JPS63203708A - 高炉操業法 - Google Patents
高炉操業法Info
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- JPS63203708A JPS63203708A JP3584587A JP3584587A JPS63203708A JP S63203708 A JPS63203708 A JP S63203708A JP 3584587 A JP3584587 A JP 3584587A JP 3584587 A JP3584587 A JP 3584587A JP S63203708 A JPS63203708 A JP S63203708A
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- Japan
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- blast furnace
- gas
- sondes
- furnace
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- Pending
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- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 17
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Landscapes
- Manufacture Of Iron (AREA)
- Blast Furnaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、高炉の操業法に関するもので、特に高炉内
ガスおよび温度を測定することにより原料供給を調節す
ることからなる高炉操業法に関するものである。
ガスおよび温度を測定することにより原料供給を調節す
ることからなる高炉操業法に関するものである。
[従来の技術]
近年の高炉の大型化、高い効率を追求する傾向に拍車が
かけられ、その一手段として炉内の状況を可能なかぎり
正確に把握して操業の適正化に努めることが行われてい
る。
かけられ、その一手段として炉内の状況を可能なかぎり
正確に把握して操業の適正化に努めることが行われてい
る。
具体的には、高炉炉体の各部に各種の測定用機器を設置
してガスの組成、圧力あるいは温度を測定することによ
り炉内の状況を把握すLものであや・ このような設備の一例としては、炉内圧力を測定するも
のとして炉壁な貫通する測定管を圧力測定器に接続した
もの、また、ガスサンプリング用装置としては、水平ゾ
ンデ式ものが用いられている。
してガスの組成、圧力あるいは温度を測定することによ
り炉内の状況を把握すLものであや・ このような設備の一例としては、炉内圧力を測定するも
のとして炉壁な貫通する測定管を圧力測定器に接続した
もの、また、ガスサンプリング用装置としては、水平ゾ
ンデ式ものが用いられている。
「を岨がM決しようとする問題点]
ところが、上述ような測定装置では、例えば圧力測定装
置についてみると、測定用管路に炉内で発生する各種ダ
ストによる閉塞の事故が起こりやすく、また、一方ガス
サンプリング装置について見るとゾンデ方式であること
から連続的な測定を行うことができないという不都合な
面を有するものであった。
置についてみると、測定用管路に炉内で発生する各種ダ
ストによる閉塞の事故が起こりやすく、また、一方ガス
サンプリング装置について見るとゾンデ方式であること
から連続的な測定を行うことができないという不都合な
面を有するものであった。
[問題点を解決するための手段]
この発明は、従来の装置あるいは設備に認められた前述
のような欠点を解決するために検討を加えた結果到達し
たものであって、高炉上部から垂下した円周方向に複数
本の上部ゾンデに僅えたガスサンプラーにより高炉内原
料上部のガス組成、炉内温度を測定する一方、前記ガス
サンプラーと同数の固定式ないしは挿入式の下部ゾンデ
をガスサンプラーに対応する位置に設けそのセンサーか
ら得られた情報を前記測定値と計算処理に付しこれによ
り高炉に対する原料供給方法を調節することからなる高
炉操業法、に関するものである。
のような欠点を解決するために検討を加えた結果到達し
たものであって、高炉上部から垂下した円周方向に複数
本の上部ゾンデに僅えたガスサンプラーにより高炉内原
料上部のガス組成、炉内温度を測定する一方、前記ガス
サンプラーと同数の固定式ないしは挿入式の下部ゾンデ
をガスサンプラーに対応する位置に設けそのセンサーか
ら得られた情報を前記測定値と計算処理に付しこれによ
り高炉に対する原料供給方法を調節することからなる高
炉操業法、に関するものである。
[作 用]
第1図はこの発明を実施するときの一例を模型的に示し
た一部側面図である。
た一部側面図である。
図中、1は高炉壁面部、2は上部ゾンデ、3は下部ゾン
デ、4は炉頂原料表面、5はガス分析計であり、6は計
算機、7は計算結果の出力を示したものである。
デ、4は炉頂原料表面、5はガス分析計であり、6は計
算機、7は計算結果の出力を示したものである。
ここで使用する上部ゾンデは、高炉炉壁から一定間隔(
d)を隔てた位置でl!錘を有するフレキシブルプロー
