JPS63213692A - Production of forming die - Google Patents

Production of forming die

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Publication number
JPS63213692A
JPS63213692A JP2941488A JP2941488A JPS63213692A JP S63213692 A JPS63213692 A JP S63213692A JP 2941488 A JP2941488 A JP 2941488A JP 2941488 A JP2941488 A JP 2941488A JP S63213692 A JPS63213692 A JP S63213692A
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JP
Japan
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mandrel
electroforming
holes
mold body
electrocasting
Prior art date
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Application number
JP2941488A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasuyoshi Noda
泰義 野田
Yasuo Usami
宇佐見 康夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KTX Corp
Original Assignee
KTX Corp
Konan Tokushu Sangyo Co Ltd
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Publication date
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  • Mounting, Exchange, And Manufacturing Of Dies (AREA)

Abstract

PURPOSE:To easily obtain the title porous forming die, by growing a minute nonconductive part generated at the initial stage of electrocasting under specified conditions in a main die body to be formed on the surface of a mandrel by electrocasting, and allowing the part to penetrate the die to provide many through holes. CONSTITUTION:Many minute nonconductive parts are provided on the surface of an electrically conductive layer 8 furnished on the surface of the mandrel 5. Besides, the mandrel 5 is stopped at the initial stage of electrocasting, and an electrolyte contg. no surfactant is used. Electrocasting is carried out by using the electrolyte to grow an electrocast layer 9 on the surface of the mandrel 5, and the main die body 1 is formed. A minute part not to be electrodeposited is generated on the nonconductive part at the initial stage of electrocasting. The part not to be electrodeposited is grown with the progress of electrocasting, and allowed to penetrate the die. Many through holes 2 are formed in the die 1.

Description

【発明の詳細な説明】 発明の目的 (産業上の利用分野) この発明は電鋳法によって形成される多孔質の成形用金
型の製造方法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Object of the Invention (Field of Industrial Application) The present invention relates to a method for manufacturing a porous molding die formed by electroforming.

(従来の技術及び発明が解決しようとする課題)従来、
真空成形等を行なうための多孔質の金型を形成するには
、溶射法により金型を成形して自然に多孔質にしたり、
合成樹脂材料に混水させて金型を成形したのち脱水して
多孔質にする方法が採用されていた。
(Prior art and problems to be solved by the invention) Conventionally,
In order to form porous molds for vacuum forming, etc., the molds are molded using a thermal spraying method to make them naturally porous.
The method used was to mix water with a synthetic resin material, form a mold, and then dehydrate it to make it porous.

しかし、これらの方法では孔が細か過ぎて真空成形時に
真空吸入を行いにくい上、孔が貫通的にならずに詰り易
く、孔の掃除も困難であった。
However, in these methods, the holes are too small to perform vacuum suction during vacuum forming, and the holes are not penetrating and are easily clogged, making cleaning the holes difficult.

また、メッキの応用技術である電鋳法によって金型を成
形する方法も採用されていた。この電鋳法について以下
略述する。
Another method used was to form molds using electroforming, which is an applied technology for plating. This electroforming method will be briefly described below.

■ まず、電鋳が施される模型(以下、マンドレルとい
う)に導電性付与塗膜、例えばペース−ト試録ラッカー
と酢酸ブチル溶液とを混合したスプレー液を噴射して、
マンドレルに導電性を付与する。
■ First, a spray solution containing a mixture of paste sample lacquer and butyl acetate solution is sprayed onto the model to be electroformed (hereinafter referred to as the mandrel).
Gives conductivity to the mandrel.

■ 次に、純水に塩酸と塩化第1スズとを混入形成した
前処理液を前記マンドレルにはけ等で塗布し、マンドレ
ルの表面を活性化させてピンホールの発生を防止するた
めの前処理を行う。
■ Next, a pretreatment solution made by mixing hydrochloric acid and stannous chloride in pure water is applied to the mandrel with a brush, etc., to activate the surface of the mandrel and prevent the formation of pinholes. Perform processing.

■ 次に、電鋳を行う。その電解液には、スルファミン
酸ニッケル液と硼酸とを混合した俊、界面活性添加剤と
して例えば少量のラウリル硫酸ナトリウムを添加したも
のを用いる。このラウリル硫酸ナトリウムは電鋳加工時
において、マンドレルの表面上の電鋳層にピンホールが
発生することを防止するものである。
■ Next, perform electroforming. The electrolytic solution used is a mixture of nickel sulfamate solution and boric acid, to which a small amount of sodium lauryl sulfate, for example, is added as a surface active additive. This sodium lauryl sulfate prevents pinholes from forming in the electroformed layer on the surface of the mandrel during electroforming.

電解液槽内に貯留した前記電解液中に電鋳材料及びマン
ドレルを浸し、電解液を循環させるとともに、カソード
ロッカーを作動させてマンドレルを電解液中で移動させ
ながら、電鋳材料とマンドレルとの間にマンドレルの面
f 100cm”について0.6Aの電流を3〜4時間
流して、マンドレルの表面全体に電鋳層を薄く電着させ
る。
The electroformed material and the mandrel are immersed in the electrolyte stored in the electrolyte tank, the electrolyte is circulated, and the cathode rocker is operated to move the mandrel in the electrolyte. In the meantime, a current of 0.6 A is passed for 3 to 4 hours per surface f 100 cm'' of the mandrel to electrodeposit a thin electroformed layer over the entire surface of the mandrel.

