JPS63213848A - Original plate for waterless planographic printing plate - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/022—Quinonediazides
- G03F7/023—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、湿し水なしに印刷が可能な水なし平版印刷用
原版に関するものであり、特に耐刷力に優れた水なし平
版印刷用原版に関するものである。Detailed Description of the Invention [Industrial Application Field] The present invention relates to a waterless lithographic printing original plate that can be printed without dampening water, and in particular to a waterless lithographic printing original plate that has excellent printing durability. It concerns the original version.
「従来の技術]
水なし平版印刷とは、画線部と非画線部とを基本的にほ
ぼ同一平面に存在させ、画線部をインキ受容性、非画線
部をインキ反撥性とし、インキの付着性の差異を利用し
て、画線部のみにインキを着肉ざぜた後、紙などの被印
刷体にインキを転写して印刷をする平版印刷方法におい
て、非画線部がシリコーンゴム、含フツ素化合物などの
インキ反撥性を有する物質層からなり、湿し水を用いず
に印刷可能であるような印刷方法を意味する。ところで
、この水なし平版印刷版として実用上すぐれた性能を有
しているものとしては、インキ反撥性を有している物質
層としてシリコーンゴム層を利用したもの、例えば、ポ
ジティブワーキング用としては、特公昭54−2692
3などが、またネガティブワーキング用としては、特開
昭55−59466や特開昭56−80046などがあ
る。特に、特開昭56−80046はネガティブワーキ
ング用として実用性の高い性能を有した版材構成につい
て述べたものと言える。"Prior art" Waterless lithographic printing is basically a printing area and a non-printing area on almost the same plane, with the printing area being ink-receptive and the non-printing area being ink-repellent. In the lithographic printing method, which takes advantage of the difference in ink adhesion to apply ink only to the image area, and then transfers the ink to a printing medium such as paper, the non-image area is made of silicone. It refers to a printing method that consists of a layer of an ink-repellent material such as rubber or a fluorine-containing compound, and allows printing without using dampening water.By the way, this waterless lithographic printing plate has excellent practical properties. For example, for positive working, a silicone rubber layer is used as an ink-repellent material layer, and for example, Japanese Patent Publication No. 54-2692 is used for positive working.
3, etc., and for negative working, there are Japanese Patent Application Laid-open No. 55-59466 and Japanese Patent Application Publication No. 56-80046. In particular, Japanese Patent Application Laid-Open No. 56-80046 can be said to describe a plate construction having high practical performance for negative working.
ここに提案された印刷版は、支持体に裏打ちされた光剥
離性感光層の上にシリコーンゴム層を設けた予備増感さ
れた平版印刷版であり、該感光層としてナフトキノン−
1,2−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとフェノ
ールノボラック樹脂の部分エステル化合物を多官能イン
シアネートで架橋したものなどが開示されている。The printing plate proposed here is a presensitized lithographic printing plate in which a silicone rubber layer is provided on a photoreleasable photosensitive layer backed by a support, and the photosensitive layer is naphthoquinone-
A compound in which a partial ester compound of 1,2-diazido-5-sulfonic acid chloride and a phenol novolak resin is crosslinked with a polyfunctional incyanate has been disclosed.
これらの従来技術による水なし平版印刷版には、以下の
ような問題点があった。すなわち、感光層が比較的もろ
く硬いため、印刷時に版面に加わる応力により損傷しや
すく、印刷枚数が増えるとともに非画線部のシリコーン
ゴム層下の感光層の損傷がシリコーンゴム層にまで拡大
してしまう。その結果、該シリコーンゴム層の局部的な
脱落などが発生し、本来、非画線部であるべき部分にイ
ンキが付着するようになり、印刷物の汚れとなるなどの
印刷品質の低下をもたらす欠点があった。これらは主と
して印刷版の耐刷力の不足による。These conventional waterless planographic printing plates have the following problems. In other words, since the photosensitive layer is relatively brittle and hard, it is easily damaged by the stress applied to the plate surface during printing, and as the number of sheets printed increases, damage to the photosensitive layer under the silicone rubber layer in the non-image area spreads to the silicone rubber layer. Put it away. As a result, localized shedding of the silicone rubber layer occurs, and ink adheres to areas that should normally be non-printing areas, resulting in deterioration in printing quality such as staining of printed matter. was there. These are mainly due to the lack of printing durability of the printing plate.
[発明が解決しようとする問題点]
本発明は、上記の従来技術の欠点を解消し、耐刷力に優
れたネガティブワーキング用の水なし平版印刷用原版を
提供することにおる。[Problems to be Solved by the Invention] The object of the present invention is to eliminate the drawbacks of the above-mentioned prior art and provide a waterless lithographic printing original plate for negative working that has excellent printing durability.
