JPS63217310A - 石英系光フアイバ - Google Patents

石英系光フアイバ

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JPS63217310A
JPS63217310A JP62051235A JP5123587A JPS63217310A JP S63217310 A JPS63217310 A JP S63217310A JP 62051235 A JP62051235 A JP 62051235A JP 5123587 A JP5123587 A JP 5123587A JP S63217310 A JPS63217310 A JP S63217310A
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JP
Japan
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refractive index
core
optical fiber
cladding
sio2
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JP62051235A
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English (en)
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Fumiaki Hanawa
文明 塙
Hiroyuki Suda
裕之 須田
Masaharu Horiguchi
堀口 正治
Takao Edahiro
枝広 隆夫
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/06Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2201/00Glass compositions
    • C03C2201/06Doped silica-based glasses
    • C03C2201/08Doped silica-based glasses containing boron or halide
    • C03C2201/12Doped silica-based glasses containing boron or halide containing fluorine
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2201/00Glass compositions
    • C03C2201/06Doped silica-based glasses
    • C03C2201/20Doped silica-based glasses containing non-metals other than boron or halide
    • C03C2201/28Doped silica-based glasses containing non-metals other than boron or halide containing phosphorus

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は石英系光ファイバに関する。さらに詳細には本
発明は極低損失特性を有する石英系光ファイバに関する
従来の技術 従来、石英系単一モード光ファイバとして、主にコア部
にGeO□を添加したGeO□−3iO□コア、510
2クラツドの単一モード光ファイバ、およびクラッド部
にF(フッ素)を添加したSiO□コア、F−3iO□
クラツドの単一モード光ファイバが提案されている。前
者の光ファイバはすでに、GeO2の濃度分布(屈折率
分布)制御技術など製造方法が確立された段階にあり、
各方面で実用化されている。後者のSiO□コア、F−
3102クラツドの光ファイバは、GeO□添加光ファ
イバに較べて、放射線下など耐環境特性の改善、分散シ
フトファイバ、さらには以下に記述するような極低損失
化が期待できるなどの有利な点が多く、最近、活発に研
究されている。
一方、石英系光ファイバの伝送損失要因は、■S1−〇
結合の赤外吸収の裾引き、電子遷移による紫外吸収の裾
引き、及び屈折率のゆらぎによるレーリー散乱など光フ
ァイバを構成する材料に固有な損失、 ■コア・クラッド境界の不整など構造不完全性による損
失、 ■OH基の分子振動による吸収損失、 03つの分けることができる。この中で■と■の損失要
因を除去する技術はすでに確立され、GeO2−3i 
O,光ファイバの損失は理論限界値(0,2dB/Km
)まで低減化されている。この損失要因は■に記した材
料固有な損失に起因している。ここで赤外及び紫外線吸
収による損失は、石英系光ファイバでは変化しない。従
ってレーリー散乱損失が石英系光ファイバの損失値(理
論限界値)に影響を及ぼす要因であり、レーリー散乱損
失α(λ)を与えるレーリー散乱係数Sは次式で表わさ
れる。
α(λ)=S/λ4 ・・・(1) ここで、λ:波長、nニガラスの屈折率、β:圧縮率、
k:ボルツマン定数、T=軟化点温度(同化温度)、C
ニガラス組成ゆらぎによる散乱係数である。
(1)式において、レーリー散乱係数Sに影響を及ぼす
パラメータは、軟化点温度Tと組成ゆらぎによる散乱係
数Cである。純粋な5in2ガラスは組成ゆらぎによる
散乱係数Cが最小となるためレーリー散乱係数Sが最も