電鋳層が薄く電着されたのを確認した後、電流をマンド
レルの面積100CI112−あたり1〜2Aに変換し
、電鋳層が平滑になるように電鋳加工を続けて所望の形
状に仕上げ、さらにマンドレルと′F!R層とを分離し
て金型本体を形成する。
After confirming that the electroformed layer is thinly electrodeposited, the current is converted to 1 to 2 A per 100 CI112- of the mandrel area, and electroforming is continued to make the electroformed layer smooth and finished into the desired shape. , and more mandrel and 'F! The R layer is separated to form a mold body.

■ 前記のようにして形成した金型本体に、先端の直径
が0.3++onの錐、またはレーザー光線によって多
数個の小孔を透設することにより多孔質の金型が完成す
る。
(2) A porous mold is completed by making a large number of small holes in the mold body formed as described above using a cone with a tip diameter of 0.3++ on or a laser beam.

しかし、上記のような電鋳法による金型においても、多
数個の小孔を形成する作業が非常に煩雑であるばかりで
なく、!2雑な形状の金型の場合、場所によっては孔を
透設することができないという問題点があった。
However, even in the electroforming mold as described above, the work of forming a large number of small holes is not only very complicated, but also! 2. In the case of a mold having an irregular shape, there is a problem in that holes cannot be made through the mold depending on the location.

この発明は前記問題点を解消するためになされたもので
あって、その目的は真空吸入等が行い易く、かつ通孔が
詰ることが少なくて通孔内の掃除を簡単に行うことがで
き、さらには製造が容易な成形用金型の製造方法を提供
することにある。
This invention was made in order to solve the above-mentioned problems, and its purpose is to facilitate vacuum suction, etc., and to make it possible to easily clean the inside of the through hole because it is less likely to be clogged. Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a molding die that is easy to manufacture.

発明の構成 (課題を解決するための手段) この発明は上述した目的を達成するために、マンドレル
の表面に導電層を設けるとともに、同導電層の表面に多
数の微小な非導電部を設け、界面活性添加剤を含有しな
い電解液内において少なくとも電鋳の初期に停止状態と
したマンドレルの表面に電鋳を行うことにより金型本体
を形成するとともに、同電鋳の初期に前記非導電部に微
小な非電着部を発生させ、電鋳の進行とともに同非電着
部を成長させることにより貫通させて金型本体に多数の
通孔を形成するという手段を採った。
Structure of the Invention (Means for Solving the Problem) In order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides a conductive layer on the surface of the mandrel, and provides a large number of minute non-conductive parts on the surface of the conductive layer. The mold body is formed by performing electroforming on the surface of the mandrel that is in a stopped state at least in the initial stage of electroforming in an electrolytic solution that does not contain surfactant additives. A method was adopted in which minute non-electrodeposited portions were generated, and as electroforming progressed, the non-electrodeposition portions were allowed to grow and pass through to form a large number of through holes in the mold body.

すなわち、従来の電鋳技術において、ピンホールは不規
則かつ不安定に発生するものであり、しかも表面に大き
く表れるため、もつとも避けなければならない欠陥と考
えられてきた。
That is, in conventional electroforming technology, pinholes occur irregularly and unstablely, and moreover, they appear largely on the surface, so they have been considered to be defects that must be avoided.

これに対し、本発明では電鋳の初期に発生させた微小な
非電着部を同電鋳時に成長させることにより貫通させて
、ピンホールではなく、真空吸入等に使用できる微小な
通孔としたものであり、まさに逆転の発想よりなる画期
的な金型の製法といえるものである。
In contrast, in the present invention, the minute non-electrodeposited portions generated at the initial stage of electroforming are allowed to grow during the same electroforming process, and are made to penetrate through the holes, creating minute holes that can be used for vacuum suction, etc., instead of pinholes. This can be said to be a revolutionary mold manufacturing method based on a completely reversible idea.

(作用) 前記通孔は微小な非電着部を成長させることにより貫通
させたものであることから、真空吸入等における気流抵
抗が低く、かつ通孔が詰ることも少ない。また、同通孔
は電鋳と同時に形成されたものであるから、電鋳後に通
孔の形成工程を行う必要もない。
(Function) Since the through holes are formed by growing minute non-electrodeposited portions, airflow resistance during vacuum suction, etc. is low, and the through holes are less likely to be clogged. Further, since the through holes are formed at the same time as electroforming, there is no need to perform a through hole forming step after electroforming.

特に、導電層には導電部のみならず、微小な非導電部が
形成されるため、この非導電部には電鋳の初期において
電鋳材料が電着しにくく、微小な非電着部の発生に寄与
し、マンドレルの表面に通孔が形成され易くなる。
In particular, since not only conductive parts but also minute non-conductive parts are formed in the conductive layer, it is difficult for the electroforming material to electrodeposit on these non-conductive parts at the initial stage of electroforming, and the minute non-electrodeposited parts This contributes to the formation of through holes on the surface of the mandrel.

