JPS63218349A - Double layer film and manufacture thereof - Google Patents

Double layer film and manufacture thereof

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JPS63218349A
JPS63218349A JP5374187A JP5374187A JPS63218349A JP S63218349 A JPS63218349 A JP S63218349A JP 5374187 A JP5374187 A JP 5374187A JP 5374187 A JP5374187 A JP 5374187A JP S63218349 A JPS63218349 A JP S63218349A
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JP
Japan
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film
polyamic acid
silicone resin
fluororesin
heating
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Pending
Application number
JP5374187A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
和秀 藤田
弘二 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Moulding By Coating Moulds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はポリイミド(以下、PIと称す)を基材とする
複層フィルムおよびその製造法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Industrial Application Field) The present invention relates to a multilayer film based on polyimide (hereinafter referred to as PI) and a method for producing the same.

(従来の技術) 査種の成形品、積層板の製造を金型や熱板を用いて行な
うことがあり、この方法では得られる物品と金型、熱板
との離形の問題は重要である。
(Prior art) In some cases, molded products and laminates are manufactured using molds and hot plates, and in this method, the problem of releasing the resulting product from the molds and hot plates is important. be.

そして、この離形のため、PIフィルムを使用すること
がある。PIはフィルム高温での寸法安定性や機械特性
が優れており、成形を高温で行なう場合の離形用として
好ましいものである。
A PI film may be used for this release. PI has excellent film dimensional stability and mechanical properties at high temperatures, and is preferable for mold release when molding is performed at high temperatures.

(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、PIフィルムは離形性の耐久力に乏しく
、繰り返し使用の可能回数が少ないという問題があった
(Problems to be Solved by the Invention) However, the PI film has a problem in that it has poor durability in terms of releasability and can only be used repeatedly.

マタ、とのPIフィルムは長尺品として芯体丘にロール
状に巻回することがある。このとき、PIフィルムは表
面が平滑である故に上層と下層のフィルム同志が密着し
てしまい1巻きズレ、シワ等を矯正しようとしても・、
フィルムが面間での滑りを起さないため(摩擦係数が大
きい)該矯正は困難である。フィルム同志の面間での滑
シの悪さから、巻回後の巻きかえや所定巾に切断するた
めのスリットの際における作業性が悪いという問題もあ
った2、そして、この傾向はフィルムの長尺化。
Mata and PI films are sometimes wound into a roll around a core as a long product. At this time, since the surface of the PI film is smooth, the upper and lower layers of the film stick together, and even if you try to correct misalignment, wrinkles, etc.
This correction is difficult because the film does not slip between surfaces (the coefficient of friction is large). Due to the poor slippage between the surfaces of the film, there was also the problem of poor workability during rewinding after winding and slitting to cut to a specified width. Scale.

薄膜化に従って顕著になる。This becomes more noticeable as the film becomes thinner.

この滑シ性の改善のため、パラフィン、脂肪酸エステル
、高級アルコール等の有機滑剤、或いはシリカ粉末のよ
うな無機滑剤tPIフィルム中に分散せしめることも試
みられている。しかしながら、前者の場合は有機滑剤の
ために耐熱性の低下が著しく、後者の場合は電気絶縁性
能に悪影響を与え、フィルムの電子機器、半導体部品へ
の適用に支障が生じ易い。
In order to improve the slipperiness, attempts have been made to disperse organic lubricants such as paraffin, fatty acid esters, higher alcohols, or inorganic lubricants such as silica powder into the tPI film. However, in the former case, the heat resistance is significantly reduced due to the organic lubricant, and in the latter case, the electrical insulation performance is adversely affected, and the application of the film to electronic equipment and semiconductor parts is likely to be hindered.

(問題点を解決するための手段) 本発明者は従来技術の有する上記問題を解決するため、
種々検討の結果、PIフィルムとシリコーン樹脂或いは
フッ素樹脂を複層することにより。
(Means for Solving the Problems) In order to solve the above problems of the prior art, the present inventors
As a result of various studies, we decided to create a multilayer structure using PI film and silicone resin or fluororesin.