ブを吊りさげており、原料の直上、あるいは原料表面か
らおよそ1m以内に存在する表面ガスのうちC05CO
2、N a 、H2カ2 (Dサンプリングを行うこと
が可能なようにしているものである。
d)を隔てた位置でl!錘を有するフレキシブルプロー
ブを吊りさげており、原料の直上、あるいは原料表面か
らおよそ1m以内に存在する表面ガスのうちC05CO
2、N a 、H2カ2 (Dサンプリングを行うこと
が可能なようにしているものである。
原料表面へプローブが着地したか否かを判断する手段と
してはロードセルなど従来公和のセンサーをしようすれ
ばよい。
してはロードセルなど従来公和のセンサーをしようすれ
ばよい。
なお、当然のことながら、このフレキシブルプローブは
、同時に所定の位置に達するまでの任意の空間位置での
測定を行うことが可能なように考慮されている。
、同時に所定の位置に達するまでの任意の空間位置での
測定を行うことが可能なように考慮されている。
このフレキシブルプローブは、例えばステンレス製の細
管を使用することが可能である。
管を使用することが可能である。
また一方の、下部ゾンデは、所定位置における炉内温度
やC01Co2、N2 、N2などのガス組成を測定す
るものである。
やC01Co2、N2 、N2などのガス組成を測定す
るものである。
このようにして得た測定値の情報は、例えば次の計算式
に従って処理を行い、その結果を高炉の運転の情報とし
て運転制御装置の入力情報として利用することにより安
定した高−の操業を行うことができるのである。
に従って処理を行い、その結果を高炉の運転の情報とし
て運転制御装置の入力情報として利用することにより安
定した高−の操業を行うことができるのである。
測定値情報は、原則として以下の基礎式から求めた還元
率と高さとの関係から次の計算式が近似的に成立する。
率と高さとの関係から次の計算式が近似的に成立する。
ΔO,!16/22.4 (W、、”t(CO,”t+
2GO,、”t)−1,、In(にg、In +zco
、 、In) −−−mAC,5m12/22.4 (
W、、”’(CO,°ut+にO,、°1)−1,、I
n(に0.In +coi’ +”)・・・(2)ここ
でW、lは、N2バランスより次式で表わされる。
2GO,、”t)−1,、In(にg、In +zco
、 、In) −−−mAC,5m12/22.4 (
W、、”’(CO,°ut+にO,、°1)−1,、I
n(に0.In +coi’ +”)・・・(2)ここ
でW、lは、N2バランスより次式で表わされる。
ボッシュ−炉頂間では、前記2式は、
Σ ΔOt/Vb −
五厘鳳
16X0.79/22.4((COn’ut +2CO
2fi”t)/N、n”t−(COI”+2C(h”)
/N2”) =(3) tiJヨヒΣΔG+/Vb = 直纏鳳 12X0.79/22.4((GO,”t +2CO2
,”’)/ll、n0ut−(co、”+2co2”)
/s2”) m (4)従って、i=iにおける還
元率RO% ソリューションロス反応率R,。鳳は、お
のおの次のように示される。
2fi”t)/N、n”t−(COI”+2C(h”)
/N2”) =(3) tiJヨヒΣΔG+/Vb = 直纏鳳 12X0.79/22.4((GO,”t +2CO2
,”’)/ll、n0ut−(co、”+2co2”)
/s2”) m (4)従って、i=iにおける還
元率RO% ソリューションロス反応率R,。鳳は、お
のおの次のように示される。
ΔO/ Vb−18X 0.79/22.4 (GO’
+2C(h’ / N2’−coII◆2C08/N2
” ) Ra’= 1− (Δ0’/Vb )/ (AO’/V
b )a−(YA RO’) / (ηco’ −ηc
o’ )一方、 μ−(Lc/Lo) (ρC/ρo) ([零C3c/
12)/([kFelo155.85) 従って、 x = (Lo/Lo”Lc) = 1 /([を十
μ(ρ。/ρc)([零Fe]o/ss、as)/(
(96clc/1z))γ−(55,85/22.4)
・((CO十GO2)/μ)((Cc・pc) (1−
x)+(Co・ρo)x)/(x・ρo・([96Fe
loCg pg)なお、上記式中の各記号は、つぎを意
味するものである。
+2C(h’ / N2’−coII◆2C08/N2
” ) Ra’= 1− (Δ0’/Vb )/ (AO’/V
b )a−(YA RO’) / (ηco’ −ηc
o’ )一方、 μ−(Lc/Lo) (ρC/ρo) ([零C3c/
12)/([kFelo155.85) 従って、 x = (Lo/Lo”Lc) = 1 /([を十
μ(ρ。/ρc)([零Fe]o/ss、as)/(
(96clc/1z))γ−(55,85/22.4)
・((CO十GO2)/μ)((Cc・pc) (1−
x)+(Co・ρo)x)/(x・ρo・([96Fe
loCg pg)なお、上記式中の各記号は、つぎを意
味するものである。
Δ0:酸素移動ffi (kg/Il”m1n)v、:
送風量(Na+’/+’m1n)添字:1;上部ゾンデ
、U:下部ゾンデ以上の計算式を利用して得られた操業
指標に応じて図示していない原料分配装置や高炉内のガ
ス流の円周速度バランスを調節するのである。
送風量(Na+’/+’m1n)添字:1;上部ゾンデ
、U:下部ゾンデ以上の計算式を利用して得られた操業
指標に応じて図示していない原料分配装置や高炉内のガ
ス流の円周速度バランスを調節するのである。
以上の説明では、測定対象のガスとしてC01CO□お
