JPS6322407A - Printed circuit board accommodating rack - Google Patents

Printed circuit board accommodating rack

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JPS6322407A
JPS6322407A JP61162138A JP16213886A JPS6322407A JP S6322407 A JPS6322407 A JP S6322407A JP 61162138 A JP61162138 A JP 61162138A JP 16213886 A JP16213886 A JP 16213886A JP S6322407 A JPS6322407 A JP S6322407A
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JP
Japan
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reticle
cassette
library
chamber
storage
Prior art date
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Pending
Application number
JP61162138A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuo Iizuka
和夫 飯塚
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Publication of JPS6322407A publication Critical patent/JPS6322407A/en
Priority to US07/528,903 priority patent/US4999671A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/70741Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Library & Information Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Warehouses Or Storage Devices (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

PURPOSE:To save labor in process control by jointing a printed circuit board accommodation rack with the accommodation chamber of a semiconductor manufacturing device, and furnishing a memory for such data of printed circuit board accommodated in the rack as nature, accommodation position, etc. CONSTITUTION:A cassette library 2 is movable with possibility of fixing by the use of a locking member 15 furnished on the overall air-conditioner chamber side 2 and a roller 2a installed on the library side 2. The library 2 is equipped with a memory 21 to store such parameters necessary for operation of the device, as the name and accommodation position of reticles in cassette 4 accommodated in said library, and initially set items about the relevant reticles, and it is possible to feed parameters in the stepper body console by coupling with the chamber 1.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、半導体製造装置、特にマスクやレチクル等の
薄板状の物体(以下、基板という)を自動的に交換する
装置等で用いられる基板収納ラックに関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a substrate used in semiconductor manufacturing equipment, particularly a device that automatically exchanges thin plate-shaped objects such as masks and reticles (hereinafter referred to as substrates). Regarding storage racks.

このような基板収納ラックは、例えば、露光用基板(マ
スクまたはレチクル)を個別に収納するカセットを複数
個収納し、基板自動交換装置用のカセットライブラリと
して好適に用いられる。この場合、基板自動交換装置は
、所望とする基板が入ったカセットをライブラリから装
置本体やゴミ検査装置が収納されている空調チャンバ内
へ搬入し、このチャンバ内でカセットから基板を取り出
してゴミ検査装置に送り医み、ゴミ検査された基板を装
置本体の露光位置まで送り込むとともに、基板を交換す
る際に不必要になフた基板を前記カセットに収納しこの
カセットをもとのライブラリまで戻すようになっている
Such a substrate storage rack stores, for example, a plurality of cassettes that individually store exposure substrates (masks or reticles), and is suitably used as a cassette library for an automatic substrate exchange device. In this case, the automatic substrate exchange device carries the cassette containing the desired substrate from the library into the air conditioning chamber where the device main body and dust inspection device are housed, takes out the substrate from the cassette in this chamber, and inspects it for dust. The board that has been sent to the device and inspected for dust is sent to the exposure position of the main body of the device, and when replacing the board, the unnecessary lid board is stored in the cassette, and this cassette is returned to the original library. It has become.

「従来の技術」 従来、この種の基板自動交換用のカセットライブラリは
、装置本体に固定されていたため、無人で交換可能な基
板数が限定されていた。特に、多極小量生産型ラインに
おける場合のように、ライブラリ内に収納し得る基板基
板数置上の基板を交換する場合は、カセットを外部の例
えLfカセット収納棚等に置いであるカセットと取り換
えるa−要があった。このような取り換え作業は一般に
人手により行なわれており、人手を介するとし1うこと
は、それ自体面倒であるばかりでなく、人体Iマ無視し
得ないゴミ発生源であり、製品の不良率力(増加すると
いう問題がある。また、ペリクル貼り合せ装置やレチク
ル洗浄器等の周辺ta器で処理した基板をライブラリ内
にセットする場合にも人手により行なっており、同様の
問題がある。さらに、カセットを取り換えまたはセット
するたびに、そのカセットの収納位置や素性等の各種)
\ラメータを人手により入力する必要があった。
"Prior Art" Conventionally, this type of cassette library for automatic board replacement was fixed to the main body of the device, which limited the number of boards that could be replaced unattended. In particular, when replacing several boards that can be stored in the library, such as in a multi-minimum production line, the cassettes should be replaced with cassettes placed outside, such as on an Lf cassette storage shelf. a- There was a point. Such replacement work is generally done manually, which is not only troublesome in itself, but also a source of dust that cannot be ignored due to the human body, and increases the defective rate of the product. There is also the problem of increased force (increased force).Furthermore, when setting substrates processed in peripheral equipment such as pellicle bonding equipment and reticle cleaners into the library, this is done manually, which causes the same problem. , each time a cassette is replaced or set, the cassette's storage location, identity, etc.)
\It was necessary to input the parameters manually.

そこで、本発明者等は、先にライブラリを露光装置や各
周辺機器等の装置本体と接合・分離可AUかつ移動可能
に構成し、カセットライブラリごと交換可能とすること
を提案した。この提案によれば、上記ゴミの問題を解消
し、労力の一部を削減することが可能である。
Therefore, the inventors of the present invention have proposed that the library be configured to be an AU that can be connected to and separated from the main body of the apparatus such as the exposure apparatus and various peripheral devices, and to be movable, so that the entire cassette library can be replaced. According to this proposal, it is possible to solve the above-mentioned problem of waste and reduce some of the labor.

[発明が解決しようとする問題点] しかしながら、各種パラメータの入力に要する労力の問
題は解決するに至ってし)なしA。
[Problems to be Solved by the Invention] However, the problem of the labor required for inputting various parameters has not been solved yet) None A.

本発明は、上述の従来例における問題点に鑑みてなされ
たもので、半導体製造ラインを無人化および無塵化する
のに適した基板収納ラックを提イ共することを目的とす
る。
The present invention has been made in view of the problems in the conventional example described above, and an object of the present invention is to provide a substrate storage rack suitable for making a semiconductor manufacturing line unmanned and dust-free.

[問題点を解決するための手段] 上記目的を達成するため本発明では、基板収納ラックを
移動可能かつ半導体製造装置の収納チャンバに結合可能
に構成するとともに、ラック内部に収納しである基板の
素性および収納位置等を1己憶する手段と、この記憶手
段をこのラック力(接合される本体側の情報読取手段に
接続する手段を付加しである。
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the present invention configures a substrate storage rack to be movable and connectable to a storage chamber of a semiconductor manufacturing device, and to store substrates inside the rack. A means for storing the identity, storage position, etc., and a means for connecting the storage means to the information reading means on the main body side to be connected are added.

[作用および効果] このように本発明によると、移動型カセットライブラリ
(基板収納ラック)に、内部に収納しである基板の素性
および収納位置等を記憶する手段(記憶素子)が付加さ
れているため、そのライブラリが接合される各装置側に
その情報を読み取る手段を付加してやれば、各半導体製
造装置や周辺機器間のライブラリを介しての連結・接続
・連絡が可能になり、装置にライブラリを接続したとき
の人間による複雑なデータ入力作業が不必要となり、無
人工場オンラインシステムや工程管理の省力化等に対応
可能になる。
[Operations and Effects] As described above, according to the present invention, the mobile cassette library (substrate storage rack) is provided with a means (memory element) for storing the identity and storage position of the substrates stored inside. Therefore, if a means to read the information is added to each device to which the library is connected, it will be possible to link, connect, and communicate between each semiconductor manufacturing device and peripheral device via the library, and the library will be connected to the device. When connected, complicated data input by humans is no longer necessary, making it possible to support unmanned factory online systems and labor-saving process management.

[実施例] 第1図は、本発明の一実施例に係る縮小投影露光装置(
ステッパ)の全体外観図を示す、同図において、1は全
体空調チャンバ、2は移動型レチクルカセットライブラ
リである。
[Embodiment] FIG. 1 shows a reduction projection exposure apparatus (
In this figure, 1 is an overall air conditioning chamber, and 2 is a mobile reticle cassette library.

第2図は、第1図の全体空調チャンバ1の一部を透視し
た図である。同図において、10はステッパ本体、11
と12はそれぞれステ9バ本体10を構成する結像レン
ズと照明装置、13はステツノ(本体10によってレチ
クル6のパターンが焼付けられる被露光体例えば半導体
ウェハである。
FIG. 2 is a partially transparent view of the entire air conditioning chamber 1 of FIG. 1. FIG. In the same figure, 10 is the stepper main body, 11
and 12 are respectively an imaging lens and an illumination device which constitute the main body 10 of the stage 9, and 13 is a stage (an object to be exposed, such as a semiconductor wafer, on which the pattern of the reticle 6 is printed by the main body 10).