滑り性および離形耐久性の慢れたフィルムが得られるこ
とを知った。また、との複層フィルムを容易に製造する
技術の開発も行ない1本発明を完成するに至った。
It was found that a film with excellent slip properties and release durability can be obtained. In addition, we have developed a technology to easily produce a multilayer film with , and have completed the present invention.

即ち1本発明に係る複層フィルムはPIフィルムの少な
くとも片面上にシリコーン樹脂層またはフッ素樹脂層が
形成されて成るものである。
That is, the multilayer film according to the present invention is a PI film with a silicone resin layer or a fluororesin layer formed on at least one side.

本発明の複l−フィルムの基材としてのPIフィルムと
しては、従来公知のものが特に制限なく使用でき、その
具体例としては芳香族テトラカルボン酸2無水物と芳香
族ジアミンの反応生成物であるポリアミド酸をイミド転
化せしめたPIフィルムを挙げることができる。なお、
このフィルムの厚さは限定されるわけではないが、実用
上5〜150μflu程度が好ましい。
As the PI film as the base material of the multi-l-film of the present invention, any conventionally known PI film can be used without particular limitation, and a specific example thereof is a reaction product of aromatic tetracarboxylic dianhydride and aromatic diamine. One example is a PI film obtained by converting a certain polyamic acid into an imide. In addition,
Although the thickness of this film is not limited, it is practically preferably about 5 to 150 μflu.

そして、かようなPIフィルムの片面もしくは両面には
シリコーン樹脂或いはフッ素樹脂(例えは、ポリテトラ
フルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフ
ルオロプロピレン共重合体)から成る耐熱性、滑り性お
よび離形性を有する薄層が設けられる。このシリコーン
樹脂ノー或いはフッ素樹脂層の厚さは、離形効果、滑り
効果および該11t−形成する樹脂の転写予防の観点か
ら約0.01〜3μ溝が好適であることが判明している
。しかしながら、所望により、これよりも薄く或いは厚
く形成することもできる。
One or both sides of such a PI film are coated with silicone resin or fluororesin (for example, polytetrafluoroethylene, tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer) to provide heat resistance, slipperiness, and mold release properties. A thin layer is provided having a. It has been found that the thickness of the silicone resin or fluororesin layer is preferably about 0.01 to 3 μm from the viewpoint of mold release effect, sliding effect, and prevention of transfer of the 11t-forming resin. However, if desired, it can be formed thinner or thicker than this.

次に1本発明の他の態様である複Il!フィルムの製造
法について述べる。本発明に係る複層フィルムの製造法
ははリアミド酸フィルムの少なくトモ片面上にシリコー
ン樹脂またはフッ素樹脂の含有液を塗布し、その後加熱
することにより、前記フィルムの構成成分であるポリア
ミド酸をイミド転化すると共に、該フィルム上にシリコ
ーン樹脂層またはフッ素樹脂層を形成することを特徴と
するものである。
Next, another aspect of the present invention is a compound Il! The film manufacturing method will be described. The method for producing a multilayer film according to the present invention is to apply a silicone resin or fluororesin-containing liquid on one side of a lyamic acid film, and then heat it to imide polyamic acid, which is a component of the film. It is characterized in that a silicone resin layer or a fluororesin layer is formed on the film at the same time as the film is converted.

ここで用いられるポリアミド酸フィルムは1例えば芳香
族テトラカルボン酸2無水物と芳香族ジアミンを有機極
性溶媒中で反応させて得られるポリアミド酸溶液から製
造し得る。
The polyamic acid film used here can be produced from a polyamic acid solution obtained by reacting, for example, an aromatic tetracarboxylic dianhydride and an aromatic diamine in an organic polar solvent.