さらに、電解液に界面活性添加剤を含有していないとと
もに、電解液中でマンドレルを少なくとも電鋳の初期に
停止状態としたため、微小な非電着部が発生し易くなる
Furthermore, since the electrolytic solution does not contain a surfactant additive and the mandrel is stopped in the electrolytic solution at least at the initial stage of electroforming, minute non-electrodeposited parts are likely to occur.

(第一実施例) 以下、この発明を真空成形用の金型に具体化した第一実
施例を図面に従って説明する。
(First Example) Hereinafter, a first example in which the present invention is embodied in a mold for vacuum forming will be described with reference to the drawings.

第1図において、1はこの発明に係る金型本体であって
、電鋳により形成されている。2は金型本体1に貫通し
て設けられた多数の通孔であって、後述する通り、同電
鋳の初期に発生させた微小な非電着部を同電鋳時に厚さ
方向く金型本体1の表裏山面間)へ成長さ11でなるも
のであり、第3図(b)に示すように金型本体1の表面
から裏面に向かうほど径が漸増している。なお、通孔2
の形状は第3図(b )に示すように単純化してテーパ
状に図示しであるが、電鋳条件により、その拡がり方が
種々異なることは言うまでもない。例えば、通孔2の内
面に凹凸が付いたり、隣接する通孔2が互いにつながる
こともある。
In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a mold body according to the present invention, which is formed by electroforming. Reference numeral 2 denotes a large number of through holes provided through the mold body 1, and as will be described later, minute non-electrodeposited portions generated at the initial stage of electroforming are covered with gold in the thickness direction during electroforming. The diameter of the mold body 1 gradually increases from the front surface to the back surface as shown in FIG. 3(b). In addition, through hole 2
Although the shape is shown as a simplified tapered shape as shown in FIG. 3(b), it goes without saying that the way it spreads varies depending on the electroforming conditions. For example, the inner surface of the through hole 2 may be uneven, or adjacent through holes 2 may be connected to each other.

金型本体1の表面側におけるこの通孔2の最大径は0.
1〜0.5 mmであることが望ましい。真空吸入力を
高める必要がある一方、合成樹脂成形部成形品に通孔2
の跡が残らないようにするためである。また、通孔2の
個数は真空吸入力の点で金型本体1の面積10cm”あ
たり5〜10000個であることが望ましい。
The maximum diameter of this through hole 2 on the surface side of the mold body 1 is 0.
The thickness is preferably 1 to 0.5 mm. While it is necessary to increase the vacuum suction power, there are two through holes in the synthetic resin molded part.
This is to prevent any traces from remaining. Further, the number of through holes 2 is desirably 5 to 10,000 per 10 cm" of area of the mold body 1 from the viewpoint of vacuum suction force.

この金型本体1は真空成形装置り上に載設され、同真空
成形装置りの吸入ポンプPが駆動して金型本体1の裏面
側を減圧することにより真空成形が行なわれる。この真
空成形時に、合成樹脂材料等よりなる被成形物Wは金を
水体1の多数の通孔2を通して吸引され、金型本体1の
表面側に密着する。
This mold body 1 is mounted on a vacuum forming device, and vacuum forming is performed by driving the suction pump P of the vacuum forming device to reduce the pressure on the back side of the mold body 1. During this vacuum forming, gold is sucked into the molded object W made of a synthetic resin material or the like through the numerous through holes 2 of the water body 1, and it is brought into close contact with the surface side of the mold body 1.

次に、この金型本体1の製造に使用する装置、材料等に
ついて説明する。
Next, the equipment, materials, etc. used to manufacture this mold body 1 will be explained.

3は第2図(a)及び(b)に示すように電解液槽A内
に貯留した電解液であって、450 Q /Jl のス
ルファミン醒ニッケル液と40g、/i  以上の硼酸
とからなり、その温度は37℃〜40℃に保持されてい
る。この電解液3のpトロ10は添加剤としての塩化ニ
ッケル剤を加えることによって、3.8〜4.2の範囲
内に留まるように調整されている。
3 is an electrolytic solution stored in an electrolytic solution tank A as shown in FIGS. 2(a) and (b), which is composed of 450 Q/Jl of sulfamine-strengthened nickel solution and 40 g,/i or more of boric acid. , its temperature is maintained at 37°C to 40°C. The p-toro 10 of this electrolytic solution 3 is adjusted to remain within the range of 3.8 to 4.2 by adding a nickel chloride agent as an additive.

電解液3のpH値が前記の範囲を越えると、電鋳時にお
けるカソード電流効率が低下する一方、pト1値が3.
8に達しないときは電解液3中に塩基性沈澱物が生成さ
れて、電解された金属が変色し易くなる等の欠陥が生ず
るからである。
If the pH value of the electrolytic solution 3 exceeds the above range, the cathode current efficiency during electroforming will decrease, while the pto1 value will decrease to 3.
If it does not reach 8, basic precipitates will be formed in the electrolytic solution 3, causing defects such as the electrolyzed metal becoming more likely to discolor.

ここで、本実施例の電解液3中にはラウリル硫酸す1〜
リウム等の界面活性添加剤が含まれていないので、ピン
ホールの生成を抑止する効果はない。
Here, in the electrolytic solution 3 of this example, lauryl sulfate 1 to
Since it does not contain surfactant additives such as lithium, it does not have the effect of suppressing the formation of pinholes.

