JPS6322448A - Substrate conveying device - Google Patents

Substrate conveying device

Info

Publication number
JPS6322448A
JPS6322448A JP61162135A JP16213586A JPS6322448A JP S6322448 A JPS6322448 A JP S6322448A JP 61162135 A JP61162135 A JP 61162135A JP 16213586 A JP16213586 A JP 16213586A JP S6322448 A JPS6322448 A JP S6322448A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reticle
cassette
substrate
library
reticules
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61162135A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuo Iizuka
和夫 飯塚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP61162135A priority Critical patent/JPS6322448A/en
Publication of JPS6322448A publication Critical patent/JPS6322448A/en
Priority to US07/528,903 priority patent/US4999671A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/70741Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Library & Information Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Specific Conveyance Elements (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Feeding Of Articles By Means Other Than Belts Or Rollers (AREA)

Abstract

PURPOSE:To reduce the time required for automatic exchange by taking out a substrate based on the information from a substrate information means, taking out reticules from a cassette in a first delivering place and, after inspecting and treating said reticules, housing said reticules into said cassette in a second delivering place. CONSTITUTION:A library 2 for cassettes 4 housing reticules 6 is brought into contact 15 with an exposing device 1, and a substrate information stored in a memory means 21 is read by a reading means 16. A desired cassette 4 is selected and pulled out of the library 2 to an elevator position P2 and lifted up and down. The cassette 4 is opened at a cassette housing position P3, and the reticules 6 are taken out and transferred to a first delivering position P4 in a clean box 8b. The empty cassette 4 is moved to a stand-by position P8. The reticules are inspected P5 in an inspection room 8a and, returned to an original position when there is any abnormality, while normal reticules are treated by exposure and transferred to the cassette 4 in stand-by via a second delivering place P6, and housed into the library 2. During the inspection of the preceding reticules, the following cassette is kept in stand-by P2. Thereby, the treating time of the substrates can be reduced.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、半導体製造装置、特にマスクやレチクル等の
薄板状の物体(以下、基板という)を自動的に交換する
装置等で用いられる基板搬送装置に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a substrate used in semiconductor manufacturing equipment, particularly a device that automatically exchanges thin plate-shaped objects such as masks and reticles (hereinafter referred to as substrates). Regarding a conveyance device.

このような基板搬送装置は、例えば、露光用基板(マス
クまたはレチクル)を個別に収納するカセットを複数個
収納するカセットライブラリを備えた基板自動交換装置
において、所望とする基板が入ったカセットをライブラ
リから装置本体側に搬入し、カセットから基板を取り出
してゴミ検査装置に送り込み、ゴミ検査された基板を露
光位置まで送り込むとともに、基板を交換する際に不必
要になった基板を前記カセットに収納しこのカセットを
もとのライブラリまで戻す装置として好適に用いられる
Such a substrate transfer device is used, for example, in an automatic substrate exchange device equipped with a cassette library that stores a plurality of cassettes that individually store exposure substrates (masks or reticles). The board is taken out from the cassette and sent to the dust inspection device, and the board inspected for dust is sent to the exposure position, and when replacing the board, unnecessary boards are stored in the cassette. It is suitably used as a device for returning this cassette to the original library.

[従来の技術j 従来、この種の装置は、装置本体に固定されたカセット
ライブラリに収納された複数のカセットから、所望とす
る基板をライブラリ内で取り出し、長い搬送経路をたど
って基板のゴミ検査装置へ、また、ゴミ検査された基板
を再び長い搬送経路をたどって本体装置内露光位置まで
送り込むように構成されていた。また、従来装置におい
ては、基板を露光位置に送り込んだ後、基板上に描かれ
た位置合せ用マークを検出してこれと露光位置に刻設さ
れている位置基準マークとを整合することにより所定の
位置にセットしていた。さらに、基板には、通常、露光
工程条件等、その基板に関する情報が書き込まれている
が、従来、これらの情報は予め人手により人力しておく
か、全自動化した装置においては露光位置にて読み込む
のが一般であった。
[Conventional technology j Conventionally, this type of device extracts a desired substrate from a plurality of cassettes stored in a cassette library fixed to the device body, and inspects the substrate for dirt by following a long transport path. The structure is such that the substrate inspected for dust is sent to the apparatus again along a long transport path to the exposure position within the main apparatus. In addition, in the conventional device, after the substrate is sent to the exposure position, it detects the alignment mark drawn on the substrate and aligns it with the position reference mark engraved at the exposure position. It was set in the position. Furthermore, information about the substrate, such as exposure process conditions, is usually written on the substrate, but conventionally, this information has either been manually written in advance, or read at the exposure position in fully automated equipment. It was common.

[発明が解決しようとする問題点コ したがって、従来の装置は、基板交換に多くの時間を要
し、装置の基板待ち状態が長くなってしまうという不都
合があった。
[Problems to be Solved by the Invention] Therefore, the conventional device has the disadvantage that it takes a lot of time to replace the board, and the device is in a waiting state for the board for a long time.

一般に、半導体製造ラインには、少品種大量生産型のラ
インと多品種小量生産型のラインがあり、後者のライン
の場合、基板交換は頻繁に行なわれ、その基板交換のた
めの時間、つまり装置の基板待ち状態が長いということ
は、生産性を著しく低下させるという問題がある。
In general, semiconductor manufacturing lines include lines for mass production of a small number of products and lines for production of a large number of products in small quantities.In the case of the latter line, board replacement is performed frequently, and the time required for the board replacement is There is a problem in that the long waiting state of the device for the substrate significantly reduces productivity.

本発明は、上述の従来例における欠点を除去するもので
、特に露光装置の基板交換装置に適用して該露光装置を
多品種小量生産型ラインに対応させ得る基板搬送装置を
提供することを目的とする。
The present invention is intended to eliminate the drawbacks of the above-mentioned conventional examples, and in particular to provide a substrate transport device that can be applied to a substrate exchange device of an exposure device to make the exposure device compatible with a high-mix, low-volume production line. purpose.

[問題点を解決するための手段] 上記目的を達成するため本発明では、基板搬送手段とし
て基板を外形基準で位置整合して搬送する手段を用い、
かつその搬送経路内の1点でパターン検知する手段を付
加したことを特徴とする。
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the present invention uses means for positioning and transporting substrates based on external dimensions as a substrate transporting means,
Moreover, it is characterized in that means for detecting a pattern at one point within the conveyance path is added.

[作用および効果] このように構成された本発明によれば、基板搬送中に、
基板に描画されているパターンの位置および/またはパ
ターンとして書込まれている基板情報を確認することで
、基板の製造誤差および素性を読み取って装置本体にデ
ータを転送することができ、目的位置例えば露光位置に
設定する前に本体装置のメカニカルな初期設定を終らせ
ることができる。したがって、本発明は、特に基板交換
装置に適用して、基板の自動交換時間を短縮する効果が
ある。
[Operations and Effects] According to the present invention configured as described above, during substrate transportation,
By checking the position of the pattern drawn on the board and/or the board information written as the pattern, it is possible to read the manufacturing errors and characteristics of the board and transfer the data to the main body of the device. Mechanical initial settings of the main device can be completed before setting it to the exposure position. Therefore, the present invention is particularly applicable to a board replacement device, and has the effect of shortening the automatic board replacement time.

[実施例] 第1図は、本発明の一実施例に係る縮小投影露光装置(
ステッパ)の全体外観図を示す。同図において、1は全
体空調チャンバ、2は穆勤型レチクルカセットライブラ
リである。
[Embodiment] FIG. 1 shows a reduction projection exposure apparatus (
The overall external view of the stepper is shown. In the figure, 1 is a general air conditioning chamber, and 2 is a Muqin type reticle cassette library.

第2図は、第1図の全体空調チャンバ1の一部を透視し
た図である。同図において、10はステッパ本体、11
と12はそれぞれステッパ本体10を構成する結像レン
ズと照明装置、13はステッパ本体10によってレチク
ル6のパターンが焼付けられる被露光体例えば半導体ウ
ェハである。
FIG. 2 is a partially transparent view of the entire air conditioning chamber 1 of FIG. 1. FIG. In the same figure, 10 is the stepper main body, 11
and 12 are an imaging lens and an illumination device, respectively, which constitute the stepper body 10, and 13 is an object to be exposed, such as a semiconductor wafer, on which the pattern of the reticle 6 is printed by the stepper body 10.