小さくなり、従って、従来Si Oxコア、F−5iO
2クラツドの光ファイバにおいて最も低損失化が期待で
きると考えられていた。
しかしながら、5in2の軟化点温度は、Ge%F1P
、Bなどを添加したガラスと比較するとかなり高いこと
が知られており、(1)式にふいて示す軟化点温度Tと
組成ゆらぎによる散乱係数Cを低減する効果がSi 0
2ガラスより大きい場合にはSiO2コア、FS102
 クラッドの光ファイバよりさらに極低損失の光ファイ
バを得る可能性がある。
以上のように、Sin、コア、F −3i O□クラッ
ドの単一モード光ファイバはGeO2−3IO□コア、
SiO□クラッドの単一モード光ファイバよりも低損失
化を図ることが可能であるが、(1)式から明らかなよ
うに必ずしもこれが石英系光ファイバの最低損失を与え
るファイバとは断言できない。
またSiO□コア、F−3jOaクラツドの単一モード
光ファイバでは以下に記述するような問題が生ずること
が明らかになった。
発明が解決しようとする問題点 第8図(a)及び第9図(a)に前記した従来技術の単
一モード光ファイバの屈折率分布を示す。
第8図(a)はGeO2−3iO2:’ア、5in2ク
ラツドの光ファイバであって、コア部1の屈折率をnl
、クラッド部2の屈折率をn2とすると、屈折率はn、
>n2の関係にある。ここでSiO2の屈折率は1.4
58(ナトリウムD線の波長に於て)であるので、この
光ファイバのクラッド部2の屈折率n2は1.458と
なる。
一方、第9図(a)はS+O□コア、F −3i 02
クラツドの光ファイバであって、コア部lの屈折率n1
とクラッド部2の屈折率n2の間には第8図(a)に示
した光ファイバと同様にnl>n2の関係がある。
ただし、この場合にはコア部lが5iOzであるから屈
折率n、が1.458となる。
ところで、光ファイバは母材製造工程と該母材の線引工
程によって製造される。従って低損失光ファイバを得る
には、母材製造条件を最適化すること及び線引条件を最
適化することが重要な要素となる。第8図(a)に示し
たGe0a  5I02 コア、SiO□クラッドの光
ファイバ、および第9図(a)に示したSi O,コア
、F−3I02クラツドの光ファイバの線引条件を検討
した結果、前者は線引の際ファイilに加えられる線引
張力が非常に広い範囲で低損失光ファイバが得られるこ
とが明らかになった。例えば線引張力を5〜150gま
で変化させても得られた光ファイバの損失(波長1.5
5μm)は0.20±0.01dB/kmの範囲で一定
テアッタ。ナオ、線引張力が150g以上になると線引
(母材を細径化すること)自体が困難になる。従ってG
em、添加コアでは製造される母材が高品質であれば線
引張力に依存せず低損失光ファイバが得られる。
ところが、S r 02コア、F ’5102クラッド
の光ファイバでは線引張力によって光ファイバの損失が
大巾に増加する現象が生じることが明らか1ごf(っだ
。第1O図に線引張力と損失(波長1.55μm)の関
係の一例を示す。第1O図には、母材段階の比屈折率差
Δ Cr (ただし、ner:コアの屈折率、nCd:クラッドの
屈折率) が0.45%、0.27%及び0.15%の5102 
コア、F−8102クラツドの単一モードファイバ、ま
た比較のためΔが0.35%のGe0a −3t Ox
 :l−r、SiO2クラツドの単一モード光ファイバ
における線引張力と線引後の光ファイバの伝送損失の関
係を示した。
Δ=0.45%、0.27%及び0.15%のSiO□
コア、F−3iO□クラツドの光ファイバにおける伝送
損失は、線引張力が大きくなるにつれて損失増加が顕著
になっており、Δ=0.45%の場合、線引張力が約8
gで0.3dB / Km以下の損失であるのに対して
、張力33gで1.4dB/Km、さらに張力80gで
は30dB /にm以上(図示せず)の損失であった。
第1O図に示した光ファイバのうちΔ=0.45%の光
ファイバについて、線引張力に対するカットオフ波長λ
C1比屈折率差Δの変化を調べた結果をそれぞれ第11
図、第12図に示す。第11図および第12図に示すよ
うに、線引張力が大きくなるに従ってカットオフ波長λ
。は短波長側に、また比屈折率差Δは0.45%から0
.22%までと、両特性とも大巾に変化している事実を
見出した。このように、5102コア、F−3iO□ク
ラツドの単一モード光ファイバに特有な諸現象は単一モ
ード光ファイバの設計、さらには低損失化を図る上で重
大な欠点であり、実用性においても問題となるところで
ある。
従って、本発明の目的は以上述べたような5102コア
、F−3iO,クラッドの単一モード光ファイバの欠点
がなく、さらに該光ファイバよりも低損失化が可能であ
る石英系単一モード光ファイバを提供することにある。
問題点を解決するための手段 本発明者らは上記従来技術の問題を解決するため、実験
、検討を進めた結果、コア部とクラッド部の軟化点温度
(面相温度)の違いによって前記欠点が誘発されている
ことを見出し、この知見に基づき種々の実験、検討を重
ね、本発明を完成したものである。
すなわち、本発明に従うと、中心にコア部、その周囲に
該コア部の屈折率より小さい屈折率を有したクラッド部
が配置された石英系光ファイバであって、該コア部はF
−P2O5−SiO2であり、該クラッド部はF−P2
O5−SiO2またはF−SiO2であることを特徴と
する石英系光ファイバが提供される。
さらに本発明に従い、中心にコア部、その周囲に該コア
部の屈折率より小さい屈折率を有したクラッド部が配置
された石英系光ファイバであって、該コア部はP、0.