[問題点を解決するための手段]
すなわち本発明は、基板上にキノンジアジド化合物を主
体とする感光層およびインキ反撥性層を順次積層してな
る水なし平版印刷版において、該感光層がアクリル酸誘
導体共重合体を含有することを特徴とする水なし平版印
刷用原版に関するものである。[Means for Solving the Problems] That is, the present invention provides a waterless lithographic printing plate in which a photosensitive layer mainly containing a quinonediazide compound and an ink repellent layer are successively laminated on a substrate, in which the photosensitive layer is made of acrylic acid. The present invention relates to a waterless lithographic printing original plate characterized by containing a derivative copolymer.
本発明の感光層に用いられるキノンジアジド化合物とし
ては、通常よく用いられるキノンジアジドスルホン酸ま
たはその誘導体と水酸基を持つ化合物(特に高分子化合
物)との反応で得られるエステル、例えば、ベンゾキノ
ン−1,2−ジアジド−4−または−5−スルホン酸と
ポリヒドロキシフェニルとのエステル、ナフトキノン−
1,2−ジアジド−4=または−5−スルホン酸とピロ
ガロールアセトン樹脂とのエステル、ナフトキノン−1
,2−ジアジド−4−または−5−スルホン酸とフェノ
ールホルムアルデヒドノボラック樹脂とのエステルなど
の公知のキノンジアジド化合物、例えば、エステル化度
が20から80%のフェノールホルムアルデヒドノボラ
ック樹脂のナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スル
ホン酸部分エステル化物などがある。また、キノンジア
ジドスルホン酸またはその誘導体を上記したノボラック
樹脂やピロガロールアセトン樹脂などと単に混合しても
よい。The quinonediazide compound used in the photosensitive layer of the present invention is an ester obtained by the reaction of commonly used quinonediazide sulfonic acid or its derivative with a compound having a hydroxyl group (particularly a polymer compound), such as benzoquinone-1,2- Esters of diazide-4- or -5-sulfonic acid and polyhydroxyphenyl, naphthoquinone-
Ester of 1,2-diazide-4= or -5-sulfonic acid and pyrogallolacetone resin, naphthoquinone-1
, 2-diazide-4- or -5-sulfonic acid with phenol-formaldehyde novolac resins, such as naphthoquinone-1,2- of phenol-formaldehyde novolac resins with a degree of esterification of 20 to 80%. Examples include partially esterified diazide-5-sulfonic acid. Alternatively, quinonediazide sulfonic acid or a derivative thereof may be simply mixed with the above-mentioned novolak resin, pyrogallol acetone resin, or the like.
本発明に用いられるアクリル酸誘導体共重合体とは、下
記の一般式(I>により示される構造を有するアクリル
酸銹導体単団体を50モル%以上含有する共重合体を意
味する。また、これらの単量体の2種類以上を混合して
もよい。The acrylic acid derivative copolymer used in the present invention refers to a copolymer containing 50 mol% or more of an acrylic acid conductor single group having a structure represented by the following general formula (I>. Two or more types of monomers may be mixed.
?
R1は水素または炭素数1から10のアルキル基を示す
。Xは、−〇−1または−NR3−(ここでR3は、H
1炭素数1から10のアルキル基、またはR2と同一)
R4はHlまたは−COXR2をそれぞれ意味する。? R1 represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. X is -〇-1 or -NR3- (here, R3 is H
an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or the same as R2)
R4 means Hl or -COXR2, respectively.
R2としては、炭素数1から30のアルキル基、アルケ
ニル基、炭素数6から30のアリール基、かう選ぶこと
ができる。例えば、メチルアクリレートまたはメチルメ
タアクリレート(以下両者をメチル(メタ)アクリレー
トと略記する。また以下の説明で***(メタ)###
は、すべて***###と***メタ###の両者を同
様に略記したものである。)、エチル(メタ)アクリレ
ート、n−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘ
キシル(メタ〉アクリレート、ラウリル(メタ)アクリ
レート、フェニル(メタ)アクリレート、ナフチル(メ
タ)アクリレート、(メタ)アクリルアミドなどや、こ
れらの誘導体などである。また、これらのR2はハロゲ
ン、水酸基、ニトロ基、アミノ基などの適当な置換基を
有していてもよい。R2 can be selected from an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group having 6 to 30 carbon atoms. For example, methyl acrylate or methyl methacrylate (both are hereinafter abbreviated as methyl (meth)acrylate. Also, in the following explanation, ***(meth)###
are the same abbreviations for both ****### and ****meta###. ), ethyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, phenyl (meth)acrylate, naphthyl (meth)acrylate, (meth)acrylamide, etc. These R2 may have a suitable substituent such as a halogen, a hydroxyl group, a nitro group, or an amino group.
特にシリコーンゴム層との接着性を保つためには、該単
量体が水酸基を含有することが好ましい。In particular, in order to maintain adhesiveness with the silicone rubber layer, it is preferable that the monomer contains a hydroxyl group.