従って、電鋳の初期に非電管部(従来はピンホールの種
になっていたものである)が発生し易くなり、通孔2の
成長も促進される。
Therefore, non-conductor portions (which were conventionally the seeds of pinholes) are likely to occur in the early stages of electroforming, and the growth of through holes 2 is also promoted.

4は電解液3内に配置した電鋳材料であって、この実施
例においてはニッケルが使用されている。
Reference numeral 4 denotes an electroformed material placed in the electrolytic solution 3, and nickel is used in this embodiment.

5は電解液3中において電鋳材料4と対向する位置に配
置したマンドレルであって、エポキシ、アクリル、アク
リル・ブタジェン・スチレン共重合体、塩化ビニル等の
合成樹脂材料、または固形ワックス、金属、木材、セラ
ミックス、布地、糸等にて形成されている。このマンド
レル5は第1図及び第3図(b)に示す金型本体1の模
型であって、電解液槽Aの上端に移動可能に取り付けた
カソードロッカー6から吊り下げられ、特に第2図(b
)に示すように、カソードロッカー6の長さ方向の動き
に応じて電解液3中を往復移動するようになっている。
5 is a mandrel placed in the electrolytic solution 3 at a position facing the electroforming material 4, and is made of a synthetic resin material such as epoxy, acrylic, acrylic-butadiene-styrene copolymer, vinyl chloride, solid wax, metal, It is made of wood, ceramics, fabric, thread, etc. This mandrel 5 is a model of the mold body 1 shown in FIGS. 1 and 3(b), and is suspended from a cathode rocker 6 movably attached to the upper end of the electrolyte tank A. (b
), the cathode rocker 6 moves back and forth in the electrolyte 3 in accordance with the movement of the cathode rocker 6 in the length direction.

なお、7はカソードロッカー6を往復駆動する移動装置
である。また、電解液槽Aの外には電源Sが設けられ、
電鋳材料4は陽極に、マンドレル5のスプレ一層8は陰
極に対してそれぞれ電気的に接続されている。
Note that 7 is a moving device that drives the cathode locker 6 back and forth. In addition, a power source S is provided outside the electrolyte tank A,
The electroformed material 4 is electrically connected to the anode, and the spray layer 8 of the mandrel 5 is electrically connected to the cathode.

次に、この金型本体1の製造方法について順に説明する
Next, a method for manufacturing the mold body 1 will be explained in order.

■ 金型本体1を多孔質に形成するために、マンドレル
5は電解液3に浸される前に表面処理工程及びラッキン
グ工程に付される。
(2) In order to make the mold body 1 porous, the mandrel 5 is subjected to a surface treatment process and a racking process before being immersed in the electrolytic solution 3.

まず、表面処理工程において、マンドレル5は溶剤、磨
き粉等の研磨剤にてその表面が磨かれて表面に付着した
不純物が除去されるとともに、表面が粗面化される。表
面の粗面化は主導物のなじみをよくし、M鋳被膜の密着
性を高めるためのものである。このあと、マンドレル5
は水で洗われて表面の研磨剤が除去され、さらにジェッ
トエアーにて乾燥されて表面処理工程が終了する。
First, in the surface treatment step, the surface of the mandrel 5 is polished with an abrasive such as a solvent or polishing powder to remove impurities attached to the surface and roughen the surface. The purpose of the roughening of the surface is to improve the conformability of the leading material and to increase the adhesion of the M casting film. After this, mandrel 5
is washed with water to remove the abrasive on the surface, and then dried with jet air to complete the surface treatment process.

ラッキング工程において、マンドレル5にはその電鋳所
望面に対しスプレー液が噴射されて導電性が与えられる
。このスプレー液はペースト試録ラッカー(この実施例
においては補出金属粉(株)製のRC−10を使用して
いる。)と酢酸ブチル溶液とを1:1の比率で配合した
のち、この配合液の全体量に対し30%以下の割合にて
塩化ビ二ルラッカー液を混入することによって作られて
いる。
In the racking process, a spray liquid is injected onto the desired surface of the mandrel 5 for electroforming to impart conductivity. This spray solution was prepared by mixing paste sample lacquer (RC-10 manufactured by Hideki Metal Powder Co., Ltd. was used in this example) and a butyl acetate solution in a 1:1 ratio. It is made by mixing vinyl chloride lacquer liquid in a proportion of 30% or less based on the total amount of the compounded liquid.

このスプレー液をマンドレル5の表面が完全な金属色を
呈するまで2度にわたり噴射して、第3図(a)に示す
ようにマンドレル5の表面に約15μm以上の導電層と
してのスプレ一層8を形成したのち、マンドレル5を約
24時間自然乾燥させる。スプレー液には塩化ビニルラ
ッカー液が混入されているため、マンドレル5の表面上
のスプレ一層8は導電性が低くなり、マンドレル5の表
面に多数の通孔2が形成され易くなる。
This spray liquid is sprayed twice until the surface of the mandrel 5 exhibits a complete metallic color, and as shown in FIG. After forming, the mandrel 5 is air-dried for about 24 hours. Since the spray liquid contains a vinyl chloride lacquer liquid, the spray layer 8 on the surface of the mandrel 5 has low conductivity, and a large number of holes 2 are likely to be formed on the surface of the mandrel 5.