第3図は、レチクル搬送システムの説明図である。図中
、4は特願昭80−214591号、特願昭60−21
4592号および特願昭80−293630号で提示し
たレチクルカセット(基板収納容器)、5は上記特願昭
60−293630号で提示したカセットホルダ、6は
レチクル、7はバーコードリーダ・パターン位置検知装
置である。Plは第1のカセット収納位置で、ライブラ
リ2の位置に相当する。P2はカセット収納位置Plか
ら取り出したカセットホルダ5を所定の位置まで昇降さ
せるエレベータ位置、P、はエレベータ位置P2からカ
セットホルダ5ごと送り込まれたカセット4からレチク
ル6を抜き出すレチクル抜き出し位置(第2のカセット
収納位置)、P4はレチクル6を上方に送る機構との受
け渡し位置(第1の受け渡し位置)、P5はレチクル異
物検査位置%PIllはレチクルを露光位置まで搬入搬
出する機構との受け渡し位置(第2の受け渡し位置)、
P7は露光位置、P8は露光工程を終えたレチクル6を
カセット4内に収納する空力セット待機位置である。
FIG. 3 is an explanatory diagram of the reticle conveyance system. In the figure, 4 is Japanese Patent Application No. 80-214591 and Japanese Patent Application No. 60-21.
4592 and Japanese Patent Application No. 80-293630, 5 is the cassette holder presented in the above-mentioned Japanese Patent Application No. 60-293630, 6 is a reticle, and 7 is a barcode reader/pattern position detection. It is a device. Pl is a first cassette storage position, which corresponds to the library 2 position. P2 is an elevator position where the cassette holder 5 taken out from the cassette storage position Pl is raised and lowered to a predetermined position, and P is a reticle extraction position (second cassette storage position), P4 is the delivery position (first delivery position) with the mechanism that sends the reticle 6 upward, P5 is the reticle foreign object inspection position %PIll is the delivery position (first delivery position) with the mechanism that transports the reticle 6 to and from the exposure position. 2 delivery position),
P7 is an exposure position, and P8 is an aerodynamic set standby position where the reticle 6 that has completed the exposure process is stored in the cassette 4.

上記構成において、レチクルカセットライブラリ2(第
1のカセット収納位置P1)に積層状に配置されたレチ
クルカセット4は、露光装置本体のコンソールによる指
令により、エレベータ機構がむかえにきてカセット収納
位置P1からホルダ5ごとエレベータ位置P2に穆され
、ここで所定の高さまで昇降され、さらにレチクル抜き
出し位置P3  (第2のカセット収納位置)に送り込
まれ収納される。第2のカセット収納位置P3にレチク
ルカセット4およびカセットホルダ5が収納されると、
この位置P3にあるカセット開閉用駆動源(図示せず)
が働き、カセット4が開けられ、内部のレチクル6を抜
き出し可能な状態にする。
In the above configuration, the reticle cassettes 4 arranged in a stacked manner in the reticle cassette library 2 (first cassette storage position P1) are moved from the cassette storage position P1 by the elevator mechanism in response to a command from the console of the exposure apparatus main body. The holder 5 is moved to the elevator position P2, raised and lowered to a predetermined height, and then sent to the reticle extraction position P3 (second cassette storage position) and stored. When the reticle cassette 4 and cassette holder 5 are stored in the second cassette storage position P3,
A drive source for opening and closing the cassette located at this position P3 (not shown)
operates, the cassette 4 is opened, and the reticle 6 inside can be taken out.

カセット4の上蓋および下蓋の形状により、この開状態
では、カセット4の横方向から内部のレチクル6の有無
検知が可能となっている。
Due to the shapes of the upper and lower lids of the cassette 4, in this open state, the presence or absence of the reticle 6 inside the cassette 4 can be detected from the lateral direction.

次いで、図示しないレチクル抜き出し機構が動作し、レ
チクル抜き出し位置P3において開放されたカセット4
からレチクル6を抜き出す。抜き出されたレチクル6は
第1の受け渡し位置P4を通過してレチクル異物検査位
置P5に入り、ここで上記抜き出し機構により異物検査
光下をスキャンされ、レチクル6上にある異物の有無お
よび所在位置が確認される。この段階で工程使用不能と
判定されたレチクル6は前述とは逆の動作によって、も
とのレチクルカセットライブラリ2内に戻される。
Next, a reticle extraction mechanism (not shown) operates, and the opened cassette 4 is moved to the reticle extraction position P3.
Pull out the reticle 6 from the. The extracted reticle 6 passes through the first delivery position P4 and enters the reticle foreign object inspection position P5, where it is scanned by the extraction mechanism under the foreign object inspection light to determine the presence or absence of foreign objects on the reticle 6 and its location. is confirmed. The reticle 6 determined to be unusable for the process at this stage is returned to the original reticle cassette library 2 by the reverse operation to that described above.

異物検査の結果、工程使用可能と判定されたレチクル6
は、第1の受け渡し位置P4に送られ、この位置で下側
に待機していた上下搬送機構に受け渡され、第2の受け
渡し位置P6まで上昇する。
Reticle 6 determined to be usable for process as a result of foreign object inspection
is sent to the first delivery position P4, where it is delivered to the vertical conveyance mechanism waiting below, and then raised to the second delivery position P6.

この位置でレチクル6を露光装置内部まで送り込む送り
込み機構に受け渡し、露光位置P7まで搬送するのであ
るが、レチクルバーコードリーグ・パターン位置検知ユ
ニット7は、この搬送中、送り込まれるレチクル6をス
キャンし、そのレチクル6のパターン位置がレチクル端
面に対してどの程度ずれて製作されているかを検知する
。同時に、そのレチクルがらみの露光工程条件をレチク
ルに書き込まれたバーコードパターンにより読み取り、
露光装置本体のコンソールにデータを送り、レチクル6
が露光位置P7へ搬送されるまでに、露光工程がらみの
機械的な設定を終了してしまうようにしている。
At this position, the reticle 6 is delivered to the feeding mechanism that feeds it into the exposure apparatus, and is transported to the exposure position P7. During this transport, the reticle barcode league/pattern position detection unit 7 scans the reticle 6 being fed, It is detected how much the pattern position of the reticle 6 is manufactured to be deviated from the end face of the reticle. At the same time, the exposure process conditions related to the reticle are read using the barcode pattern written on the reticle.
The data is sent to the console of the exposure equipment main body, and the reticle 6
Mechanical settings related to the exposure process are completed before the image is transported to the exposure position P7.

一方、前述の第2のカセット収納位置P3でレチクル6
を抜き出されたカセット4は、開閉機構により閉じられ
、レチクル6の上下搬送および露光位置P、への送り込
み動作中にレチクル収納位置P8まで送られ、露光工程
終了により戻されて来るレチクル6をこの位置で待機し
ている。
On the other hand, the reticle 6 is placed in the second cassette storage position P3 mentioned above.
The removed cassette 4 is closed by the opening/closing mechanism, and is sent to the reticle storage position P8 during the vertical transportation and feeding of the reticle 6 to the exposure position P, and the reticle 6 is returned when the exposure process is completed. Waiting in this position.

露光工程を終了したレチクル6は、前述の送り込み機構
により第2の受け渡し位置P6に搬送され、この位置で
待機しているレチクル収納機構に受け渡される。すると
、収納位置P6にあるカセット開閉機構駆動源が働き、
収納位置P8で待機中のカセット4が開放される。この
状態でレチクル収納機構によりレチクル6がカセット4
に収納され、再び開閉機構が働いてカセット4は閉じら
れる。
The reticle 6 that has completed the exposure process is transported to the second delivery position P6 by the above-mentioned feeding mechanism, and is delivered to the reticle storage mechanism waiting at this position. Then, the cassette opening/closing mechanism drive source located at storage position P6 is activated.
The cassette 4 waiting at the storage position P8 is opened. In this state, the reticle storage mechanism moves the reticle 6 to the cassette 4.
The opening/closing mechanism operates again to close the cassette 4.

レチクル6を収納されたカセット4は、カセット入れ換
え機構より、再びレチクル抜き出し位置P、に戻され、
この位置で待機しているエレベータ機構によりエレベー
タ位置P2を経てもとのレチクルカセットライブラリ2
内の収納位置P1に戻される。
The cassette 4 containing the reticle 6 is returned to the reticle extraction position P by the cassette exchange mechanism, and
The elevator mechanism waiting at this position returns the reticle cassette library 2 to the original reticle cassette library 2 via the elevator position P2.
It is returned to the storage position P1 inside.

前述のカセット入れ換え機構では、2つのカセットを収
納することができる。このため、次工程のレチクルを事
前に指令しておけば、工程終了したレチクルが戻される
前に次工程のレチクルを異物検査まで終了させ、第1の
受け渡し位置P4において、第2の受け渡し位置P6か
ら前工程のレチクルが排出された(レチクル収納位置P
、て待機中のカセットに収納されること)直後に次のレ
チクルを送り込むことができる。
The aforementioned cassette exchange mechanism can accommodate two cassettes. For this reason, if the reticle for the next process is commanded in advance, the reticle for the next process will be inspected for foreign matter before the reticle that has completed the process is returned, and the reticle for the next process will be transferred from the first transfer position P4 to the second transfer position P6. The reticle from the previous process was ejected from (reticle storage position P
The next reticle can be sent immediately after the reticle is stored in the waiting cassette.