例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、
4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2.3−
ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロ
キシエチル(メタ)アクリルアミド、トリエチレングリ
コールモノ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリ
コールモノ(メタ)アクリレート、1,3−プロパンジ
オールモノ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオ
ールモノ(メタ)アクリし〜ト、ジ(2−ヒドロキシエ
チル)マレエート、次式(II)に示す、p−ヒドロキ
シ安息香酸とグリシジルメタアクリレートとの開環反応
生成物、次式(I[I)に示す、サリチルル酸と2−ヒ
ドロキシエチルメタアクリレートとの反応生成物などで
ある。For example, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate,
4-Hydroxybutyl (meth)acrylate, 2.3-
Hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylamide, triethylene glycol mono(meth)acrylate, tetraethylene glycol mono(meth)acrylate, 1,3-propanediol mono(meth)acrylate, 1,4- Butanediol mono(meth)acrylate, di(2-hydroxyethyl)maleate, a ring-opening reaction product of p-hydroxybenzoic acid and glycidyl methacrylate shown in the following formula (II), a ring-opening reaction product of the following formula (I[ These include the reaction product of salicylic acid and 2-hydroxyethyl methacrylate shown in I).
CH3
CH2−C
C=0
CH2(II )
0−CH
CH2
CH3
CH2=C
C=O
CH2(X)
CH2
また、これらの水酸基を利用し、ナフトキノンジアジド
基を導入し感光性を付与した該単量体も用いられる。CH3 CH2-C C=0 CH2(II) 0-CH CH2 CH3 CH2=C C=O CH2(X) CH2 In addition, the monomer which utilizes these hydroxyl groups and introduces a naphthoquinonediazide group to impart photosensitivity The body is also used.
すなわち、該感光層としては、上記したアクリル酸誘導
体共重合体と公知のキノンジアジド化合物との混合物、
または、感光性を付与したアクリル酸誘導体共重合体と
公知のキノンジアジド化合物との混合物のいずれからも
選ぶことができる。That is, as the photosensitive layer, a mixture of the above-mentioned acrylic acid derivative copolymer and a known quinonediazide compound,
Alternatively, it can be selected from mixtures of acrylic acid derivative copolymers imparted with photosensitivity and known quinonediazide compounds.
上記したアクリル酸誘導体共重合体のその他の単量体成
分としては、上記した単量体成分との間で共重合し得る
ものであれば、基本的には制限を受けない。例えば、ス
チレン、アクリロニトリル、酢酸ビニル、塩化ビニル、
ブタジェンなどである。The other monomer components of the above-described acrylic acid derivative copolymer are basically not limited as long as they can be copolymerized with the above-described monomer components. For example, styrene, acrylonitrile, vinyl acetate, vinyl chloride,
Such as butadiene.
該アクリル酸誘導体共重合体の感光層中の重量分率が5
%以上であれば本発明の効果を発現するが、画像再環性
やシリコーンゴム層との接着性を損なわないようにする
ためには5%以上50%未満であることが好ましい。よ
り好ましくは10%以上30%未満である。The weight fraction of the acrylic acid derivative copolymer in the photosensitive layer is 5
% or more, the effect of the present invention is exhibited, but in order to avoid impairing image recyclability and adhesion to the silicone rubber layer, it is preferably 5% or more and less than 50%. More preferably, it is 10% or more and less than 30%.
すなわち、上記したアクリル酸誘導体共重合体以外の成
分である公知のキノンジアジド化合物などの感光層中の
重量分率が50%以上95%未満であることが好ましい
。より好ましくは70%以上90%未満である。That is, it is preferable that the weight fraction of the known quinonediazide compound, which is a component other than the above-mentioned acrylic acid derivative copolymer, in the photosensitive layer is 50% or more and less than 95%. More preferably, it is 70% or more and less than 90%.
また、本発明に適用しうる感光層としては、上記のキノ
ンジアジド化合物及びアクリル酸誘導体共重合体の混合
物を、多官能化合物で架橋せしめるか、あるいは、単官
能化合物と結合させるなどして変性した構造を有するも
のも含まれる。上記の架橋構造を導入させるために用い
られる化合物としては、多官能イソシアナート類、例え
ば、バラフェニレンジイソシアナート、4,4″〜ジフ
エニルメタンジイソシアナート、ヘキサメチレンジイン
シアナート、イソホロンジイソシアナート、もしくはこ
れらのアダクト体など、あるいは、多官能エポキシ化合
物、たとえばポリエチレングリコールジグリシジルエー
テル類、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテ
ル類、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、トリメ
チロールプロパントリグリシジルエーテルなどがある。In addition, the photosensitive layer applicable to the present invention has a structure obtained by modifying the mixture of the above-mentioned quinonediazide compound and acrylic acid derivative copolymer by crosslinking it with a polyfunctional compound or bonding it with a monofunctional compound. This also includes those with. The compounds used to introduce the above-mentioned crosslinked structure include polyfunctional isocyanates such as rosephenylene diisocyanate, 4,4''-diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diinocyanate, isophorone diisocyanate, and adducts thereof, and polyfunctional epoxy compounds such as polyethylene glycol diglycidyl ethers, polypropylene glycol diglycidyl ethers, bisphenol A diglycidyl ether, and trimethylolpropane triglycidyl ether.