よりミクロ的にみると、スプレ一層8には銀粉による導
電部のみならず、同銀粉中に点在した塩化ビニルラッカ
ーによって微小な非導電部が形成されるため、全体とし
てのII性が低くなるのである。この塩化ビニルラッカ
ーによる微小な非導電部には、後述する電鋳の初期にお
いて電鋳材料が電着しにくいため、微小な非電着部の発
生に大きく寄与するのである。
From a more microscopic perspective, in the spray layer 8, not only conductive parts made of silver powder but also minute non-conductive parts are formed by the vinyl chloride lacquer scattered in the silver powder, so the II property as a whole is lowered. It is. Electroforming material is difficult to electrodeposit on the minute non-electroconductive portions formed by the vinyl chloride lacquer at the initial stage of electroforming, which will be described later, and therefore contributes greatly to the generation of minute non-electrodeposited portions.

上記スプレー液中における塩化ビニルラッカー液の混入
度を加減することによって、マンドレル5の表面の導電
性を自由に設定でき、前記非導電部の大きさや分布を変
化させることができるため、通孔2の寸法を変化させた
り、マンドレル5の単位面積あたりの通孔2の数や開口
率を自由に管理することができる。従って、例えば第4
図(a)に示す金型のように、2点鎖線で囲まれた金型
本体1の一部のみに多くの通孔2を形成することもでき
る。第4図(b)に示すようにこの部分にはシボ目形成
用の凹凸部10やステッチ等糸目形成用の凹凸部11が
あるため、通孔2の数を多くすることにより、被成形物
Wを金型本体1に対し確実に密着させてこの凹凸部10
.11の形状を被成形物Wに付けることができる。
By adjusting the degree of mixing of the vinyl chloride lacquer liquid in the spray liquid, the conductivity of the surface of the mandrel 5 can be freely set, and the size and distribution of the non-conductive parts can be changed. It is possible to change the dimensions of the mandrel 5 and to freely manage the number of through holes 2 per unit area of the mandrel 5 and the aperture ratio. Therefore, for example, the fourth
As in the mold shown in Figure (a), many through holes 2 may be formed only in a part of the mold body 1 surrounded by the two-dot chain line. As shown in FIG. 4(b), this part has an uneven part 10 for forming wrinkles and an uneven part 11 for forming threads such as stitches, so by increasing the number of through holes 2, it is possible to This uneven portion 10 is made by firmly bringing W into close contact with the mold body 1.
.. 11 can be attached to the molded object W.

また、このスプレー液中の混入液は塩化ビニルラッカー
液に替えて他の絶縁物質を使用してもよい。
Also, other insulating materials may be used in place of the vinyl chloride lacquer solution as a contaminant in the spray solution.

なお、ラッキング工程前にマンドレル5の表面に導電性
を付与するため銀波膜を設けておいてもよい。
Note that a silver wave film may be provided on the surface of the mandrel 5 to impart conductivity before the racking step.

ラッキング工程が終ったのち、マンドレル5には再度水
洗いがなされて、表面の異物が取り除かれ、マンドレル
5の前処理は終了する。
After the racking process is finished, the mandrel 5 is washed with water again to remove foreign matter from the surface, and the pretreatment of the mandrel 5 is completed.

■ この実施例においては、従来技術における前処理液
によるマンドレル5の表面の活性化処理工程は省略され
ている。電鋳の初期に、マンドレル5の表面に微小な非
電着部を形成し易くするためである。
(2) In this embodiment, the step of activating the surface of the mandrel 5 using a pretreatment liquid in the prior art is omitted. This is to facilitate the formation of minute non-electrodeposited portions on the surface of the mandrel 5 at the initial stage of electroforming.

■ 続いて、マンドレル5は電鋳材料4とともに電解液
槽A内の電解液3中に浸される。このとき、電解液3は
循環することなく停止した状態にあり、またカソードロ
ッカー6の移動装置7はオフの状態にあるので、マンド
レル5も移動することはない。微小な非電着部を発生し
易くするためである。
(2) Subsequently, the mandrel 5 and the electroformed material 4 are immersed in the electrolytic solution 3 in the electrolytic solution tank A. At this time, the electrolytic solution 3 is in a stopped state without being circulated, and the moving device 7 of the cathode locker 6 is in an OFF state, so the mandrel 5 also does not move. This is to facilitate the generation of minute non-electrodeposited portions.

電源Sをオンにして、マンドレル5の面積100cm2
あたり3Aの電流を電鋳材料4とマンドレル5のスプレ
一層8との間に流すと、電鋳材料4が電解されてマンド
レル5のスプレ一層8上に被覆され、711!鋳FI9
が形成される。
Turn on the power supply S and set the area of the mandrel 5 to 100 cm2.
When a current of 3 A per 100 Ω is passed between the electroformed material 4 and the spray layer 8 of the mandrel 5, the electroform material 4 is electrolyzed and coated onto the spray layer 8 of the mandrel 5, and 711! Casting FI9
is formed.

