JPS63213926A - Exposure system - Google Patents
Exposure systemInfo
- Publication number
- JPS63213926A JPS63213926A JP62046782A JP4678287A JPS63213926A JP S63213926 A JPS63213926 A JP S63213926A JP 62046782 A JP62046782 A JP 62046782A JP 4678287 A JP4678287 A JP 4678287A JP S63213926 A JPS63213926 A JP S63213926A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- laser light
- exposure
- clean room
- room
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims abstract description 13
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 3
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 abstract 1
- 230000007096 poisonous effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000002341 toxic gas Substances 0.000 description 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 208000012868 Overgrowth Diseases 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 description 1
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明は、半導体集積回路の製造工程においてマスクパ
ターンを半導体ウェハに焼き付ける場合に用いられる露
光装置に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to an exposure apparatus used for printing a mask pattern onto a semiconductor wafer in the manufacturing process of semiconductor integrated circuits.
［従来の技術］
半導体集積回路の製造工程の１つであるフォトリングラ
フィ工程においては、露光装置を用いてフォトマスクの
回路パターンの半導体ウェハへの転写が行われる。近年
、半導体集積回路はますます高集積化が進み、それに伴
って露光装置の微細パターン焼き付は精度に対しても高
度なものが要求されるようになっている。[Background Art] In a photolithography process, which is one of the manufacturing processes for semiconductor integrated circuits, a circuit pattern on a photomask is transferred onto a semiconductor wafer using an exposure device. 2. Description of the Related Art In recent years, semiconductor integrated circuits have become increasingly highly integrated, and as a result, a high degree of precision has been required for the printing of fine patterns by exposure devices.
以上のような理由から、最近では短波長の光を光源とし
て用いることにより微細パターン化への対応が行われて
おり、現在では一般にＨｇ（水銀）ランプのｇ線（波長
４３６ｎｍ）やｉ線（波長３６５ｎｍ）等の紫外光が露
光装置の光源として使用されている。For the above reasons, in recent years, efforts have been made to create fine patterns by using short-wavelength light as a light source, and currently, Hg (mercury) lamps generally use g-line (wavelength 436 nm) and i-line ( Ultraviolet light having a wavelength of 365 nm is used as a light source for exposure equipment.
また、最近では、一層の集積度の向上に対応するため、
前記紫外光と比較して強度の非常に大きな紫外光を出力
するパルス発振型レーザ、特にエキシマレーザが着口さ
れるようになった。In addition, in recent years, in order to respond to the further improvement in the degree of integration,
Pulse oscillation lasers, particularly excimer lasers, that output ultraviolet light with much higher intensity than the ultraviolet light have become popular.
［発明が解決しようとする問題点］
エキシマレーザ装置は、ハロゲン及び希ガスとからなる
混合物のレーザ媒質に、放電によりエネルギーを与えて
やることによってレーザ発振する。従って、エキシマレ
ーザ装置を使用するには、ハロゲン等のガスを高圧で供
給する設備や放電に必要な高電圧を発生させる設備等が
必要となる。[Problems to be Solved by the Invention] An excimer laser device emits a laser beam by applying energy to a laser medium, which is a mixture of a halogen and a rare gas, through electric discharge. Therefore, in order to use an excimer laser device, equipment for supplying gas such as halogen at high pressure, equipment for generating high voltage necessary for discharge, etc. are required.
このため、使用ガスのガス配管系等を含めると、エキシ
マレーザ装置は全体としては相当大がかりな装置となる
。また、高圧の有毒ガスを使用するので、その安全性を
確保するのに注意を要する。さらに、エキシマレーサ詰
置は、放電に伴って発生するノイズが周囲の装置に影響
を与えるおそれがあり、また作動中あるいはメンテナン
ス時にダスト等も発生ずる。Therefore, including the gas piping system for the gas used, the excimer laser device as a whole becomes a fairly large-scale device. Also, since high-pressure toxic gas is used, care must be taken to ensure its safety. Furthermore, when excimer lasers are packed together, there is a risk that noise generated due to discharge may affect surrounding equipment, and dust is also generated during operation or maintenance.