これらの架橋反応は、加熱することにより進行するが、
この加熱範囲は、キノンジアジド化合物の熱分解を急速
に進行させないためには、通常150℃以下で行なうこ
とが好ましく、一般には触媒などが併用される。また、
変性せしめる方法としては、該感光性化合物の活性な基
を、例えば、エステル化、アミド化、ウレタン化するこ
となどがあげられる。該感光性化合物の活性な基と反応
させる化合物としては、低分子であっても比較的高分子
であっても良いし、該感光性化合物にモノマーをグラフ
ト重合させるなどの方法でもよい。These crosslinking reactions proceed by heating,
In order to prevent rapid thermal decomposition of the quinone diazide compound, the heating range is preferably 150° C. or lower, and a catalyst or the like is generally used in combination. Also,
Examples of the modification method include esterification, amidation, and urethanization of the active group of the photosensitive compound. The compound reacted with the active group of the photosensitive compound may be a low-molecular compound or a relatively high-molecular compound, and a method such as graft polymerization of a monomer to the photosensitive compound may be used.
本発明で用いられる感光層の厚さは、約0.1から10
0ミクロン、好ましくは、約0.5から10ミクロンが
適当である。また、本発明で用いられる感光層中には、
本発明の効果を損なわない範囲で、塗膜形成性向上や、
支持体との接着性向上などの目的で、上記以外の成分を
加えたりまた現像時あるいは、露光時に像を可視化する
ために染料などを加えたりすることも可能でおる。The thickness of the photosensitive layer used in the present invention is about 0.1 to 10
0 microns, preferably about 0.5 to 10 microns is suitable. In addition, in the photosensitive layer used in the present invention,
Improving coating film forming properties within a range that does not impair the effects of the present invention,
It is also possible to add components other than those mentioned above for the purpose of improving adhesion to the support, or to add a dye or the like to make the image visible during development or exposure.
本発明に用いられるインキ反撥性層としては、シリコー
ンゴム、含フツ素化合物(例えば分子中にフッ素を有す
るゴムなど)が挙げられるが、特にシリコーンゴムが好
ましく用いられる。このようなシリコーンゴム層は、線
状ポリジオルガノシロキサンに、必要に応じて架橋剤及
び触媒を添加したシリコーンガム組成物を適当な溶媒で
稀釈したものを、該感光層上に塗布し、加熱乾燥し硬化
させることにより形成される。ここで言う線状ポリジオ
ルガノシロキサンは、下記の一般式で示されるような繰
り返し単位を有するポリマーで、RおよびR′は炭素数
1から10のアルキル、アルケニル、炭素数6から10
のアリール基であり、それらは他の適当な置換基を有し
ていてもよい。Examples of the ink-repellent layer used in the present invention include silicone rubber and fluorine-containing compounds (for example, rubbers containing fluorine in the molecule), and silicone rubber is particularly preferably used. Such a silicone rubber layer is prepared by diluting a silicone gum composition made of linear polydiorganosiloxane with a crosslinking agent and a catalyst added as necessary in an appropriate solvent, and applying it onto the photosensitive layer and drying it by heating. It is formed by hardening. The linear polydiorganosiloxane referred to here is a polymer having repeating units as shown by the general formula below, where R and R' are alkyl or alkenyl having 1 to 10 carbon atoms, or 6 to 10 carbon atoms.
aryl groups, which may have other suitable substituents.
またポリマー主鎖にそって、繰り返し単位が異なっても
良い。一般的には、RおよびR−の60%以上がメチル
基であり、40%以下がビニル基、フェニル基、あるい
はハロゲン化フェニル基などであるものが好ましい。Further, the repeating units may be different along the polymer main chain. Generally, it is preferable that 60% or more of R and R- are methyl groups, and 40% or less are vinyl groups, phenyl groups, or halogenated phenyl groups.
このような線状ポリジオルガノシロキサンは、たとえば
有機過酸化物の添加などにより強固に架橋させることが
できるが、本発明の目的を有利に遂行するには縮合型の
架橋を行なわせるのが好ましい。なかでも、両末端が水
酸基の線状ポリジオルガノシロキサン(数平均分子量5
,000から1.00o、ooo >に、縮合型の架橋
剤、またはその縮合物を添加して縮合架橋せしめるよう
にするのが有利である。ここで述べた縮合型の架橋剤と
しては次の一般式で示されるようなものが好ましい。Such a linear polydiorganosiloxane can be strongly crosslinked, for example, by adding an organic peroxide, but in order to advantageously achieve the object of the present invention, it is preferable to carry out condensation type crosslinking. Among them, linear polydiorganosiloxane with hydroxyl groups at both ends (number average molecular weight 5
,000 to 1.00o, ooo >, it is advantageous to add a condensation type crosslinking agent or a condensate thereof to effect condensation crosslinking. As the condensation type crosslinking agent mentioned here, those represented by the following general formula are preferred.
