JPH0730165B2 - Epoxy resin composition - Google Patents
Epoxy resin compositionInfo
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- JPH0730165B2 JPH0730165B2 JP32027487A JP32027487A JPH0730165B2 JP H0730165 B2 JPH0730165 B2 JP H0730165B2 JP 32027487 A JP32027487 A JP 32027487A JP 32027487 A JP32027487 A JP 32027487A JP H0730165 B2 JPH0730165 B2 JP H0730165B2
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Description
【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明はエポキシ樹脂組成物に関し、更に詳しくは積
層、成型用に好適なエポキシ樹脂組成物に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Field of Industrial Application> The present invention relates to an epoxy resin composition, and more particularly to an epoxy resin composition suitable for lamination and molding.
<従来の技術> 従来、産業機器用、民生機器用に用いられる積層板やI
C、LSIなど半導体素子の封止にはエポキシ樹脂が用いら
れていた。<Prior art> Laminated boards and I used for industrial equipment and consumer equipment.
Epoxy resin was used to seal semiconductor elements such as C and LSI.
<発明が解決しようとする問題点> しかし、硬化物の耐熱性が低いことに起因して、積層板
では基材と重直方向の寸法変化が大きく、メッキ接続信
頼性やスミヤーの問題があった。またIC,ISIの封止材料
においても熱膨張が大きく、IC,LSIなどの部品を回路に
接続する際、半田の熱によりクラックが入る等の問題が
あった。<Problems to be Solved by the Invention> However, due to the low heat resistance of the cured product, the laminated plate has a large dimensional change in the vertical direction with respect to the base material, and there are problems of plating connection reliability and smear. It was In addition, the thermal expansion of IC and ISI encapsulation materials is large, and when connecting parts such as IC and LSI to a circuit, there is a problem that cracks are generated by the heat of solder.
硬化物の耐熱性の向上のためには芳香族系のイミド化合
物を硬化剤として使用する方法が考えられる。In order to improve the heat resistance of the cured product, a method of using an aromatic imide compound as a curing agent can be considered.
芳香族系のイミド化合物は一般的に芳香族テトラカルボ
ン酸無水物と、芳香族ジアミンを原料として製造され、
代表的な芳香族テトラカルボン酸として、ピロメリット
酸無水物あるいはベンゾフェノンテトラカルボン酸無水
物がよく知られている。ところがこれらの酸無水物を使
って得られる芳香族系のイミド化合物は、エポキシ樹脂
との相溶性が不良であり、エポキシ樹脂の硬化剤として
使用し、性能の向上をはかることが困難であった。ま
た、これらのイミド化合物は通常の低沸点の有機溶媒へ
の溶解性がきわめて低く溶解にあたって高沸点溶媒を必
要とし、この面からもエポキシ樹脂と併用することが困
難であった。Aromatic imide compounds are generally produced from aromatic tetracarboxylic acid anhydrides and aromatic diamines as raw materials,
Pyromellitic dianhydride or benzophenone tetracarboxylic dianhydride is well known as a typical aromatic tetracarboxylic acid. However, the aromatic imide compounds obtained by using these acid anhydrides have poor compatibility with epoxy resins, and it was difficult to improve performance by using them as a curing agent for epoxy resins. . Further, these imide compounds have extremely low solubility in ordinary low-boiling organic solvents, and require a high-boiling solvent for dissolution, and from this standpoint it is difficult to use them together with an epoxy resin.
<問題点を解決するための手段> このようなことから本発明者らは、溶解性及び相溶性に
優れたイミド化合物について鋭意検討した結果、分子中
に式 〔式中、R1は水素原子あるいは炭素数1〜10のアルキル
基、R2は水素原子あるいは炭素数1〜20のアルキル基、
アルコキシ基、あるいは水酸基を表わす。〕 で示される構造単位を有するイミド化合物が、各種有機
溶剤やエポキシ樹脂などに極めて溶解し易いことを見い
出し、さらに、当該イミド化合物をエポキシ樹脂と併用
することにより前述した耐熱性が低いこと、寸法変化が
大きいこと、熱によりクラックが入ること等の問題点が
解決できることを見出し、本発明に至った。<Means for Solving Problems> From the above facts, the inventors of the present invention have diligently studied an imide compound having excellent solubility and compatibility, and as a result, have shown that [In the formula, R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, R 2 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms,
Represents an alkoxy group or a hydroxyl group. ] Found that the imide compound having a structural unit represented by, is very soluble in various organic solvents and epoxy resins, further, by using the imide compound in combination with an epoxy resin, the heat resistance is low, the size The present invention has been completed by finding that the problems such as large changes and cracking due to heat can be solved.
すなわち、本発明は、エポキシ樹脂と下記一般式(I)
で示されるイミド化合物を必須成分としたエポキシ樹脂
組成物であり、その硬化物は従来にない優れた耐熱性を
有するものである。That is, the present invention relates to an epoxy resin and the following general formula (I)
Is an epoxy resin composition containing an imide compound represented by the following as an essential component, and a cured product thereof has excellent heat resistance that has never been obtained.