第3図は1.レチクル搬送システムの説明図である。図
中、4は特願昭60−214591号、特願昭6O−2
14FdZ号および特願昭1ie−293830号で提
示したレチクルカセット(基板収納容器)、5は上記特
願昭80−293630号で提示したカセットホルダ、
6はレチクル、7はバーコードリーダ・パターン位置検
知装置である。PI’は第1のカセット収納位置で、ラ
イブラリ2の位置に相当する。P2はカセット収納位置
P、から取り出したカセットホルダ5を所定の位置まで
昇降させるエレベータ位置、P3はエレベータ位置P2
からカセットホルダ5ごと送り込まれたカセット4から
レチクル6を抜き出すレチクル抜き出し位置(第2のカ
セット収納位置)、P4はレチクル6を上方に送る機構
との受は渡し位置(第1の受は渡し位置)、psはレチ
クル異物検査位置、P6はレチクルを露光位置まで搬入
搬出する機構との受は渡し位置(第2の受は渡し位置)
、P7は露光位置、P8は露光工程を終えたレチクル6
をカセット4内に収納する空力セット待機位置である。
Figure 3 shows 1. FIG. 2 is an explanatory diagram of a reticle conveyance system. In the figure, 4 is Japanese Patent Application No. 60-214591, Japanese Patent Application No. 60-2
14FdZ and the reticle cassette (substrate storage container) presented in Japanese Patent Application No. 1983-293830, 5 is the cassette holder presented in the above-mentioned Japanese Patent Application No. 80-293630,
6 is a reticle, and 7 is a barcode reader/pattern position detection device. PI' is a first cassette storage position, which corresponds to the library 2 position. P2 is an elevator position where the cassette holder 5 taken out from the cassette storage position P is raised and lowered to a predetermined position, and P3 is an elevator position P2.
P4 is the reticle extraction position (second cassette storage position) where the reticle 6 is extracted from the cassette 4 that has been fed together with the cassette holder 5; ), ps is the reticle foreign object inspection position, P6 is the transfer position for the mechanism that carries the reticle to and from the exposure position (the second support is the transfer position)
, P7 is the exposure position, and P8 is the reticle 6 after the exposure process.
This is the aerodynamic set standby position where the cassette 4 is stored.

上記構成において、レチクルカセットライブラリ2(第
1のカセット収納位置PI)に積層状に配置されたレチ
クルカセット4は、露光装置本体のコンソールによる指
令により、エレベータ機構がむかえにきてカセット収納
位lit p +からホルダ5ごとエレベータ位置P2
にBされ、ここで所定の高さまで昇降され、さらにレチ
クル抜き出し位置P、(第2のカセット収納位置)に送
り込まれ収納される。第2のカセット収納位置P3にレ
チクルカセット4およびカセットホルダ5が収納される
と、この位置P、にあるカセット開閉用駆動源(図示せ
ず)が働餘、カセット4が開けられ、内部のレチクル6
を抜き出し可能な状態にする。
In the above configuration, the reticle cassettes 4 arranged in a stacked manner in the reticle cassette library 2 (first cassette storage position PI) are moved to the cassette storage position by the elevator mechanism in response to a command from the console of the exposure apparatus main body. From + to elevator position P2 with holder 5
The reticle is then moved up and down to a predetermined height, and then sent to and stored in the reticle extraction position P (second cassette storage position). When the reticle cassette 4 and the cassette holder 5 are stored in the second cassette storage position P3, the cassette opening/closing drive source (not shown) located at this position P is activated, the cassette 4 is opened, and the internal reticle is opened. 6
Make it removable.

カセット4の上蓋および下蓋の形状により、この開状態
では、カセット4の横方向から内部のレチクル6の有無
検知が可能となっている。
Due to the shapes of the upper and lower lids of the cassette 4, in this open state, the presence or absence of the reticle 6 inside the cassette 4 can be detected from the lateral direction.

次いで、図示しないレチクル抜き出し機構が動作し、レ
チクル抜ぎ出し位置P、において開放されたカセット4
からレチクル6を抜き出す。抜き出されたレチクル6は
第1の受は渡し位置P4を通過してレチクル異物検査位
置P5に入り、ここで上記抜き出し機構により異物検査
光下をスキャンされ、レチクル6上にある異物の有無お
よび所在位置が確認される。この段階で工程使用不能と
判定されたレチクル6は前述とは逆の動作によって、も
とのレチクルカセットライブラリ2内に戻される。
Next, a reticle extracting mechanism (not shown) operates, and the opened cassette 4 is moved to the reticle extracting position P.
Pull out the reticle 6 from the. The extracted reticle 6 passes through the first transfer position P4 and enters the reticle foreign object inspection position P5, where it is scanned by the extraction mechanism under a foreign object inspection light to check whether there is any foreign object on the reticle 6 or not. The location is confirmed. The reticle 6 determined to be unusable for the process at this stage is returned to the original reticle cassette library 2 by the reverse operation to that described above.

異物検査の結果、工程使用可能と判定されたレチクル6
は、第1の受は渡し位置P4に送られ、この位置で下側
に待機していた上下搬送機構に受は渡され、第2の受は
渡し位置P6まで上昇する。
Reticle 6 determined to be usable for process as a result of foreign object inspection
In this case, the first receiver is sent to the transfer position P4, and at this position, the receiver is transferred to the vertical conveyance mechanism waiting below, and the second receiver is raised to the transfer position P6.

この位置でレチクル6を露光装置内部まで送り込む送り
込み機構に受は渡し、露光位置P7まで搬送するのであ
るが、レチクルバーコードリーダ・パターン位置検知ユ
ニット7は、この搬送中、送り込まれるレチクル6をス
キャンし、そのレチクル6のパターン位置がレチクル端
面に対してどの程度ずれて製作されているかを検知する
。同時に、そのレチクルがらみの露光工程条件なレチク
ルに書ぎ込まれたバーコードパターンにより読み取り、
露光装置本体のコンソールにデータを送り、レチクル6
が露光位置P、へ搬送されるまでに、露光工程がらみの
機械的な設定を終了してしまうようにしている。
At this position, the receiver passes the reticle 6 to the feeding mechanism that feeds it into the exposure apparatus, and transports it to the exposure position P7. During this transport, the reticle barcode reader/pattern position detection unit 7 scans the reticle 6 being fed. Then, it is detected how far the pattern position of the reticle 6 is manufactured with respect to the end face of the reticle. At the same time, the barcode pattern written on the reticle is read according to the exposure process conditions related to that reticle.
The data is sent to the console of the exposure equipment main body, and the reticle 6
Mechanical settings related to the exposure process are completed before the image is transported to the exposure position P.

一方、前述の第2のカセット収納位置P、でレチクル6
を抜き出されたカセット4は、開閉機構により閉じられ
、レチクル6の上下搬送および露光位置P、への送り込
み動作中にレチクル収納位W p aまで送られ、露光
工程終了により戻されて来るレチクル6をこの位置で待
機している。
On the other hand, the reticle 6 is placed in the second cassette storage position P mentioned above.
The removed cassette 4 is closed by the opening/closing mechanism, and is transported to the reticle storage position W p a during the vertical transportation and feeding of the reticle 6 to the exposure position P, and the reticle is returned when the exposure process is completed. 6 is waiting in this position.

露光工程を終了したレチクル6は、前述の送り込み機構
により第2の受は渡し位置P6に搬送され、この位置で
待機しているレチクル収納機構に受は渡される。すると
、収納位置Paにあるカセット開閉機構駆動源が働ぎ、
収納位置P8で待機中のカセット4が開放される。この
状態でレチクル収納機構によりレチクル6がカセット4
に収納され、再び開閉機構が働いてカセット4は閉じら
れる。
The reticle 6 that has completed the exposure process is transported by the aforementioned feeding mechanism to the second transfer position P6, and is transferred to the reticle storage mechanism waiting at this position. Then, the cassette opening/closing mechanism drive source located at the storage position Pa is activated.
The cassette 4 waiting at the storage position P8 is opened. In this state, the reticle storage mechanism moves the reticle 6 to the cassette 4.
The opening/closing mechanism operates again to close the cassette 4.

レチクル6を収納されたカセット4は、カセット入れ換
え機構より、再びレチクル抜き出し位置P3に戻され、
この位置で待機しているエレベータ機構によりエレベー
タ位置P2を経てもとのレチクルカセットライブラリ2
内の収納位置P1に戻される。
The cassette 4 containing the reticle 6 is returned to the reticle extraction position P3 by the cassette exchange mechanism, and
The elevator mechanism waiting at this position returns the reticle cassette library 2 to the original reticle cassette library 2 via the elevator position P2.
It is returned to the storage position P1 inside.