一方、露光の行われるクリーンルームは、建設コストが
高いので、そのスペースは極力有効に使用する必要があ
る。また、クリーンルームは密閉された部屋であるから
、その安全性には細心の注意を要する。さらに、クリー
ンルーム内にはノイズに敏感な精密な装置か多数稼動し
ており、ノイズ対策にも注意を要する。加えて、クリー
ンルームは必然的にダストを嫌うものであるから、タス
トを生しる機器等は極力搬入を避けるへきである。On the other hand, since the construction cost of a clean room where exposure is performed is high, the space must be used as effectively as possible. Furthermore, since a clean room is a sealed room, great care must be taken to ensure its safety. Furthermore, there are many noise-sensitive precision devices operating inside the clean room, so careful attention must be paid to noise countermeasures. In addition, since clean rooms naturally dislike dust, equipment that generates dust should be avoided as much as possible.
かかる理由から、エキシマレーザ装置を光源としてクリ
ーンルーム等の中に露光装置の一部として設置した場合
、クリーンルーム内において所要のスペースを占有する
こと、クリーンルームに新たな危険性を生じること、ノ
イズやダストを生しること、及びメンテナンスが困難と
なること等種々の不都合が起きるという問題点があった
。For these reasons, when an excimer laser device is used as a light source and installed as part of an exposure device in a clean room, etc., it takes up a lot of space in the clean room, creates new dangers in the clean room, and causes noise and dust. However, there have been problems in that various inconveniences occur, such as overgrowth and difficulty in maintenance.
本発明は、かかる問題点を解決するためになされたもの
で、クリーンルーム等の中におけるスペース、安全性、
ノイズ、ダスト及びメンテナンス上等の問題を生じない
、すなわちクリーンルームを有効に利用することができ
る露光装置を提供することを目的とするものである。The present invention has been made to solve these problems, and it is necessary to reduce the space, safety, etc. in clean rooms, etc.
It is an object of the present invention to provide an exposure apparatus that does not cause problems such as noise, dust, and maintenance, that is, allows effective use of a clean room.
［問題点を解決するための手段］
本発明に係る露光装置は、光源としてのレーザ装置を第
一の部屋に配置するとともに、露光部を該第一の部屋と
異る第二の部屋（第一の部屋と分離した部屋）に配置し
、前記レーザ光源から出力されたレーザ光を前記露光部
に導く導光手段を備えたことにより上記問題点を解決し
たものである。[Means for Solving the Problems] In the exposure apparatus according to the present invention, a laser device as a light source is arranged in a first room, and an exposure section is arranged in a second room (a second room) different from the first room. The above-mentioned problem is solved by providing a light guide means which is placed in a room separated from the first room and which guides the laser light output from the laser light source to the exposure section.
［作用］
本発明においては、光源としてのレーザ装置を第一の部
屋に配置するとともに、露光部を該第一の部屋と異る第
二の部屋に配置し、前記レーザ光源から出力されたレー
ザ光を前記露光部に導く導光手段を備えたことにより、
クリーンルーム内には露光部のみを設置すれはよいので
、クリーンルーム内で占めるスペースは小さくて済む。[Function] In the present invention, a laser device as a light source is arranged in a first room, an exposure section is arranged in a second room different from the first room, and the laser output from the laser light source is By including a light guide means for guiding light to the exposure section,
Since it is sufficient to install only the exposure section in the clean room, the space occupied in the clean room can be small.
また、高圧の有毒ガスの配管等もクリーンルーム外部に
首かれるのて、レーザ装置に起因するクリーンルーム内
における新たな危険も生じない。さらに、レーザ光源の
発生するノイズやダスト等によるクリーンルーム内の他
の装置への影響も生じない。加えて、レーザ装置のメン
テナンスもクリーンルーム外で行えるので極めて容易と
なる。Further, since the high-pressure toxic gas piping and the like are routed outside the clean room, no new dangers arise within the clean room due to the laser device. Furthermore, noise and dust generated by the laser light source do not affect other equipment in the clean room. In addition, maintenance of the laser device can be performed outside the clean room, making it extremely easy.