〔式中、Xは−NH2基及びまたは−OH基を表わし、Ar1、
Ar2はそれぞれ独立に芳香族残基、R1は水素原子あるい
は炭素数1〜10のアルキル基、R2は水素原子、炭素数1
〜20のアルキル基、アルコキシ基あるいは水酸基を表わ
し、m及びnは0〜30の数を表わす。〕 Ar1及びAr2についてさらに詳細に説明すると、Ar1及びA
r2はそれぞれ独立に単核あるいは多核の二価の芳香族残
基であり、芳香環は低級のアルキル基、ハロゲン、低級
のアルコキシ基等が置換されているもの及び非置換のも
のが含まれる。さらに具体的には、Ar1及びAr2はいずれ
も芳香族アミンの残基であり、Ar2は芳香族ジアミンの
残基、Ar1は芳香族モノアミンあるいはジアミンの残基
を表わしている。これらの芳香族アミンを例示すると、
芳香族ジアミンについては4,4′−ジアミノジフェニル
メタン、3,3′−ジアミノジフェニルメタン、4,4′−ジ
アミノジフェニルエーテル、3,4′−ジアミノジフェニ
ルエーテル、4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、4,
4′−ジアミノジフェニルスルフォン、3,3′−ジアミノ
ジフェニルスルフォン、2,4−トルエンジアミン、2,6−
トルエンジアミン、m−フェニレンジアミン、p−フェ
ニレンジアミン、ベンジジン、4,4′−ジアミノジフェ
ニルスルファイド、3,3′−ジクロロ−4,4′−ジアミノ
ジフェニルスルフォン、3,3′−ジクロロ−4,4′−ジア
ミノジフェニルプロパン、3,3′−ジメチル−4,4′ジア
ミノジフェニルメタン、3,3′−ジメトキシ−4,4′−ジ
アミノビフェニル、3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノ
ビフェニル、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベン
ゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、
1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、2,2−ビ
ス(4−アミノフェノキシフェニル)プロパン、4,4′
−ビス(4−アミノフェノキシ)ジフェニルスルフォ
ン、4,4′ビス(3−アミノフェノキシ)ジフェニルス
ルフォン、9,9′−ビス(4−アミノフェニル)アント
ラセン、9,9′−ビス(4−アミノフェニル)フルオレ
ン、3,3′−ジカルボキシ−4,4′−ジアミノジフェニル
メタン、2,4−ジアミノアニソール、ビス(3−アミノ
フェニル)メチルホスフィンオキサイド、3,3′−ジア
ミノベンゾフェノン、o−トルイジンスルフォン、4,
4′−メチレン−ビス−o−クロロアニリン、テトラク
ロロジアミノジフェニルメタン、m−キシリレンジアミ
ン、p−キシリレンジアミン、4,4′−ジアミノスチル
ベン、5−アミノ−1−(4′−アミノフェニル−1,3,
3−トリメチルインダン、6−アミノ−1−(4′−ア
ミノフェニル)−1,3,3−トリメチルインダン、5−ア
ミノ−6−メチル−1−(3′−アミノ−4′−メチル
フェニル)−1,3,3−トリメチルインダン、7−アミノ
−6−メチル−1−(3′−アミノ−4′−メチルフェ
ニル)−1,3,3−トリメチルインダン、6−アミノ−5
−メチル−1−(4′−アミノ−3′−メチルフェニ
ル)−1,3,3−トリメチルインダン、6−アミノ−7−
メチル−1−(4′−アミノ−3′−メチルフェニル)
−1,3,3−トリメチルインダン等の1種または2種以上
がある。 [In the formula, X represents an —NH 2 group and / or an —OH group, and Ar 1 ,
Ar 2 is independently an aromatic residue, R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, R 2 is a hydrogen atom, and 1 carbon atom
~ 20 represents an alkyl group, an alkoxy group or a hydroxyl group, and m and n represent a number from 0 to 30. ] In more detail about the Ar 1 and Ar 2, Ar 1 and A
Each r 2 is independently a mononuclear or polynuclear divalent aromatic residue, and the aromatic ring includes those substituted with a lower alkyl group, halogen, lower alkoxy group, etc. and those not substituted. . More specifically, Ar 1 and Ar 2 are both aromatic amine residues, Ar 2 is an aromatic diamine residue, and Ar 1 is an aromatic monoamine or diamine residue. Exemplifying these aromatic amines,
For aromatic diamines 4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,
4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 2,4-toluenediamine, 2,6-
Toluene diamine, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, benzidine, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-dichloro-4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-dichloro-4, 4'-diaminodiphenylpropane, 3,3'-dimethyl-4,4'diaminodiphenylmethane, 3,3'-dimethoxy-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl , 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene,
1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 2,2-bis (4-aminophenoxyphenyl) propane, 4,4 ′
-Bis (4-aminophenoxy) diphenylsulfone, 4,4'bis (3-aminophenoxy) diphenylsulfone, 9,9'-bis (4-aminophenyl) anthracene, 9,9'-bis (4-aminophenyl) ) Fluorene, 3,3'-dicarboxy-4,4'-diaminodiphenylmethane, 2,4-diaminoanisole, bis (3-aminophenyl) methylphosphine oxide, 3,3'-diaminobenzophenone, o-toluidine sulfone, Four,
4'-methylene-bis-o-chloroaniline, tetrachlorodiaminodiphenylmethane, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, 4,4'-diaminostilbene, 5-amino-1- (4'-aminophenyl- 1,3,
3-trimethylindane, 6-amino-1- (4'-aminophenyl) -1,3,3-trimethylindane, 5-amino-6-methyl-1- (3'-amino-4'-methylphenyl) -1,3,3-Trimethylindane, 7-amino-6-methyl-1- (3'-amino-4'-methylphenyl) -1,3,3-trimethylindane, 6-amino-5
-Methyl-1- (4'-amino-3'-methylphenyl) -1,3,3-trimethylindane, 6-amino-7-
Methyl-1- (4'-amino-3'-methylphenyl)
There is one kind or two or more kinds such as -1,3,3-trimethylindane.