前述のカセット入れ換え機構では、2つのカセットを収
納することができる。このため、次工程のレチクルを事
前に指令しておけば、工程終了したレチクルが戻される
前に次工程のレチクルを異物検査まで終了させ、第1の
受は渡し位置P4において、第2の受は渡し位置P6か
ら前工程のレチクルが排出された(レチクル収納位置P
7で待機中のカセットに収納されること)直後に次のレ
チクルを送り込むことができる。
The aforementioned cassette exchange mechanism can accommodate two cassettes. Therefore, if the reticle for the next process is commanded in advance, the reticle for the next process will be inspected for foreign matter before the reticle that has completed the process is returned, and the first receiver will be transferred to the second receiver at the transfer position P4. The reticle from the previous process was ejected from the transfer position P6 (reticle storage position P
7), the next reticle can be sent immediately after.

ところで、従来の自動レチクル交換装置においては、レ
チクルなライブラリ内でカセットから取り出して、露光
位置までの長い経路を往復させていた。このため、搬送
中のレチクルへのゴミ付着の確率が高くなり、特にステ
ッパ等のように、しチクルのパターンを1枚のウェハ上
の多数箇所に繰返し焼付ける装置においては、各ショッ
トごと、または各チップごとのゴミによる不良品率が高
くなるという大欠点があった。この実施例においては、
上述のように、ライブラリ2(カセット収納位置p+)
と空調チャンバ1のカセット抜き出し位置P2  (ま
たはカセット待機位置pa)との間はレチクル6をカセ
ット4ごと搬送することにより、上記大欠点の解消を図
っている。
By the way, in a conventional automatic reticle exchange device, a reticle is taken out from a cassette in a reticle library and reciprocated along a long path to an exposure position. For this reason, there is a high probability that dust will adhere to the reticle during transportation, and in particular, in devices such as steppers that repeatedly print the reticle pattern on multiple locations on a single wafer, dust may adhere to the reticle for each shot or A major drawback was that the rate of defective products due to dust on each chip was high. In this example,
As mentioned above, library 2 (cassette storage position p+)
By conveying the reticle 6 together with the cassette 4 between the cassette extracting position P2 (or the cassette standby position pa) of the air conditioning chamber 1, the above-mentioned major drawback is solved.

第4図は、第1図の移動型カセットライブラリ2を裏面
から見た外観図、つまり、露光装置内に自動交換機で送
り込むべきレチクルカセット4がカセットホルダSごと
搬出される側の外観図である。同図において、ライブラ
リ本体2には、このライブラリ2に収納されているカセ
ットの名称、レチクルの素性を示すパラメータ等が格納
された読み書き可能な記憶素子を含む記憶手段21が取
付けられている。22はライブラリのカセット収納部の
屏で、このライブラリ本体2の表面および裏面に構成さ
れている。
FIG. 4 is an external view of the mobile cassette library 2 shown in FIG. 1 seen from the back, that is, an external view of the side where the reticle cassette 4 to be fed into the exposure apparatus by the automatic exchanger is carried out together with the cassette holder S. . In the figure, a storage means 21 is attached to the library main body 2, which includes a readable and writable storage element in which the names of the cassettes stored in the library 2, parameters indicating the identity of the reticles, etc. are stored. Reference numeral 22 denotes a cassette storing section of the library, which is arranged on the front and back surfaces of the library main body 2.

図示矢印Aは、自動交換機によるレチクルカセット4の
抜き出し方向を示している。
Arrow A in the figure indicates the direction in which the reticle cassette 4 is removed by the automatic exchanger.

この移動型カセットライブラリは、全体空調チャンバ1
またはステッパ本体と結合、切り離しが自在で、かつ、
ライブラリ相互または他のレチクル関連装置との互換性
を良くしてあり、所定のカセット枚数を収納したライブ
ラリ2を工程または製造品種に合せて順次交換できるよ
うに移動可能型の形態をとっている。
This mobile cassette library covers the entire air conditioning chamber 1.
or can be freely connected to and disconnected from the stepper body, and
The library 2 has good compatibility with each other or with other reticle-related devices, and is of a movable type so that the library 2 containing a predetermined number of cassettes can be sequentially replaced according to the process or product type.

このため、多品種少量生産型ラインに対応すべく多種の
基板を収納するカセットライブラリ毎、オンライン等に
よる交換が可能となり、露光装置本体内に送り込むレチ
クルカセットの交換に際し、温調チャンバにより露光装
置が温度的に安定していると台に温調チャンバの窓を開
けて人手で交換作業を行なうことによる温調チャンバ内
および露光装置の温度変動という事態を防止することが
できる。
Therefore, in order to support a high-mix, low-volume production line, each cassette library that stores a variety of substrates can be replaced online, etc. When replacing the reticle cassette that is fed into the exposure equipment main body, the temperature-controlled chamber allows the exposure equipment to If the temperature is stable, it is possible to prevent temperature fluctuations in the temperature control chamber and the exposure apparatus due to manual replacement work with the window of the temperature control chamber opened on the table.

また、上記形態をとれば、第11図に示すようにパター
ンジェネレータ1aやスタンドアローン型のゴミ検査機
1bやレチクル洗浄装置1c、あるいはべりタルはり合
せ装置(図示せず)等、レチクルまわりの保守点検機と
の接続が容易で、レチクルの交換、保守および点検等の
際に人間を介さずに済み、無塵環境に対しての冗長性を
増すことができる。
In addition, if the above configuration is adopted, as shown in FIG. 11, maintenance of the reticle area such as a pattern generator 1a, a stand-alone dust inspection device 1b, a reticle cleaning device 1c, or a veritaru gluing device (not shown) can be performed. It is easy to connect to an inspection machine, eliminates the need for human intervention during reticle replacement, maintenance, inspection, etc., and increases redundancy in a dust-free environment.

第4図において、記憶手段21は、ライブラリ2に収納
されているレチクルカセット内のレチクルの名称と収納
位置、およびステッパにおけるレチクルまわりの初期設
定項目等、装置動作に必要なパラメータを記録している
書き込み、消去自在な記憶素子が構成され、全体空調チ
ャンバ1またはステッパ本体に構成された読み取り手段
と、接合可能な位置関係にあり、接合状態とすることに
より前記パラメータをステッパ本体コンソール3に送り
込むことが可能になっている。
In FIG. 4, the storage means 21 records parameters necessary for device operation, such as the name and storage position of the reticle in the reticle cassette stored in the library 2, and initial setting items around the reticle in the stepper. A memory element that can be freely written and erased is configured, and is in a positional relationship that allows it to be connected to a reading means configured in the general air conditioning chamber 1 or the stepper main body, and when the connected state is established, the parameters are sent to the stepper main body console 3. is now possible.

第5図は、ライブラリ2内におけるカセットホルダ5の
収納状況および手動による出し入れ(図示矢印B)およ
び自動機による出し入れ(図示矢印A)時の動作につい
て示している。同図において、4は前述のレチクルカセ
ット、5はカセットホルダである。 23.25はコロ
列、24は可動なコロ列フレーム、26はライブラリ筐
体兼ガイドレールである。27はコロ列アレーム24に
構成されたストッパ機構で、カセットホルダ5をライブ
ラリ内でガタつかせないようにしている。28はコロ、
29はホルダ5をコロ列フレームに24.24間に保持
するためのストッパである。このカセットライブラリ2
の左右各段は、それぞれ同様に構成されている。
FIG. 5 shows the storage status of the cassette holder 5 in the library 2 and the operations when taking it in and out manually (arrow B in the figure) and taking it in and out by an automatic machine (arrow A in the figure). In the figure, 4 is the aforementioned reticle cassette, and 5 is a cassette holder. 23 and 25 are roller rows, 24 is a movable roller row frame, and 26 is a library casing and guide rail. Reference numeral 27 denotes a stopper mechanism constructed on the roller array array 24, which prevents the cassette holder 5 from shaking within the library. 28 is Koro,
29 is a stopper for holding the holder 5 on the roller row frame between 24 and 24. This cassette library 2
The left and right stages of are configured in the same way.

ライブラリ2におけるカセットホルダ5の移動方向およ
びストロークは、人間の手による矢印Bのカセット設定
と、自動搬送機による矢印Aの出し入れ動作に対応する
ため、ライブラリ2の表側方向にホルダ5の長さ分、裏
面方向にホルダ5の抜き差し可能なストロークが必要に
なる。また、ライブラリ2は、全体空調チャンバ1また
はステッパ本体と接合、離反の関係にあることから、ラ
イブラリ2内には、移動用の駆動源となるアクチュエー
タは存在せず、ホルダ5の出し入れは、人間の手、また
は自動機から伝達される動力によって行なわれる。
The moving direction and stroke of the cassette holder 5 in the library 2 correspond to the cassette setting indicated by the arrow B by a human hand and the loading/unloading operation indicated by the arrow A by the automatic transport machine. , a stroke that allows the holder 5 to be inserted and removed in the direction of the back surface is required. Furthermore, since the library 2 is connected to and separated from the overall air conditioning chamber 1 or the stepper body, there is no actuator in the library 2 that serves as a driving source for movement, and the holder 5 can only be put in and taken out by humans. by hand or by power transmitted from an automatic machine.