芳香族テトラカルボン酸2無水物の具体例としては、ピ
ロメリット酸2無水物、3,3,4,4’−ベンゾフェ
ノンテトラカルボン酸2無水物、3゜3’、  4. 
4’−ビフェニルテトラカルボン酸2無水物、2,3,
3.4−ビフェニルテトラカルボン酸2無水物、2. 
3. 6. 7−ナフタレンテトラカルボン酸2無水物
、1. 2. 5. 6−ナフタレンテトラカルボン酸
2無水物−L  4,5t  8−ナフタレンテトラカ
ルボン酸2無水物、 2. 2’−ビス(3,4−ジカ
ルボキシフェニル)プロパン2m水物、 ビス(3,4
−ジカルボキシフェニル)スルホン2無水物等が挙げら
れる。
Specific examples of the aromatic tetracarboxylic dianhydride include pyromellitic dianhydride, 3,3,4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3°3', 4.
4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,
3.4-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2.
3. 6. 7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1. 2. 5. 6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride-L 4,5t 8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2. 2'-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane 2m hydrate, bis(3,4
-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, and the like.

また、芳香族ジアミンの具体例としては、4゜4−シア
吏ノジフェニルエーテル、4.4’−ジアミノジフェニ
ルメタン、3.3’−ジアミノジフェニルメタン、パラ
フェニレンジアミン、メタフェニレンジアミン、ベンチ
ジン、3,3’−ジズチルベンチジン、3.3’−ジメ
トキシベンチジン、4゜4−、ジアミノジフェニルスル
ホン、4,4−ジアミノジフェニルスルフィド、4.4
’−ジアミノジフェニルプロパン、2,2−ビス(4−
(4アミノフエノキシ)フェニル〕プロパン等が挙げら
れる。
Specific examples of aromatic diamines include 4゜4-cyanodiphenyl ether, 4.4'-diaminodiphenylmethane, 3.3'-diaminodiphenylmethane, paraphenylenediamine, metaphenylenediamine, benzidine, 3,3' -dizylbenzidine, 3.3'-dimethoxybenzidine, 4゜4-, diaminodiphenylsulfone, 4,4-diaminodiphenylsulfide, 4.4
'-Diaminodiphenylpropane, 2,2-bis(4-
Examples include (4aminophenoxy)phenyl]propane.

更に、有機極性溶媒の具体例としては、N−メチル−2
−ピロリドン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド。
Furthermore, as a specific example of the organic polar solvent, N-methyl-2
-pyrrolidone, dimethylacetamide, dimethylformamide, dimethylsulfoxide.

ヘキサメチレンホスホルトリアミド等が挙ケラれる。こ
れら有機極性溶媒にはクレゾール、フエノ−ル、キシレ
ノール等のフェノール類、ヘキサン。
Examples include hexamethylene phosphor triamide. These organic polar solvents include phenols such as cresol, phenol, and xylenol, and hexane.

ベンゼン、トルエン等を混合することもできる。Benzene, toluene, etc. can also be mixed.

と記芳香族テトラカルボン酸2無水物と芳香族ジアミン
を有機極性溶媒中で反応させてポリアミド酸?得る際の
モノマー濃度は1種々の条件により設定できるが通常5
〜30重量%である。まな。
Polyamic acid is produced by reacting aromatic tetracarboxylic dianhydride and aromatic diamine in an organic polar solvent. The monomer concentration when obtaining 1 can be set according to various conditions, but is usually 5.
~30% by weight. Mana.

反応温度は通常80℃以下好ましくは5〜50℃であり
1反応時間は1〜20時間程度である。
The reaction temperature is usually 80°C or lower, preferably 5 to 50°C, and one reaction time is about 1 to 20 hours.

かようにして得られるポリアミド酸溶液をガラス、ステ
ンレス等から成る支持材とに流延し、これを加熱し溶媒
を除去するとポリアミド酸フィルムが得られる。加熱条
件は溶媒の種類、流延厚さ等に応じて設定するが1通常
、温度は80〜250℃、時間は1〜60分である。
A polyamic acid film is obtained by casting the polyamic acid solution thus obtained on a supporting material made of glass, stainless steel, etc., and heating it to remove the solvent. Heating conditions are set depending on the type of solvent, casting thickness, etc. 1 Usually, the temperature is 80 to 250°C and the time is 1 to 60 minutes.