−SiO2であり、該クラッド部はP2O5−SiO2
、F−P2O3−3iO□およびF−SiO□からなる
群から選択した1種であることを特徴とする石英系光フ
ァイバが提供される。
さらに本発明の好ましい態様に従うと、コア部の810
2に対する比屈折率差Δの絶対値は0.5%以下である
。ただし、比屈折率差Δは次の通りである。
I (ただし、n+:s+oaの屈折率、n2:コアの屈折
率) さらに本発明の好ましい態様に従うと、コア部とクラッ
ド部との間の比屈折率差は0.15%以上である。
作用 本発明の光ファイバの低伝送損失特性が得られる機構を
従来技術と関連して以下に説明する。
第8図ら)、第9図(b)はそれぞれ従来技術のGeO
2−3iO□コア、Sin、クラッドの単一モード光フ
ァイバおよび5in2コア、F  5102クラツドの
単一モード光ファイバの軟化点温度を示したものである
。コア部1の軟化点温度をT1、クラッド部2の軟化点
温度をT2とすると、第8図ら)に示したGeO2−S
iO2.5I02クラツド7フイバではTI<T2の関
係を示す。これに対し、第9図(b)に示した5iOz
コア、F−3iO□クラツドの光ファイバでは、TI>
T2の関係となる。
第8図(b)に示すようにコアとクラッドの軟化点温度
がTr<T2の関係にある光フアイバ母材では、線引後
、まずクラッド部2の材料(S102)の粘度が高くな
って硬化するが、コア部lはクラッド部2の粘性が高い
状態に至っても依然低粘度を保っている。従って、線引
時には、線引張力の大部分は粘性が高いクラッド部2で
ささえられた状態で冷却される。この結果ファイバ全体
が硬化した後もクラッド部2には線引張力に応じた大き
な応力が残留するが、ファイバ断面の中心部に配置され
ているコア部には引張応力が加わらない。
一方、第9図(b)に示すようにコアとクラッドの軟化
点温度がTI>T2の関係にある母材の線引の場合には
、上述したGe0a−8iO□コア、Sin、クラッド
の光ファイバの場合とは逆の関係になるため、線引時に
加えられる張力の大部分はコア部1に分担され、従って
ファイバ化後のコア部1には線引張力に応じた引張応力
が残留する。このようにコア部lの長さ方向に引張応力
が加わると、コア径が局部的にわずかに変化している、
あるいはコア形状が局部的にわずかに変形しているなど
、Gem、−SiO2コア、5in2クラツドの光7y
イバでは十分許容できる非常に微小な変化であっても5
in2コア、F−3iO2クラツドの光ファイバの場合
には損失増加となって現われる。この傾向はFの添加量
の多いほど、すなわちコア部とクラッド部との比屈折率
差が大きいほど顕著であることは第10図に示すとおり
である。さらにコア部に引張応力が残留すると、第11
図、第12図に示した様にカットオフ波長λ。や比屈折
率差Δが大巾に変化する結果となり、線引後の光ファイ
バが所定の設計特性値を示さないこととなる。
以上述べたような従来技術の5i02 コア、F−3i
 02 クラッドの単一モード光ファイバの欠点を誘発
する原因を理論的に明確にし、この上で本発明を完成し
たものである。
すなわち、本発明は光ファイバのコア部1の軟化点温度
T1とクラッド部2の軟化点温度T2の温度差を極力少
なくするようにコア部にPを添加して上記温度差を調整
することを特徴とする。さらに“本発明の好ましい態様
に従うと、F等を添加することによりコア部1とクラッ
ド部2の屈折率n1、n2との間に光が伝播するのに必
要十分な比屈折率差を与え、さらに石英系光ファイバに
おいて最も低損失が期待できるドーパント材及び屈折率
範囲を決定され、低損失の単一モード光ファイバが提供
される。
光ファイバの品質を低下させずに屈折率を調整するドー
パントとしてはGe、 P、 Fが実用的であリ、5i
02ガラスにこれらのドーパント材を添加するとガラス
の軟化点温度は急激に低下する。各ドーパントを同量だ
け添加した際の軟化点温度の低下はP > F >Ge
m順である。例えばガラス転移点の低下の大きさで比較
すると、5iOaのガラス転移点は約1200℃近傍で
あるのに対して、Pを0.5mol %添加することに
よってガラス軟化点温度は約200℃低下する。従って