一方、芳香族モノアミンについては、o−アミノフェノ
ール、m−アミノフェノール、p−アミノフェノール、
6−アミノ−m−クレゾール、4−アミノ−m−クレゾ
ール、2,2−(4−ヒドロキシフェニル−4−アミノフ
ェニル)−プロパン、2,2−(4−ヒドロキシフェニル
−2′−メチル−4′−アミノフェニル)−プロパン、
2,2−(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル−4′−
アミノフェニル)−プロパン、3−アミノ−1−ナフト
ール、8−アミノ−2−ナフトール、5−アミノ−1−
ナフトール、4−アミノ−2−メチル−1−ナフトール
等の1種または2種以上がある。On the other hand, regarding aromatic monoamines, o-aminophenol, m-aminophenol, p-aminophenol,
6-amino-m-cresol, 4-amino-m-cresol, 2,2- (4-hydroxyphenyl-4-aminophenyl) -propane, 2,2- (4-hydroxyphenyl-2'-methyl-4) ′ -Aminophenyl) -propane,
2,2- (3-methyl-4-hydroxyphenyl-4'-
Aminophenyl) -propane, 3-amino-1-naphthol, 8-amino-2-naphthol, 5-amino-1-
There are one kind or two or more kinds of naphthol, 4-amino-2-methyl-1-naphthol and the like.
R1及びR2については前述のとおりであるが、R1としては
特に炭素数1〜3のアルキル基が好ましい。又R2として
は、水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基が好まし
い。Although R 1 and R 2 are as described above, R 1 is particularly preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. R 2 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
又、一般式(1)におけるm及びnは前述のとおりであ
るが、好ましくはm及びnは0〜8の数であり、特に好
ましくは0〜4の数である。Further, m and n in the general formula (1) are as described above, but preferably m and n are numbers from 0 to 8, particularly preferably 0 to 4.
本発明に用いられる未端官能型イミド化合物の製造方法
について例示する。The method for producing the unend functional imide compound used in the present invention will be illustrated.
(1)式のXが−NH2のものについては、上記の芳香族
ジアミンと、式 〔式中、R1、R2は前述と同じ。〕 で示される化合物(以下B1とし、異性体をそれぞれY成
分またはZ成分とする。)を、芳香族ジアミンを過剰に
して、通常のイミド化反応を行って合成することができ
る。When X in the formula (1) is —NH 2 , the above aromatic diamine and the formula [In the formula, R 1 and R 2 are the same as described above. ] The compound shown below (hereinafter referred to as B 1 and the isomers as the Y component or the Z component, respectively) can be synthesized by carrying out a usual imidization reaction with excess aromatic diamine.
(1)式のXが、−OHのものについては、−OH基を有す
る上記の芳香族モノアミンと、上記の芳香族ジアミンを
B1に、芳香族ジアミン/B1のモル比が(m+n)/(m
+n+1)でかつ芳香族モノアミン/B1のモル比が2/
(m+n+1)(m,nは前述に同じ。)となるように加
えて通常のイミド化反応を行って合成することができ
る。When X in the formula (1) is -OH, the above aromatic monoamine having an -OH group and the above aromatic diamine are
To B 1, the molar ratio of aromatic diamine / B 1 is (m + n) / (m
+ N + 1) and the molar ratio of aromatic monoamine / B 1 is 2 /
(M + n + 1) (m and n are the same as described above), and a usual imidization reaction can be performed to synthesize.
以上本発明に用いられる末端官能型イミド化合物の合成
方法について例示したが、もちろんこれらに限定される
ものではない。Although the method for synthesizing the terminal functional imide compound used in the present invention has been illustrated above, the method is not limited to these.
ここで、B1の合成方法について例示すると、 式 〔式中、R1、R2は前述に同じ。〕 で示される化合物(以下B3とする。)と無水マレイン酸
をモル比が1/2でラジカル重合触媒の非存在下、及びラ
ジカル重合禁止剤の存在下もしくは非存在下に反応して
得られる。B3について例示すると、スチレン、α−メチ
ルスチレン、α,p−ジメチルスチレン、α,m−ジメチル
スチレン、イソプロピルスチレン、ビニルトルエン、p
−t−ブチルスチレン、p−イソプロペニルフェノー
ル、m−イソプロペニルフェノール、1−メトキシ−3
−イソプロペニルベンゼン、1−メトキシ−4−イソプ
ロペニルベンゼン、ビニルキシレン等の1種または2種
以上がある。Here, exemplifying the synthesis method of B 1 , [In the formula, R 1 and R 2 are the same as described above. ] A compound represented by (hereinafter referred to as B 3 ) and maleic anhydride are reacted at a molar ratio of 1/2 in the absence of a radical polymerization catalyst and in the presence or absence of a radical polymerization inhibitor. To be Examples of B 3 include styrene, α-methylstyrene, α, p-dimethylstyrene, α, m-dimethylstyrene, isopropylstyrene, vinyltoluene and p.
-T-butylstyrene, p-isopropenylphenol, m-isopropenylphenol, 1-methoxy-3
-Isopropenylbenzene, 1-methoxy-4-isopropenylbenzene, vinyl xylene and the like may be used alone or in combination.