本発明においては、かようにして得られたポリアミド酸
フィルムの片面または両面にシリコーン樹脂或いはフッ
素樹脂を有機溶媒や水に溶解乃至分散せしめた液が塗布
される。この含有液中における樹脂濃度は1通常、約1
0〜60重量%であり、ポリアミド酸フィルムへの塗布
はディッピング、リバースコーティング、キスコーティ
ング、スプレーコーティング等の方法による。
In the present invention, a solution prepared by dissolving or dispersing a silicone resin or a fluororesin in an organic solvent or water is applied to one or both sides of the polyamic acid film thus obtained. The resin concentration in this containing liquid is usually about 1
The amount is 0 to 60% by weight, and the coating on the polyamic acid film is carried out by methods such as dipping, reverse coating, kiss coating, and spray coating.

そして、次に加熱が行なわれる。この加熱により、ポリ
アミド酸のPIへの転化および該転化時に生成する閉環
水等の揮発分の蒸発が起り、また。
Then, heating is performed next. This heating causes the conversion of the polyamic acid to PI and the evaporation of volatile components such as ring-closed water generated during the conversion.

含有液中の有機溶蝶着たは水が蒸発し、生成PIフィル
ム表面にシリコーン樹脂またはフッ素樹脂が焼き付けら
れ層形成される。なお、前記ポリアミド酸フィルム中に
有機極性溶媒が残存している場合は、この加熱時に該溶
媒の蒸発も生ずる。従って、この加熱は、通常、温度2
00〜400℃。
The organic melt adhesive or water in the containing liquid evaporates, and a silicone resin or fluororesin is baked onto the surface of the produced PI film to form a layer. Incidentally, if an organic polar solvent remains in the polyamic acid film, the solvent also evaporates during this heating. Therefore, this heating is typically performed at a temperature of 2
00-400℃.

時間1〜120分の条件で行なわれる。The test is carried out for a period of 1 to 120 minutes.

(実施例) 以下、実施例により更に詳細に説明する。(Example) Hereinafter, it will be explained in more detail with reference to Examples.

実施例I N−メチル−2−ピロリドン220重量部に4゜4−ジ
アミノジフェニルエーテル20 ff1titfl解し
、これを冷却撹拌しながらピロメリット酸2無水物21
.8重量部を徐々に加え、更に1時間反応させ(温度2
0℃以下に維持)、その後上記と閤じピロリドン200
重量部を加えて希釈し、粘度200センチぽイズ(B型
粘度計、温度30℃)のポリアミド酸溶液を得る。
Example I 20 ff1 titfl of 4°4-diaminodiphenyl ether was dissolved in 220 parts by weight of N-methyl-2-pyrrolidone, and while cooling and stirring, pyromellitic dianhydride 21 was dissolved.
.. 8 parts by weight was gradually added and the reaction was continued for another hour (temperature 2
(maintained below 0℃), then add the above and Kanji pyrrolidone 200
Dilute by adding parts by weight to obtain a polyamic acid solution with a viscosity of 200 centipoise (B-type viscometer, temperature 30°C).

この溶液をガラス板上に流延し、100℃XIO分、1
50℃XIO分、200℃×10分の条件で順次加熱し
、ガラス板から剥離し、厚さ50μ溝のポリアミド酸フ
ィルムを得る。
This solution was cast onto a glass plate and heated at 100°C for 1
The film was sequentially heated at 50° C. for 10 minutes and at 200° C. for 10 minutes, and then peeled off from the glass plate to obtain a polyamic acid film with a groove of 50 μm in thickness.

次に、このフィルムの片面上にシリコーン樹脂含有液を
スプレーコーティングし、400℃で1時間加熱し、複
ノーフィルム(シリコーン樹脂11M厚さ約0.1μm
)を得た。
Next, one side of this film was spray-coated with a silicone resin-containing liquid and heated at 400°C for 1 hour to form a composite film (silicone resin 11M, thickness approximately 0.1 μm).
) was obtained.

なお、上記含有液としてはシリコーン樹脂(信越シリコ
ーン社製、商品名KS−707)のトルエン溶液(濃度
0.1重量%)ft用いた。
As the above-mentioned liquid, a toluene solution (concentration 0.1% by weight) of a silicone resin (manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd., trade name KS-707) was used.

また、加熱に際してはフィルムの四辺を固定し。Also, fix the four sides of the film when heating.