、本発明ではPの添加によりコア部のガラス軟化点温度
を低下させる。
ここで問題となるのが上記した(1)式のレーリー散乱
係数Sである。
そこでP2O5SiO□ガラス、F−3iO□ガラス、
F−PzOs−3IO□ガラス及びGer□ S+Oa
ガラスを作製して、バルクガラス及び光ファイバからレ
ーリー散乱係数Sを測定し、その測定結果を第1図に示
す。
第1図において横軸は上記した各ガラスのSiO□との
比゛屈折率差1Δ1を表わしており、nlを5iOzの
屈折率、n2を前記各組成のガラスの屈折率としたとき
、SiO□に対する比屈折率差Δは、Δ=(n。
nz)/n+で定義される。ここでP 205  S 
r O2ガラスおよびGeO2SiO2ガラスは5in
2よりその屈折率が大きく、ほかのガラスの屈折率はS
iO2より小さい。従ってP 20 S  S 102
ガラスおよびGeO□−SiO2ガラスと、他のガラス
のSiO2に対する比屈折率差は符号が逆であるため、
比屈折率差をその絶対値IΔ1で表わして説明する。
第1図中にレーリー散乱係数Sをx印で示したGem、
−SiO2ガラスでは1Δ1が大きくなるに従ってレー
リー散乱係数Sも初期値(純SiO□のレーリー散乱係
数Sの値である0、62(dB/km) −、um’)
より大きくなっているが、)’  P2O55102、
P2O5−3iOz及びF  5102の各ガラスでは
所定の値の比屈折率差まではレーリー散乱係数SがSi
 02よりも小さくなる傾向を示し、その減小の程度は
F  Pros  SiO□> P aos  510
2 > F  5102のガラスの順に効果的であった
。また、第1図に示すようにF  P 20 B −S
 i O2ガラスのレーリー散乱係数Sが最小であるの
は、前述したようにPlFともにガラス軟化点温度を低
下させる作用を有するため、それらの相乗効果によって
ガラス軟化点温度がさらに低下した結果であると考えら
れる。
レーリー散乱係数SがSi O,と同程度になる比屈折
率差IΔ1は、F  P2O55i02及びP2O。
−3102の各ガラスで約0.5%以下、F  510
2ガラスでは約0.4%以下の範囲であることが第1図
かられかる。
すなわち、第1図はレーリー散乱係数がSin。
以下となる比屈折率差の範囲のガラスをコア材料とする
ことにより、S10□コアの光ファイバより伝送損失の
低い光ファイバが得られることを示している。
一方、上記した各ガラスが上記の値以上の比屈折率差(
5102に対する)を示すときレーリー散乱係数が大き
くなるのは、添加物の増加によって(1)式に示す組成
ゆらぎによる散乱係数Cが上昇し始め、レーリー散乱係
数Sの変化が軟化点温度Tの低下の影響よりも組成ゆら
ぎによる散乱係数Cの上昇に強く影響されるようになる
ためである。
P2O,−3iO□ガラスではレーリー散乱係数の増加
特性がゆるやかであり、組成ゆらぎによる散乱係数Cの
影響が他のガラスよりも小さい。従って、本発明では主
としてPによりガラス軟化点温度を低下せしめることと
した。またF  P2O55102のレーリー散乱係数
Sの増加がΔ=0.45%以上で顕著になっているのは
、3成分系ガラスのため組成ゆらぎが大きいからである
と考えられる。従って、上記結果から本発明の目的の一
つである石英系光ファイバで最も低損失化が図れるコア
材料としては、F  P2O55102及びP2O5−
3iO□が最適であると結論できる。ガラス軟化点温度
が低い上記ガラスをコアとした場合、それぞれのコアに
対して下記の表に示す組成のクラッドガラスが好ましい
Pはわずかな添加によってガラス軟化点温度を非常に低
下させる成分であることを前述したが、屈折率を高める
効果は小さい。例えばFを1mo1%添加するとSi 
O2に対して約0.41%の比屈折率差が得られるが、
Pを1mo1%添加した場合の比屈折率差の変化は約0
.03%程度である。このことから、上記の表に示した
組成の組合せのうち、P 205−3i O,コア、P
2O,−SiO2クラツドの光フアイバ以外では、Fを
添加することによって所望の比屈折率差Δを生じせしめ
、Pの添加量はガラス軟化点温度を低下させるのに専ら
必要十分な量とするのが望ましい。