このようにして得られた本発明に用いられる末端官能型
イミド化合物は、アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソ
ルブ、塩化メチレン、クロロホルム等の低沸点溶媒に高
濃度で可溶でありさらに、エポキシ樹脂との相溶性も優
れている。The terminal functional type imide compound used in the present invention thus obtained is soluble at a high concentration in a low boiling solvent such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, methylene chloride and chloroform. Furthermore, the compatibility with the epoxy resin is excellent.
本発明に用いられるエポキシ樹脂は分子中に2個以上の
エポキシ基を有する化合物であり、例示するとビスフェ
ノールA、ビスフェノールF、ハイドロキノン、レゾル
シン、フロログリシン、トリス−(4−ヒドロキシフェ
ニル)メタン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシ
フェニル)エタン等の二価あるいは三価以上のフェノー
ル類またはテトラブロムビスフェノールA等のハロゲン
化ビスフェノール類から誘導されるグリシジルエーテル
化合物、フェノール、o−クレゾール等のフェノール類
とホルムアルデヒドの反応生成物であるノボラック樹脂
から誘導されるノボラック系エポキシ樹脂、アニリン、
p−アミノフェノール、m−アミノフェノール、4−ア
ミノ−m−クレゾール、6−アミノ−m−クレゾール、
4,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′−ジアミノジ
フェニルメタン、4,4′−ジアミノジフェニルエーテ
ル、3,4′−ジアミノジフェニルエーテル、1,4−ビス
(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(3−
アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノ
フェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノ
キシ)ベンゼン、2,2−ビス(4−アミノフェノキシフ
ェニル)プロパン、p−フェニレンジアミン、m−フェ
ニレンジアミン、2,4−トルエンジアミン、2,6−トルエ
ンジアミン、p−キシリレンジアミン、m−キシリレン
ジアミン、1,4−シクロヘキサン−ビス(メチルアミ
ン)、1,3−シクロヘキサン−ビス(メチルアミン)、
5−アミノ−1−(4′−アミノフェニル)−1,3,3−
トリメチルインダン、6−アミノ−1−(4′−アミノ
フェニル)−1,3,3−トリメチルインダン等から誘導さ
れるアミン系エポキシ樹脂、p−オキシ安息香酸、m−
オキシ安息香酸、テレフタル酸、イソフタル酸等の芳香
族カルボン酸から誘導されるグリシジルエステル系化合
物、5,5−ジメチル・ヒダントイン等から誘導されるヒ
ダントイン系エポキシ樹脂、2,2′−ビス(3,4−エポキ
シシクロヘキシル)プロパン、2,2−ビス〔4(2,3−エ
ポキシプロピル)シクロヘキシル〕プロパン、ビニルシ
クロヘキセンジオキサイド、3,4−エポキシシクロヘキ
シルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシ
レート等の脂環式エポキシ樹脂、その他、トリグリシジ
ルイソシアヌレート、2,4,6−トリグリシドキシ−S−
トリアジン等の1種または2種以上を挙げることができ
る。The epoxy resin used in the present invention is a compound having two or more epoxy groups in the molecule, and is exemplified by bisphenol A, bisphenol F, hydroquinone, resorcin, phloroglysin, tris- (4-hydroxyphenyl) methane, 1, Glycidyl ether compounds derived from divalent or trivalent or more phenols such as 1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane or halogenated bisphenols such as tetrabromobisphenol A, phenol, o-cresol, etc. Novolak epoxy resin derived from novolak resin, which is the reaction product of phenol and formaldehyde, and aniline,
p-aminophenol, m-aminophenol, 4-amino-m-cresol, 6-amino-m-cresol,
4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (3-
Aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 2,2-bis (4-aminophenoxyphenyl) propane, p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, 2,6-toluenediamine, p-xylylenediamine, m-xylylenediamine, 1,4-cyclohexane-bis (methylamine), 1,3-cyclohexane-bis (Methylamine),
5-amino-1- (4'-aminophenyl) -1,3,3-
Amine-based epoxy resin derived from trimethylindane, 6-amino-1- (4'-aminophenyl) -1,3,3-trimethylindane, p-oxybenzoic acid, m-
Oxybenzoic acid, terephthalic acid, glycidyl ester compounds derived from aromatic carboxylic acids such as isophthalic acid, hydantoin epoxy resins derived from 5,5-dimethylhydantoin, etc., 2,2'-bis (3, Fats such as 4-epoxycyclohexyl) propane, 2,2-bis [4 (2,3-epoxypropyl) cyclohexyl] propane, vinylcyclohexenedioxide, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate Cyclic epoxy resin, other, triglycidyl isocyanurate, 2,4,6-triglycidoxy-S-
One or more of triazine and the like can be mentioned.
本発明の組成物は以上説明したエポキシ樹脂と末端官能
型イミド化合物を必須成分とし、必要に応じて公知のエ
ポキシ樹脂硬化剤や硬化促進剤、充填剤、難燃剤、補強
材、表面処理剤、顔料など併用することができる。The composition of the present invention contains the epoxy resin and the terminal functional imide compound described above as essential components, and if necessary, known epoxy resin curing agents and curing accelerators, fillers, flame retardants, reinforcing materials, surface treatment agents, A pigment or the like can be used in combination.