熱収縮を防止した。Prevented heat shrinkage.

この複層フィルムを耐熱積層板製造時に雛形のために用
いたところ、300″CX60分の作業条件で10回以
上の繰り返し使用が可能であった。
When this multilayer film was used as a template during the production of a heat-resistant laminate, it was possible to use it repeatedly more than 10 times under working conditions of 300"C x 60 minutes.

また、との複層フィルムのシリコーン樹脂層形成面の表
面粗さくRa)は0.003μ溝、摩擦係数は0.12
であり、この値は300℃で12時間加熱後も変化して
おらず、滑り性およびその耐久性が慢れていた。なお2
表面粗さおよび摩擦係数は、表面粗さ形状測定機(東京
精密社製、サーフコム550A)および摩擦係数測定機
(東洋測器社製、EFM−4)により測定した。
In addition, the surface roughness Ra) of the silicone resin layer forming surface of the multilayer film with is 0.003μ groove, and the friction coefficient is 0.12.
This value did not change even after heating at 300° C. for 12 hours, indicating that the slipperiness and durability were outstanding. Note 2
The surface roughness and friction coefficient were measured using a surface roughness profile measuring device (manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd., Surfcom 550A) and a friction coefficient measuring device (manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd., EFM-4).

比較例1 離形剤を塗布しないこと以外は全て実施例1と同様にし
てPIフィルムを得た。
Comparative Example 1 A PI film was obtained in the same manner as in Example 1 except that no release agent was applied.

とのPIフィルムを実施例1と同条件で離形試験したと
ころ、2回目の使用時にはフィルムが積層板に部分的に
貼着する現象が生じ雛形性が著しく低下しており、3回
目の使用時にはフィルムが破損した。
When the PI film was subjected to a mold release test under the same conditions as in Example 1, it was found that the film partially stuck to the laminate during the second use, resulting in a significant decrease in template formability. Sometimes the film was damaged.

また、このフィルムの表面粗さは0.003μ惰であり
、摩擦係数は0.4であった。
Further, the surface roughness of this film was 0.003μ, and the coefficient of friction was 0.4.

比較例2 比較例1のPIフィルムの片面にパラフィン系ワックス
を塗布した。塗布面の表面粗さは0.004μm、M擦
係数は0.15であり、これを300 ”Cで12時間
加熱したところ5表面粗さは変化しなかったが摩擦係数
が0.40に増加し、滑勺性が低下した。
Comparative Example 2 One side of the PI film of Comparative Example 1 was coated with paraffin wax. The surface roughness of the coated surface was 0.004 μm, and the M friction coefficient was 0.15. When this was heated at 300"C for 12 hours, the surface roughness did not change, but the friction coefficient increased to 0.40. However, the smoothness decreased.

実施例2 ジメチルアセトアミド196重量部にジアミノジフェニ
ルエーテル20重量部を溶解し、撹拌しながらビフェニ
ルテトラカルボン酸2無水物29.4重量部を徐々に加
え、粘度が上昇した後60〜80℃に加温して20時間
反応させ、ポリアミド酸溶液を得た。
Example 2 20 parts by weight of diaminodiphenyl ether was dissolved in 196 parts by weight of dimethylacetamide, 29.4 parts by weight of biphenyltetracarboxylic dianhydride was gradually added with stirring, and after the viscosity increased, the mixture was heated to 60 to 80°C. The mixture was reacted for 20 hours to obtain a polyamic acid solution.

この溶液をステンレスのエンドレスベルト上に流延し、
温度150℃の条件で20分間加熱した後、該ベルトか
ら剥離し、厚さ30μ溝の長尺のポリアミド酸フィルム
を得る。
This solution is cast onto a stainless steel endless belt,
After heating at a temperature of 150° C. for 20 minutes, it is peeled off from the belt to obtain a long polyamic acid film with a groove of 30 μm in thickness.

次に、このフィルムをフッ素樹脂含有液中にディピング
し、フィルム両面に含有液を塗布する。
Next, this film is dipped in a fluororesin-containing liquid, and the containing liquid is applied to both sides of the film.

バー v y ン(7’ユポン社s、 商品名テフロン
120)”qを用いた。
Burn (7' Yupon Co., trade name: Teflon 120) was used.