［実施例コ
以下、本発明の実施例について図を参照しながら説明す
る。[Embodiments] Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
第１図は本発明の第一実施例を示す構成図である。図に
おいて、マスクないしレチクル、投影光学系、ウェハを
含む０台の露光部３１〜Ｓｏは、クリーンチャンバない
しクリーンルーム１２内に配置されている。これらの露
光部Ｓ１〜Ｓｏは、導光手段の一部としてのｎ木の光フ
ァイバ束り。FIG. 1 is a block diagram showing a first embodiment of the present invention. In the figure, zero exposure units 31 to So including masks or reticles, projection optical systems, and wafers are arranged in a clean chamber or clean room 12. These exposure sections S1 to So are bundles of n optical fibers as part of the light guiding means.
〜Ｌ、によって、クリーンルーム１２外通宜位置に設け
られたシリンドリカルレンズ１０に各々光学的に接続さ
れている。~L, and are each optically connected to the cylindrical lens 10 provided at a convenient position outside the clean room 12.
次に、クリーンルーム１２の外側には、レーザ装置２ａ
、２ｂが各々配置されており、これらのレーザ光出力側
には、固定反射ミラー４．６および点線て示すように９
０°回転可能な可動反射ミラー８が各々配置されている
。Next, a laser device 2a is installed outside the clean room 12.
, 2b are arranged respectively, and on the output side of these laser beams, there is a fixed reflection mirror 4.6 and a mirror 9 as shown by the dotted line.
A movable reflection mirror 8 that can be rotated by 0° is arranged.
レーザ装置２ａ、２ｂから出力されたレーザ光は、固定
反射ミラー４．６に各々人射し、ここで反射されて可動
反射ミラー８に入射するようになっている。The laser beams output from the laser devices 2a and 2b are incident on fixed reflection mirrors 4.6, reflected there, and incident on movable reflection mirror 8.
ここで、例えばレーザ装置２ａの出力するレーザ光をシ
リンドリカルレンズ１０に入射する場合は可動反射ミラ
ー８を図の実線の位置にし、レーザ装置２ｂの出力する
レーザ光を入射する場合は可動反射ミラー８を図の破線
の位置にすることにより、２台のレーザ装置の出力する
レーザ光を選択的に使用することができるように構成さ
れている。Here, for example, when the laser beam output from the laser device 2a is input to the cylindrical lens 10, the movable reflection mirror 8 is set to the position shown by the solid line in the figure, and when the laser beam output from the laser device 2b is input, the movable reflection mirror 8 is set to the position shown by the solid line in the figure. The structure is such that the laser beams output from the two laser devices can be selectively used by placing the laser beam at the position indicated by the broken line in the figure.
次に、上記実施例の露光装置の動作について説明する。Next, the operation of the exposure apparatus of the above embodiment will be explained.
まず、２台のレーザ装置２ａ及び２ｂのうちのいずれか
１台、例えば２ａをレーザ発振させ、図のように固定反
射ミラー４及び可動反射ミラー８でレーザ光を反射させ
、シリンドリカルレンズ１０に入射させる。このシリン
ドリカルレンズ１０によって、レーザ光はその焦点で一
方向に延びたスリット（又はシート状）断面のビームと
なる。 次に、レーザビームは、クリーンルーム１２内
において、シリンドリカルレンズ１０によって形成され
たシート状ビームの長平方向に一元的に配列され、光学
的に接続された光フアイバー束Ｌ ｔ ” Ｌ ｏの各
入射端面に入射し、それぞれの光フアイバー束によって
ｎ台の露光部３１〜Ｓｎへ送られる。First, one of the two laser devices 2a and 2b, for example 2a, is caused to emit a laser beam, and as shown in the figure, the laser beam is reflected by the fixed reflection mirror 4 and the movable reflection mirror 8, and is incident on the cylindrical lens 10. let By this cylindrical lens 10, the laser beam becomes a beam having a slit (or sheet-like) cross section extending in one direction at its focal point. Next, in the clean room 12, the laser beam is centrally arranged in the longitudinal direction of the sheet-like beam formed by the cylindrical lens 10, and is applied to each incident end surface of the optical fiber bundle Lt''Lo that is optically connected. and is sent to n exposure units 31 to Sn by respective optical fiber bundles.