公知のエポキシ硬化剤としては前述の芳香族アミンやキ
シリレンジアミンなどの脂肪族アミンなどのアミン系硬
化剤、フェノールノボラックやクレゾールノボラックな
どのポリフェノール化合物、さらには酸無水物、ジシア
ンジアミド、ヒドラジド化合物などが例示される。エポ
キシ樹脂(A)と末端官能型イミド化合物(B)との割
合については(A)1g当量に対して(B)と他の硬化剤
の合計が0.8g当量〜1.2g当量である。Known epoxy curing agents include amine-based curing agents such as the above-mentioned aromatic amines and aliphatic amines such as xylylenediamine, polyphenol compounds such as phenol novolac and cresol novolac, and further acid anhydrides, dicyandiamide, hydrazide compounds and the like. It is illustrated. Regarding the ratio of the epoxy resin (A) and the terminal functional imide compound (B), the total of (B) and other curing agents is 0.8 g equivalent to 1.2 g equivalent to 1 g equivalent of (A).
硬化促進剤としてはベンジルジメチルアミン、2,4,6−
トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、1,8−ジ
アザビシクロウンデセンなどのアミン類や、2−エチル
−4−メチルイミダゾールなどのイミダゾール化合物、
三フッ化ホウ素アミン錯体などが例示できる。充填材と
してはシリカ、炭酸カルシウムなどが、難燃剤としては
水酸化アルミ、三酸化アンチモン、赤リンなどが例示さ
れる。補強剤としてはガラス繊維、ポリエステル繊維、
ポリアミド繊維、アルミナ繊維などの有機繊維や無機繊
維から成る織布、不織布、マット、紙あるいはこれらの
組み合わせが例示される。As a curing accelerator, benzyldimethylamine, 2,4,6-
Amines such as tris (dimethylaminomethyl) phenol and 1,8-diazabicycloundecene, and imidazole compounds such as 2-ethyl-4-methylimidazole,
A boron trifluoride amine complex etc. can be illustrated. Examples of the filler include silica and calcium carbonate, and examples of the flame retardant include aluminum hydroxide, antimony trioxide, red phosphorus and the like. As a reinforcing agent, glass fiber, polyester fiber,
Illustrative are woven fabrics, non-woven fabrics, mats, papers made of organic fibers and inorganic fibers such as polyamide fibers and alumina fibers, or combinations thereof.
<発明の効果> 以上説明した各成分からなる本発明による組成物は従来
にない極めて高い耐熱性を有する硬化物を与え、積層板
用や成型材料用として工業的価値の高いものである。<Effects of the Invention> The composition according to the present invention comprising the components described above gives a cured product having an extremely high heat resistance which has never been obtained, and has a high industrial value as a laminate or a molding material.
<実施例> 以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。<Examples> Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.
参考例−1 〔原料B1の合成〕 攪拌装置、温度計、冷却コンデンサーの付いた500ml4つ
口フラスコに、無水マレイン酸110.3g(1.125モル)、
N,N′−ジフェニル−1,4−フェニレンジアミン3.90g、
トルエン100g及びメチルイソブチルケトン50gを仕込
む。続いて、温度を120℃まで上げ、同温度を保持しな
がら、8時間かけてα−メチルスチレン59.1g(0.5モ
ル)を滴下し、滴下終了後さらに2時間同温度で保温し
た。反応後トルエン50gとメチルイソブチルケトン25gを
添加して冷却すると結晶が析出した。この結晶を別
し、トルエンで数回洗浄した後、乾燥を行うと、白色に
近い粉末結晶が55.7g得られた。Reference Example-1 [Synthesis of Raw Material B 1 ] 110.3 g (1.125 mol) of maleic anhydride was added to a 500 ml four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer, and a cooling condenser.
N, N'-diphenyl-1,4-phenylenediamine 3.90 g,
Charge 100 g of toluene and 50 g of methyl isobutyl ketone. Subsequently, the temperature was raised to 120 ° C., 59.1 g (0.5 mol) of α-methylstyrene was added dropwise over 8 hours while maintaining the same temperature, and the temperature was kept at the same temperature for another 2 hours after completion of the addition. After the reaction, 50 g of toluene and 25 g of methyl isobutyl ketone were added and cooled to precipitate crystals. The crystals were separated, washed with toluene several times, and then dried to obtain 55.7 g of powder crystals close to white.
このものは、GPCによるB1の純度は97.2%であり、GCに
よるB1の異性体の組成比はY成分/Z成分0.45/0.55であ
り、融点は206〜208℃であった。In this product, the purity of B 1 by GPC was 97.2%, the composition ratio of the isomers of B 1 by GC was Y component / Z component 0.45 / 0.55, and the melting point was 206 to 208 ° C.
参考例−2 〔原料B1の合成〕 攪拌装置、温度計、冷却コンデンサーの付いた500ml4つ
口フラスコに、無水マレイン酸98.1g(1モル)、N,N′
−ジフェニル−1,4−フェニレンジアミン3.90g、キシレ
ン150gを仕込む。続いて、温度を145℃まで上げ、同温
度を保持しながら、8時間かけてα−メチルスチレン5
9.1g(0.5モル)を滴下し、滴下終了後さらに2時間同
温度で保温した。反応後メチルイソブチルケトン75gを
添加して冷却すると結晶が析出した。この結晶を別
し、トルエンで数回洗浄した後、乾燥を行うと、白色に
近い粉末結晶が50.4g得られた。Reference Example-2 [Synthesis of Raw Material B 1 ] In a 500 ml four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer, and a cooling condenser, 98.1 g (1 mol) of maleic anhydride and N, N ′ were added.