第5図の2段目は、カセットホルダ5がライブラリ2か
ら抜き出された状態を示す。つまり、自動搬送機のエレ
ベータ機構(図示せず)が所望とするカセットホルダ5
の位置に対向した時、エレベータ機構のアクチュエータ
はストッパ29をつかまえてコロ列フレーム24を図示
位置まで引籾抜き、さらにストッパ29を解除する。続
いて、エレベータ機構に構成されている抜き出しフック
がカセットホルダ5についているツメ5aをつかまえ、
カセットホルダ5を図示位置まで抜き出す。これにより
、カセットホルダ5がライブラリ2外に出ることになる
The second stage in FIG. 5 shows a state in which the cassette holder 5 is removed from the library 2. In other words, the elevator mechanism (not shown) of the automatic conveyance machine can hold the desired cassette holder 5.
When facing the position, the actuator of the elevator mechanism grasps the stopper 29, pulls the roller row frame 24 to the illustrated position, and then releases the stopper 29. Next, a pull-out hook configured in the elevator mechanism catches the claw 5a attached to the cassette holder 5, and
Pull out the cassette holder 5 to the position shown. As a result, the cassette holder 5 comes out of the library 2.

また、この2段目に示しているホルダ5が抜き出された
状態では、ストッパ機構27が図示のごとくレール26
に支持された状態にあるので、戻ってきたホルダ5に対
してストッパの役割をし、カセットホルダ5をコロ列フ
レーム24に対して常時定位置に収納することかできる
In addition, when the holder 5 shown in the second stage is pulled out, the stopper mechanism 27 is attached to the rail 26 as shown in the figure.
Since the cassette holder 5 is in a supported state, it acts as a stopper for the returned holder 5, and the cassette holder 5 can always be stored in a fixed position with respect to the roller row frame 24.

第5図の第3段目は、人間の手によるカセット交換時の
状態を示す。この状態ではストッパ機構27は支持する
レール26から外れて解除状態となり、またカセットホ
ルダ5はツメ5aがコロ列フレーム24に固定されてい
るストッパ部材24aに当接することにより停止するの
で、矢印Bの方向からのカセット交換が容易になる。
The third row in FIG. 5 shows the state when the cassette is replaced manually. In this state, the stopper mechanism 27 comes off the supporting rail 26 and is in the released state, and the cassette holder 5 is stopped when the claw 5a comes into contact with the stopper member 24a fixed to the roller row frame 24. It becomes easy to change the cassette from any direction.

第6図は、第2図の露光装置を右側面から見た説明図で
ある。
FIG. 6 is an explanatory diagram of the exposure apparatus of FIG. 2 viewed from the right side.

同図において、レチクルカセットライブラリ2は露光装
置チャンバ(全体空調チャンバ)1と当接し、この状態
で露光装置チャンバ側に構成されたロック部材15と、
カセットライブラリ2側に構成されたつかまえコロ2a
の結合が起こり、チャンバ1とライブラリ2との相対位
置が固定される。
In the figure, the reticle cassette library 2 is in contact with the exposure apparatus chamber (general air conditioning chamber) 1, and in this state, the locking member 15 configured on the exposure apparatus chamber side,
Catching roller 2a configured on the cassette library 2 side
coupling occurs, and the relative positions of chamber 1 and library 2 are fixed.

そして、レチクルカセットライブラリ2に構成された記
憶手段21に格納されているデータは露光装置チャンバ
1に構成された読み取り手段16により読み取られ、ラ
イブラリ2内に収納されている各レチクルの収納段位置
、およびレチクルがらみの各種工程のパラメータ等のデ
ータが本体に送られて本体の記憶手段にプールされる。
The data stored in the storage means 21 configured in the reticle cassette library 2 is read by the reading means 16 configured in the exposure apparatus chamber 1, and the storage stage position of each reticle stored in the library 2 is determined. Data such as parameters of various processes related to the reticle are sent to the main body and pooled in the main body's storage means.

本体側の指定により抜き出されたレチクルはエレベータ
位置P2でエレベータ機構に乗って第2のカセット収納
位置P、に送り込まれる。この位置はレチクルカセット
ライブラリ2内の中腹部に位置し、レチクルカセットラ
イブラリ2内にある各カセット位置に対し、その高低差
による搬送時間の違いを極力少なくしている。また、レ
チクルカセットライブラリ2を使用せずマニュアルにて
カセットを設置する時にはレチクル抜き出し位置P、に
カセットを置いてやるようにすれば、レチクル抜き出し
位置P、は、露光装置の設置されている床面からの高さ
が1m20cm程度であるから、位置関係として人手に
よる操作設定容易である。
The reticle extracted according to the instructions from the main body is conveyed to the second cassette storage position P by the elevator mechanism at the elevator position P2. This position is located in the middle of the reticle cassette library 2, and minimizes the difference in transport time due to height difference between each cassette position in the reticle cassette library 2. Also, when manually installing a cassette without using the reticle cassette library 2, if you place the cassette at the reticle extraction position P, the reticle extraction position P will be on the floor where the exposure device is installed. Since the height from the top is about 1 m 20 cm, manual operation and setting are easy due to the positional relationship.

本実施例の機構および各機能の主なねらいは、いかに搬
送中のレチクルに対し、塵の付着を防止して送り込める
かということであり、特にレチクル単体を搬送している
時における外部からの浮遊應の付着を防ぐために、異物
検査ユニット8のクリーンボックス化、およびカセット
外に出たレチクルの搬送領域のクリーンボックス化を2
重のボックス8a、8重%扉8C1ならびに空調装置等
により実現している。つまり、カセット入れ換え機構お
よびカセット開閉機構からの発塵および浮遊塵をレチク
ル搬送領域内部に浸入させないため、各部の気圧を、異
物検査ユニット8(ボックス8a内)で最も高く、次い
でレチクル搬送領域(ボックス8b内)、チャンバ内部
1(ボックス8b外)およびチャンバ外の順となるよう
に揚圧化している。第6図中、8cはレチクル搬送領域
からレチクル異物検査ユニット8への浮遊塵の流入を遮
断する扉である。また、101は空調ユニット、102
は冷却機、103は送風機、104は加熱機、105は
フィルタ、106は温度センサである。
The main aim of the mechanism and each function of this embodiment is to prevent dust from adhering to the reticle while it is being transported, especially when transporting a single reticle from the outside. In order to prevent the adhesion of floating scum, the foreign object inspection unit 8 is made into a clean box, and the reticle transfer area that comes out of the cassette is made into a clean box.
This is realized by a heavy box 8a, an 8-fold door 8C1, an air conditioner, etc. In other words, in order to prevent dust and floating dust from the cassette exchange mechanism and the cassette opening/closing mechanism from entering the reticle transport area, the air pressure of each part is highest in the foreign object inspection unit 8 (inside box 8a), and then in the reticle transport area (box 8a). 8b), chamber interior 1 (outside box 8b), and outside the chamber. In FIG. 6, 8c is a door that blocks floating dust from flowing into the reticle foreign object inspection unit 8 from the reticle transport area. Further, 101 is an air conditioning unit, 102
103 is a cooling device, 103 is a blower, 104 is a heating device, 105 is a filter, and 106 is a temperature sensor.

21bはシール材である。21b is a sealing material.

第7図は第3図で示した基本構成のうち、露光装置に固
定されたレチクル抜ぎ出し位置P3からレチクル収納位
置P6までの各動作機構の実施外親図である。
FIG. 7 is a diagram illustrating the operation mechanism of the basic configuration shown in FIG. 3 from the reticle extraction position P3 to the reticle storage position P6 fixed to the exposure apparatus.

第7図において、カセットライブラリ2からホルダ5ご
と抜ぎ出されたカセット4はレチクル抜き出し位置(第
2のカセット収納位置)psに送り込まれ、上下移動型
ホルダ支持台71に載置固定される。この位置P3には
、カセット4を構成している上蓋と下蓋を分離するカセ
ット開閉機構が構成されており、上下8動型ホルダ支持
台71にホルダ5が送り込まれ固定されたことを確認し
た時点以後、このカセット開閉機構が作動し、カセット
4の上蓋が開放され、内部にあるレチクル6がカセット
4外から取り出し可能になる。この状態になった時レチ
クル抜幹出しフォーク30がカセット4内にあるレチク
ル6を抜き出し、その抜籾出し方向の延長上にあるレチ
クル異物検査ユニット8(第6図)内に定速で送り込む
、一方、レチクル6がカセット4外に出たことを確認し
たら、カセット開閉機構が作動し、カセット4は閉じら
れる。
In FIG. 7, the cassette 4 pulled out from the cassette library 2 along with the holder 5 is sent to the reticle extraction position (second cassette storage position) ps, and placed and fixed on the vertically movable holder support stand 71. At this position P3, a cassette opening/closing mechanism that separates the upper and lower lids constituting the cassette 4 is configured, and it was confirmed that the holder 5 was fed and fixed to the vertical 8-movement holder support stand 71. After this point, the cassette opening/closing mechanism is activated, the upper lid of the cassette 4 is opened, and the reticle 6 inside can be taken out from outside the cassette 4. When this state is reached, the reticle extraction fork 30 extracts the reticle 6 from the cassette 4 and feeds it at a constant speed into the reticle foreign object inspection unit 8 (FIG. 6) located on the extension of the reticle in the extraction direction. On the other hand, when it is confirmed that the reticle 6 has come out of the cassette 4, the cassette opening/closing mechanism is activated and the cassette 4 is closed.