以上のようにして、クリーンルーム１２外に置かれたレ
ーザ光源からクリーンルーム１２内のｎ台の露光部にレ
ーザ光が供給され、それぞれの露光部で露光操作が行わ
れることとなる。As described above, laser light is supplied from the laser light source placed outside the clean room 12 to the n exposure sections inside the clean room 12, and an exposure operation is performed in each exposure section.
次に、本発明の第二実施例について、第２図を参照しな
がら説明する。Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
第１図の実施例においては、２台のレーザ装置２ａ及び
２ｂは、可動反射ミラー８を９０°回転させることによ
って選択的に使用することができるようになっている。In the embodiment shown in FIG. 1, the two laser devices 2a and 2b can be selectively used by rotating the movable reflection mirror 8 by 90 degrees.
これに対し第２図の実施例では、３台のレーザ装置２ａ
、２ｂ、２ｃから出力されるレーザ光が交互に選択的に
使用されるようになっており、可動反射ミラー８を３個
設けることにより、レーザ装置か２台の場合と比較して
使用可能なレーザ光源が１木増えるように構成されてい
る。On the other hand, in the embodiment shown in FIG. 2, three laser devices 2a
, 2b and 2c are used alternately and selectively, and by providing three movable reflection mirrors 8, the laser beam can be used more easily than when two laser devices are used. The structure is such that the number of laser light sources increases by one.
−ＩＪＱに、上記のようなミラー系の構成によると、例
えばＮ台のレーザ装置を使用する場合、可動反射ミラー
の必要数は、両端の２台のレーザ装置以外のレーザ装置
の数に対応する数、すなわち（Ｎ−２）と、Ｎ台のレー
ザ装置の各間隔の数に対応する数すなわち（Ｎ−１）の
和であり、結局Ｎ台のレーザ装置に対して（２Ｎ−３）
個の可動反射ミラー８を設ければよいことになる。- According to the configuration of the mirror system described above in IJQ, for example, when using N laser devices, the required number of movable reflection mirrors corresponds to the number of laser devices other than the two laser devices at both ends. It is the sum of the number, that is, (N-2), and the number that corresponds to the number of each interval of N laser devices, that is, (N-1), and in the end, for N laser devices, (2N-3)
This means that it is sufficient to provide three movable reflecting mirrors 8.
＋＋４＋ＩｆＪ／ｊＦＣＴコニ＝−「ｊ、←・ｊ−１＋
、−＋１！＋１Ｉｊｌａ；、’ｒ％來ｈＬｋ／ｙ冨−１
）となる。各レーザ光源に対してｎ台の露光部を対応さ
せるとすると、全部で（Ｎ−１） ・ｎ台の露光部に
レーザ光を供給することが可能となる。++4+IfJ/jFCTconi=-"j, ←・j-1+
, -+1! +1Ijla;,'r%來hLk/y冨-1
). If n exposure units are made to correspond to each laser light source, it becomes possible to supply laser light to a total of (N-1)·n exposure units.
このような構成によると、（Ｎ−１） ・ｎ台の露光
部に対して連続的にレーザ光を供給しても、常に１台の
レーザ装置を休止することができるので、レーザ装置の
ガス、ウィンドウ、電極等の交換をする場合やトラブル
等によって、１台のレーザ装置が使用できない場合でも
、露光を中断することなく連続的に行うことが可能とな
る。以上、第１及び第２実施例においては、レーザ装置
からのパルスレーザ光は同時に複数の露光部へ送られる
。According to this configuration, even if laser light is continuously supplied to (N-1) n exposure sections, one laser device can always be stopped, so the gas of the laser device can be Even if one laser device cannot be used due to replacement of windows, electrodes, etc., or trouble, etc., exposure can be performed continuously without interruption. As described above, in the first and second embodiments, pulsed laser light from the laser device is simultaneously sent to a plurality of exposure sections.