その後、このフィルムの巾方向をピンテンターで拘束し
ながら300℃で30分間加熱し、複層フィルム(フッ
″J:樹脂層厚さ約0.3μrIL)を得た。
Thereafter, this film was heated at 300° C. for 30 minutes while restraining the width direction with a pin tenter to obtain a multilayer film (FJ: resin layer thickness approximately 0.3 μrIL).

このフィルムをシリコーンゴム成形品の製造時に離形用
として用いたところ、200°C×30分の作業条件で
は100回繰り返し使用した時点でも変化は見受けられ
なかった。
When this film was used for mold release during the production of silicone rubber molded products, no change was observed even after repeated use 100 times under working conditions of 200°C x 30 minutes.

また、この複1mフィルムのフッ素圏脂樹脂11形成面
の表面粗さは0.006μ惧、摩擦係数は0.30であ
り、この値は200℃で96時間加熱後も変化しておら
ず、滑り性およびその耐久性が簡れていた。
In addition, the surface roughness of the surface on which the fluororesin resin 11 is formed of this 1 m film is 0.006μ, and the coefficient of friction is 0.30, and these values do not change even after heating at 200°C for 96 hours. The slipperiness and durability were simple.

比較例3 船形剤を塗布しないこと以外は全て実施例1と同様にし
てPIフイルムヲ得た。
Comparative Example 3 A PI film was obtained in the same manner as in Example 1 except that no boat-forming agent was applied.

このPIフィルムを実施例2と同条件で離形試験したと
ころ、5回目の使用時に剥離が困娠となシ、6回目に破
損した。
When this PI film was subjected to a mold release test under the same conditions as in Example 2, it was difficult to peel off on the 5th use and broke on the 6th use.

また、このフィルムの表面粗さは0.004μ仇であり
、JIll擦係数は0.35であった。
Further, the surface roughness of this film was 0.004 μm, and the JIll friction coefficient was 0.35.

(発明の効果) 本発明はPIフィルムの表面にシリコーン樹脂層または
フッ素樹脂#全形成したので、上記実施例および比較例
にも示されているように滑り性が漬れているばかりでな
く、雛形耐久性が優れ、雛形用として繰り返し使用し得
る複層フィルムを提供できる。また1本発明の方法によ
れば、PIを基材とする複層フィルムを容易に製造し得
る。
(Effects of the Invention) Since the present invention completely forms a silicone resin layer or fluororesin # on the surface of the PI film, it not only has improved slipperiness as shown in the above Examples and Comparative Examples. It is possible to provide a multilayer film that has excellent template durability and can be used repeatedly as a template. Furthermore, according to the method of the present invention, a multilayer film using PI as a base material can be easily produced.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)ポリイミドフィルムの少なくとも片面上にシリコ
ーン樹脂層またはフッ素樹脂層が形成されて成る複層フ
ィルム。
(1) A multilayer film in which a silicone resin layer or a fluororesin layer is formed on at least one side of a polyimide film.
(2)ポリアミド酸フィルムの少なくとも片面上にシリ
コーン樹脂またはフッ素樹脂の含有液を塗布し、その後
加熱することにより、前記フィルムの構成成分であるポ
リアミド酸をイミド転化すると共に、該フィルム上にシ
リコーン樹脂層またはフッ素樹脂層を形成することを特
徴とする複層フィルムの製造法。
(2) By applying a silicone resin or fluororesin-containing liquid on at least one side of a polyamic acid film and then heating, the polyamic acid that is a component of the film is converted into an imide, and the silicone resin is applied onto the film. A method for producing a multilayer film, characterized by forming a layer or a fluororesin layer.
JP5374187A 1987-03-09 1987-03-09 Double layer film and manufacture thereof Pending JPS63218349A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8053082B2 (en) 2004-03-23 2011-11-08 Ube Industries, Ltd. Adhesion-enhanced polyimide film, process for its production, and laminated body

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8053082B2 (en) 2004-03-23 2011-11-08 Ube Industries, Ltd. Adhesion-enhanced polyimide film, process for its production, and laminated body

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