レチクル抜ぎ出し位置P3にあるホルダ支持台は上下8
動型ホルダ支持台71と姿勢保持型ホルダ支持台72の
上下に2つが設けられており、カセット4が空になった
ことを確認されて閉じられると、下位置の上下移動型ホ
ルダ支持台71と上位置にある姿勢保持型ホルダ支持台
72が上下位置を交換できるようになっている。これに
より、前述の空になったカセット4は上位置(レチクル
収納位置pa)へ送り込まれ、この位置P6で前述の露
光位置P、へ搬送されたレチクルが露光工程の終了によ
って戻されレチクル収納位置P8に搬入されるまで待機
している。
The holder support base at the reticle extraction position P3 is 8
Two holder support stands 71 and 72 are provided above and below the movable holder support stand, and when it is confirmed that the cassette 4 is empty and the cassette 4 is closed, the holder support stand 71 of the vertically movable position is moved to the lower position. The posture holding type holder support base 72 located at the upper position can be exchanged in its upper and lower positions. As a result, the empty cassette 4 described above is sent to the upper position (reticle storage position pa), and at this position P6, the reticle transported to the exposure position P described above is returned to the reticle storage position upon completion of the exposure process. Waiting until it is delivered to P8.

第6図を参照して、カセット4から抜き出されたレチク
ル6は、通常、そのままレチクル異物検査ユニット8内
に送り込まれる。しかし、レチクル6にペリクル防塵膜
が付けられていた場合、現在のレチクル異物検査ユニッ
トの構成上、ペリクル防塵膜のフレームにより、レチク
ル6のフレーム内部で検査不可能な領域(レチクル6と
ペリクル防塵膜フレームの接合隅部)がある。この部分
を検査するためには、レチクル6を180°平面回転し
た後もう一度、レチクル検査ユニット8でその領域の検
査をするようになる。この平面回転機構を有しているの
が受は渡し位置P4にあるθZ機構40である。
Referring to FIG. 6, the reticle 6 extracted from the cassette 4 is normally fed into the reticle foreign object inspection unit 8 as it is. However, if a pellicle dust-proof film is attached to the reticle 6, due to the configuration of the current reticle foreign object inspection unit, the area inside the frame of the reticle 6 that cannot be inspected (reticle 6 and the pellicle dust-proof film There is a joint corner of the frame). In order to inspect this area, the reticle 6 is rotated 180 degrees in plane, and then the reticle inspection unit 8 inspects that area again. The θZ mechanism 40 located at the transfer position P4 has this plane rotation mechanism.

第7図に戻って、レチクル6がレチクル異物検査ユニッ
トによって異物検査を完了して受は渡し位置P4に戻っ
てくると、θZ機構40はレチクル抜き出しフォーク3
0の下側よりレチクル4をすくい上げるようにフォーク
30から取り出し、露光装置のレチクル設定方向に合せ
てθ回転させ、Z機構による上昇動作で受は渡し位置P
6に送る。
Returning to FIG. 7, when the reticle 6 completes the foreign object inspection by the reticle foreign object inspection unit and the receiver returns to the transfer position P4, the θZ mechanism 40 moves the reticle extraction fork 3
0, take out the reticle 4 from the fork 30 by scooping it up from the bottom, rotate it by θ in accordance with the reticle setting direction of the exposure device, and move the receiver to the transfer position P by the upward movement by the Z mechanism.
Send to 6.

このθZ機構40によるθ回転量は、コンソールからの
入力または記憶手段21からの読み取りデータに基いて
基板ごとに1/4回転ピッチで3/4−転まで設定する
ことができる。この02機構40により、この装置にお
いては、種々の装置に使用されている多種多様なレチク
ルカセットおよびそのカセット内のレチクルの設定方向
にも人手によるカセット内レチクルの方向合せという面
倒な仕事なしに、レチクルカセット内およびレチクルの
清浄度を維持した状態で各種装置との間を無人オンライ
ンでレチクル交換することができる。つまりマシンコン
パチビリティを向上させることができる。
The amount of θ rotation by the θZ mechanism 40 can be set for each board at a 1/4 rotation pitch up to 3/4 rotation based on input from the console or data read from the storage means 21. With this 02 mechanism 40, this device can be used in a wide variety of reticle cassettes used in various devices and in the setting direction of the reticle in the cassette without the troublesome task of manually aligning the reticle in the cassette. It is possible to exchange reticles between various devices in an unmanned online manner while maintaining the cleanliness of the reticle cassette and the reticle. In other words, machine compatibility can be improved.

位置P6では、レチクル搬送機構50に構成された開閉
動作を有するレチクルハンド52.53が開状態で待機
しておりその位置でレチクル6を位置決め下側支持して
受は取る。レチクル6を受は渡し位置P6で受は取った
レチクル搬送ハンド51は、レチクル6の直交する2端
面を突き当て状態で下面支持しながら露光−室内の露光
位置P7に直線搬送する。この直線−道中01ケ所にバ
ーコードリーダ・パターン位置検知ユニット7が構成さ
れており、レチクル6が定速で搬送されている間に指定
レチクルの確認、露光装置のレチクルがらみのパラメー
タ読み取り、および現在つかんでいるレチクル6のパタ
ーンが露光装置の中心に対してどれ程ずれているかを検
知して、搬送終了までに露光装置の設定を終えてしまう
ようにしである。
At position P6, reticle hands 52 and 53, which are configured in the reticle transport mechanism 50 and have opening/closing operations, are waiting in an open state, and at that position, the reticle 6 is positioned and supported on the lower side. The reticle transport hand 51 picks up the reticle 6 at the transfer position P6, and transports the reticle 6 in a straight line to the exposure position P7 in the exposure room while supporting the reticle 6 from below with its two orthogonal end faces abutting against each other. A barcode reader/pattern position detection unit 7 is configured at 01 locations along this straight line, and while the reticle 6 is being conveyed at a constant speed, it can confirm the designated reticle, read the reticle-related parameters of the exposure device, and check the current This is to detect how far the pattern of the reticle 6 that is being gripped is offset from the center of the exposure device, and to complete the settings of the exposure device by the end of the conveyance.

露光位置P7に到着したレチクル搬送ハンド51は、レ
チクルハンド52.53を開いてその位置でレチクル6
を放しレチクル6を露光装置の受は台(図示せず)に載
置する。その後、レチクル搬送ハンド51は、レチクル
ハンド52.53を開状態としたまま、露光工程終了を
待機する。
The reticle transport hand 51 that has arrived at the exposure position P7 opens the reticle hands 52 and 53 and transfers the reticle 6 at that position.
is released and the reticle 6 is placed on a support (not shown) of the exposure device. Thereafter, the reticle conveying hand 51 waits for the exposure process to end while keeping the reticle hands 52 and 53 open.

露光工程を終了したレチクル6はレチクル搬送ハンド5
1によって露光位置P、から受は渡し位置P6へ搬送さ
れる。受は渡し位置P6では前述のθZ機構40が下側
初期位置に下降退避し、レチクル収納フォーク90がレ
チクル受は渡し準備を完了している。
The reticle 6 that has completed the exposure process is transferred to the reticle transport hand 5
1, the receiver is transported from the exposure position P to the transfer position P6. At the transfer position P6, the θZ mechanism 40 is lowered and retracted to the lower initial position, and the reticle storage fork 90 has completed preparations for transferring the reticle.

レチクル搬送ハンド51が受は渡し位置P6にてレチク
ル6をレチクル収納フォーク90に載置した時、レチク
ルハンド52.53は開状態になる。これにより、機構
(51と90)同志が干渉することなく、レチクル収納
フォーク90は前述のレチクル収納位置P8に待機して
いる空のレチクルカセットへのレチクルの収納が可能で
ある。
When the reticle transport hand 51 places the reticle 6 on the reticle storage fork 90 at the transfer position P6, the reticle hands 52 and 53 are in an open state. As a result, the reticle storage fork 90 can store a reticle in the empty reticle cassette waiting at the reticle storage position P8, without interference between the mechanisms (51 and 90).

