アリル55.9部(0.74当
量)を1時間で滴下した後50℃まで昇温し、同温度で5
時間保持する。ついでジメチルスルホキシドを留去後メ
チルイソブチルケトン300部を仕込み樹脂を溶解させた
後水洗及び過により無機塩を除去し、液を濃縮する
ことにより核置換アリル基を有さないアリルエーテル化
率35%、OH当量208g/eqの赤褐色半固形樹脂230部を得
た。(ALN−1とする)。
Reference Example 1 236 parts (2 equivalents) of o-cresol novolac resin having a softening point of 90 ° C. and dimethyl sulfoxide 84 as a reaction solvent in a reactor equipped with a thermometer, a stirrer, a dropping funnel and a reflux condenser.
Charge 0 parts, completely dissolve the resin, add 28.7 parts (0.7 equivalents) of 97% caustic soda, and stir well. While maintaining the temperature of the reaction system at 40 ° C, 55.9 parts (0.74 equivalents) of allyl chloride was added dropwise over 1 hour, then the temperature was raised to 50 ° C and the temperature was raised to 5 ° C.
Hold for time. Then, after distilling off dimethylsulfoxide, 300 parts of methyl isobutyl ketone was charged and the resin was dissolved, then the inorganic salt was removed by washing with water and then by filtration, and the liquid was concentrated to concentrate allyl groups having a nucleus-substituted allyl group of 35%. , 230 parts of a reddish brown semi-solid resin having an OH equivalent of 208 g / eq was obtained. (ALN-1).

参考例2 苛性ソーダの量を41部(1.0当量)、塩化アリルの量を8
0部(1.05当量)とした以外は参考例1と同様にして、
アリルエーテル化率50%、OH当量276g/eqの赤褐色半固
形樹脂262部を得た(ALN−2とする)。
Reference Example 2 41 parts (1.0 equivalent) of caustic soda and 8 parts of allyl chloride
In the same manner as in Reference Example 1 except that 0 part (1.05 equivalent) was used,
262 parts of a reddish-brown semi-solid resin having an allyl etherification rate of 50% and an OH equivalent of 276 g / eq was obtained (designated ALN-2).

参考例3 苛性ソーダの量を57.1部(1.4当量)、塩化アリルの量
を111.7部(1.47当量)とした以外は参考例1と同様に
して、アリルエーテル化率70%、OH当量487g/eqの赤褐
色粘稠液状樹脂280部を得た(ALN−8とする)。
Reference Example 3 In the same manner as in Reference Example 1 except that the amount of caustic soda was 57.1 parts (1.4 equivalents) and the amount of allyl chloride was 111.7 parts (1.47 equivalents), the allyl etherification rate was 70% and the OH equivalent was 487 g / eq. 280 parts of a reddish brown viscous liquid resin was obtained (ALN-8).

参考例4 〔プレポリマー化〕 参考例2で得られたALN−2の100部とN,N′−ジフェニ
ルメタンビスマレイミド259部を1四つ口フラスコ中
に仕込み、130℃まで昇温し溶融混合した後、この温度
で約1時間かきまぜながら反応させプレポリマーを得
た。これをプレポリマーAとする。
Reference Example 4 [Prepolymerization] 100 parts of ALN-2 obtained in Reference Example 2 and 259 parts of N, N'-diphenylmethane bismaleimide were charged in a four-necked flask, heated to 130 ° C and melt-mixed. After that, the mixture was reacted with stirring at this temperature for about 1 hour to obtain a prepolymer. This is designated as prepolymer A.

実施例1〜4 参考例1〜3で得られるフェノール類ノボラック樹脂AL
N−1〜3及び参考例4で得られるプレポリマーとN,N′
−ジフェニルメタンビスマレイミド、o−クレゾールノ
ボラック型エポキシ樹脂、硬化促進剤、充填剤、カップ
リング剤及び離型剤を、表−1に示した配合に従って50
〜120℃X5分の条件で加熱ロールにより溶融混練し冷却
後粉砕して各々の樹脂組成物を得た。次にこれらの組成
物を175℃×70kg/cm2×5分の条件でトランスファー成
型し、200℃×5hr後硬化を行った後、物性評価を行っ
た。その結果を表−2に示す。
Examples 1 to 4 Phenolic novolac resin AL obtained in Reference Examples 1 to 3
Prepolymers obtained in N-1 to 3 and Reference Example 4 and N, N '
-Diphenylmethane bismaleimide, o-cresol novolac type epoxy resin, curing accelerator, filler, coupling agent and mold release agent according to the formulation shown in Table-1.
Each resin composition was obtained by melt-kneading with a heating roll under the condition of 120 ° C x 5 minutes, cooling and pulverizing. Next, these compositions were transfer-molded under the conditions of 175 ° C. × 70 kg / cm 2 × 5 minutes, post-cured at 200 ° C. × 5 hours, and then evaluated for physical properties. The results are shown in Table-2.