本発明の1態様に従う単一モード光ファイバのコアおよ
びクラッドの屈折率分布及びガラス軟化点温度分布を第
2図を参照して説明する。第2図(a)はコア部1、ク
ラブト部2ともにガラス組成がF  P2ss  5i
Oaである光ファイバの屈折率分布であり、第2図ら)
は、その光ファイバの軟化点温度分布を示す。
第2図の光ファイバではコア部lとクラブト部2のPの
添加量を等量としてコア部lとクラッド部2のガラス軟
化点温度をほぼ等しくしている。
さらに、コア部1とクラッド部2に添加するFの添加量
を制御することによって、コア部1の屈折率n、とクラ
ッド2の屈折率n2との間に所定の比屈折率差Δを与え
る。比屈折率差Δは、コア部1を光が伝播するのに必要
かつ十分な値であれば良く、光ファイバの曲げ損失を考
慮するとΔ=0.15%以上とするのが望ましい。この
ように、コア部1及びクラッド部2にF及びPが添加さ
れると屈折率n l Sn 2の値は図示した石英(S
102)レベルより小さくなる。従って、コア部1およ
びクラブト部2のガラス軟化点温度T1、T2も第2図
(5)に示した様にSin、の軟化点温度より低下し、
さらにT1とT2の温度差が小さくなる。例えば第2図
にふいて、コア部1、クラブト部2のP添加量を同量と
し、F添加量の調整によってSiO□に対するコア部1
1クラッド部2の比屈折率差を各々0.25%、0.4
%として、コアークラッド間に比屈折率差0.15%を
与えた場合、第2図(ハ)のT、−’r。
の温度差は約20℃程度であり、またコア部1、クラッ
ド部2の比屈折率差を各々0.2%、0.5%としてコ
アークラッド間に比屈折率差0.3%を与えた場合のガ
ラス軟化点温度の差Tt  T2は約30℃程度である
一方、第9図(a)に示した従来のSiO□コア、F−
3i O,クラッドで比屈折率差を0.15%とした場
合の軟化点温度T+とT2の温度差は200℃以上とな
り、比屈折率差を0.3%とした場合のT、とT2の温
度差は約500℃以上にも達する。
また、上記した態様の光ファイバにおいて、コア部1に
添加するPの量をクラッド部2より多く・することによ
りTIとT2のガラス軟化点温度を等しくすることもで
きる。
第3図は本発明の他の態様に従う光ファイバの特性を示
し、第3図(a)はコアn1、クラブト部2ともにガラ
ス組成がP 20 s  S i O2の光ファイバの
屈折率分布、第3図(b)は、この光ファイバのガラス
軟化点温度分布を示す。この態様では第3図(a)に示
すようにコア部、クラッド部ともにSiO□より屈折率
が高くなるため、コア部とクラッド部の比屈折率差を0
.15%以上とするには、少なくともクラッド部のSi
 O2に対する比屈折率差を0.01%以上(P濃度で
は約Q、5mo1%に相当し、ガラス軟化点温度を低下
させるのに十分な量である)とし、このクラッド部に対
するコア部の比屈折率差を0.15%以上とするのが望
ましい。また、ガラス軟化点温度T1、T2は第3図(
5)に示すようにSiO□よりも低くなって温度差も小
さくTI<T2の関係となる。従って線引時にコアに線
引応力がかからなく、低損失の光ファイバを実現できる
F  P 20 s −S 102 コア、F −3i
 02 クラッドの場合の屈折率分布は第9図(a)に
示した5102コア、F  5102 クラッドとほぼ
同様の分布となるが、Pの添加により軟化点温度T3、
T2は第2図ら)に示した本発明と同様な関係となる。
さらに、P、05−SiO、コア、F −3i O□ク
ラッドの場合のガラス軟化点温度T1、T2の温度差は
第2図(ハ)に示した温度差より小さくなりT、:T、
となる。
以上のように本発明に従う光ファイバは、コア部とクラ
ッド部の軟化点温度をSiO□の軟化点温度より低くす
ることができ、またコア部とクラッド部の軟化点温度の
差を非常に小さくすることができるので、極低損失化が
期待されていた従来のS i O2コア、F −3i 
02クラツドの光ファイバよりさらに低損失化が可能で
あり、また従来生じていた線引張力に起因する問題を解
消することができる。
以下、本発明を実施例により詳細に説明するが、これら
の実施例は本発明の単なる例示であり、本発明の技術的