ところで、従来の自動レチクル交換装置においては、レ
チクルをライブラリ内でカセットから取り出して、露光
位置までの長い経路を往復させていた。このため、搬送
中のレチクルへのゴミ付着の確率が高くなり、特にステ
ッパ等のように、しチクルのパターンを1枚のウェハ上
の多数箇所に繰返し焼付ける装置においては、各ショッ
トごと、または各チップごとのゴミによる不良品率が高
くなるという大欠点があフた。この実施例においては、
上述のように、ライブラリ2(カセット収納位置P、)
と空調チャンバ10カセット抜き出し位置P2  (ま
たはカセット待機位置pa)との間はレチクル6をカセ
ット4ごと搬送することにより、上記大欠点の解消を図
っている。
By the way, in a conventional automatic reticle exchange device, a reticle is taken out from a cassette in a library and reciprocated along a long path to an exposure position. For this reason, there is a high probability that dust will adhere to the reticle during transportation, and in particular, in devices such as steppers that repeatedly print reticle patterns on multiple locations on a single wafer, dust may adhere to the reticle for each shot or The major drawback of high defective product rates due to dust on each chip was eliminated. In this example,
As mentioned above, library 2 (cassette storage position P,)
By conveying the reticle 6 together with the cassette 4 between the cassette extracting position P2 (or the cassette standby position pa) of the air conditioning chamber 10 and the cassette extracting position P2 of the air conditioning chamber 10, the above-mentioned major drawback is solved.

第4図は、第1図の移動型カセットライブラリ2を裏面
から見た外観図、つまり、露光装置内に自動交換機で送
り込むべきレチクルカセット4がカセットホルダ5ごと
搬出される側の外観図である。同図において、ライブラ
リ本体2には、このライブラリ2に収納されているカセ
ットの名称、レチクルの素性を示すパラメータ等が格納
された読み書き可能な記憶素子を含む記憶手段21が取
付けられている。22はライブラリのカセット収納部の
扉で、このライブラリ本体2の表面および裏面に構成さ
れている。
FIG. 4 is an external view of the mobile cassette library 2 shown in FIG. 1 seen from the back side, that is, an external view of the side where the reticle cassette 4 to be fed into the exposure apparatus by the automatic exchanger is carried out together with the cassette holder 5. . In the figure, a storage means 21 is attached to the library main body 2, which includes a readable and writable storage element in which the names of the cassettes stored in the library 2, parameters indicating the identity of the reticles, etc. are stored. Reference numeral 22 denotes a door of the cassette storage section of the library, which is arranged on the front and back surfaces of the library main body 2.

図示矢印Aは、自動交換機によるレチクルカセット4の
抜か出し方向を示している。
Arrow A in the figure indicates the direction in which the reticle cassette 4 is removed by the automatic exchanger.

この移動型カセットライブラリは、全体空調チャンバ1
またはステッパ本体と結合、切り離しが自在で、かつ、
ライブラリ相互または他のレチクル関連装置との互換性
を良くしてあり、所定のカセット枚数を収納したライブ
ラリ2を工程または製造品種に合せて順次交換できるよ
うに移動可能型の形態をとっている。
This mobile cassette library covers the entire air conditioning chamber 1.
or can be freely connected to and disconnected from the stepper body, and
The library 2 has good compatibility with each other or with other reticle-related devices, and is of a movable type so that the library 2 containing a predetermined number of cassettes can be sequentially replaced according to the process or product type.

このため、多品種少量生産型ラインに対応すべく多種の
基板を収納するカセットライブラリ毎、オンライン等に
よる交換が可能となり、露光装置本体内に送り込むレチ
クルカセットの交換に際し、温調チャンバにより露光装
置が温度的に安定しているときに温調チャンバの窓を開
けて人手で交換作業を行なうことによる温調チャンバ内
および露光装置の温度変動という事態を防止することが
できる。
Therefore, in order to support a high-mix, low-volume production line, each cassette library that stores a variety of substrates can be replaced online, etc. When replacing the reticle cassette that is fed into the exposure equipment main body, the temperature-controlled chamber allows the exposure equipment to It is possible to prevent temperature fluctuations in the temperature control chamber and the exposure apparatus due to manual replacement work by opening the window of the temperature control chamber when the temperature is stable.

また、上記形態をとれば、第11図に示すようにパター
ンジェネレータ1aやスタンドアローン型のゴミ検査機
1bやレチクル洗浄装置1c、あるいはべりタルはり合
せ装置(図示せず)等、レチクルまわりの保守点検機と
の接続が容易で、レチクルの交換、保守および点検等の
際に人間を介さずに済み、無塵環境に対しての冗長性を
増すことができる。
In addition, if the above configuration is adopted, as shown in FIG. 11, maintenance of the reticle area such as a pattern generator 1a, a stand-alone dust inspection device 1b, a reticle cleaning device 1c, or a veritaru gluing device (not shown) can be performed. It is easy to connect to an inspection machine, eliminates the need for human intervention during reticle replacement, maintenance, inspection, etc., and increases redundancy in a dust-free environment.

第4図において、記憶手段21は、ライブラリ2に収納
されているレチクルカセット内のレチクルの名称と収納
位置、およびステッパにおけるレチクルまわりの初期設
定項目等、装置動作に必要なパラメータを記録している
書き込み、消去自在な記憶素子が構成され、全体空調チ
ャンバ1またはステッパ本体に構成された読み取り手段
と、接合可能な位置関係にあり、接合状態とすることに
より前記パラメータをステッパ本体コンソール3に送り
込むことが可能になっている。
In FIG. 4, the storage means 21 records parameters necessary for device operation, such as the name and storage position of the reticle in the reticle cassette stored in the library 2, and initial setting items around the reticle in the stepper. A memory element that can be freely written and erased is configured, and is in a positional relationship that allows it to be connected to a reading means configured in the general air conditioning chamber 1 or the stepper main body, and when the connected state is established, the parameters are sent to the stepper main body console 3. is now possible.

第5図は、ライブラリ2内におけるカセットホルダ5の
収納状況および手動による出し入れ(図示矢印B)およ
び自動機による出し入れ(図示矢印A)時の動作につい
て示している。同図において、4は前述のレチクルカセ
ット、5はカセットホルダである。23.25はコロ列
、24は可動なコロ列フレーム、26はライブラリ筐体
兼ガイドレールである。、27はコロ列フレーム24に
構成されたストッパ機構で、カセットホルダ5をライブ
ラリ内でガタつかせないようにしている。28はコロ、
29はホルダ5をコロ列フレームに24.24間に保持
するためのストッパである。このカセットライブラリ2
の左右各段は、それぞれ同様に構成されている。
FIG. 5 shows the storage status of the cassette holder 5 in the library 2 and the operations when taking it in and out manually (arrow B in the figure) and taking it in and out by an automatic machine (arrow A in the figure). In the figure, 4 is the aforementioned reticle cassette, and 5 is a cassette holder. 23 and 25 are roller rows, 24 is a movable roller row frame, and 26 is a library casing and guide rail. , 27 is a stopper mechanism constructed on the roller row frame 24, which prevents the cassette holder 5 from shaking within the library. 28 is Koro,
29 is a stopper for holding the holder 5 on the roller row frame between 24 and 24. This cassette library 2
The left and right stages of are configured in the same way.

ライブラリ2におけるカセットホルダ5の移動方向およ
びストロークは、人間の手による矢印Bのカセット設定
と、自動搬送機による矢印Aの出し入れ動作に対応する
ため、ライブラリ2の表側方向にホルダ5の長さ分、裏
面方向にホルダ5の抜き差し可能なストロークが必要に
なる。また、ライブラリ2は、全体空調チャンバ1また
はステッパ本体と接合、離反の関係にあることから、ラ
イブラリ2内には、移動用の駆動源となるアクチュエー
タは存在せず、ホルダ5の出し入れは、人間の手、また
は自動機から伝達される動力によって行なわれる。
The moving direction and stroke of the cassette holder 5 in the library 2 correspond to the cassette setting indicated by the arrow B by a human hand and the loading/unloading operation indicated by the arrow A by the automatic transport machine. , a stroke that allows the holder 5 to be inserted and removed in the direction of the back surface is required. Furthermore, since the library 2 is connected to and separated from the overall air conditioning chamber 1 or the stepper body, there is no actuator in the library 2 that serves as a driving source for movement, and the holder 5 can only be put in and taken out by humans. by hand or by power transmitted from an automatic machine.

第5図の2段目は、カセットホルダ5がライブラリ2か
ら抜き出された状態を示す。つまり、自動搬送機のエレ
ベータ機構(図示せず)が所望とするカセットホルダ5
の位置に対向した時、エレベータ機構のアクチュエータ
はストッパ29をつかまえてコロ列フレーム24を図示
位置まで引き抜き、さらにストッパ29を解除する。続
いて、エレベータ機構に構成されている抜き出しフック
がカセットホルダ5についているツメ5aをつかまえ、
カセットホルダ5を図示位置まで抜き出す。これにより
、カセットホルダ5がライブラリ2外に出ることになる
The second stage in FIG. 5 shows a state in which the cassette holder 5 is removed from the library 2. In other words, the elevator mechanism (not shown) of the automatic conveyance machine can hold the desired cassette holder 5.
When facing the position, the actuator of the elevator mechanism grasps the stopper 29, pulls out the roller row frame 24 to the illustrated position, and then releases the stopper 29. Next, a pull-out hook configured in the elevator mechanism catches the claw 5a attached to the cassette holder 5, and
Pull out the cassette holder 5 to the position shown. As a result, the cassette holder 5 comes out of the library 2.