レチクル収納位置P8にも前記レチクル抜き出し位置P
、のものと同様の開閉機構駆動源があり、その動作によ
って位置P8で待機中のカセット4を開放し、カセット
4内にレチクルがないことを確認した後レチクル収納フ
ォーク9oを動作してレチクル6をカセット4内に収納
する。収納後、レチクル収納フォーク90がカセット4
から外に出ると、カセット開閉機構駆動源が動作し、カ
セット4が閉状態になる。
The reticle extraction position P is also located at the reticle storage position P8.
There is an opening/closing mechanism driving source similar to that of the one in , and its operation opens the cassette 4 waiting at position P8, and after confirming that there is no reticle in the cassette 4, operates the reticle storage fork 9o to remove the reticle 6. is stored in the cassette 4. After storing, the reticle storage fork 90 moves to the cassette 4.
When the user goes outside, the cassette opening/closing mechanism drive source operates, and the cassette 4 becomes closed.

その後、前記ホルダ支持台は再び上下の入れ換え動作を
してカセット4を下位置(レチクル抜と出し位置)P3
にて待機させる。このカセット4はカセット搬出機構に
よりレチクルライブラリに戻される。
Thereafter, the holder support base performs the vertical switching operation again to move the cassette 4 to the lower position (reticle extraction and removal position) P3.
Please wait at. This cassette 4 is returned to the reticle library by a cassette unloading mechanism.

これら一連の動作に対して、カセット搬送機構の動作、
レチクル抜き出し動作、レチクル異物検査、θZ動作、
レチクル搬送動作、レチクル収納動作、カセット上下入
れ換え動作、ライブラリへのカセット収納、供給動作を
シリーズ的に動作させると、工程ごとのレチクル交換時
間は3〜4分程費やしてしまう。これに対し、本実施例
では第2のカセット収納位置に2つのホルダ支持台71
゜72を設け、ライブラリ2から搬出されたカセット4
は、レチクル抜き出し位置P3にてレチクルの抜き出し
動作をレチクル抜き出しフォーク30によって行なって
空になった後、上蓋を閉じカセット上下入れ換え動作に
よってレチクル収納位置P8に送り、代って姿勢保持型
ホルダ支持台72をレチクルの抜き出し位置P、に来さ
せ、この姿勢保持型ホルダ支持台72に次工程で必要と
するレチクルのカセットを搬送載置することができるよ
うにしている。したがって、本実施例では、予め露光装
置が現工程を終了する時間または露光処理するウニ八枚
数の処理時間をもとに交換時期を算定し、そのカセット
搬送時間、レチクル異物検査時間等機械動作として起こ
る所要時間を見越して次工程レチクルの各搬送動作を開
始すれば、次工程のレチクルはθZ機構40上に待機さ
せることができ、前工程のレチクルが露光工程を終了し
てレチクル収納位置P6に送られた時に次工程のレチク
ルを載せたθZ機構40が上昇動作して受は渡し位置P
6に来るようなシーケンスプログラムを付加してやれば
、上記交換時間は30秒以下に減少させることができる
In response to these series of operations, the operation of the cassette transport mechanism,
Reticle extraction operation, reticle foreign object inspection, θZ operation,
If the reticle conveyance operation, reticle storage operation, cassette vertical exchange operation, cassette storage into the library, and supply operation are performed in series, the reticle exchange time for each process will take about 3 to 4 minutes. In contrast, in this embodiment, two holder support stands 71 are provided at the second cassette storage position.
゜72 is installed and the cassette 4 is carried out from the library 2.
After the reticle is extracted by the reticle extraction fork 30 at the reticle extraction position P3 and becomes empty, the upper cover is closed and the cassette is exchanged up and down, and the reticle is sent to the reticle storage position P8, and the cassette is moved to the posture holding type holder support stand instead. 72 is brought to the reticle extraction position P, so that a reticle cassette required for the next process can be transported and placed on this posture holding type holder support stand 72. Therefore, in this embodiment, the replacement timing is calculated in advance based on the time when the exposure device finishes the current process or the processing time for the number of urchins to be exposed. If each transport operation of the next process reticle is started in anticipation of the required time, the next process reticle can be kept on standby on the θZ mechanism 40, and the previous process reticle can complete the exposure process and move to the reticle storage position P6. When the reticle is sent, the θZ mechanism 40 carrying the reticle for the next process moves upward, and the receiver moves to the transfer position P.
If a sequence program such as that shown in step 6 is added, the above exchange time can be reduced to 30 seconds or less.

第8図は、第7図のカセット入れ換え機構70の動作説
明図である。
FIG. 8 is an explanatory diagram of the operation of the cassette exchange mechanism 70 shown in FIG. 7.

次に、第7および8図を参照しながらカセット入れ換え
機構70について説明する。図中、71.72はホルダ
支持台、 73.73はホルダ支持台71.72に固定
されたプーリ、74はプーリ73.73の軸を規定の間
隔で回転自在に支持するアームである。アーム74はプ
ーリ73.73間の中点位置75で水平動作スライダ7
6に回転支持され、上下のプーリ73をベルト77で連
結されている。このため、支持アーム74は回転中心7
5に対して回転可能となるがその回転動作に対してホル
ダ支持台71.72は平行姿勢を変えないで上下動作可
能になっている。上下B動型ホルダ支持台71は、上下
ガイド79とこれを支持する3つのコロ78により、水
平姿勢状態でZ方向にのみ昇降可能に拘束されている。
Next, the cassette exchange mechanism 70 will be explained with reference to FIGS. 7 and 8. In the figure, 71.72 is a holder support base, 73.73 is a pulley fixed to the holder support base 71.72, and 74 is an arm that rotatably supports the shaft of the pulley 73.73 at a specified interval. The arm 74 is mounted on the horizontally moving slider 7 at a midpoint position 75 between the pulleys 73 and 73.
6, and upper and lower pulleys 73 are connected by a belt 77. For this reason, the support arm 74 has a center of rotation 7
Although the holder support bases 71 and 72 can be rotated relative to 5, the holder support bases 71 and 72 can be moved up and down without changing their parallel postures. The vertical B-type holder support base 71 is restrained by a vertical guide 79 and three rollers 78 supporting the vertical guide 79 so that it can move up and down only in the Z direction in a horizontal position.

水平動作スライダ76は、上下移動型ホルダ支持台71
の上下動作に伴なってアーム中心75を支持しながら水
平方向に移動可能であり、全体の重量を軸80両端の2
ケ所で支えている。81はアーム中心75を固定してい
る軸80を水平動作スライダ76に対しアーム74を回
転させる回転型のアクチュエータである。
The horizontal movement slider 76 is a vertically movable holder support base 71
As the arm moves up and down, it can move horizontally while supporting the arm center 75, and the entire weight is transferred to the two ends of the shaft 80
It is supported in several places. Reference numeral 81 is a rotary actuator that rotates the arm 74 with respect to the horizontal slider 76 using a shaft 80 that fixes the arm center 75 .

第7図の状態でアーム74に図面手前から見て反時計方
向の回転入力を与えると、上下8動型ホルダ支持台71
は水平支持されたまま2方向に上昇する。また、姿勢保
持型ホルダ支持台72は上下移動型ホルダ支持台71の
姿勢が水平であるのでプーリ73、73およびベルト7
7の動作により同様の水平姿勢を保ったまま軸80を回
転軸に円弧運動する。しかし、軸80は水平動作スライ
ダ76に支持されているのでホルダ支持台71の移動に
伴って図中で左へ向けて水平に移動し、このため、ホル
ダ支持台72は第8図に示すように円弧運動と水平運動
とを合成した軌跡を描いて移動する。つまり、第8図に
おいて、第7図と同様の状態からアーム74を反時計方
向に180′″回転すると、ホルダ支持台71は71’
の位置を経て72の位置に垂直に上昇すると同時に、ホ
ルダ支持台72は72′の位置を経て71の位置に回転
移動する。これにより、ホルダ支持台71と72の位置
が入れ替わる。もとの状態に戻すためには、アーム74
を今度は時計方向に180°回転すればよい。
When a counterclockwise rotational input is applied to the arm 74 in the state shown in FIG.
rises in two directions while remaining horizontally supported. In addition, since the attitude holding type holder support stand 72 is horizontal in the attitude of the vertical movement type holder support stand 71, the pulleys 73, 73 and the belt 7
7, it moves in an arc around the shaft 80 while maintaining the same horizontal posture. However, since the shaft 80 is supported by the horizontal movement slider 76, it moves horizontally toward the left in the figure as the holder support base 71 moves, and therefore the holder support base 72 moves as shown in FIG. It moves by drawing a trajectory that is a combination of circular motion and horizontal motion. That is, in FIG. 8, when the arm 74 is rotated 180'' counterclockwise from the same state as in FIG.
At the same time, the holder support base 72 rotates through the position 72' and moves vertically to the position 72. As a result, the positions of holder support stands 71 and 72 are swapped. To return to the original state, arm 74
Now rotate it 180 degrees clockwise.