範囲を何隻制限するものではないことは勿論である。
実施例I VAD法によってΔ=0.2%のF  PzOs  5
102ガラス棒を作製した。このガラス棒の外周にP2
O。
−5102多孔質層を形成した後、HeとSF、の混合
雰囲気中で熱処理することによって前記Pa5s−8i
02多孔質層にFを添加し透明な単一モード光ファイバ
用母材を作製した。得られた母材の寸法は、外径25m
mφ、長さ4Qcmであり、母材段階での屈折率分布を
測定したところ、第2図(a)に示したような分布であ
り、SiO□に対するコア部の比屈折率差Δは0.2%
、クラッド部の比屈折率差Δは0.5%、コアとクラッ
ド間の比屈折率差は0.3%であった。この母材を線引
装置により線引した。線引条件は、線引速度を毎分60
m一定とし、線引張力を変えることによって線引温度を
種々変化させた。
各条件毎に外径125μm1長さ5にmの単一モード光
ファイバを作製した。線引温度と線引張力の関係を第4
図に示す。P添加によって線引温度は大巾に低下した。
例えば張力を200gとした場合、従来の5102コア
、Gem、−SiO2コアでは各々1980℃、203
0℃であるのに対して、F−P20s−SiO。
のコアではガラス軟化温度が低く、より高速度で線引が
行われ、線引温度は1850℃と低下した。
得られたF−P2O5−3iO2コア、F−P、06−
3i O□クラッドの単一モード光ファイバの損失、カ
ットオフ波長λ。、屈折率の変化を測定した。
第5図に波長1.55μmでの損失値と線引張力との関
係を示す。線引張力が150g以下において損失の張力
依存性はみられず、損失値は0.15±0.01dB/
にmの範囲で一定であった。また、カットオフ波長λ。
および比屈折率差をそれぞれ第6図および第7図に示す
ように、張力依存性はみられず、λ。は波長1.2μm
で一定、比屈折率差も0.3%で一定であった。
実施例2 第3図(a)に示す如き屈折率分布を有し、SiO□に
対するコアの比屈折率差が0.25%、クラッドの比屈
折率差が0.02%、コアークラッド間の比屈折率差が
0,23%のP2O5−5iO□コア、P2O5SiO
□クラッドの単一モード光ファイバ用母材をVAD法で
作製した。この母材を線引張力を変化させて線引きし、
各々5Kmの単一モード光ファイバを作製した。線引張
力20gにおける線引温度は1820℃であった。線引
張力に対する線引後の光ファイバの比屈折率差Δの変化
及びカットオフ波長λ。の変化を調べたところ、実施例
1の結果と同様にこれらの特性は線引張力に依存せず一
定な値であった。また損失は1.5μm帯で0.16d
B/kmであった。
発明の詳細 な説明したように本発明の石英系単一モード光ファイバ
では、PおよびF等の添加量を調整することによって、
コア部とクラッド部の軟化点温度差を従来の単一モード
光ファイバに較べて極めて小さくすることができるため
、線引張力に依存せず常に一定な光ファイバの緒特性が
得られる利点がある。
さらに、本発明の石英系単一モード光ファイバは、ガラ
スの軟化点温度が5iO7に較べて低いので、これに順
じてレーリー散乱係数が小さくなって従来の光ファイバ
の損失を凌駕した極低損失の光ファイバが得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の詳細な説明するための図であり、各
種ガラスのレーリー散乱係数を示し、第2図は本発明の
1態様に従うF −P 20s−SiO、コア、F  
P2O5−3IO□クラブトの光ファイバの特性を示し
、第2図(a)はこの光ファイバの屈折率分布を示した
図であり、第2図ら)は軟化点温度分布を示す図であり
、 第3図は本発明の他の態様に従うP 20 s  S 
! 02コア、P、05−3iO□クラツドの光ファイ
バの特性を示し、第3図(a)はこの光ファイバの屈折
率を示した図、第3図ら)は軟化点温度分布を示す図で
あり、第4図は、本発明の1実施例のF−P20s−3
iO。 コア、F−P、0.−SiO2クラツドの光ファイバの
線引温度と張力の関係を示す図であり、第5図は、本発
明の1実施例のF  P2O55102コア、F  P
2O55102クラッドの光ファイバの損失と線引張力