また、この2段目に示しているホルダ5が抜き出された
状態では、ストッパ機構27が図示のごとくレール26
に支持された状態にあるので、戻ってぎたホルダ5に対
してストッパの役割をし、カセットホルダ5をコロ列フ
レーム24に対して常時定位置に収納することができる
In addition, when the holder 5 shown in the second stage is pulled out, the stopper mechanism 27 is attached to the rail 26 as shown in the figure.
Since the cassette holder 5 is in a supported state, it functions as a stopper for the cassette holder 5 that has returned, and the cassette holder 5 can always be stored in a fixed position with respect to the roller row frame 24.

第5図の第3段目は、人間の手によるカセット交換時の
状態を示す。この状態ではストッパ機構27は支持する
レール26から外れて解除状態となり、またカセットホ
ルダ5はツメ5aがコロ列フレーム24に固定されてい
るストッパ部材24aに当接することにより停止するの
で、矢印Bの方向からのカセット交換が容易になる。
The third row in FIG. 5 shows the state when the cassette is replaced manually. In this state, the stopper mechanism 27 comes off the supporting rail 26 and is in the released state, and the cassette holder 5 is stopped when the claw 5a comes into contact with the stopper member 24a fixed to the roller row frame 24. It becomes easy to change the cassette from any direction.

第6図は、第2図の露光装置を右側面から見た説明図で
ある。
FIG. 6 is an explanatory diagram of the exposure apparatus of FIG. 2 viewed from the right side.

同図において、レチクルカセットライブラリ2は露光装
置チャンバ(全体空調チャンバ)1と当接し、この状態
で露光装置チャンバ側に構成されたロック部材15と、
カセットライブラリ2側に構成されたつかまえコロ2a
の結合が起こり、チャンバ1とライブラリ2との相対位
置が固定される。
In the figure, the reticle cassette library 2 is in contact with the exposure apparatus chamber (general air conditioning chamber) 1, and in this state, the locking member 15 configured on the exposure apparatus chamber side,
Catching roller 2a configured on the cassette library 2 side
coupling occurs, and the relative positions of chamber 1 and library 2 are fixed.

そして、レチクルカセットライブラリ2に構成された記
憶手段21に格納されているデータは露光装置チャンバ
1に構成された読み取り手段16により読み取られ、ラ
イブラリ2内に収納されている各レチクルの収納段位置
、およびレチクルがらみの各種工程のパラメータ等のデ
ータが本体に送られて本体の記憶手段にプールされる。
The data stored in the storage means 21 configured in the reticle cassette library 2 is read by the reading means 16 configured in the exposure apparatus chamber 1, and the storage stage position of each reticle stored in the library 2 is determined. Data such as parameters of various processes related to the reticle are sent to the main body and pooled in the main body's storage means.

本体側の指定により抜き出されたレチクルはエレベータ
位置P2でエレベータ機構に乗って第2のカセット収納
位置P3に送り込まれる。この位置はレチクルカセット
ライブラリ2内の中腹部に位置し、レチクルカセットラ
イブラリ2内にある各カセット位置に対し、その高低差
による搬送時間の違いを極力少なくしている。また、レ
チクルカセットライブラリ2を使用せずマニュアルにて
カセットを設置する時にはレチクル抜き出し位置P3に
カセットを置いてやるようにすれば、レチクル抜き出し
位置P3は、露光装置の設置されている床面からの高さ
が1m20cm程度であるから、位置関係として人手に
よる操作設定容易である。
The reticle extracted according to the instructions from the main body is conveyed to the second cassette storage position P3 by an elevator mechanism at the elevator position P2. This position is located in the middle of the reticle cassette library 2, and minimizes the difference in transport time due to height difference between each cassette position in the reticle cassette library 2. Also, when manually installing a cassette without using the reticle cassette library 2, if you place the cassette at the reticle extraction position P3, the reticle extraction position P3 will be located from the floor where the exposure device is installed. Since the height is about 1 m 20 cm, manual operation and setting are easy due to the positional relationship.

本実施例の機構および各機能の主なねらいは、いかに搬
送中のレチクルに対し、塵の付着を防止して送り込める
かということであり、特にレチクル単体を搬送している
時における外部からの浮遊塵の付着を防ぐために、異物
検査ユニット8のクリーンボックス化、およびカセット
外に出たレチクルの搬送領域のクリーンボックス化を2
重のボックス8a、8b、扉8c、ならびに空調装置等
により実現している。つまり、カセット入れ換え機構お
よびカセット開閉機構からの発塵および浮遊塵をレチク
ル搬送領域内部に浸入させないため、各部の気圧を、異
物検査ユニット8(ボックス8a内)で最も高く、次い
でレチクル搬送領域(ボックス8b内)、チャンバ内部
1(ボックス8b外)およびチャンバ外の順となるよう
に揚圧化している。第6図中、8cはレチクル搬送領域
からレチクル異物検査ユニット8への浮遊塵の流入を遮
断する扉である。また、101は空調ユニット、102
は冷却機、103は送Ju1機、104は加熱機、10
5はフィルタ、10Bは温度センサである。
The main aim of the mechanism and each function of this embodiment is to prevent dust from adhering to the reticle while it is being transported, especially when transporting a single reticle from the outside. In order to prevent the adhesion of floating dust, the foreign object inspection unit 8 is made into a clean box, and the transfer area for the reticle that comes out of the cassette is made into a clean box.
This is realized by heavy boxes 8a, 8b, door 8c, air conditioner, etc. In other words, in order to prevent dust and floating dust from the cassette exchange mechanism and the cassette opening/closing mechanism from entering the reticle transport area, the air pressure of each part is highest in the foreign object inspection unit 8 (inside box 8a), and then in the reticle transport area (box 8a). 8b), chamber interior 1 (outside box 8b), and outside the chamber. In FIG. 6, 8c is a door that blocks floating dust from flowing into the reticle foreign object inspection unit 8 from the reticle transport area. Further, 101 is an air conditioning unit, 102
103 is a cooling machine, 103 is a feeding machine, 104 is a heating machine, 10
5 is a filter, and 10B is a temperature sensor.

21bはシール材である。21b is a sealing material.

第7図は第3図で示した基本構成のうち、露光装置に固
定されたレチクル抜き出し位置P3からレチクル収納位
置P8までの各動作機構の実施外観図である。
FIG. 7 is an external view of each operating mechanism of the basic configuration shown in FIG. 3 from a reticle extraction position P3 to a reticle storage position P8 fixed to the exposure apparatus.

第7図において、カセットライブラリ2からホルダ5ご
と抜き出されたカセット4はレチクル抜き出し位置(第
2のカセット収納位置)psに送り込まれ、上下移動型
ホルダ支持台71に載置固定される。この位置P3には
、カセット4を構成している上蓋と下蓋を分離するカセ
ット開閉機構が構成されており、上下移動型ホルダ支持
台71にホルダ5が送り込まれ固定されたことを確認し
た時点以後、このカセット開閉機構が作動し、カセット
4の上蓋が開放され、内部にあるレチクル6がカセット
4外から取り出し可能になる。この状態になった時レチ
クル抜き出しフォーク30がカセット4内にあるレチク
ル6を抜き出し、その抜き出し方向の延長上にあるレチ
クル異物検査ユニット8(第6図)内に定速で送り込む
。一方、レチクル6がカセット4外に出たことを確認し
たら、カセット開閉機構が作動し、カセット4は閉じら
れる。
In FIG. 7, the cassette 4 extracted from the cassette library 2 along with the holder 5 is sent to the reticle extraction position (second cassette storage position) ps, and placed and fixed on the vertically movable holder support stand 71. At this position P3, a cassette opening/closing mechanism that separates the upper and lower lids that make up the cassette 4 is configured, and when it is confirmed that the holder 5 is fed into the vertically movable holder support 71 and fixed. Thereafter, this cassette opening/closing mechanism is activated, the upper lid of the cassette 4 is opened, and the reticle 6 inside can be taken out from outside the cassette 4. When this state is reached, the reticle extraction fork 30 extracts the reticle 6 from the cassette 4 and feeds it at a constant speed into the reticle foreign object inspection unit 8 (FIG. 6) located on the extension in the extraction direction. On the other hand, when it is confirmed that the reticle 6 has come out of the cassette 4, the cassette opening/closing mechanism is activated and the cassette 4 is closed.