この電鋳の初期において、前述したようにスプレ一層8
のうち銀粉による導電部には電鋳材料4がより電着する
が、同銀粉中に点在した塩化ビニルラッカーによる微小
な非導電部には電鋳材料4が電着しにくいため、この非
導電部を起点として微小な非電着部が発生する。
At the beginning of this electroforming process, as mentioned above, one layer of spray 8
The electroforming material 4 is more likely to be electrodeposited on the conductive parts made of silver powder, but it is difficult to electrodeposit the electroforming material 4 on the minute non-conductive parts made of vinyl chloride lacquer scattered in the silver powder. A minute non-electrodeposited part is generated starting from the conductive part.

電鋳の進行とともに、この微小な非電着部は成長して貫
通した通孔2となる。
As electroforming progresses, this minute non-electrodeposited portion grows to become a through hole 2.

特に本実施例ではこの非導電部の存在のみならず、前述
したように、電解液3の組成の調整、マンドレル5の表
面活性化処理の省略、カソードロッカー6の停止、電流
の調整等の技術が付加されているため、上記非[1部の
発生と成長がさらに容易になっている。
In particular, in this embodiment, in addition to the presence of this non-conductive part, as described above, techniques such as adjusting the composition of the electrolytic solution 3, omitting the surface activation treatment of the mandrel 5, stopping the cathode rocker 6, and adjusting the current are used. is added, the generation and growth of the above-mentioned non-[1 part] is further facilitated.

また、本実施例では通孔2が電鋳の進行に伴って′Fi
鋳R9の厚さ方向のみならず径方向にも成長し、金型本
体1の裏面側はど拡径した通孔2となった。
In addition, in this embodiment, the through hole 2 becomes 'Fi' as the electroforming progresses.
The cast R9 grew not only in the thickness direction but also in the radial direction, and the back side of the mold body 1 became a through hole 2 with an enlarged diameter.

そして、マンドレル5の所望面全体に電鋳層9が被覆さ
れ、さらに同電鋳層9に多数の通孔2が形成されたこと
を確認したのちに、電流をマントレル5の而v4100
cni’$たり1〜2△程度に落とす。
After confirming that the entire desired surface of the mandrel 5 is coated with the electroformed layer 9 and that a large number of through holes 2 are formed in the electroformed layer 9, a current is applied to the mandrel 5 with a
Reduce it to about 1~2△ cni'$.

このあと、電解液3を循環させ、さらにカソードロッカ
ー6を作動させることによって、カソード電流密度が均
一化されるので、電鋳層9の厚みが均一になる。
Thereafter, by circulating the electrolytic solution 3 and further operating the cathode rocker 6, the cathode current density is made uniform, so that the thickness of the electroformed layer 9 is made uniform.

■ 上記のように、マンドレル5の表面に電鋳が終了し
たら、電解液3からマンドレル5を取り出してこれを乾
燥させる。このあと、マンドレル5から電鋳層9を剥離
する。なお、電鋳層9とマンドレル5の表面にはスプレ
一層8が介在しているため、電鋳層9は簡単に剥離でき
る。マンドレル5から取り外された電鋳層9は金型の金
型本体1として使用される。
(2) When the surface of the mandrel 5 is electroformed as described above, the mandrel 5 is taken out from the electrolytic solution 3 and dried. After this, the electroformed layer 9 is peeled off from the mandrel 5. In addition, since the spray layer 8 is interposed between the electroformed layer 9 and the surface of the mandrel 5, the electroformed layer 9 can be easily peeled off. The electroformed layer 9 removed from the mandrel 5 is used as the mold body 1 of the mold.

前記通孔2は微小な非電着部を成長させることにより頁
通さばたものであることから、真空吸入等における気流
抵抗が低く、真空吸入等を行い易い。また、通孔2が詰
ることが少なくて通孔2内の掃除を簡単に行うこともで
きる。さらに、同通孔2は電鋳と同時に形成されたもの
であるから、電鋳後に通孔2の形成工程を行う必要もな
く、金型の製造が容易である。
Since the through hole 2 is formed by growing minute non-electrodeposited portions, the airflow resistance during vacuum suction is low, and vacuum suction is easy to perform. Further, the through hole 2 is less likely to be clogged, and the inside of the through hole 2 can be cleaned easily. Furthermore, since the through holes 2 are formed at the same time as the electroforming, there is no need to perform the step of forming the through holes 2 after electroforming, and the mold can be manufactured easily.

特に、4電層としてのスプレ一層8には導電部のみなら
ず、微小な非導電部が形成されるため、この非導電部に
は電鋳の初期において電鋳材料4が電着しにくく、微小
な非電着部の発生に寄与し、マンドレル5の表面の電鋳
層9に通孔2が形成され易くなる。
In particular, since not only a conductive part but also a minute non-conductive part is formed in the spray layer 8 as a four-electroconductive layer, it is difficult for the electroforming material 4 to electrodeposit on this non-conductive part at the initial stage of electroforming. This contributes to the generation of minute non-electrodeposited portions, making it easier for through holes 2 to be formed in the electroformed layer 9 on the surface of the mandrel 5.