Rm−3i−xn
(m+n=4.nは2以上の整数)
ここでRは先に説明したRと同じ意味であり、Xは次に
示すような置換基である。Rm-3i-xn (m+n=4.n is an integer of 2 or more) where R has the same meaning as R described above, and X is a substituent as shown below.
■CI、Br、Iなとのハロゲン
■Hまたは0)−1,0CORt 、OR2゜などの有
機置換基。■Halogen such as CI, Br, I, etc. ■Organic substituents such as H or 0)-1,0CORt, OR2°.
ここでR1,R2,R3,R4,R5,Reは炭素数1
から10のアルキル基または置換アルキル基またはフェ
ニル基または置換フェニル基を示す。R7は3から10
の置換もしくは非置換のアルキレン基を示す。このよう
な縮合型の架橋を行なうシリコーンガム組成物には反応
促進の目的で、錫、亜鉛、鉛、カルシウム、マンガンな
どの金属の有機カルボン酸塩、たとえばラウリン酸ジブ
チルスズ、オクチル酸鉛、ナフテン酸鉛なと、あるいは
塩化白金酸のような触媒を添加してもよい。Here, R1, R2, R3, R4, R5, Re have 1 carbon number
10 represents an alkyl group, a substituted alkyl group, a phenyl group, or a substituted phenyl group. R7 is 3 to 10
represents a substituted or unsubstituted alkylene group. Silicone gum compositions that perform such condensation-type crosslinking contain organic carboxylates of metals such as tin, zinc, lead, calcium, and manganese, such as dibutyltin laurate, lead octylate, and naphthenic acid, for the purpose of accelerating the reaction. A catalyst such as lead or chloroplatinic acid may be added.
本発明において用いられるシリコーンガム組成物の好ま
しい組成比は次のようなものである。The preferred composition ratio of the silicone gum composition used in the present invention is as follows.
■線状ポリジオルガノシロキサン
(数平均分子量5 、000からi、ooo、ooo
>100重量部
■縮合型架橋剤 3から70重量部■触媒
Oから10重量部上記のシリコーン
ガム組成物の溶媒としては、パラフィン系炭化水素、イ
ソパラフィン系炭化水素、シクロパラフィン系炭化水素
および芳香族炭化水素、ざらには、これらの混合物など
が有利に用いられる。このような炭化水素類の代表的な
例としては、石油の分沼品やその改質量な、どがある。■Linear polydiorganosiloxane (number average molecular weight from 5,000 to i, ooo, ooo
>100 parts by weight ■ Condensation type crosslinking agent 3 to 70 parts by weight ■ Catalyst
10 parts by weight of O As the solvent for the above silicone gum composition, paraffinic hydrocarbons, isoparaffinic hydrocarbons, cycloparaffinic hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, and mixtures thereof are advantageously used. . Typical examples of such hydrocarbons include swamped petroleum products and modified amounts thereof.
本発明に用いられるシリコーンゴム層の厚さは耐刷力お
よびインキ反撥性をある程度以上に保ちかつ良好な現像
性を維持する点から、約0.5から約100ミクロン、
より好ましくは約0.5から約10ミクロンがよい。The thickness of the silicone rubber layer used in the present invention is approximately 0.5 to approximately 100 microns, in order to maintain printing durability and ink repellency above a certain level and maintain good developability.
More preferably from about 0.5 to about 10 microns.
本発明に用いられる水なし平版印刷版において基板と感
光層、感光層とシリコーンゴム層との間の接着は、画像
再現性や耐刷力などの基本的な版性能にとり、極めて重
要であるので、必要に応じて、各層間に接着剤層を設け
たり、各層に接着改良成分を添加したりすることが可能
である。特に感光層とシリコーンゴム層間の接着のため
に、層間に公知のシリコーンプライマーやシランカップ
リング剤層を設けたり、シリコーンゴム層あるいは感光
層にシリコーンプライマーやシランカップリング剤を添
加すると効果的である。In the waterless lithographic printing plate used in the present invention, the adhesion between the substrate and the photosensitive layer, and between the photosensitive layer and the silicone rubber layer is extremely important for basic plate performance such as image reproducibility and printing durability. If necessary, it is possible to provide an adhesive layer between each layer or add an adhesion improving component to each layer. In particular, for adhesion between the photosensitive layer and the silicone rubber layer, it is effective to provide a known silicone primer or silane coupling agent layer between the layers, or to add a silicone primer or silane coupling agent to the silicone rubber layer or photosensitive layer. .
本発明に用いられる平版印刷版の基板としては、通常の
平版印刷機に取り付けられるたわみ性と印刷時に加わる
荷重に耐えうるちのでなければならない。代表的なもの
としては、アルミ、銅、鉄などの金属板、ポリエステル
フィルムやポリプロピレンフィルムなどのプラスチック
フィルムあるいはコート紙、ゴムなどが挙げられる。The substrate of the lithographic printing plate used in the present invention must be flexible enough to be attached to a normal lithographic printing machine and must be able to withstand the load applied during printing. Typical examples include metal plates such as aluminum, copper, and iron, plastic films such as polyester films and polypropylene films, coated paper, and rubber.