レチクル抜き出し位置P3にあるホルダ支持台は上下穆
動型ホルダ支持台71と姿勢保持型ホルダ支持台72の
上下に2つが設けられており、カセット4が空になった
ことを確認されて閉じられると、下位置の上下穆動型ホ
ルダ支持台71と上位置にある姿勢保持型ホルダ支持台
72が上下位置を交換できるようになっている。これに
より、前述の空になったカセット4は上位置(レチクル
収納位置pa)へ送り込まれ、この位置P8で前述の露
光位置P7へ搬送されたレチクルが露光工程の終了によ
フて戻されレチクル収納位置P8に搬入されるまで待機
している。
Two holder support stands at the reticle extraction position P3 are provided above and below the vertically movable holder support stand 71 and the posture holding type holder support stand 72, and are closed after confirming that the cassette 4 is empty. The vertically movable holder support base 71 in the lower position and the posture holding type holder support base 72 in the upper position can be exchanged in vertical position. As a result, the empty cassette 4 described above is sent to the upper position (reticle storage position pa), and at this position P8, the reticle conveyed to the exposure position P7 described above is returned to the reticle upon completion of the exposure process. It waits until it is carried into the storage position P8.

第6図を参照して、カセット4から抜き出されたレチク
ル6は、通常、そのままレチクル異物検査ユニット8内
に送り込まれる。しかし、レチクル6にペリクル防塵膜
が付けられていた場合、現在のレチクル異物検査ユニッ
トの構成上、ペリクル防塵膜のフレームにより、レチク
ル6のフレーム内部で検査不可能な領域(レチクル6と
ペリクル防塵膜フレームの接合隅部)がある。この部分
を検査するためには、レチクル6を180°平面回転し
た後もう一度、レチクル検査ユニット8でその領域の検
査をするようになる。この平面回転機構を有しているの
が受け渡し位置P4にあるθz!m構40である。
Referring to FIG. 6, the reticle 6 extracted from the cassette 4 is normally fed into the reticle foreign object inspection unit 8 as it is. However, if a pellicle dust-proof film is attached to the reticle 6, due to the configuration of the current reticle foreign object inspection unit, the area inside the frame of the reticle 6 that cannot be inspected (reticle 6 and the pellicle dust-proof film There is a joint corner of the frame). In order to inspect this area, the reticle 6 is rotated 180 degrees in plane, and then the reticle inspection unit 8 inspects that area again. θz!, located at the delivery position P4, has this plane rotation mechanism. It is m structure 40.

第7図に戻って、レチクル6がレチクル異物検査ユニッ
トによって異物検査を完了して受け渡し位置P4に戻っ
てくると、θZ機構40はレチクル抜き出しフォーク3
0の下側よりレチクル4をすくい上げるようにフォーク
30から取り出し、露光装置のレチクル設定方向に合せ
てθ回転させ、Z機構による上昇動作で受け渡し位置P
8に送る。
Returning to FIG. 7, when the reticle 6 completes the foreign object inspection by the reticle foreign object inspection unit and returns to the delivery position P4, the θZ mechanism 40 moves the reticle extraction fork 3
0, take out the reticle 4 from the fork 30 by scooping it up from below, rotate it by θ in accordance with the reticle setting direction of the exposure device, and move it to the transfer position P by the upward movement by the Z mechanism.
Send to 8.

このθZ機構40によるθ回転量は、コンソールからの
入力または記憶手段21からの読み取りデータに基いて
基板ごとに1/4回転ピッチで3/4回転まで設定する
ことができる。このθZ機構40により、この装置にお
いては、種々の装置に使用されている多種多様なレチク
ルカセットおよびそのカセット内のレチクルの設定方向
にも人手によるカセット内レチクルの方向合せという面
倒な仕事なしに、レチクルカセット内およびレチクルの
清浄度を維持した状態で各種装置との間を無人オンライ
ンでレチクル交換することができる。つまりマシンコン
パチビリティを向上させることができる。
The amount of θ rotation by the θZ mechanism 40 can be set up to 3/4 rotation at a 1/4 rotation pitch for each board based on input from the console or read data from the storage means 21. With this θZ mechanism 40, this device can be used in a wide variety of reticle cassettes used in various devices and in the setting direction of the reticle in the cassette without the troublesome task of manually aligning the reticle in the cassette. It is possible to exchange reticles between various devices in an unmanned online manner while maintaining the cleanliness of the reticle cassette and the reticle. In other words, machine compatibility can be improved.

位置P6では、レチクル搬送機構50に構成された開閉
動作を有するレチクルハンド52.53が開状態で待機
しておりその位置でレチクル6を位置決め下側支持して
受け取る。レチクル6を受け渡し位置P6で受け取った
レチクル搬送ハンド51は、レチクル6の直交する2@
面を突き当て状態で下面支持しながら露光装置内の露光
位置P7に直線搬送する。この直線搬送中の1ケ所にバ
ーコードリーダ・パターン位置検知ユニット7が構成さ
れており、レチクル6が定速で搬送されている間に指定
レチクルの確認、露光装置のレチクルがらみのパラメー
タ読み取り、および現在つかんでいるレチクル6のパタ
ーンが露光装置の中心に対してどれ程ずれているかを検
知して、搬送終了までに露光装置の設定を終えてしまう
ようにしである。
At position P6, reticle hands 52 and 53, which are configured in the reticle transport mechanism 50 and have opening/closing operations, are waiting in an open state and receive the reticle 6 by positioning it and supporting it at the lower side. The reticle conveying hand 51, which received the reticle 6 at the delivery position P6, moves the reticle 6 at the 2@
It is linearly conveyed to the exposure position P7 in the exposure apparatus while supporting the lower surface with the surfaces abutting each other. A barcode reader/pattern position detection unit 7 is configured at one location during this linear transportation, and while the reticle 6 is being transported at a constant speed, it can confirm the designated reticle, read the reticle-related parameters of the exposure device, and This is to detect how far the pattern of the currently gripped reticle 6 is deviated from the center of the exposure device, and to finish setting the exposure device by the end of conveyance.

露光位置P、に到着したレチクル搬送ハンド51は、レ
チクルハンド52.53を開いてその位置でレチクル6
を放しレチクル6を露光装置の受け台(図示せず)に載
置する。その後、レチクル搬送ハンド51は、レチクル
ハンド52.53を開状態としたまま、露光工程終了を
待機する。
The reticle transport hand 51 that has arrived at the exposure position P opens the reticle hands 52 and 53 and transfers the reticle 6 at that position.
is released and the reticle 6 is placed on a pedestal (not shown) of the exposure device. Thereafter, the reticle conveying hand 51 waits for the exposure process to end while keeping the reticle hands 52 and 53 open.

露光工程を終了したレチクル6はレチクル搬送ハンド5
1によって露光位置P7から受け渡し位置P6へ搬送さ
れる。受け渡し位置P6では前述のθZ機構40が下側
初期位置に下降退避し、レチクル収納フォーク90がレ
チクル受け渡し準備を完了している。
The reticle 6 that has completed the exposure process is transferred to the reticle transport hand 5
1, it is transported from the exposure position P7 to the delivery position P6. At the delivery position P6, the aforementioned θZ mechanism 40 is lowered and retracted to the lower initial position, and the reticle storage fork 90 has completed preparations for reticle delivery.

レチクル搬送ハンド51が受け渡し位置P6にてレチク
ル6をレチクル収納フォーク90に載置した時、レチク
ルハンド52.53は開状態になる。これにより、機構
(51と90)同志が干渉することなく、レチクル収納
フォーク90は前述のレチクル収納位置P8に待機して
いる空のレチクルカセットへのレチクルの収納が可能で
ある。
When the reticle transport hand 51 places the reticle 6 on the reticle storage fork 90 at the delivery position P6, the reticle hands 52 and 53 are in an open state. As a result, the reticle storage fork 90 can store a reticle in the empty reticle cassette waiting at the reticle storage position P8, without interference between the mechanisms (51 and 90).

レチクル収納位置P8にも前記レチクル抜ぎ出し位置P
3のものと同様の開閉機構駆動源があり、その動作によ
って位置P8で待機中のカセット4を開放し、カセット
4内にレチクルがないことを確認した後レチクル収納フ
ォーク90を動作してレチクル6をカセット4内に収納
する。収納後、レチクル収納フォーク90がカセット4
から外に出ると、カセット開閉機構駆動源が動作し、カ
セット4が開状態になる。
The reticle extraction position P is also located at the reticle storage position P8.
There is an opening/closing mechanism drive source similar to that in 3. Its operation opens the cassette 4 waiting at position P8, and after confirming that there is no reticle in the cassette 4, the reticle storage fork 90 is operated to remove the reticle 6. is stored in the cassette 4. After storing, the reticle storage fork 90 moves to the cassette 4.
When the user goes outside, the cassette opening/closing mechanism drive source operates, and the cassette 4 becomes open.

その後、前記ホルダ支持台は再び上下の入れ換え動作を
してカセット4を下位置(レチクル抜診出し位置)P3
にて待機させる。このカセット4はカセット搬出機構に
よりレチクルライブラリに戻される。
Thereafter, the holder support base performs the vertical switching operation again to move the cassette 4 to the lower position (reticle extraction and examination position) P3.
Please wait at. This cassette 4 is returned to the reticle library by a cassette unloading mechanism.