Charge 3.90 g of diphenyl-1,4-phenylenediamine and 150 g of xylene. Subsequently, the temperature was raised to 145 ° C, and while maintaining the same temperature, α-methylstyrene 5
9.1 g (0.5 mol) was added dropwise, and after completion of the addition, the temperature was kept at the same temperature for 2 hours. After the reaction, 75 g of methyl isobutyl ketone was added and cooled to precipitate crystals. The crystals were separated, washed with toluene several times, and then dried to obtain 50.4 g of powder crystals close to white.
このものは、GPCによるB1の純度は96.1%であり、GCに
よるB1の異性体の組成比は、Y成分/Z成分0.17/0.88で
あり、融点は208〜210℃であった。In this product, the purity of B 1 by GPC was 96.1%, the composition ratio of the isomers of B 1 by GC was Y component / Z component 0.17 / 0.88, and the melting point was 208 to 210 ° C.
参考例−3 〔原料B1の合成〕 攪拌装置、温度計、冷却コンデンサーの付いた500ml4つ
口フラスコに、無水マレイン酸98.1g(1モル)、N−
フェニル−N′−イソプロピル−1,4−フェニレンジア
ミン4.51g、トルエン120g及びメチルイソブチルケトン3
0gを仕込む。続いて、温度を120℃まで上げ、同温度を
保持しながら、2時間かけてα−メチルスチレン59.1g
(0.5モル)を滴下し、滴下終了後さらに8時間同温度
で保温した。反応後トルエン60gとメチルイソブチルケ
トン15gを添加して冷却すると結晶が析出した。この結
晶を別し、トルエンで数回洗浄した後、乾燥を行う
と、白色に近い粉末結晶が67.2g得られた。Reference Example-3 [Synthesis of Raw Material B 1 ] In a 500 ml four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer, and a cooling condenser, 98.1 g (1 mol) of maleic anhydride and N-
Phenyl-N'-isopropyl-1,4-phenylenediamine 4.51 g, toluene 120 g and methyl isobutyl ketone 3
Charge 0g. Subsequently, the temperature was raised to 120 ° C., and while maintaining the same temperature, 59.1 g of α-methylstyrene was taken over 2 hours.
(0.5 mol) was added dropwise, and after the completion of the addition, the temperature was kept at the same temperature for 8 hours. After the reaction, 60 g of toluene and 15 g of methyl isobutyl ketone were added and cooled to precipitate crystals. The crystals were separated, washed with toluene several times, and then dried to obtain 67.2 g of powder crystals close to white.
このものは、GPCによるB1の純度は97.8%であり、GCに
よるB1の異性体の組成比は、Y成分/Z成分0.66/0.34で
あり、融点は181〜183℃であった。In this product, the purity of B 1 by GPC was 97.8%, the composition ratio of the isomers of B 1 by GC was Y component / Z component 0.66 / 0.34, and the melting point was 181-183 ° C.
参考例−4 攪拌装置、温度計、冷却分液装置のついたフラスコに2,
4−トルエンジアミン26.2g(0.215モル)及びm−クレ
ゾール117gを仕込み、70℃に昇温して、2,4−トルエン
ジアミンを溶解した後、参考例−1で得られた原料45.0
g(0.143モル)を仕込んでポリアミド酸を形成させる。
その後トルエン25.2gを仕込み、150℃まで昇温した後同
温で10時間脱水反応を続けた。Reference Example-4 A flask equipped with a stirrer, a thermometer, a cooling liquid separator, 2,
4-Toluenediamine (26.2 g, 0.215 mol) and m-cresol (117 g) were charged and the temperature was raised to 70 ° C. to dissolve 2,4-toluenediamine, and then the raw material 45.0 obtained in Reference Example-1 was used.
Charge g (0.143 mol) to form the polyamic acid.
Then, 25.2 g of toluene was charged, the temperature was raised to 150 ° C., and the dehydration reaction was continued at the same temperature for 10 hours.
反応後、得られた樹脂液を750gのイソプロパノールに沈
澱し、2回洗浄後、減圧乾燥してイミド化合物を得た。
このもののアミン当量は498g/eq、融点は約260℃であっ
た。After the reaction, the obtained resin solution was precipitated in 750 g of isopropanol, washed twice and dried under reduced pressure to obtain an imide compound.
This had an amine equivalent of 498 g / eq and a melting point of about 260 ° C.
参考例−5 攪拌装置、温度計、冷却分液装置のついたフラスコに参
考例−1で得られた原料44.8g(0.143モル)、m−クレ
ゾール161g、2,4−トルエンジアミン8.68g(0.0714モ
ル)を仕込み、70℃で1時間反応を行い、さらにm−ア
ミノフェノール15.5g(0.143モル)を仕込み、同温で1
時間反応を行う。その後キシレン32.2gを仕込み、170℃
6時間脱水反応を続けた。Reference Example-5 44.8 g (0.143 mol) of the raw material obtained in Reference Example-1, 161 g of m-cresol, and 8.68 g of 2,4-toluenediamine (0.0714) were placed in a flask equipped with a stirrer, a thermometer, and a cooling separator. Mol), and the reaction is carried out at 70 ° C. for 1 hour. Further, 15.5 g (0.143 mol) of m-aminophenol is charged and the reaction is carried out at the same temperature for 1 hour.
React for time. After that, 32.2 g of xylene was charged and 170 ° C
The dehydration reaction was continued for 6 hours.