該基板は、これらが複合されたものであってもよい。ま
た、これらの基板上にハレーションなどを防止する目的
で、ざらにコーティングなどを施して基板とすることも
可能である。The substrate may be a composite of these. Further, it is also possible to provide a rough coating or the like on these substrates for the purpose of preventing halation or the like.
以上説明したようにして構成された水なし平版印刷版の
シリコーンゴム層の表面には、本発明の効果を損わない
範囲で、シリコーンゴム層を保護するなどの目的で保護
フィルムをラミネートすることも可能である。A protective film may be laminated on the surface of the silicone rubber layer of the waterless lithographic printing plate constructed as described above for the purpose of protecting the silicone rubber layer to the extent that the effects of the present invention are not impaired. is also possible.
以上説明したような構成を持つ水なし平版印刷版は、一
般に用いられるコーティングの手法によって製造される
。A waterless lithographic printing plate having the configuration as described above is manufactured by a commonly used coating method.
次に水なし平版印刷版の露光現像工程について説明する
。上記の水なし平版印刷版は、例えば真空密着されたネ
ガフィルムを通して通常の光源により露光される。この
通常の露光工程で用いられる光源としては、例えば高圧
水銀灯、カーボンアーク灯、キセノンランプ、メタルハ
ライドランプ、蛍光灯などがある。このような通常の露
光を行なった後、版面を現像液を含んだ現像用パッドで
こすると、露光部のシリコーンゴム層が除去され、イン
キ受容部が露出する。該感光層が架橋されたり、変性さ
れたりしていない場合、その膜厚の一部もしくは全部が
現像処理過程において脱落し、現像処理の後、露出した
表面がインキ受容部となる。また、架橋されたり、変性
されたりすることにより現像液に対して不溶化させられ
た感光層の場合は、実質的にその厚みを減することなく
残存し、その露出した感光層表面がインキ受容部となる
。Next, the exposure and development process of a waterless lithographic printing plate will be explained. The waterless lithographic printing plates described above are exposed to light by a conventional light source, for example through a vacuum sealed negative film. Examples of light sources used in this normal exposure process include high-pressure mercury lamps, carbon arc lamps, xenon lamps, metal halide lamps, and fluorescent lamps. After such normal exposure, when the plate surface is rubbed with a developing pad containing a developer, the silicone rubber layer in the exposed area is removed and the ink receiving area is exposed. If the photosensitive layer is not crosslinked or modified, part or all of its thickness will fall off during the development process, and the exposed surface will become an ink receiving area after the development process. In addition, in the case of a photosensitive layer that has been made insoluble in a developer by crosslinking or modification, it remains without substantially reducing its thickness, and the exposed surface of the photosensitive layer becomes an ink receiving area. becomes.
[実施例コ
実施例1.比較例1
住友金属■製、化成処理アルミ板(厚さ0.3mm)に
、下記の感光層組成物(但し下記共重合体(b)の添加
部数は表1のごとく変更)を回転塗布し、120℃、2
分間加熱処理して、厚さ3゜5ミクロンの感光層を設け
た。[Example 1. Comparative Example 1 The following photosensitive layer composition (however, the number of added parts of copolymer (b) below was changed as shown in Table 1) was spin-coated on a chemical conversion treated aluminum plate (thickness 0.3 mm) manufactured by Sumitomo Metal ■. , 120℃, 2
A photosensitive layer having a thickness of 3.5 microns was formed by heat treatment for minutes.
(a)エステル化度44%のフェノールノボラック樹脂
(スミライトレジンPR50235,住友デュレス製)
のナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルボン酸エ
ステル(以下ODAという)100重量部
(b)2−ヒドロキシエチルメタクリレート/2−エチ
ルへキシルメタクリレート共重合体[組成比:80/2
0(モル比)、重量平均分子量125,000 ]
(以下共重合体1という)(c)4.4−ジフェニルメ
タンジイソシアナート
20重量部
(d)ジブチル錫ジラウレート
0.2重量部
(e)エチルセロソルブアセテート
2000重量部
続いて、この上に下記の組成のシリコーンゴム組成物を
回転塗布後、120℃、2分で加熱硬化して、厚さ2.
2ミクロンのシリコーンガム層を設けた。(a) Phenol novolak resin with a degree of esterification of 44% (Sumilight Resin PR50235, manufactured by Sumitomo Duress)
100 parts by weight of naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid ester (hereinafter referred to as ODA) (b) 2-hydroxyethyl methacrylate/2-ethylhexyl methacrylate copolymer [composition ratio: 80/2
0 (molar ratio), weight average molecular weight 125,000]
(hereinafter referred to as copolymer 1) (c) 20 parts by weight of 4.4-diphenylmethane diisocyanate (d) 0.2 parts by weight of dibutyltin dilaurate (e) 2000 parts by weight of ethyl cellosolve acetate. After spin-coating a silicone rubber composition of the composition, it was cured by heating at 120°C for 2 minutes to a thickness of 2.