これら一連の動作に対して、カセット搬送機構の動作、
レチクル抜き出し動作、レチクル異物検査、θZ動作、
レチクル搬送動作、レチクル収納動作、カセット上下入
れ換え動作、ライブラリへのカセット収納、供給動作を
シリーズ的に動作させると、工程ごとのレチクル交換時
間は3〜4分程費やしてしまう。これに対し、本実施例
では第2のカセット収納位置に2つのホルダ支持台71
゜72を設け、ライブラリ2から搬出されたカセット4
は、レチクル抜き出し位置P3にてレチクルの抜き出し
動作をレチクル抜き出しフォーク30によって行なって
空になった後、上蓋を閉じカセット上下入れ換え動作に
よってレチクル収納位置P8に送り、代って姿勢保持型
ホルダ支持台72をレチクルの抜ぎ出し位置P3に来さ
せ、この姿勢保持型ホルダ支持台72に次工程で必要と
するレチクルのカセットを搬送載置することができるよ
うにしている。したがって、本実施例では、予め露光装
置が現工程を終了する時間または露光処理するウニ八枚
数の処理時間をもとに交換時期を算定し、そのカセット
搬送時間、レチクル異物検査時間等機械動作として起こ
る所要時間を見越して次工程レチクルの各搬送動作を開
始すれば、次工程のレチクルはθZ機構40上に待機さ
せることができ、前工程のレチクルが露光工程を終了し
てレチクル収納位置P8に送られた時に次工程のレチク
ルを載せたθZ機構40が上昇動作して受け渡し位置P
6に来るようなシーケンスプログラムを付加してやれば
、上記交換時間は30秒以下に減少させることができる
In response to these series of operations, the operation of the cassette transport mechanism,
Reticle extraction operation, reticle foreign object inspection, θZ operation,
If the reticle conveyance operation, reticle storage operation, cassette vertical exchange operation, cassette storage into the library, and supply operation are performed in series, the reticle exchange time for each process will take about 3 to 4 minutes. In contrast, in this embodiment, two holder support stands 71 are provided at the second cassette storage position.
゜72 is installed and the cassette 4 is carried out from the library 2.
After the reticle is extracted by the reticle extraction fork 30 at the reticle extraction position P3 and becomes empty, the upper cover is closed and the cassette is exchanged up and down, and the reticle is sent to the reticle storage position P8, and the cassette is moved to the posture holding type holder support stand instead. 72 is brought to the reticle extraction position P3, and a reticle cassette required for the next process can be transported and placed on this posture holding type holder support stand 72. Therefore, in this embodiment, the replacement timing is calculated in advance based on the time when the exposure device finishes the current process or the processing time for the number of urchins to be exposed. If each transport operation of the next process reticle is started in anticipation of the required time, the next process reticle can be kept on standby on the θZ mechanism 40, and the previous process reticle can complete the exposure process and move to the reticle storage position P8. When the reticle is sent, the θZ mechanism 40 carrying the reticle for the next process moves upward to the delivery position P.
If a sequence program such as that shown in step 6 is added, the above exchange time can be reduced to 30 seconds or less.

第8図は、第7図のカセット入れ換え機構70の動作説
明図である。
FIG. 8 is an explanatory diagram of the operation of the cassette exchange mechanism 70 shown in FIG. 7.

次に、第7および8図を参照しながらカセット入れ換え
機構70について説明する。図中、71.72はホルダ
支持台、 73.73はホルダ支持台71.72に固定
されたプーリ、74はプーリ73.73の軸を規定の間
隔で回転自在に支持するアームである。アーム74はプ
ーリ73.73間の中点位置75で水平動作スライダ7
6に回転支持され、上下のプーリ73をベルト77で連
結されている。このため、支持アーム74は回転中心7
5に対して回転可能となるがその回転動作に対してホル
ダ支持台71.72は平行姿勢を変えないで上下動作可
能になっている。上下穆動型ホルダ支持台71は、上下
ガイド79とこれを支持する3つのコロ78により、水
平姿勢状態でZ方向にのみ昇降可能に拘束されている。
Next, the cassette exchange mechanism 70 will be explained with reference to FIGS. 7 and 8. In the figure, 71.72 is a holder support base, 73.73 is a pulley fixed to the holder support base 71.72, and 74 is an arm that rotatably supports the shaft of the pulley 73.73 at a specified interval. The arm 74 is mounted on the horizontally moving slider 7 at a midpoint position 75 between the pulleys 73 and 73.
6, and upper and lower pulleys 73 are connected by a belt 77. For this reason, the support arm 74 has a center of rotation 7
Although the holder support bases 71 and 72 can be rotated relative to 5, the holder support bases 71 and 72 can be moved up and down without changing their parallel postures. The vertically movable holder support base 71 is restrained by a vertical guide 79 and three rollers 78 supporting the vertical guide 79 so that it can move up and down only in the Z direction in a horizontal position.

水平動作スライダ76は、上下移動型ホルダ支持台71
の上下動作に伴なってアーム中心75を支持しながら水
平方向に移動可能であり、全体の重量を軸80両端の2
ケ所で支えている。81はアーム中心75を固定してい
るf[1180を水平動作スライダ76に対しアーム7
4を回転させる回転型のアクチュエータである。
The horizontal movement slider 76 is a vertically movable holder support base 71
As the arm moves up and down, it can move horizontally while supporting the arm center 75, and the entire weight is transferred to the two ends of the shaft 80
It is supported in several places. 81 indicates f [1180, which fixes the arm center 75, to the arm 7 relative to the horizontal movement slider 76.
This is a rotary type actuator that rotates 4.

第7図の状態でアーム74に図面手前から見て反時計方
向の回転入力を与えると、上下8動型ホルダ支持台71
は水平支持されたままZ方向に上昇する。また、姿勢保
持型ホルダ支持台72は上下8動型ホルダ支持台71の
姿勢が水平であるのでプーリ73、73およびベルト7
7の動作により同様の水平姿勢を保ったまま軸80を回
転軸に円弧運動する。しかし、軸8oは水平動作スライ
ダ76に支持されているのでホルダ支持台71の移動に
伴って図中で左へ向けて水平に移動し、このため、ホル
ダ支持台72は第8図に示すように円弧運動と水平運動
とを合成した軌跡を描いて移動する。つまり、第8図に
おいて、第7図と同様の状態からアーム74を反時計方
向に180″′回転すると、ホルダ支持台71は71’
の位置を経て72の位置に垂直に上昇すると同時に、ホ
ルダ支持台72は72′の位置を経て71の位置に回転
移動する。これにより、ホルダ支持台71と72の位置
が入れ替わる。もとの状態に戻すためには、アーム74
を今度は時計方向に180°回転すればよい。
When a counterclockwise rotational input is applied to the arm 74 in the state shown in FIG.
rises in the Z direction while remaining horizontally supported. In addition, since the attitude holding type holder support stand 72 has a horizontal attitude of the vertical eight movement type holder support stand 71, the pulleys 73, 73 and the belt 7
7, it moves in an arc around the shaft 80 while maintaining the same horizontal posture. However, since the shaft 8o is supported by the horizontal movement slider 76, it moves horizontally toward the left in the figure as the holder support base 71 moves, and therefore the holder support base 72 moves as shown in FIG. It moves by drawing a trajectory that is a combination of circular motion and horizontal motion. That is, in FIG. 8, when the arm 74 is rotated 180'' counterclockwise from the same state as in FIG.
At the same time, the holder support base 72 rotates through the position 72' and moves vertically to the position 72. As a result, the positions of holder support stands 71 and 72 are swapped. To return to the original state, arm 74
Now rotate it 180 degrees clockwise.

姿勢保持型ホルダ支持台72は、移動動作の末端では略
水平に動作するため、第7図の82のごとくダンパーと
固定機構を働かせれば衝撃を少なく動作させることがで
きる。なお、上下移動型ホルダ支持台71の動作は軸8
0の回転中心まわりの回転動作により、動作末端では減
速機構になっている。
Since the attitude holding type holder support base 72 operates substantially horizontally at the end of the movement, it can be operated with less impact by operating a damper and a fixing mechanism as shown at 82 in FIG. The movement of the vertically movable holder support stand 71 is based on the axis 8.
Due to the rotational movement around the rotation center of 0, it becomes a deceleration mechanism at the end of the movement.

また、アーム74が軸80の回転中心まわりで回転動作
するのに対し、ホルダ支持台71.72は軸80を中心
にカウンタバランスの形態をと)ているため回転動作に
必要な力はあまり大きくない。
Furthermore, while the arm 74 rotates around the center of rotation of the shaft 80, the holder support bases 71 and 72 are counterbalanced around the shaft 80, so the force required for the rotation is too large. do not have.

第9図はレチクル送り込み機構の説明図で、第9図(a
)はレチクルを掴んで露光位置P7まで搬送した状態、
第9図(b)は第2の受け渡し位置P6でレチクルを開
放した状態を示す。
Figure 9 is an explanatory diagram of the reticle feeding mechanism.
) is the state in which the reticle is grabbed and transported to the exposure position P7,
FIG. 9(b) shows a state in which the reticle is opened at the second delivery position P6.