比較例1 o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当
量195g/eq)、フェノールノボラック樹脂(OH当量110g/
eq)、硬化促進剤、充填剤、離型剤及びカップリング剤
を表−1に示した配合に従って、実施例と同様の方法で
混練し樹脂組成物を得た。次にこれを175℃×70kg/cm2
×5分の条件でトランスファー成型し、180℃×5hr後硬
化を行った後、物性評価を行った。
Comparative Example 1 o-cresol novolac type epoxy resin (epoxy equivalent 195 g / eq), phenol novolac resin (OH equivalent 110 g / eq)
eq), a curing accelerator, a filler, a release agent, and a coupling agent were kneaded in the same manner as in the examples according to the formulations shown in Table 1 to obtain a resin composition. Next, this is 175 ℃ × 70kg / cm 2
Transfer molding was performed under the condition of × 5 minutes, and after curing at 180 ° C. for 5 hours, the physical properties were evaluated.

その結果を表−2に示す。The results are shown in Table-2.

N,N−ジフェニルメタンビスマレイミド;住友化学社製 ESCN−195XL;住友化学社製エポキシ樹脂(エポキシ当量
195g/eq) アミノシランカップリング剤;日本ユニカ社製A−1100 エポキシシランカップリング剤;東レシリコーン社製SH
6040 溶融シリカ;電気化学社製FS−891 表−2より明らかなように、本発明の電子部品に用いら
れる樹脂組成物により得られる成型物は従来のエポキシ
樹脂を用いた場合と比べてはるかにすぐれた耐熱性を有
している。
N, N-diphenylmethane bismaleimide; Sumitomo Chemical Co., Ltd. ESCN-195XL; Sumitomo Chemical Co., Ltd. epoxy resin (epoxy equivalent
195g / eq) Aminosilane coupling agent; A-1100 epoxy silane coupling agent manufactured by Nippon Unica; SH manufactured by Toray Silicone
6040 Fused silica; FS-891 manufactured by Denki Kagaku As is clear from Table-2, the molded product obtained from the resin composition used for the electronic component of the present invention has far superior heat resistance as compared with the case of using the conventional epoxy resin.

しかも硬化性、流れ性はエポキシ樹脂を用いた場合と同
様であり優れた加工性を有していることがわかる。
Moreover, the curability and flowability are the same as when using the epoxy resin, and it can be seen that it has excellent processability.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長谷川 裕 大阪府大阪市此花区春日出中3丁目1番98 号 住友化学工業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭62−207354(JP,A) 特開 昭63−230729(JP,A) 特開 昭63−230728(JP,A) 特開 昭63−3033(JP,A) 特開 昭62−207354(JP,A) 特開 昭62−138534(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Inventor Yu Hasegawa 3-98 Kasugadechu, Konohana-ku, Osaka City, Osaka Prefecture Sumitomo Chemical Co., Ltd. (56) Reference JP-A-62-207354 (JP, A) ) JP-A-63-230729 (JP, A) JP-A-63-230728 (JP, A) JP-A-63-3033 (JP, A) JP-A-62-207354 (JP, A) JP-A-62- 138534 (JP, A)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】部分的にアリルエーテル化された置換フェ
ノール類ノボラック樹脂(A)、分子中に2個以上のマ
レイミド基を有するポリマレイミド化合物(B)および
充填剤(C)からなる樹脂組成物により成型封止されて
いる電子部品。
1. A resin composition comprising a partially allyl etherified substituted phenol novolac resin (A), a polymaleimide compound (B) having two or more maleimide groups in the molecule, and a filler (C). Electronic components that are molded and sealed by.
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JP4834560B2 (en) * 2007-01-10 2011-12-14 矢崎総業株式会社 Fusible link mounting structure
JP4861291B2 (en) * 2007-10-31 2012-01-25 矢崎総業株式会社 Support structure of fusible link unit
JP5920040B2 (en) * 2012-06-12 2016-05-18 日立化成株式会社 Thermosetting resin composition and semiconductor device using the same

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