A 2 micron layer of silicone gum was applied.
(a)両末端OHのポリジメチルシロキサン(分子量:
40,000) 100重量部(b)ビニル
トリス(メチルエチルケトキシム)シラン
8重量部(C)γ−アミノプロピルトリエ
トキシシラン0.1重量部
(d)ジブチル錫ジアセテート
0.2重量部
(e)アイソパーE(エツソ■製)
1800重量部
上記のようにして得られた印刷原版に150線/インチ
の網点画像を持つネガフィルムを真空密着し、メタルハ
ライドランプ(アイドルフィン2000.2腑、岩崎電
気■製)を用いて1mの距離から60秒露光した。現像
液(アイソパーE/エタノール−9/1;重量比)に約
1分間浸漬し、現像パッドで軽くこすると、露光部のシ
リコーンゴム層のみが除去され、ネガフィルムの画像を
忠実に再現した感光層の露出した印刷版が得られた。(a) Polydimethylsiloxane with OH at both ends (molecular weight:
40,000) 100 parts by weight (b) Vinyltris(methylethylketoxime)silane
8 parts by weight (C) 0.1 parts by weight of γ-aminopropyltriethoxysilane (d) 0.2 parts by weight of dibutyltin diacetate (e) 1800 parts by weight of Isopar E (manufactured by Etsuso ■) Obtained as above A negative film having a halftone dot image of 150 lines/inch was vacuum-adhered to the original printing plate, and exposed for 60 seconds from a distance of 1 m using a metal halide lamp (Idol Fin 2000.2, manufactured by Iwasaki Electric). When immersed in a developer (Isopar E/Ethanol - 9/1; weight ratio) for about 1 minute and rubbed lightly with a developing pad, only the silicone rubber layer in the exposed areas is removed, resulting in a photosensitive film that faithfully reproduces the image of the negative film. A printing plate with exposed layers was obtained.
これらの印刷版を用いて、以下の条件で強制耐刷力試験
を行ない、結果(印刷物のインキ汚れ状況を目視で判定
し、○:汚れなし、X:汚れあり)を表1に示した。Using these printing plates, a forced printing durability test was conducted under the following conditions, and the results are shown in Table 1 (the ink stain status of the printed matter was visually judged, ○: no stain, X: stain).
印刷条件
印刷機:ハマダスター700直刷改造機印 圧二アンダ
ーレイ500μ
インキ:大阪インキ製
”OPIプロセスtJNアイ″
また、網点再現性(○:良好、△ニヤや悪い、X:悪い
(実用性なし))を同時に示した。表1から明らかなご
とく、アクリル酸誘導体共重合体を添加したことにより
、明らかに印刷版の耐刷力の向上が見られた。Printing conditions Printing machine: Hamada Star 700 direct printing modified machine Printing Pressure underlay 500μ Ink: “OPI Process tJN Eye” manufactured by Osaka Ink In addition, halftone reproducibility (○: good, △ smear/bad, X: bad (practical) (no sex)) was shown at the same time. As is clear from Table 1, the addition of the acrylic acid derivative copolymer clearly improved the printing durability of the printing plate.
実施例2
実施例1で記載された感光層において上記した2−ヒド
ロキシエチルメタクリレート/2−エチルへキシルメタ
クリレート共重合体の代りに、アクリル酸トリエチレン
グリコールモノエステルとラウリルメタクリレートの共
重合体[組成比: 75/25(モル比〉、重量平均
分子m 9,000] (以下共重合体2という)を
用いた以外同様の構成の平版印刷版を作成し、実施例1
と同様の条件で強制耐刷力試験を行ない、結果を表2に
示した。Example 2 In the photosensitive layer described in Example 1, a copolymer of triethylene glycol acrylate and lauryl methacrylate [composition Ratio: 75/25 (molar ratio>, weight average molecule m 9,000) A lithographic printing plate having the same structure except that it used (hereinafter referred to as copolymer 2) was prepared, and Example 1 was prepared.
A forced printing durability test was conducted under the same conditions as above, and the results are shown in Table 2.
表2から明らかなごとく、アクリル酸誘導体共重合体を
添加したことにより、明らかに印刷版の耐刷力の向上が
見られた。As is clear from Table 2, the addition of the acrylic acid derivative copolymer clearly improved the printing durability of the printing plates.
実施例3
住友金属製の化成処理アルミ板(厚さ0.311110
)に、下記の組成の感光層組成物を回転塗布し、120
℃で2分間加熱処理して厚さ3.8ミクロンの感光層を
設けた。Example 3 Chemical conversion treated aluminum plate manufactured by Sumitomo Metals (thickness 0.311110
) was spin-coated with a photosensitive layer composition having the following composition, and
A photosensitive layer having a thickness of 3.8 microns was formed by heat treatment at .degree. C. for 2 minutes.