よびN2について述べてきたが、この発明の一簡略手法
として、coおよびCO2のみを測定することにより、
同じような推定を行うことができる。
よびN2について述べてきたが、この発明の一簡略手法
として、coおよびCO2のみを測定することにより、
同じような推定を行うことができる。
[実施例]
この発明に従って上部ゾンデおよび下部ゾンデのおのお
の4本を高炉の中心に対して90°ずつ位相をずらせて
設置し、操業を行った。
の4本を高炉の中心に対して90°ずつ位相をずらせて
設置し、操業を行った。
この時の炉内の溶融帯挙動は、第2図に示したようにな
った。
った。
なお、図中でのN%W1S%Eはそれぞれ北、西、南、
束を示しているものであり、この実施例の場合では炉内
の溶融帯位置を平均化する処理を行ったものである。
束を示しているものであり、この実施例の場合では炉内
の溶融帯位置を平均化する処理を行ったものである。
この第2図を説明すると、通常に高炉を運転したときは
、炉内の溶融帯位置は、それぞれランダムとなってい、
たものであるが、N、、W%S% Eの各位置に応じて
原料の供給を調節したところ、溶融帯位置の高低差は徐
々になくなっていることが判る。
、炉内の溶融帯位置は、それぞれランダムとなってい、
たものであるが、N、、W%S% Eの各位置に応じて
原料の供給を調節したところ、溶融帯位置の高低差は徐
々になくなっていることが判る。
この場合では、N%W側のムーバブルアーマ−を鉱石挿
入時に炉内側に前進させて炉周辺部のO/Cの比を低下
させものである。
入時に炉内側に前進させて炉周辺部のO/Cの比を低下
させものである。
[発明の効果]
この発明によれば、高炉上部から垂下した上部ゾンデに
備えたガスサンプラーにより高炉内原料上部のガス組成
、炉内温度を測定し、一方では固定式ないしは挿入式の
下部ゾンデをガスサンプラーに対応する位置に設けその
センサーから得られた+r′1報と前記測定値とから高
炉に対する原料供給方法を調節する高炉操業法としたこ
とから、高炉操業の全期間にわたり操業の指標を得るこ
とが可能となり、従来の操業に比較して安定した操業を
行うことができるようになった。
備えたガスサンプラーにより高炉内原料上部のガス組成
、炉内温度を測定し、一方では固定式ないしは挿入式の
下部ゾンデをガスサンプラーに対応する位置に設けその
センサーから得られた+r′1報と前記測定値とから高
炉に対する原料供給方法を調節する高炉操業法としたこ
とから、高炉操業の全期間にわたり操業の指標を得るこ
とが可能となり、従来の操業に比較して安定した操業を
行うことができるようになった。
第1図は、この発明により構成した高炉の一部側面図、
第2図は、この発明に従って高炉を操業した際の炉内溶
融位置の確認状況を示したグラフである。 1は高炉壁面部、2は上部ゾンデ、3は下部ゾンデ、4
は炉頂原料表面、5はガス分析計、6は計算機、7は計
算結果の出力。
第2図は、この発明に従って高炉を操業した際の炉内溶
融位置の確認状況を示したグラフである。 1は高炉壁面部、2は上部ゾンデ、3は下部ゾンデ、4
は炉頂原料表面、5はガス分析計、6は計算機、7は計
算結果の出力。
Claims (3)
- (1)高炉上部から垂下した円周方向に複数本の上部ゾ
ンデに備えたガスサンプラーにより高炉内原料上部のガ
ス組成、炉内湿度を測定する一方、前記ガスサンプラー
と同数の固定式ないしは挿入式の下部ゾンデをガスサン
プラーに対応する位置に設けそのセンサーから得られた
温度、ガス組成などの情報を前記測定値と計算処理に付
しこれにより高炉に対する原料供給方法を調節すること
からなる高炉操業法。 - (2)下部ゾンデの設置位置を原料表層より10m以内
とする特許請求の範囲第1項に記載の高炉操業法。 - (3)複数のガスサンプラーおよびセンサーを高炉軸に
対してほぼ等角度で設けたことからなる特許請求の範囲
第1項に記載の高炉操業法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3584587A JPS63203708A (ja) | 1987-02-20 | 1987-02-20 | 高炉操業法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3584587A JPS63203708A (ja) | 1987-02-20 | 1987-02-20 | 高炉操業法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63203708A true JPS63203708A (ja) | 1988-08-23 |
Family
ID=12453325
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3584587A Pending JPS63203708A (ja) | 1987-02-20 | 1987-02-20 | 高炉操業法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63203708A (ja) |
-
1987
- 1987-02-20 JP JP3584587A patent/JPS63203708A/ja active Pending
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