図中、52は位置決めXY基準コロ付ハンド、53はY
基準コロ付ハンド、56は開閉操作アクチュエ一タ、6
0はスライダ、61は回転軸、62はレバー、63はロ
ーラ、82aはレバー回転軸、62bはバネ、65は平
ベルト、66はスライダストッパ、67は外カバー、6
8は駆動プーリ、69は従動プーリ、70aはスライド
レールである。
In the figure, 52 is a hand with a positioning XY reference roller, and 53 is a Y
A hand with a reference roller, 56 is an opening/closing operation actuator, 6
0 is a slider, 61 is a rotating shaft, 62 is a lever, 63 is a roller, 82a is a lever rotating shaft, 62b is a spring, 65 is a flat belt, 66 is a slider stopper, 67 is an outer cover, 6
8 is a driving pulley, 69 is a driven pulley, and 70a is a slide rail.

スライダ60は平ベルト65の両端を固定し、ベルト6
5はレバー回転軸62aを中心にレバー62で支持され
たローラ63を介して張られ、レバー62はベルト65
のたるみ取りにバネ62bにより張力を与えられていて
、これらのレバー62およびバネ62bはスライダ60
の左右に構成されている。ベルト65は左右にある従動
プーリ69を経由して駆動プーリ68まで張られている
。第9図(a)に示すように露光位置P7まで来たスラ
イダ60は、その軌道であるスライドレール70a上に
固定されたスライダストッパ66に突き当り、その状態
から駆動プーリ68を小量回転させると、図示のように
左側の張力T。
The slider 60 fixes both ends of the flat belt 65 and
5 is stretched around a lever rotation shaft 62a via a roller 63 supported by a lever 62, and the lever 62 is stretched around a belt 65.
The lever 62 and spring 62b are tensioned by a spring 62b to take up slack in the slider 60.
It is configured on the left and right. The belt 65 is stretched to a driving pulley 68 via driven pulleys 69 on the left and right sides. As shown in FIG. 9(a), the slider 60 that has reached the exposure position P7 hits the slider stopper 66 fixed on the slide rail 70a, which is its trajectory, and from this state, when the drive pulley 68 is rotated a small amount, , the tension T on the left side as shown.

が高くなり右側の張力T2が低くなるためその差分子 
、T 2がスライダ60をスライダストッパ6Bに押し
当てる。この押し当て力が安定していればこの位置での
再現性が高くなる。
increases and the tension T2 on the right side decreases, so the difference numerator
, T2 press the slider 60 against the slider stopper 6B. If this pressing force is stable, the reproducibility at this position will be high.

この原理は左右両位置について同様である。This principle is the same for both left and right positions.

平ベルト65はレチクル搬送ハンド51のスライド部の
高さ方向の厚み分の幅をもっており、外カバー67はレ
チクル送り込み機構51のレチクル搬送ハンド51のス
ライドする部分を除いて全てカバーリングしてあり、前
述のスライド部の窓がその開口を略的に塞いでいる。こ
のように構成した時にこの空間内の任意の位置で排気(
図示せず)してやれば、空間内は負圧化し、スライド動
作による発塵が外部に出す、搬送機構により発塵してし
まった塵が搬送中のレチクルに付着することがなくなる
The flat belt 65 has a width equal to the thickness of the sliding portion of the reticle conveying hand 51 in the height direction, and the outer cover 67 covers all of the parts except for the sliding portion of the reticle conveying hand 51 of the reticle feeding mechanism 51. The aforementioned window of the sliding portion substantially closes the opening. When configured in this way, exhaust (
(not shown), the inside of the space becomes negative pressure, dust generated by the sliding operation is discharged to the outside, and dust generated by the transport mechanism is prevented from adhering to the reticle being transported.

第9図(b)に示す第2の受け渡し位置P8に来たレチ
クル搬送ハンド51も前述同様の手法でスライドストッ
パ66に押し当てられこの位置(停止位置)での再現性
を良くしである。
The reticle transfer hand 51 that has come to the second delivery position P8 shown in FIG. 9(b) is also pressed against the slide stopper 66 in the same manner as described above to improve reproducibility at this position (stop position).

これらの停止位置で開閉操作アクチュエータ59が作動
すると、その作用点は結合軸58を移動させる。XY基
lコロ付ハンド52およびY基準コロ付ハンド53はそ
れぞれスライダ60に構成された左右の回転軸61を支
点にもったレバーであり、結合軸58より連結関係にあ
るため、図のようにハンド閉状態ができ、前記のθZ機
構40や、レチクル収納フォーク90とのレチクルの授
受が可能である。
When the opening/closing actuator 59 operates at these stop positions, its point of action moves the coupling shaft 58. The XY-base l roller hand 52 and the Y-base roller hand 53 are levers each having the left and right rotating shafts 61 formed on the slider 60 as their fulcrums, and are connected by the coupling shaft 58, so that they can be rotated as shown in the figure. The hand is in a closed state, and a reticle can be exchanged with the θZ mechanism 40 or the reticle storage fork 90.

第10図は、レチクルを位置決めハンドリングしている
状態の図で、レチクルを掴んでいる状態のレチクル基板
の整合原理を示す。
FIG. 10 is a diagram showing the reticle being positioned and handled, and shows the principle of alignment of the reticle substrate while the reticle is being gripped.

前述のようにハンド52と53は、開閉操作アクチュエ
ータの動作により、図示のごとく閉状態を作っている。
As described above, the hands 52 and 53 are brought into the closed state as shown in the figure by the operation of the opening/closing actuator.

54、55.56はコロで、ハンド52には2つ、ハン
ド53には1つが取り付けである。レチクルは一般的に
正方形をしているため、コロ55.56の外周とレチク
ルの端面が当接しもう1つのコロ54の外周に他の一端
が当接するように押し付けてやればレチクルの外形整合
が可能になる。
54, 55, and 56 are rollers, two of which are attached to the hand 52 and one to the hand 53. Since a reticle is generally square, the outer circumference of the reticle 55 and 56 is in contact with the end face of the reticle, and the outer circumference of the other roller 54 is pressed so that the other end is in contact with the outer circumference of the reticle. It becomes possible.

57、57は回転中心を円の中心から偏心させたところ
にもった外周の摩擦係数の高い偏心コロで、図示の逆方
向力F、、F2が常時働くように内蔵のバネが入ってい
てレチクルのない状態では57aの位置で停止している
。ハンド閉状態でレチクルを挟み込んだ時、XY基準コ
ロ付ハンド52とY基準コロ付ハンド53は図示Fと同
様の方向に動き、Fなる力をレチクルに与える。52と
53の両ハンドに構成されている偏心コロ57は、57
bのように回転する。この時、F)F2>Flの関係を
つくり、かつ、両ハンド52.53の閉状態の位置を連
結軸58のストローク規正で固定してやると左右の偏心
コロ57の動作およびその外周とレチクル端面との摩擦
係数と偏心コロ57の57aに戻ろうとする力によりF
l、F2なる力が発生し、それらの分力はコロ54.5
5.56の外周に対してレチクルを押しつける力、fう
+  f)ll+  fy2なる力を発生させ、レチク
ルなハンド上に端面整合できる。
57, 57 are eccentric rollers with a high friction coefficient on the outer periphery whose center of rotation is eccentric from the center of the circle, and a built-in spring is inserted so that the reverse forces F, F2 shown in the figure are constantly applied to the reticle. In the state without , it stops at position 57a. When the reticle is held between the hands in the closed state, the hand 52 with the XY reference roller and the hand 53 with the Y reference roller move in the same direction as F in the drawing, and apply a force F to the reticle. The eccentric rollers 57 configured on both hands 52 and 53 are
Rotate as shown in b. At this time, if the relationship F) F2>Fl is created and the closed positions of both hands 52 and 53 are fixed by the stroke regulation of the connecting shaft 58, the movement of the left and right eccentric rollers 57 and their outer periphery and the end face of the reticle are Due to the friction coefficient of F and the force of the eccentric roller 57 to return to 57a,
Forces l and F2 are generated, and their component forces are 54.5
The end face can be aligned on the reticle hand by generating a force to press the reticle against the outer periphery of 5.56, f+f)ll+fy2.