(a)エステル化度44%のフェノールノボラック樹脂
(スミライトレジンPR50235、住友デュレス製)
のナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エ
ステル
100重量部
(b)2−ヒドロキシエチルメタクリレート/2−エチ
ルへキシルメタクリレート共重合体[組成比;80/2
0(モル比)、@量平均分子量125,000 ]
添加部数は表3参照
(C)ジオキサン
1500重量部
続いて、この上に下記の組成のシリコーンゴム組成物を
回転塗布後、120℃で2分間加熱硬化させて、厚さ3
ミクロンのシリコーンガム層を設けた。(a) Phenol novolak resin with a degree of esterification of 44% (Sumilight Resin PR50235, manufactured by Sumitomo Duress)
100 parts by weight of naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid ester (b) 2-hydroxyethyl methacrylate/2-ethylhexyl methacrylate copolymer [composition ratio: 80/2
0 (molar ratio), @weight average molecular weight 125,000] See Table 3 for the number of parts added. Heat and harden for 3 minutes to a thickness of 3.
A micron silicone gum layer was provided.
(a)両末端OHのポリジメチルシロキサン(分子量:
80,000> 100重量部(b)ビニル
トリス(メチルエチルケトキシム)シラン
6重量部(C)ジブチル錫ジアセテート
0.2重量部
(d)ジ−n−ブトキシビス(アセチルアセトナート)
チタン 2重量部このようにして得ら
れた印刷原版を用いて、実施例1と同様の露光現像を行
ない、印刷版とした後、実施例1と同様に耐刷力試験を
行なった結果、アクリル酸誘導体共重合体を添加したこ
とにより、明らかに印刷版の耐刷力の向上が見られた。(a) Polydimethylsiloxane with OH at both ends (molecular weight:
80,000> 100 parts by weight (b) Vinyl tris(methyl ethyl ketoxime) silane
6 parts by weight (C) 0.2 parts by weight of dibutyltin diacetate (d) Di-n-butoxybis(acetylacetonate)
Titanium 2 parts by weight Using the printing original plate thus obtained, the printing plate was subjected to exposure and development in the same manner as in Example 1, and then a printing durability test was conducted in the same manner as in Example 1. As a result, acrylic The addition of the acid derivative copolymer clearly improved the printing durability of the printing plate.
[発明の効果]
本発明により、水なし平版印刷版の感光層の柔軟性、可
撓性を向上させることができるため、印刷版の耐刷力を
向上させることができる。[Effects of the Invention] According to the present invention, the flexibility and flexibility of the photosensitive layer of a waterless lithographic printing plate can be improved, so that the printing durability of the printing plate can be improved.
表 1
■感光層組成(乾燥塗膜形成1)
QDA/共重合体1/4.4′−ジフェニルメタンジイ
ンシアナート/ジプチル錫ジラウレート
両者合わせて83.2/ 16.6
10.2[重量%]
表 2
表 3
■感光層組成(乾燥塗膜形成侵)
ODA/共重合体1Table 1 ■Photosensitive layer composition (dry coating film formation 1) QDA/copolymer 1/4.4'-diphenylmethane diincyanate/diptyltin dilaurate 83.2/16.6
10.2 [wt%] Table 2 Table 3 ■Photosensitive layer composition (dry film formation attack) ODA/Copolymer 1
Claims (1)
びインキ反撥性層を順次積層してなる水なし平版印刷版
において、該感光層がアクリル酸誘導体共重合体を含有
することを特徴とする水なし平版印刷用原版。A waterless planographic printing plate comprising a photosensitive layer mainly containing a quinone diazide compound and an ink repellent layer sequentially laminated on a substrate, wherein the photosensitive layer contains an acrylic acid derivative copolymer. Original plate for printing.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4731687A JP2507395B2 (en) | 1987-03-02 | 1987-03-02 | Waterless planographic printing plate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4731687A JP2507395B2 (en) | 1987-03-02 | 1987-03-02 | Waterless planographic printing plate |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63213848A true JPS63213848A (en) | 1988-09-06 |
JP2507395B2 JP2507395B2 (en) | 1996-06-12 |
Family
ID=12771880
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4731687A Expired - Lifetime JP2507395B2 (en) | 1987-03-02 | 1987-03-02 | Waterless planographic printing plate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2507395B2 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0362778A2 (en) * | 1988-10-03 | 1990-04-11 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photosensitive composition |
JPH02282257A (en) * | 1989-04-24 | 1990-11-19 | Mitsubishi Kasei Corp | Damping-waterless photosensitive planographic printing plate |
-
1987
- 1987-03-02 JP JP4731687A patent/JP2507395B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0362778A2 (en) * | 1988-10-03 | 1990-04-11 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photosensitive composition |
JPH02282257A (en) * | 1989-04-24 | 1990-11-19 | Mitsubishi Kasei Corp | Damping-waterless photosensitive planographic printing plate |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2507395B2 (en) | 1996-06-12 |
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