との関係を示す図であり、第6図および第7図は、それ
ぞれ、第5図に損失と線引張力との関係を示した光ファ
イバのカットオフ波長および比屈折率差と線引張力の関
係を示す図であり、 第8図(a)は、従来技術のGeO25t02:lア、
SiO2クラッドの光ファイバの屈折率分布を示した図
であり、第8図(b)はこの光ファイバの軟化点温度分
布を示す図であり、 第9図(a) It、従来技術の5102 コア、F 
−3i O2クラッドの光ファイバの屈折率分布を示す
図であり、第9図(6)はこの光ファイバの軟化点温度
分布を示す図であり、 第10図は、従来技術のGeO2−3i 02 :’ア
、5iChクラγドの光ファイバおよびSiO□コア、
F−SiO2クラツドの光ファイバの線引張力と線引後
の各光ファイバの損失との関係を示した図であり、第1
1図はSiO□コア、F−3iO□クラツドの光ファイ
バのカットオフ波長と線引張力の関係を示した図であり
、 第12図はSiO2コア、F −3i 02クラツドの
光ファイバの比屈折率差と線引張力との関係を示す図で
ある。 (主な参照番号) 1・・コア部、   2・・クラッド部特許出願人 日
本電信電話株式会社 代 理 人 弁理士 新居止音 第1図 S;02とのレヒ屈折率杏1乙1(%)第4図 (Δ =Q27%) 線引温度(0C) 第6図 線引張力 (9) 1    510   5o 1o。 張力(9) 第8図 線引張力(9) 線引張力(9)

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)中心にコア部、その周囲に該コア部の屈折率より
    小さい屈折率を有したクラッド部が配置された石英系光
    ファイバであって、該コア部はF−P_2O_5−Si
    O_2であり、該クラッド部はF−P_2O_5−Si
    O_2またはF−SiO_2であることを特徴とする石
    英系光ファイバ。
  2. (2)該コア部のSiO_2に対する比屈折率差△、△
    =[(n_1−n_2)/n_1] (ただし、n_1:SiO_2の屈折率、n_2:コア
    の屈折率)の絶対値が0.5%以下であることを特徴と
    する特許請求の範囲第1項に記載の石英系光ファイバ。
  3. (3)該コア部と該クラッド部の間の比屈折率差が0.
    15%以上であることを特徴とする特許請求の範囲第1
    項または第2項に記載の石英系光ファイバ。
  4. (4)中心にコア部、その周囲に該コア部の屈折率より
    小さい屈折率を有したクラッド部が配置された石英系光
    ファイバであって、該コア部はP_2O_5−SiO_
    2であり、該クラッド部はP_2O_5−SiO_2、
    F−P_2O_5−SiO_2およびF−SiO_2か
    らなる群から選択した1種であることを特徴とする石英
    系光ファイバ。
  5. (5)該コア部のSiO_2に対する比屈折率差△、△
    =[(n_1−n_2)/n_1] (ただし、n_1:SiO_2の屈折率、n_2:コア
    の屈折率)の絶対値が0.5%以下であることを特徴と
    する特許請求の範囲第4項に記載の石英系光ファイバ。
  6. (6)該コア部と該クラッド部の間の比屈折率差が0.
    15%以上であることを特徴とする特許請求の範囲第4
    項または第5項に記載の石英系光ファイバ。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2003270470A (ja) * 2002-03-08 2003-09-25 Fitel Usa Corp 接続損失を減少させた分散補償ファイバ、およびそれを製造する方法
US6697562B1 (en) 1999-07-22 2004-02-24 Samsung Electronics Co., Ltd. Dispersion control fiber and method of manufacturing large size preform thereof

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