姿勢保持型ホルダ支持台72は、移動動作の末端では略
水平に動作するため、第7図の82のごとくダンパーと
固定機構を働かせれば衝撃を少なく動作させることがで
きる。なお、上下移動型ホルダ支持台71の動作は軸8
0の回転中心まわりの回転動作により、動作末端では減
速機構になっている。
Since the posture holding type holder support base 72 operates substantially horizontally at the end of the movement, it can be operated with less impact by operating a damper and a fixing mechanism as shown at 82 in FIG. The movement of the vertically movable holder support stand 71 is based on the axis 8.
Due to the rotational movement around the rotation center of 0, it becomes a deceleration mechanism at the end of the movement.

また、アーム74が軸80の回転中心まわりで回転動作
するのに対し、ホルダ支持台71.72は軸80を中心
にカウンタバランスの形態をとっているため回転動作に
必要な力はあまり大きくない。
Furthermore, while the arm 74 rotates around the center of rotation of the shaft 80, the holder support bases 71 and 72 are counterbalanced around the shaft 80, so the force required for the rotation is not very large. .

第9図はレチクル送り込み機構の説明図で、第9図(a
)はレチクルを掴んで露光位置P、まで搬送した状態、
第9図(b)は第2の受は渡し位置Paでレチクルを開
放した状態を示す。
Figure 9 is an explanatory diagram of the reticle feeding mechanism.
) is the state in which the reticle is grabbed and transported to the exposure position P,
FIG. 9(b) shows a state in which the second receiver is at the transfer position Pa and the reticle is opened.

図中、52は位置決めXY基準コロ付ハンド、53はY
基準コロ付ハンド、56は開閉操作アクチュエ−タ、6
0はスライダ、61は回転軸、62はレバー、63はロ
ーラ、62aはレバー回転軸、62bはバネ、65は平
ベルト、66はスライダストッパ、67は外カバー、6
8は駆動プーリ、69は従動プーリ、70aはスライド
レールである。
In the figure, 52 is a hand with a positioning XY reference roller, and 53 is a Y
A hand with a reference roller, 56 is an opening/closing operation actuator, 6
0 is a slider, 61 is a rotating shaft, 62 is a lever, 63 is a roller, 62a is a lever rotating shaft, 62b is a spring, 65 is a flat belt, 66 is a slider stopper, 67 is an outer cover, 6
8 is a driving pulley, 69 is a driven pulley, and 70a is a slide rail.

スライダ60は平ベルト65の両端を固定し、ベルト6
5はレバー回転軸62aを中心にレバー62で支持され
たローラ63を介して張られ、レバー62はベルト65
のたるみ取りにバネ1i2bにより張力を与えられてい
て、これらのレバー62およびバネ62bはスライダ6
0の左右に構成されている。ベルト65は左右にある従
動プーリ69を経由して駆動プーリ68まで張られてい
る。第9図(a)に示すように露光位置P7まで来たス
ライダ60は、その軌道であるスライドレール70a上
に固定されたスライダストッパ66に突き当り、その状
態から駆動プーリ68を小量回転させると、゛図示のよ
うに左側の張力T。
The slider 60 fixes both ends of the flat belt 65 and
5 is stretched around a lever rotation shaft 62a via a roller 63 supported by a lever 62, and the lever 62 is stretched around a belt 65.
The lever 62 and the spring 62b are applied with tension by the spring 1i2b to take up the slack of the slider 6.
It is configured on the left and right of 0. The belt 65 is stretched to a driving pulley 68 via driven pulleys 69 on the left and right sides. As shown in FIG. 9(a), the slider 60 that has reached the exposure position P7 hits the slider stopper 66 fixed on the slide rail 70a, which is its trajectory, and from this state, when the drive pulley 68 is rotated a small amount, , ゛Tension T on the left side as shown.

が高くなり右側の張力T2が低くなるためその差分子 
t  ’T 2がスライダ60をスライダストッパ66
に押し当てる。この押し当て力が安定していればこの位
置での再現性が高くなる。
increases and the tension T2 on the right side decreases, so the difference numerator
t 'T 2 moves the slider 60 to the slider stopper 66
press against. If this pressing force is stable, the reproducibility at this position will be high.

この原理は左右両位置について同様である。This principle is the same for both left and right positions.

平ベルト65はレチクル搬送ハンド51のスライド部の
高さ方向の厚み分の幅をもっており、外カバー67はレ
チクル送り込み機構51のレチクル搬送ハンド51のス
ライドする部分を除いて全てカバーリングしてあり、前
述のスライド部の窓がその間口を略的に塞いでいる。こ
のように構成した時にこの空間内の任意の位置で排気(
図示せず)してやれば、空間内は負圧化し、スライド動
作による発塵が外部に出す、搬送門構により発塵してし
ま・た塵が搬送中のレチクルに付着することがなくなる
The flat belt 65 has a width equal to the thickness of the sliding portion of the reticle conveying hand 51 in the height direction, and the outer cover 67 covers all of the parts except for the sliding portion of the reticle conveying hand 51 of the reticle feeding mechanism 51. The aforementioned window of the sliding portion substantially closes the opening. When configured in this way, exhaust (
(not shown), the inside of the space becomes negative pressure, the dust generated by the sliding movement is discharged to the outside, and the dust generated by the conveyance gate structure is prevented from adhering to the reticle being conveyed.

第9図(b)に示す第2の受は渡し位置P6に来たレチ
クル搬送ハンド51も前述同様の手法でスライドストッ
パ[16に押し当てられこの位置(停止位置)での再現
性を良くしである。
In the second receiver shown in FIG. 9(b), the reticle transfer hand 51 that has come to the transfer position P6 is also pressed against the slide stopper [16] in the same manner as described above to improve reproducibility at this position (stop position). It is.

これらの停止位置で開閉操作アクチュエータ59が作動
すると、その作用点は結合軸5Bを移動させる。XY基
準コロ付ハンド52およびY基準コロ付ハンド53はそ
れぞれスライダ60に構成された左右の回転軸61を支
点にもったレバーであり、結合軸58より連結関係にあ
るため、図のようにハンド閉状態ができ、前記のθZ機
構40や、レチクル収納フォーク90とのレチクルの授
受が可能である。
When the opening/closing actuator 59 operates at these stop positions, its point of action moves the coupling shaft 5B. The hand 52 with XY reference rollers and the hand 53 with Y reference rollers are levers with the left and right rotating shafts 61 formed on the slider 60 as their fulcrums. A closed state is established, and a reticle can be exchanged with the θZ mechanism 40 and the reticle storage fork 90.

第10図は、レチクルを位置決めハンドリングしている
状態の図で、レチクルを掴んでいる状態のレチクル基板
の整合原理を示す。
FIG. 10 is a diagram showing the reticle being positioned and handled, and shows the principle of alignment of the reticle substrate while the reticle is being gripped.

前述のようにハンド52と53は、開閉操作アクチュエ
ータの動作により、図示のごとく閉状態を作っている。
As described above, the hands 52 and 53 are brought into the closed state as shown in the figure by the operation of the opening/closing actuator.

54、55.56はコロで、ハンド52には2つ、ハン
ド53には1つが取り付けである。レチクルは一般的に
正方形をしているため、コロ55.5fiの外周とレチ
クルの端面が当接しもう1つのコロ54の外周に他の一
端が当接するように押し付けてやればレチクルの外形整
合が可能、になる。
54, 55, and 56 are rollers, two of which are attached to the hand 52 and one to the hand 53. Since the reticle is generally square, the outer periphery of the rollers 55.5fi and the end face of the reticle are in contact with each other, and the outer periphery of the other roller 54 is pressed so that the other end is in contact with the outer periphery of the reticle. Possible, becomes possible.