次に、本発明の第三実施例について、第３図を用いて説
明する。Next, a third embodiment of the present invention will be described using FIG. 3.
図において、１４はポリゴンミラーであり、２台のレー
ザ装＠２ａ、２ｂのうち、例えば２ｂから出力されたレ
ーザ光は、固定反射ミラー４及び可動反射ミラー８を介
してポリゴンミラー１４に入射する。In the figure, 14 is a polygon mirror, and the laser beam outputted from, for example, 2b of the two laser devices @ 2a and 2b enters the polygon mirror 14 via the fixed reflection mirror 4 and the movable reflection mirror 8. .
そして、レーザ光は、ここで光軸の角度を変えられて一
方向に配列した光フアイバー束Ｌｌ〜Ｌｎのうちの任意
の光フアイバー束の端面に入射し、クリーンルーム１２
内の対応する露光部へ送られる。Then, the angle of the optical axis of the laser beam is changed and the laser beam enters the end face of any optical fiber bundle among the optical fiber bundles Ll to Ln arranged in one direction, and enters into the clean room 12.
The image is sent to the corresponding exposure section within.
なお、レーザ光を所定の光フアイバー束に入射させる際
には、レーザ光が各光フアイバー束に良好に入射するよ
うにポリゴンミラー１４の回転角を制御する。あるいは
公知のｆ−θレンズと組み合わせることも可能である。Incidentally, when the laser beam is made to enter a predetermined optical fiber bundle, the rotation angle of the polygon mirror 14 is controlled so that the laser beam is well incident on each optical fiber bundle. Alternatively, it is also possible to combine it with a known f-θ lens.
さらに、エキシマレーザ光はパルス発光であるため、ポ
リゴンミラーによるレーザ光の偏向とパルス発光とのタ
イミングを同期させ、発光したパルスが必ずいずれかの
光フアイバー東端面に入射するように、適当な同期手段
を設けることが望ましい。一般に、エキシマレーザ光源
は外部トリガをかけることができるので、所定の偏向角
になったことを検出してトリガをかけることにより同期
が可能となる。Furthermore, since excimer laser light is pulsed light emission, the timing of the deflection of the laser light by the polygon mirror and the pulsed light emission is synchronized, and appropriate synchronization is performed so that the emitted pulse is always incident on the east end face of one of the optical fibers. It is desirable to provide means. Generally, an excimer laser light source can be triggered externally, so synchronization is possible by detecting that a predetermined deflection angle has been reached and applying a trigger.
また、レーザ装置は、露光時のみレーザ光か得られるよ
うに、例えは露光時のみ発振するように発振制御を行な
うことが好ましい。この場合、各露光部から露光要求信
号を出力させ、それらの論理和が成立しているときのみ
、レーザ発振を行うとよい。Further, it is preferable that the laser device performs oscillation control so that laser light is obtained only during exposure, for example, so that it oscillates only during exposure. In this case, it is preferable to output an exposure request signal from each exposure section and perform laser oscillation only when the logical sum of the signals is satisfied.
ところで、本実施例ではポリゴンミラーを用いた場合を
示したが、これに限られず、例えはガルバノミラ−１振
動ミラー等を使用しても良い。By the way, although this embodiment shows a case where a polygon mirror is used, the present invention is not limited to this, and for example, a galvano mirror, a single vibrating mirror, or the like may be used.