反応後、得られた樹脂液を550gのイソプロパノールに沈
澱し、2回洗浄後、減圧乾燥してイミド化合物を得た。
このものの水酸基当量は473g/eq、融点は約270℃であっ
た。After the reaction, the obtained resin liquid was precipitated in 550 g of isopropanol, washed twice and dried under reduced pressure to obtain an imide compound.
The hydroxyl equivalent of this product was 473 g / eq, and the melting point was about 270 ° C.
参考例−6 参考例−5において、参考例−1で得られた原料44.8g
(0.143モル)を参考例−2で得られた原料32.0g(0.10
2モル)に、2,4−トルエンジアミン8.68g(0.0714モ
ル)を4,4′−ジアミノジフェニルエタン12.9g(0.0639
モル)に、及びm−アミノフェノールを8.30g(0.0761
モル)にかえて、他の条件は参考例5と同様にして、イ
ミド化合物を得た。このものの水酸基当量は702g/eq、
融点は約270℃であった。Reference Example-6 In Reference Example-5, 44.8 g of the raw material obtained in Reference Example-1
30.1 g (0.10 mol) of the raw material obtained in Reference Example-2
2 moles of 2,4-toluenediamine 8.68 g (0.0714 moles) 4,4'-diaminodiphenylethane 12.9 g (0.0639
Mol) and 8.30 g (0.0761) of m-aminophenol.
Mol) and other conditions were the same as in Reference Example 5 to obtain an imide compound. The hydroxyl equivalent of this product is 702 g / eq,
The melting point was about 270 ° C.
参考例−7 参考例−4において、参考例−1で得られた原料を参考
例−3で得られた原料にかえて、他の条件は参考例−4
と同様にして、イミド化合物を得た。このもののアミン
当量は506g/eq融点は約260℃であった。Reference Example-7 In Reference Example-4, the raw material obtained in Reference Example-1 was replaced with the raw material obtained in Reference Example-3, and other conditions were set in Reference Example-4.
An imide compound was obtained in the same manner as in. This had an amine equivalent of 506 g / eq and a melting point of about 260 ° C.
実施例−1,2 スミエポキシELA−128(ビスフェノールA型エポキシ樹
脂、エポキシ当量187g/eq、住友化学工業(株)商品)
と参考例−4及び7で得られるイミド化合物を表−1に
示す割合で配合しジメチルホルムアミドに均一に溶解
し、該溶液をガラスクロス(日東紡(株)WE18K、BZ−
2)に含浸させ180℃オーブン中で5分処理し、プリプ
レグを得た。プリプレグ6枚と銅箔(古河サーキットホ
イル(株)TAI処理、35μ)を重ね180℃、50kg/cm2の圧
力下で5時間プレス成型し1mm厚の銅張り積層板を得
た。この積層板の物性をJIS−C−6481に準じて測定し
表−1の結果を得た。Example-1,2 Sumiepoxy ELA-128 (bisphenol A type epoxy resin, epoxy equivalent 187 g / eq, Sumitomo Chemical Co., Ltd. product)
And the imide compounds obtained in Reference Examples 4 and 7 were mixed at a ratio shown in Table 1 and uniformly dissolved in dimethylformamide, and the solution was mixed with a glass cloth (Nitobo Co., Ltd. WE18K, BZ-).
2) was impregnated and treated in an oven at 180 ° C for 5 minutes to obtain a prepreg. Six pieces of prepreg and copper foil (TAI treated by Furukawa Circuit Foil Co., Ltd., 35μ) were layered and press-molded at 180 ° C. under a pressure of 50 kg / cm 2 for 5 hours to obtain a 1 mm-thick copper-clad laminate. The physical properties of this laminated plate were measured according to JIS-C-6481 and the results shown in Table 1 were obtained.
比較例−1 スミエポキシESA−011(ビスフェノールA型エポキシ樹
脂、エポキシ当量489g/eq、住友化学工業(株)商品)2
40g、スミエポキシESCN−220(o−クレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂、エポキシ当量210g/eq、住友化学工
業(株)商品)20g、ジシアンジアミド9g、2−フェニ
ル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール1g
をジメチルホルムアミド40g、エチレングリコールモノ
メチルエーテル60g、メチルエチルケトン60gの混合溶剤
に溶解し、この溶液を実施例−1と同様にガラスクロス
に含浸させ、160℃オーブン中で5分処理しプリプレグ
を得、実施例−1と同条件でプレス成型し積層板を作製
した。積層板の物性を表−1に示す。Comparative Example-1 Sumiepoxy ESA-011 (Bisphenol A type epoxy resin, epoxy equivalent 489 g / eq, Sumitomo Chemical Co., Ltd. product) 2
40 g, Sumiepoxy ESCN-220 (o-cresol novolac type epoxy resin, epoxy equivalent 210 g / eq, Sumitomo Chemical Co., Ltd. product) 20 g, dicyandiamide 9 g, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole 1 g
Was dissolved in a mixed solvent of 40 g of dimethylformamide, 60 g of ethylene glycol monomethyl ether and 60 g of methyl ethyl ketone, glass cloth was impregnated with this solution in the same manner as in Example-1, and treated for 5 minutes in an oven at 160 ° C. to obtain a prepreg. A laminate was produced by press molding under the same conditions as in Example-1. The physical properties of the laminate are shown in Table-1.