さらに、電解液3に界面活性添加剤を含有していないと
ともに、電解液3中でマンドレル5を少なくとも電鋳の
初期に停止状態としたため、微小な非電着部が発生し易
くなり、マンドレル5の表面の電鋳層9に通孔2がより
一層形成され易くなる。
Furthermore, since the electrolytic solution 3 does not contain a surfactant additive and the mandrel 5 is stopped in the electrolytic solution 3 at least at the beginning of electroforming, minute non-electrodeposited parts are likely to occur, and the mandrel 5 The through holes 2 are more easily formed in the electroformed layer 9 on the surface.

また、本実施例の通孔2は電鋳の進行に伴って金型本体
1の裏面側はどその径が徐々に広くなっている。従って
、この通孔2は金型本体1の表面側では充分に径が小さ
いので、成形品の表面に通孔2の跡が残らないばかりで
なく、金型本体1の裏面側では径が大きくなるので、真
空吸入時の気流抵抗も低くなり吸入力が強まるという当
該金型にとって理想的な効果を発揮する。
Further, the diameter of the through hole 2 of this embodiment gradually increases on the back side of the mold body 1 as electroforming progresses. Therefore, the diameter of the through hole 2 is sufficiently small on the front side of the mold body 1, so that not only no trace of the through hole 2 remains on the surface of the molded product, but also the diameter is large on the back side of the mold body 1. Therefore, the airflow resistance during vacuum suction is also lowered, and the suction force is increased, which is ideal for the mold.

(第二実施例) 次に、この発明の第二実施例を説明する。(Second example) Next, a second embodiment of the invention will be described.

この実施例において電解液3中には第一実施例と同様に
ラウリル硫酸ナトリウム等の界面活性添加剤が添加され
ていないが、他の工程は第一実施例と異なり通常の電鋳
と同様に行われるものである。
In this example, surfactant additives such as sodium lauryl sulfate are not added to the electrolyte 3 as in the first example, but the other steps are different from the first example and are similar to normal electroforming. It is something that is done.

この場合、マンドレル5の表面におけるピンホールの発
生は電解液3の工夫のみによって促進されるため、第−
実施例の場合と比較して通孔2の発生率は非常に低いも
のとなる。
In this case, the generation of pinholes on the surface of the mandrel 5 is promoted only by the modification of the electrolytic solution 3.
The incidence of through holes 2 is extremely low compared to the case of the example.

この?[R方法に対して、さらにマンドレル5の前処理
でスプレー液に塩化ビニルラッカーを混入してスプレー
1fI8を形成すれば、通孔2の発生率をやや高めるこ
とができる。
this? [In contrast to the R method, if vinyl chloride lacquer is mixed into the spray liquid in the pretreatment of the mandrel 5 to form the spray 1fI8, the rate of occurrence of the through holes 2 can be increased slightly.

さらに、 (1)マンドレル5の前処理において、前処理液を使用
しない。
Furthermore, (1) In the pretreatment of the mandrel 5, no pretreatment liquid is used.

(2)電鋳時において、電解液3を循環させず、さらに
カソードロッカー6も停止ト状態にしておく。
(2) During electroforming, the electrolytic solution 3 is not circulated, and the cathode rocker 6 is also kept in a stopped state.

(3)電鋳時に通常より強い電流を流す。(3) Applying a stronger current than usual during electroforming.

等の工程を適宜組み合わせることによって、金型本体1
の通孔2の個数を管理することができる。
By appropriately combining the following steps, the mold body 1
The number of through holes 2 can be managed.

ところで、前述した実施例では、第5図に示すように、
ペースト試録ラッカーに塩化ビニルラッカー液を予め混
入したスプレー液をマンドレル5に吹き付け、このスプ
レ一層8中に点在する塩化ビニルラッカーによって微小
な非導電部を形成しているが、第6図に示すように、マ
ンドレル5の表面にペースト試録ラッカーを吹き付けた
後、さらに塩化ビニルラッカーを吹き付けてスプレ一層
8上に点在させ、この塩化ビニルラッカーによって非導
電部を形成することもできる。もちろん、スプレ一層8
に凹みを付りる等、そのほかの方法によっても非導電部
の形成は可能である。
By the way, in the above-mentioned embodiment, as shown in FIG.
A spray liquid prepared by pre-mixing a vinyl chloride lacquer liquid with paste trial lacquer is sprayed onto the mandrel 5, and minute non-conductive parts are formed by the vinyl chloride lacquer scattered in this spray layer 8, as shown in Fig. 6. As shown, after spraying the paste test lacquer on the surface of the mandrel 5, a further vinyl chloride lacquer can be sprayed and interspersed on the spray layer 8, and the non-conductive portions can be formed by the vinyl chloride lacquer. Of course, spray one layer 8
It is also possible to form the non-conductive portion by other methods, such as by making a recess in the surface.

また、この発明の金型は真空成形方法のみに限らず、ブ
ロー成形方法、射出成形方法、リム・ウレタン成形方法
等においても使用することができる。
Furthermore, the mold of the present invention can be used not only in vacuum forming methods, but also in blow molding methods, injection molding methods, rim urethane molding methods, and the like.