この状態で受け渡し位置P6から露光位置P7まで搬送
する経路中にバーコードリーダ・パターン位置検知7を
配置し搬送中のレチクルのパターン位置を計測してやれ
ば、このパターン位置がレチクル基板の整合端面からど
れくらいの位置に離れているかということがわかり、こ
れをそのレチクルの製造誤差に対処した本体装置のメカ
ニカルな設定データとして使用することができる。
In this state, if a barcode reader/pattern position detector 7 is placed on the path of transport from the delivery position P6 to the exposure position P7 and the pattern position of the reticle being transported is measured, it is possible to determine how far this pattern position is from the alignment end face of the reticle substrate. This can be used as mechanical setting data for the main unit to deal with manufacturing errors in the reticle.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図および第2図は、本発明の=実施例に係る投影露
光装置の外観図、 第3図は、本発明のレチクル搬送システムの説明図、 第4図は、移動型カセットライブラリの裏面外観図、 第5図は、ライブラリ内部の説明図、 第6図は、装置右側から見た説明図、 第7図は、装置内のレチクル抜き出し位置ないしレチク
ル収納位置の各動作機構の実施外観図、第8図は、カセ
ット入れ換え機構動作説明図、第9図は、レチクル送り
込み機構の説明図、第10図は、レチクルハンドリング
機構の整合原理説明図、 第11図は、移動型カセットライブラリを他周辺機器と
接合配置した説明図である。 1=ステツパの全体空調チャンバ 2:8動型カセツトライブラリ 4:基板収納ケース 5:カセットホルダ 6:レチクル 7:バーコードリーダ・パターン位置検査装置PI =
第1のカセット収納位置 F2 :エレベータ位置 F3 :第2のカセット収納位置 F4 :第1の受け渡し位置 F5 ニレチクル異物検査位置 F6 :第2の受け渡し位置 F7 :露光位置 F8 :空力セット待機位置 15:チャンバ側につけられた記憶内容読み取り手段 21:記憶手段 21b=シール材 22ニライブラリの扉 23:コロ 24:コロ列フレーム 25ニガイドコロ 26:レール 27:ストッパ 29:ストッパ 30ニレチクル抜き出しフォーク 40:θZ機構 50ニレチクル送り込み機構 51ニレチクル搬送ハンド 52:位置決めXY基準コロ付ハンド 53:Y基準コロ付ハンド 54、55.56:コロ 57:偏心コロ 58:結合軸 59:開閉操作アクチュエータ 60ニスライダ 61:回転軸 62ニレバー 62aニレバ一回転軸 62b:バネ 63:ローラ 64:ストッパ 65:平ベルト 66:スライダストッパ 67:外カバー 68:駆動プーリ 69:従動プーリ 70aニスライドレール 70:カセット入れ換え機構 71:上下穆動型ホルダ支持台 72:姿勢保持型ホルダ支持台 73ニブ−リ フ4:支持アーム 76:水平動作スライダ 77:ベルト 78:コロ 79ニガイド 80:軸 81:回転アクチュエータ 82:ダンパ 101:空調ユニット 102:冷却器 103:送風機 104:個別加熱器 105:フィルタ 106:温度センサ。
1 and 2 are external views of a projection exposure apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 3 is an explanatory diagram of a reticle conveyance system of the present invention, and FIG. 4 is a rear view of a mobile cassette library. External view, Figure 5 is an explanatory diagram of the inside of the library, Figure 6 is an explanatory diagram as seen from the right side of the device, and Figure 7 is an external diagram of the implementation of each operating mechanism at the reticle extraction position or reticle storage position within the device. , Fig. 8 is an explanatory diagram of the operation of the cassette exchange mechanism, Fig. 9 is an explanatory diagram of the reticle feeding mechanism, Fig. 10 is an explanatory diagram of the matching principle of the reticle handling mechanism, and Fig. 11 is an illustration of the operation of the mobile cassette library. FIG. 2 is an explanatory diagram showing the connection arrangement with peripheral devices. 1 = Entire air conditioning chamber of stepper 2: 8 dynamic cassette library 4: Substrate storage case 5: Cassette holder 6: Reticle 7: Barcode reader/pattern position inspection device PI =
First cassette storage position F2: Elevator position F3: Second cassette storage position F4: First delivery position F5 Elm particle foreign object inspection position F6: Second delivery position F7: Exposure position F8: Aerodynamic set standby position 15: Chamber Memory content reading means attached to the side 21: Storage means 21b = sealing material 22 Library door 23: Roller 24: Roller row frame 25 Guide roller 26: Rail 27: Stopper 29: Stopper 30 Niticle extraction fork 40: θZ mechanism 50 Niticle Feed mechanism 51 Ni reticle transfer hand 52: Positioning XY reference roller hand 53: Y reference roller hand 54, 55.56: Roller 57: Eccentric roller 58: Connection shaft 59: Opening/closing operation actuator 60 Nilever 61: Rotating shaft 62 Nilever 62a Nirever single rotation shaft 62b: Spring 63: Roller 64: Stopper 65: Flat belt 66: Slider stopper 67: Outer cover 68: Drive pulley 69: Followed pulley 70a Ni slide rail 70: Cassette exchange mechanism 71: Vertically movable holder support Base 72: Posture holding type holder support base 73 Nib-rif 4: Support arm 76: Horizontal movement slider 77: Belt 78: Roller 79 Ni guide 80: Shaft 81: Rotary actuator 82: Damper 101: Air conditioning unit 102: Cooler 103: Blower 104: Individual heater 105: Filter 106: Temperature sensor.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、基板を第1の受け渡し位置と第2の受け渡し位置と
の間で搬送する基板搬送装置であって、基板を支持する
アームと、該アームに設けられ該アームで支持される基
板を該アームに対して外形位置決めする手段と、該アー
ムを上記第1および第2の受け渡し位置間の搬送経路に
沿って移動させる駆動手段と、該搬送経路内の1ケ所に
配設された基板情報検知手段とを備えたことを特徴とす
る基板搬送装置。 2、前記基板情報検知手段が、基板内に描画されている
パターンの基板の外形基準位置からの位置ずれ量を計測
するものである特許請求の範囲第1項記載の基板搬送装
置。 3、前記基板情報検知手段が、基板周辺部に描画されて
いるパターンより該基板に関する情報を読み取るもので
ある特許請求の範囲第1項記載の基板搬送装置。 4、前記基板情報検知手段が、バーコードリーダである
特許請求の範囲第3項記載の基板搬送装置。
[Scope of Claims] 1. A substrate transfer device that transfers a substrate between a first transfer position and a second transfer position, comprising an arm that supports the substrate, and a substrate that is provided on the arm and supported by the arm. means for externally positioning the substrate to be transferred relative to the arm; a driving means for moving the arm along the transport route between the first and second transfer positions; and a drive means disposed at one location within the transport route. 1. A substrate conveyance device comprising: board information detection means. 2. The substrate conveying apparatus according to claim 1, wherein the substrate information detection means measures the amount of positional deviation of a pattern drawn on the substrate from a reference position of the outer shape of the substrate. 3. The substrate conveyance apparatus according to claim 1, wherein the substrate information detection means reads information regarding the substrate from a pattern drawn around the substrate. 4. The substrate transport apparatus according to claim 3, wherein the substrate information detection means is a barcode reader.
JP61162135A 1986-07-11 1986-07-11 Substrate conveying device Pending JPS6322448A (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61162135A JPS6322448A (en) 1986-07-11 1986-07-11 Substrate conveying device
US07/528,903 US4999671A (en) 1986-07-11 1990-05-29 Reticle conveying device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61162135A JPS6322448A (en) 1986-07-11 1986-07-11 Substrate conveying device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6322448A true JPS6322448A (en) 1988-01-29

Family

ID=15748704

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61162135A Pending JPS6322448A (en) 1986-07-11 1986-07-11 Substrate conveying device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6322448A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0582408A (en) * 1991-09-20 1993-04-02 Canon Inc Semiconductor exposure device
JPH0870027A (en) * 1994-08-30 1996-03-12 Canon Inc Substrate storage and semiconductor manufacturing device having the same

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0582408A (en) * 1991-09-20 1993-04-02 Canon Inc Semiconductor exposure device
JPH0870027A (en) * 1994-08-30 1996-03-12 Canon Inc Substrate storage and semiconductor manufacturing device having the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4999671A (en) Reticle conveying device
TW509988B (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
CN1854898B (en) Coating and developing system
KR101699983B1 (en) Mask case, transfer apparatus, exposure apparatus, mask transfer method and device manufacturing method
JP7349240B2 (en) Board warehouse and board inspection method
JP5071109B2 (en) Reticle conveying apparatus, exposure apparatus, reticle conveying method, reticle processing method, and device manufacturing method
US4757355A (en) Mask storing mechanism
JP2000097671A (en) Visual inspection method and system for printed board
JP2008285179A (en) Taping device and method for controlling the same
JPH10163094A (en) Light-exposing device, light-exposing method, and conveying device
JPH03782B2 (en)
JP4021118B2 (en) Substrate processing equipment
JPH11307610A (en) Substrate transfer equipment and aligner
JPS6318632A (en) Substrate conveying apparatus
JPS6146971B2 (en)
JPS6322410A (en) Printed circuit board accommodating rack
JPS6322448A (en) Substrate conveying device
JPS6322411A (en) Printed circuit board transport device
JPS62195143A (en) High-speed exchange device for substrate
JPS6322418A (en) Transport device
JPS6322407A (en) Printed circuit board accommodating rack
JPS6322403A (en) Printed circuit board transport device
JPS6322427A (en) Transport equipment
JPH09260461A (en) Semiconductor manufacture device
JPS6322404A (en) Printed circuit board transport device