実施例−3,4 スミエポキシESCN−195XL(o−クレゾールノボラック
型エポキシ樹脂、エポキシ当量197g/eq、住友化学工業
(株)商品)100g、参考例−5及び6で得られるイミド
化合物25g、フェノールノボラック樹脂51g、2,4,6−ト
リス(ジメチルアミノメチル)フェノール1g、カルナバ
ワックス1g、シランカップリング剤(東レシリコンSH−
6040)2g、シリカ420gを100℃2本ロールで5分混練後
冷却し粉砕し成型材料を製造した。該成型材料を170
℃、70kg/cm2で5分プレス成型し、次いで180℃オーブ
ン中で5時間後硬化した。硬化物の物性を表−2に示
す。 Example-3,4 Sumiepoxy ESCN-195XL (o-cresol novolac type epoxy resin, epoxy equivalent 197 g / eq, product of Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 100 g, imide compound 25 g obtained in Reference Examples 5 and 6, phenol novolac Resin 51 g, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol 1 g, carnauba wax 1 g, silane coupling agent (Toray Silicon SH-
6040) 2 g and silica 420 g were kneaded with a two-roll mill at 100 ° C. for 5 minutes, cooled and pulverized to produce a molding material. The molding material is 170
It was press molded at 70 ° C. and 70 kg / cm 2 for 5 minutes, and then post-cured in an oven at 180 ° C. for 5 hours. The physical properties of the cured product are shown in Table 2.
比較例−4 実施例−3において硬化剤として56gのフェノールノボ
ラックを単独で使用し、充填材として364gのシリカを用
いる以外は実施例−3と同様にして硬化物を得た。Comparative Example-4 A cured product was obtained in the same manner as in Example-3, except that 56 g of phenol novolac was used alone as the curing agent in Example-3 and 364 g of silica was used as the filler.
硬化物の物性を表−2にまとめる。The physical properties of the cured product are summarized in Table-2.
表−1,2に示したように本発明による組成物は優れた耐
熱性を有し、寸法精度の高い成型物を与えることが明ら
かである。 As shown in Tables 1 and 2, it is clear that the composition according to the present invention has excellent heat resistance and gives a molded product with high dimensional accuracy.
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−166531(JP,A) 特開 昭59−46266(JP,A) 特開 昭62−212419(JP,A) 特開 昭63−165427(JP,A) 特開 昭63−264631(JP,A)Continuation of the front page (56) References JP-A-59-166531 (JP, A) JP-A-59-46266 (JP, A) JP-A-62-212419 (JP, A) JP-A-63-165427 (JP , A) JP-A-63-264631 (JP, A)
Claims (4)
れるイミド化合物を必須成分とするエポキシ樹脂組成
物。 〔式中、Xは−NH2基およびまたは−OH基を表わし、A
r1、Ar2はそれぞれ独立に芳香族残基、R1は水素原子あ
るいは炭素数1〜10のアルキル基、R2は水素原子、炭素
数1〜20のアルキル基、アルコキシ基あるいは水酸基を
表わし、m及びnは0〜30の数を表わす。〕1. An epoxy resin composition comprising an epoxy resin and an imide compound represented by the following general formula (I) as essential components. [In the formula, X represents an —NH 2 group and / or an —OH group, and
r 1 and Ar 2 each independently represent an aromatic residue, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group or a hydroxyl group. , M and n represent numbers from 0 to 30. ]
特許請求の範囲第1項のエポキシ樹脂組成物。2. The epoxy resin composition according to claim 1, wherein m and n represent a number of 0 to 4.
請求の範囲第1項のエポキシ樹脂組成物。3. The epoxy resin composition according to claim 1, wherein R 1 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
基である特許請求の範囲第1項のエポキシ樹脂組成物。4. The epoxy resin composition according to claim 1, wherein R 2 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP32027487A JPH0730165B2 (en) | 1986-12-26 | 1987-12-17 | Epoxy resin composition |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31426086 | 1986-12-26 | ||
JP61-314260 | 1986-12-26 | ||
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63270728A JPS63270728A (en) | 1988-11-08 |
JPH0730165B2 true JPH0730165B2 (en) | 1995-04-05 |
Family
ID=26567884
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32027487A Expired - Lifetime JPH0730165B2 (en) | 1986-12-26 | 1987-12-17 | Epoxy resin composition |
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JP (1) | JPH0730165B2 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007012485A1 (en) | 2005-07-26 | 2007-02-01 | Siemens Aktiengesellschaft | Monolithic piezo actuator with a change in the electrode structure in the junction region, and use of the piezo actuator |
US9187400B2 (en) | 2012-04-06 | 2015-11-17 | Akzo Nobel Chemicals International B.V. | Process for separating monochloroacetic acid and dichloroacetic acid via extractive distillation using an organic solvent |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02248478A (en) * | 1989-03-23 | 1990-10-04 | Sumitomo Chem Co Ltd | Coating composition |
-
1987
- 1987-12-17 JP JP32027487A patent/JPH0730165B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2007012485A1 (en) | 2005-07-26 | 2007-02-01 | Siemens Aktiengesellschaft | Monolithic piezo actuator with a change in the electrode structure in the junction region, and use of the piezo actuator |
US9187400B2 (en) | 2012-04-06 | 2015-11-17 | Akzo Nobel Chemicals International B.V. | Process for separating monochloroacetic acid and dichloroacetic acid via extractive distillation using an organic solvent |
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JPS63270728A (en) | 1988-11-08 |
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