なお、この発明は上記の実施例に拘束されるものではな
く、例えば電鋳材料4として、ニッケルに代え、プラス
イオンにて電解する他の金属を使用する等、発明の趣旨
から逸脱しない限りにおいて任意の変更は可能である。
Note that this invention is not limited to the above-described embodiments, and for example, other metals that can be electrolyzed with positive ions may be used instead of nickel as the electroforming material 4, as long as they do not deviate from the spirit of the invention. Any changes are possible.

発明の効果 以上詳述したように、この発明は電鋳により形成した金
型本体に、同電鋳の初期に発生させた微小な非電着部を
同電鋳時に成長させることにより貫通させた多数の通孔
を設けたことによって、真空吸入等が行い易く、かつ通
孔が詰ることが少なくて通孔内の砕除を簡単に行うこと
ができ、さらには金型の製造が容易であるという優れた
効果を奏する。
Effects of the Invention As detailed above, this invention penetrates a mold body formed by electroforming by growing minute non-electrodeposited portions generated at the initial stage of electroforming. By providing a large number of through holes, it is easy to perform vacuum suction, etc., and the through holes are less likely to be clogged, making it easy to crush the inside of the through holes, and furthermore, it is easy to manufacture molds. It has this excellent effect.

特に、導電層には導電部のみならず、微小な非導電部が
形成されるため、この非導電部には電鋳の初期において
電鋳材料が電着しにくく、微小な非電着部の発生に寄与
し、しかも電解液に界面活性添加剤を含有していないと
ともに、電解液中でマンドレルを少なくとも電鋳の初期
に停止状態としたため、微小な非電着部が発生し易くな
り、マンドレルの表面に通孔が形成され易くなる。
In particular, since not only conductive parts but also minute non-conductive parts are formed in the conductive layer, it is difficult for the electroforming material to electrodeposit on these non-conductive parts at the initial stage of electroforming, and the minute non-electrodeposited parts Moreover, because the electrolyte does not contain surfactant additives and the mandrel is stopped in the electrolyte at least at the beginning of electroforming, minute non-electrodeposited parts are likely to occur, and the mandrel Through holes are more likely to be formed on the surface.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本実施例に係る金型の使用状態を示ず断面図、
第2図(a)は金型を製造するための電鋳方法を示す略
体図、第2図(b)は第2図(a)の平面図、第3図(
a)はマンドレルに電鋳をした状態を示す断面図、第3
図(b)は金型の一部破断拡大断面図、第4図(a)は
金型の別例を示す平面図、第4図(b)は第4図(a)
のB−B線における拡大断面図、第5図は本実施例にお
ける非導電部の形成方法を示す部分拡大断面図、第6図
は非導電部の形成方法の別例を示す部分拡大断面図であ
る。 金型本体1、通孔2、電解液3、マンドレル5、スプレ
一層8(導電層)。 特許出願人   江南特殊産業株式会社代  理  人
     弁理士   恩  1)   博  宣第一
8図(b) 第4図(a) 第4図(b)
FIG. 1 is a cross-sectional view of the mold according to the present example, not showing the state in which it is used;
FIG. 2(a) is a schematic diagram showing an electroforming method for manufacturing a mold, FIG. 2(b) is a plan view of FIG. 2(a), and FIG.
a) is a cross-sectional view showing the state of electroforming on the mandrel;
Figure (b) is a partially broken enlarged sectional view of the mold, Figure 4 (a) is a plan view showing another example of the mold, and Figure 4 (b) is Figure 4 (a).
FIG. 5 is a partially enlarged sectional view showing a method for forming a non-conductive part in this embodiment, and FIG. 6 is a partially enlarged sectional view showing another example of a method for forming a non-conductive part in this embodiment. It is. Mold body 1, through hole 2, electrolyte 3, mandrel 5, spray layer 8 (conductive layer). Patent Applicant: Konan Special Industry Co., Ltd. Agent: Patent Attorney On 1) Bo Xun Figure 18 (b) Figure 4 (a) Figure 4 (b)

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、マンドレル(5)の表面に導電層(8)を設けると
ともに、同導電層(8)の表面に多数の微小な非導電部
を設け、 界面活性添加剤を含有しない電解液(3)中において少
なくとも電鋳の初期に停止状態としたマンドレル(5)
の表面に電鋳を行うことにより金型本体(1)を形成す
るするとともに、同電鋳の初期に前記非導電部に微小な
非電着部を発生させ、電鋳の進行とともに同非電着部を
成長させることにより貫通させて金型本体(1)に多数
の通孔(2)を形成することを特徴とする成形用金型の
製造方法。
[Claims] 1. A conductive layer (8) is provided on the surface of the mandrel (5), and a large number of minute non-conductive parts are provided on the surface of the conductive layer (8), and does not contain a surfactant additive. Mandrel (5) kept in a stopped state at least at the initial stage of electroforming in electrolyte (3)
The mold body (1) is formed by performing electroforming on the surface of the mold body (1), and a minute non-electrodeposited part is generated in the non-conductive part at the beginning of the electroforming, and as the electroforming progresses, the mold body (1) is formed. A method for manufacturing a molding die, characterized in that a large number of through holes (2) are formed in a mold body (1) by growing a fitting portion to penetrate the mold body.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS60152692A (en) * 1984-01-20 1985-08-10 Konan Tokushu Sangyo Kk Metallic mold for forming

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