57、57は回転中心を円の中心から偏心させたところ
にもった外周の摩擦係数の高い偏心コロで、図示の逆方
向力Fl、F2が常時働くように内蔵のバネが入ってい
てレチクルのない状態では57aの位置で停止している
。ハンド閉状態でレチクルな挟み込んだ時、XY基準コ
ロ付ハンド52とY基準コロ付ハンド53は図示Fと同
様の方向に動き、Fなる力をレチクルに与える。52と
53の両ハンドに構成されている偏心コロ57は、57
bのように回転する。この時、F)F2 >Flの関係
をつくり、かつ、両ハンド52.53の閉状態の位置を
連結軸5Bのストローク規正で固定してやると左右の偏
心コロ57の動作およびその外周とレチクル端面との摩
擦係数と偏心コロ57の57aに戻ろうとする力により
F、、F2なる力が発生し、それらの分力はコロ54.
55.56の外周に対してレチクルを押しつける力、f
W+  yl+fy2なる力を発生させ、レチクルをハ
ンド上に端面整合できる。
Reference numerals 57 and 57 are eccentric rollers whose rotation center is eccentric from the center of the circle, and whose outer periphery has a high coefficient of friction, and which have built-in springs so that the reverse forces Fl and F2 shown in the figure are constantly applied, and which act on the reticle. In the state where it is not there, it is stopped at the position 57a. When the reticle is pinched with the hand closed, the hand 52 with the XY reference roller and the hand 53 with the Y reference roller move in the same direction as F in the figure, and apply a force F to the reticle. The eccentric rollers 57 configured on both hands 52 and 53 are
Rotate as shown in b. At this time, if the relationship F) F2 > Fl is created and the closed positions of both hands 52 and 53 are fixed by the stroke regulation of the connecting shaft 5B, the movement of the left and right eccentric rollers 57 and the relationship between their outer peripheries and the reticle end faces. Forces F, , F2 are generated due to the friction coefficient of the eccentric roller 57 and the force of the eccentric roller 57 trying to return to 57a, and these component forces are applied to the roller 54.
The force that presses the reticle against the outer circumference of 55.56, f
A force of W+yl+fy2 is generated to align the end face of the reticle on the hand.

この状態で受は渡し位置P6から露光位置P7まで搬送
する経路中にバーコードリーダ・パターン位置検知7を
配置し搬送中のレチクルのパターン位置を計測してやれ
ば、このパターン位置がレチクル基板の整合端面からど
れくらいの位置に離れているかということがわかり、こ
れをそのレチクルの製造誤差に対処した本体装置のメカ
ニカルな設定データとして使用することができる。
In this state, if the receiver places a barcode reader/pattern position detector 7 on the path of conveyance from the transfer position P6 to the exposure position P7 and measures the pattern position of the reticle being conveyed, this pattern position will be on the alignment end surface of the reticle substrate. It is possible to know how far away the reticle is from the reticle, and this can be used as mechanical setting data for the main unit to deal with manufacturing errors in the reticle.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図および第2図は、本発明の一実施例に係る投影露
光装置の外観図、 第3図は、本発明のレチクル搬送システムの説明図、 第4図は、穆動型カセットライブラリの裏面外観図、 第5図は、ライブラリ内部の説明図、 第6図は、装置右側から見た説明図、 第7図は、装置内のレチクル抜き出し位置ないしレチク
ル収納位置の各動作機構の実施外観図、第8図は、カセ
ット入れ換え機構動作説明図、第9図は、レチクル送り
込み機構の説明図、第10図は、レチクルハンドリング
機構の整合原理説明図、 第11図は、穆動型カセットライブラリを他周辺機器と
接合配置した説明図である。 1ニスチツパの全体空調チャンバ 2:8動型カセツトライブラリ 4:基板収納ケース 5:カセットホルダ 6:レチクル 7:バーコードリーダ・パターン位置検査装置P、:第
1のカセット収納位置 F2 :エレベータ位置 F3 :第2のカセット収納位置 F4 :第1の受は渡し位置 F5 ニレチクル異物検査位置 F6 :第2の受は渡し位置 F7 :露光位置 F6 :空力セット待機位置 15:チャンバ側につけられた記憶内容読み取り手段 21:記憶手段 21b:シール材 22ニライブラリの扉 23:コロ 24:コロ列フレーム 25ニガイドコロ 26:レール 27:ストツバ 29:ストッパ 30ニレチクル抜き出しフォーク 40:02機構 50ニレチクル送り込み機構 51ニレチクル搬送ハンド 52:位置決めXY基準コロ付ハンド 53:Y基準コロ付ハンド 54、55.56:コロ 57:偏心コロ 58:結合軸 59:開閉操作アクチェエータ 60ニスライダ 61:回転軸 62ニレバー 62aニレバ一回転軸 62b:バネ 83:ローラ 64:ストッパ 65:平ベルト 66:スライダストッパ 67:外カバー 68:駆動プーリ 69:従動プーリ 70aニスライドレール 70:カセット入れ換え機構 71:上下穆動型ホルダ支持台 72:姿勢保持型ホルダ支持台 73ニブ−リ フ4:支持アーム 76:水平動作スライダ 77:ベルト 78:コロ 79ニガイド 80:軸 81:回転アクチュエータ 82:ダンパ 101:空調ユニット !02:冷却器 103:送風機 104 7個別加熱器 105:フィルタ 108  :温度センサ。
1 and 2 are external views of a projection exposure apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 3 is an explanatory diagram of a reticle conveyance system of the present invention, and FIG. 4 is an illustration of a reticle conveyance system of the present invention. Figure 5 is an explanatory diagram of the inside of the library; Figure 6 is an explanatory diagram as seen from the right side of the device; Figure 7 is an external appearance of each operating mechanism at the reticle extraction position and reticle storage position within the apparatus. Fig. 8 is an explanatory diagram of the operation of the cassette exchange mechanism, Fig. 9 is an explanatory diagram of the reticle feeding mechanism, Fig. 10 is an explanatory diagram of the alignment principle of the reticle handling mechanism, and Fig. 11 is an explanatory diagram of the reticle handling mechanism. FIG. 2 is an explanatory diagram of the device connected to other peripheral devices. 1. Entire air-conditioning chamber of 1-nichipper 2: 8-dynamic cassette library 4: Substrate storage case 5: Cassette holder 6: Reticle 7: Barcode reader/pattern position inspection device P,: First cassette storage position F2: Elevator position F3: Second cassette storage position F4: First holder is transfer position F5 Elm particle foreign object inspection position F6: Second holder is transfer position F7: Exposure position F6: Aerodynamic set standby position 15: Memory content reading means attached to chamber side 21: Storage means 21b: Sealing material 22 Library door 23: Roller 24: Roller row frame 25 Guide roller 26: Rail 27: Stop collar 29: Stopper 30 Niticle extraction fork 40: 02 mechanism 50 Niticle feeding mechanism 51 Niticle transport hand 52: Positioning XY reference roller hand 53: Y reference roller hand 54, 55.56: Roller 57: Eccentric roller 58: Connection shaft 59: Opening/closing actuator 60 Ni-slider 61: Rotating shaft 62 Nilever 62a Nilever one rotation shaft 62b: Spring 83 : Roller 64: Stopper 65: Flat belt 66: Slider stopper 67: Outer cover 68: Drive pulley 69: Followed pulley 70a Ni-slide rail 70: Cassette exchange mechanism 71: Vertical rectangular movement type holder support base 72: Posture holding type holder support Base 73 Nib-Riff 4: Support arm 76: Horizontal movement slider 77: Belt 78: Roller 79 Ni guide 80: Axis 81: Rotary actuator 82: Damper 101: Air conditioning unit! 02: Cooler 103: Air blower 104 7 Individual heater 105: Filter 108: Temperature sensor.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、装置本体が収納されている空調チャンバ内へ基板を
供給するための基板取出口、該取出口を含む領域でチャ
ンバと離着可能に結合するための結合手段、該結合手段
によってチャンバと結合する際にチャンバ側の情報処理
手段につながる端子と結合する結合端子、およびチャン
バ側の情報処理手段に内部の基板情報を伝える情報供給
手段を有することを特徴とする基板収納ラック。 2、前記情報供給手段が、外部からの入力により書換可
能な素子を含む特許請求の範囲第1項記載の基板収納ラ
ック。 3、コロの上に載置され移動自在である特許請求の範囲
第1項記載の基板収納ラック。
[Scope of Claims] 1. A substrate outlet for supplying a substrate into an air-conditioned chamber in which the apparatus main body is housed; a coupling means for detachably coupling with the chamber in a region including the outlet; A substrate storage device characterized by having a coupling terminal that is coupled to a terminal connected to an information processing means on the chamber side when coupled to the chamber by the coupling means, and an information supply means for transmitting internal substrate information to the information processing means on the chamber side. rack. 2. The substrate storage rack according to claim 1, wherein the information supply means includes an element that can be rewritten by external input. 3. The substrate storage rack according to claim 1, which is placed on a roller and is movable.
JP61162138A 1986-07-11 1986-07-11 Printed circuit board accommodating rack Pending JPS6322407A (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61162138A JPS6322407A (en) 1986-07-11 1986-07-11 Printed circuit board accommodating rack
US07/528,903 US4999671A (en) 1986-07-11 1990-05-29 Reticle conveying device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61162138A JPS6322407A (en) 1986-07-11 1986-07-11 Printed circuit board accommodating rack

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6322407A true JPS6322407A (en) 1988-01-29

Family

ID=15748759

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61162138A Pending JPS6322407A (en) 1986-07-11 1986-07-11 Printed circuit board accommodating rack

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JP (1) JPS6322407A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100395811B1 (en) * 1997-12-22 2004-01-24 삼성에스디아이 주식회사 Substrate conveyer

Cited By (1)

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