なお、各実施例では導光手段として光ファイバーを用い
てクリーンルーム内の露光部ヘレーサ光を導入する場合
について示したが、これらを用いずに、ミラー系等のみ
によりてもクリーンルーム内の露光部ヘレーザ光を供給
することが可能であることはいうまでもない。In each of the embodiments, the case where the laser light from the exposure area in the clean room is introduced using an optical fiber as a light guiding means is shown. Needless to say, it is possible to supply
また、上記各実施例では、レーザ光源をクリーンルーム
外に設置し、露光部をクリーンルームに設置する例を示
したが、これに限定されることなく、例えばレーザ光源
をクリーンルーム内に設置した場合でも、よりクリーン
度の高いクリーンチャンバー内に露光部のみを設置する
ようにしてもよい。Further, in each of the above embodiments, an example was shown in which the laser light source is installed outside the clean room and the exposure section is installed in the clean room, but the invention is not limited to this, and even if the laser light source is installed inside the clean room, for example, Only the exposure section may be installed in a clean chamber with a higher degree of cleanliness.
［発明の効果］
本発明は以上説明した通り、光源としてのレーザ装置を
第一の部屋に配置するとともに、露光部を該第一の部屋
と異る第二の部屋に配置し、前記レーザ光源から出力さ
れたレーザ光を前記露光部に導く導光手段を備えたこと
により、露光部をコンパクトにすることができるので、
クリーンルーム等内の貴重なスペースを余分に取らない
という効果がある。[Effects of the Invention] As explained above, the present invention includes disposing a laser device as a light source in a first room, disposing an exposure section in a second room different from the first room, and disposing the laser device as a light source in a second room different from the first room. By providing a light guiding means for guiding the laser beam output from the exposure section to the exposure section, the exposure section can be made compact.
This has the effect of not taking up extra valuable space in a clean room or the like.
また、高圧の有毒ガスの配管等はクリーンルーム外部に
設置されるので、クリーンルーム等内におけるレーザ装
置に起因する新たな危険も生しないという効果がある。Furthermore, since the high-pressure toxic gas piping and the like are installed outside the clean room, there is an advantage that no new dangers due to the laser equipment inside the clean room are created.
さらに、レーザ装置の生しるノイズやダストによるクリ
ーンルーム等内への影響を防止し、メンテナンスも容易
に行えるという効果がある。Furthermore, it is possible to prevent noise and dust produced by the laser device from affecting the interior of a clean room, etc., and to facilitate maintenance.
第１図は本発明の第一実施例を示す構成図、第２図は第
二実施例の主要部を示す構成図、第３図は第三実施例を
示す構成図である。
［主要部分の符号の説明］
２ａ、２ｂ、２ｃｍ レーザー装置、４．６・・・固定
反射ミラー、８・・・可動反射ミラー、１０・・・シリ
ンドリカルレンズ、１２・・・クリーンル−ム、１４・
・・ポリゴンミラー（回中云）、Ｌｌ〜Ｌ、・・・光フ
アイバー束、Ｓ１〜Ｓ、・・・露光部FIG. 1 is a block diagram showing a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a block diagram showing main parts of a second embodiment, and FIG. 3 is a block diagram showing a third embodiment. [Description of symbols of main parts] 2a, 2b, 2cm Laser device, 4.6... Fixed reflection mirror, 8... Movable reflection mirror, 10... Cylindrical lens, 12... Clean room, 14・
...Polygon mirror (circling), Ll~L,...optical fiber bundle, S1~S,...exposure section
Claims (4)
源として使用する露光装置において、前記レーザ装置を
、第一の部屋に配置するとともに、 前記露光部を、該第一の部屋と異なる第二の部屋に配置
し、 前記レーザ光源から出力されたレーザ光を前記露光部に
導く導光手段を備えたことを特徴とする露光装置。(1) In an exposure device that uses laser light output from a laser device as a light source for an exposure section, the laser device is placed in a first room, and the exposure section is placed in a room different from the first room. An exposure apparatus, characterized in that the exposure apparatus is disposed in a second room and includes a light guide means for guiding laser light output from the laser light source to the exposure section.
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の露光装
置。(2) The exposure apparatus according to claim 1, wherein the laser device is a pulse oscillation type laser device.
ザ光が入射するシリンドリカルレンズと、これによって
集光されたレーザ光を露光部に導く光ファイバーとを含
むことを特徴とする特許請求の範囲第１項または第２項
記載の露光装置。(3) The light guide means includes a cylindrical lens into which the laser light output from the laser device enters, and an optical fiber that guides the laser light focused by the cylindrical lens to the exposure section. The exposure apparatus according to item 1 or 2.
ザ光の光軸の角度を変えて複数の露光部へ順次送る偏向
ミラーを含むことを特徴とする特許請求の範囲第１項ま
たは第２項記載の露光装置。(4) The light guide means includes a deflection mirror that changes the angle of the optical axis of the laser light output from the laser device and sequentially sends the laser light to a plurality of exposure sections. 2. Exposure apparatus according to item 2.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62046782A JPH0770459B2 (en) | 1987-03-03 | 1987-03-03 | Exposure apparatus and semiconductor manufacturing apparatus |
| US07/161,944 US4820899A (en) | 1987-03-03 | 1988-02-29 | Laser beam working system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62046782A JPH0770459B2 (en) | 1987-03-03 | 1987-03-03 | Exposure apparatus and semiconductor manufacturing apparatus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63213926A true JPS63213926A (en) | 1988-09-06 |
| JPH0770459B2 JPH0770459B2 (en) | 1995-07-31 |
Family
ID=12756899
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62046782A Expired - Lifetime JPH0770459B2 (en) | 1987-03-03 | 1987-03-03 | Exposure apparatus and semiconductor manufacturing apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0770459B2 (en) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5372575A (en) * | 1976-12-10 | 1978-06-28 | Thomson Csf | Pattern transfer optical device |
| JPS6221222A (en) * | 1985-07-19 | 1987-01-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Light-exposing device |
-
1987
- 1987-03-03 JP JP62046782A patent/JPH0770459B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5372575A (en) * | 1976-12-10 | 1978-06-28 | Thomson Csf | Pattern transfer optical device |
| JPS6221222A (en) * | 1985-07-19 | 1987-01-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Light-exposing device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0770459B2 (en) | 1995-07-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4820899A (en) | Laser beam working system | |
| US5559584A (en) | Exposure apparatus | |
| JP4322861B2 (en) | Pulse modulation apparatus and lithography apparatus | |
| US5602683A (en) | Lens system with lens elements arranged in a gas-filled holder and photolithographic apparatus including such a system | |
| JP4313785B2 (en) | Helical optical pulse stretcher | |
| KR970076080A (en) | Projection Lithography System and How to Use Optical Devices | |
| US6936825B2 (en) | Process for the decontamination of microlithographic projection exposure devices | |
| JP2006135286A (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
| JP4885158B2 (en) | Exposure drawing device | |
| US7417708B2 (en) | Extreme ultraviolet exposure apparatus and vacuum chamber | |
| KR20030038686A (en) | Optical element holding device | |
| JP3067491B2 (en) | Projection exposure equipment | |
| JP2002280651A (en) | Method and apparatus for optimizing output beam characteristic of laser | |
| JPS63213926A (en) | Exposure system | |
| KR102244638B1 (en) | Extreme ultraviolet ray generator using high harmonic wave with improved pollution prevention performance | |
| JPH11260705A (en) | Exposure apparatus | |
| JP2526983B2 (en) | Exposure equipment | |
| JPH0933852A (en) | Lighting device and projection exposure device provided with the same | |
| JP4475631B2 (en) | Proximity exposure apparatus and exposure method using this proximity exposure apparatus | |
| JP2611682B2 (en) | Semiconductor manufacturing equipment | |
| WO2013115208A1 (en) | Transmission optical system, illumination optical system, exposure device, and device manufacturing method | |
| KR100263325B1 (en) | Ligjt-exposing method | |
| JPH04250455A (en) | Arcuate illuminator | |
| JPH0519692B2 (en) | ||
| JP2005039075A (en) | Pattern drawing apparatus |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |