JPS63201074A - Manufacture of high temperature ptc material - Google Patents

Manufacture of high temperature ptc material

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JPS63201074A
JPS63201074A JP3248087A JP3248087A JPS63201074A JP S63201074 A JPS63201074 A JP S63201074A JP 3248087 A JP3248087 A JP 3248087A JP 3248087 A JP3248087 A JP 3248087A JP S63201074 A JPS63201074 A JP S63201074A
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JP
Japan
Prior art keywords
temperature
paste
bapbo3
ptc material
bapbo
Prior art date
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Pending
Application number
JP3248087A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
逸平 緒方
誠 堀
丹羽 準
直人 三輪
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Denso Corp
Original Assignee
NipponDenso Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Priority to JP3248087A priority Critical patent/JPS63201074A/en
Publication of JPS63201074A publication Critical patent/JPS63201074A/en
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は高温PTC材料の製法に関する。本発明は、さ
らに詳しく述べると、BaPbO+単体からなるかもし
くはBaPbO3を主成分として含有する組成物(以下
、これらを総称して“BaPbO*系組成物”と記載す
る)からなっていて、高温域に正の抵抗温度特性(PT
C特性)を有する半導体セラミック材料を製造する方法
に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to a method for producing high temperature PTC materials. More specifically, the present invention comprises a composition consisting of BaPbO+ alone or containing BaPbO3 as a main component (hereinafter collectively referred to as "BaPbO*-based composition"), which has a high temperature range. positive resistance temperature characteristic (PT
C characteristics).

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、BaTi0.あるいはBaTiO3系組成物から
なるPTC材料及びかかる材料を使用した種々の製品が
公知である0例えば、特開昭60−32282号公報に
は、PTC抵抗変化幅の大きなりaTiO=からなるセ
ラミックヒータを製造するため、BaTiO3とこれを
半導体化させる成分とからなるガラスフリットを有機バ
インダと混合して、結晶析出温度以下で加熱処理するこ
とが提案されている。しかし、かかるBaTi0t系の
PTC材料は、その抵抗値が急激に増大する温度である
キューリ一点(CP)が通常的100〜120℃の低温
域に存在するという欠点を有している。この材料にpb
酸化物を添加することによって、キューリ一点を高温側
にシフトさせることも試みられているが、約300〜4
00℃が限界となっている、また、大電力を得るため、
比抵抗(ρ)ができ得るかぎり小さいことが望ましいと
いうものの、約1〜10Ω・C−が限界となっている。
Conventionally, BaTi0. Alternatively, PTC materials made of BaTiO3-based compositions and various products using such materials are well known. In order to manufacture the glass frit, it has been proposed to mix a glass frit made of BaTiO3 and a component that converts it into a semiconductor with an organic binder and heat-treat the mixture at a temperature below the crystallization temperature. However, such BaTiOt-based PTC materials have the drawback that the Curie point (CP), which is the temperature at which the resistance value rapidly increases, exists in a low temperature range of typically 100 to 120°C. pb for this material
Attempts have been made to shift the Curi point to a higher temperature side by adding oxides, but
00℃ is the limit, and in order to obtain large power,
Although it is desirable that the specific resistance (ρ) be as small as possible, the limit is approximately 1 to 10 Ω·C−.

上記したようなりaTiOs系PTC材料の欠点を解消
したものとして、例えば、BaPbO3にI’bO、B
20.。
For example, BaPbO3, I'bO, B
20. .

ZnOを主成分とするソルダーガラスを重量比で5〜3
0%含有したことを特徴とするPTC材料が、特開昭6
0−59702号公報において報告されている。
Solder glass whose main component is ZnO at a weight ratio of 5 to 3
A PTC material characterized by containing 0% of
It is reported in the publication No. 0-59702.

この高温PTC材料は、ρの値が10−4〜10−IΩ
・cIIとかなり低く、また、ρの温度変化点(抵抗変
化点;すなわち、キューリ一点CPのこと)が約750
℃にあるため、非常に有用である。これ以外のBaPb
O3系PTC材料も、同様に低いρを有しかつCPが高
温域にあることから、高温PTC材料として注目されて
いる。
This high temperature PTC material has a value of ρ of 10-4 to 10-IΩ
・The cII is quite low, and the temperature change point of ρ (resistance change point; that is, one Curie point CP) is about 750.
℃, so it is very useful. Other BaPb
O3-based PTC materials are also attracting attention as high-temperature PTC materials because they similarly have a low ρ and have a CP in a high-temperature range.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

13aPbO,系PTC材料は、上記したような重要な
利点を有する半面、いくつかの製造上の問題点を有する
。 BaPbO3系材料は、周知の通りに固溶が困難で
あるので、従来の製法、例えば固相法等で製造するとな
ると、途中に2回以上の仮焼を行なう必要があり、それ
ばかりか、このような仮焼工程中、PbOの飛散に原因
して、得られる材料の組成変動を生じるといった問題が
ある。また、かかる材料は、難焼結性であるので、ペー
スト化して基板上に印刷し、電極または厚膜PTC材料
を形成する場合においても、焼付温度を約800〜95
0℃の温度とする必要があり、上記と同様にPbO飛散
による組成変動等の問題がある。さらにまた、ペースト
化の際に造膜性向上のために添加するガラスフリットの
影響で常温抵抗が著しく変動するという問題がある。こ
れらの問題点は、BaPbO3系PTC材料の幅広い実
用化を阻害するちととなっているのが、解決されること
が望ましい。
Although the 13aPbO, based PTC material has the important advantages mentioned above, it also has some manufacturing problems. As is well known, it is difficult to form solid solutions in BaPbO3-based materials, so when manufacturing them using conventional manufacturing methods, such as the solid phase method, it is necessary to perform calcination two or more times during the process. During such a calcination process, there is a problem in that the composition of the resulting material varies due to the scattering of PbO. In addition, since such materials are difficult to sinter, even when they are made into a paste and printed on a substrate to form electrodes or thick film PTC materials, the baking temperature is approximately 800 to 95°C.
The temperature needs to be 0° C., and there are problems such as composition fluctuations due to PbO scattering, similar to the above. Furthermore, there is a problem in that the room temperature resistance fluctuates significantly due to the influence of glass frit added to improve film-forming properties during paste formation. It is desirable that these problems be solved, since they are hindering the widespread practical use of BaPbO3-based PTC materials.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

上記した問題点は、本発明によれば、BaPbO3系組
成物からなる高温PTC材料を製造する方法であって、
溶射法により得た非晶質BaPbO3系組成物をその融
点を下廻る温度で加熱処理することにより結晶化する工
程を含むことを特徴とする方法によって解決することが
できる。
According to the present invention, the above-mentioned problems are solved by a method for manufacturing a high-temperature PTC material made of a BaPbO3-based composition, comprising:
This problem can be solved by a method characterized by including a step of crystallizing an amorphous BaPbO3 composition obtained by thermal spraying by heating it at a temperature below its melting point.

本発明方法の実施において、非晶質BaPbO1系組成
物は、それをペースト化した後に加熱処理に供するのが
好ましい、また、ペースト状のBaPbO3系組成物は
、その成膜性やペースト焼付後の接着強度を向上させる
ため、ペースト化のための溶剤に加えて、ガラスフリッ
ト等を含有していてもよい。
In carrying out the method of the present invention, it is preferable that the amorphous BaPbO1-based composition is turned into a paste and then subjected to heat treatment. In order to improve adhesive strength, a glass frit or the like may be contained in addition to a solvent for pasting.

ガラスフリットの使用は、従来例におけるような常温抵
抗の変動をひきおこさないであろう。加熱処理の温度、
すなわち、焼付温度は、以下に説明するけれども、従来
例に較べて約100℃以上も低下させることができる。
The use of glass frit will not cause variations in cold resistance as in the prior art. heat treatment temperature,
That is, as will be explained below, the baking temperature can be lowered by about 100° C. or more compared to the conventional example.

本発明の非晶質BaPbO3系組成物は、上記した通り
、溶射法を用いて急冷することにより非晶質化−したも
のである。溶射法は、常法に従って、例えばアークを使
用して、あるいはフレーム、プラズマ等を使用して実施
することができる。
As described above, the amorphous BaPbO3 composition of the present invention is made amorphous by rapid cooling using a thermal spraying method. Thermal spraying can be carried out according to conventional methods, for example using an arc, or using a flame, plasma or the like.

本発明の13aPbOz系組成物は、BaPbO3単体
であってもよく、あるいはこの分野で通常用いられてい
    ・る添加剤を添加した組成物であってもよい。
The 13aPbOz composition of the present invention may be BaPbO3 alone, or may be a composition containing additives commonly used in this field.

後者の例としては、抵抗変化率を増大させるために[1
aPbO1にpbを過剰に添加したもの、抵抗変化点を
高温側にシフトさせかつ制御可能とするためにTiO□
、 Zr0z等を添加したもの、緻密な焼結体を得るた
めにSiO□、 5iJ1. SiC等のフラックス(
焼結助剤)を添加したもの、その他をあげることができ
る。
As an example of the latter, [1
aPbO1 with excessive addition of PB, and TiO□ to shift the resistance change point to the high temperature side and make it controllable.
, ZrOz, etc., and SiO□, 5iJ1. to obtain a dense sintered body. Flux such as SiC (
sintering aids) and others.

BaPbO5系組成物を調製するために用いられるBa
PbO3系仮焼物は、この技術分野において通常用いら
れているいろいろな技法を使用して調製することができ
、但し、Ba(NOs)2. Pb(NOz)zなどの
出発原料を(NH4)2CO3溶液に滴下して調製する
共沈法が最も有用である。この共沈法のほか、必要に応
じて、金属アルコキシドを出発原料として用いるアルコ
キシド法、その他も使用することができる。
Ba used to prepare BaPbO5-based compositions
PbO3-based calcined products can be prepared using a variety of techniques commonly used in the art, with the exception of Ba(NOs)2. The most useful is a coprecipitation method in which a starting material such as Pb(NOz)z is added dropwise to a (NH4)2CO3 solution. In addition to this coprecipitation method, an alkoxide method using a metal alkoxide as a starting material and others can be used as necessary.

〔実施例〕〔Example〕

本発明を実施例によってさらに詳しく説明する。 The present invention will be explained in more detail by way of examples.

匠しヱ鰻i 原料として用意した特級試薬Ha(NOz)z及びPb
(NO3)zを純水に溶かして水溶液とした。Baとp
bのモル比が1=1となるように各水溶液を定量し、ガ
ラス容器中で撹拌下に混合した。得られた混合液を予め
用意しておいた4N(NH4)2CO3溶液中にスター
ラで撹拌しながら40m1/winで滴下した。(Ba
 、 Pb)COs共沈体が生成した。この共沈体を数
回にわたってデカンテーションした後、乾燥した。これ
らの共沈体をライカイ機で粗粉砕の後、800℃で2時
間にわたって酸素雰囲気中で仮焼した。この仮焼物をボ
ールミルでさらに湿式粉砕し、乾燥後に800℃で2時
間にわたって酸素雰囲気中で仮焼した。しかる後に、ボ
ールミルで粉砕し、乾燥した。BaPbO5粉体が得ら
れた。
Special grade reagents Ha(NOz)z and Pb prepared as raw materials
(NO3)z was dissolved in pure water to make an aqueous solution. Ba and p
Each aqueous solution was measured so that the molar ratio of b was 1=1, and mixed under stirring in a glass container. The resulting mixed solution was added dropwise to a 4N (NH4)2CO3 solution prepared in advance at a rate of 40 ml/win while stirring with a stirrer. (Ba
, Pb)COs coprecipitate was generated. This coprecipitate was decanted several times and then dried. After coarsely pulverizing these coprecipitates using a Raikai machine, they were calcined at 800° C. for 2 hours in an oxygen atmosphere. This calcined product was further wet-pulverized in a ball mill, dried, and then calcined at 800° C. for 2 hours in an oxygen atmosphere. Thereafter, it was ground in a ball mill and dried. BaPbO5 powder was obtained.

上記のようにして調製したBaPbO3粉体にポリビニ
ルアルコール(PVA)を添加し、得られたスラリーを
スプレードライヤで造粒した。平均粒径30μ鴫の粒子
が得られた0次いで、得られな[1aPbOz粒子を溶
射ガンでアーク条件を数千度に保ち溶解し、純水中に溶
射して急冷した。この結果、粒径10〜45μ−の非晶
質13aPbO1組成のガラスピーズが得られた。得ら
れたガラスピーズ100gに対してPVAの10%溶液
を10g添加し、溶剤を加えてペーストとしな、このペ
ーストをスクリーン印刷法により100〜200μmの
厚膜でアルミナ基板上に塗被した。形成されたペースト
塗膜を異る温度=700℃(例1)、750℃(例2)
、800℃(例3)、850℃(例4)及び900℃(
例5)の下で20分間にわたって焼付けた0次に、焼付
けを行った試料にAgペーストを電極として焼付けた後
、4端子法で20℃における比抵抗(ρ2゜)を測定し
た。下記の第1表及び添付の第1図に示すような良好な
結果が得られた。
Polyvinyl alcohol (PVA) was added to the BaPbO3 powder prepared as described above, and the resulting slurry was granulated using a spray dryer. Particles with an average particle size of 30 μm were obtained.Then, the unobtained PbOz particles were melted with a thermal spray gun while maintaining the arc condition at several thousand degrees, and then sprayed into pure water and quenched. As a result, glass beads having an amorphous 13aPbO1 composition and a particle size of 10 to 45μ were obtained. To 100 g of the obtained glass beads, 10 g of a 10% solution of PVA was added, a solvent was added to form a paste, and this paste was coated on an alumina substrate in a thick film of 100 to 200 μm by screen printing. The formed paste coating film was subjected to different temperatures = 700°C (Example 1), 750°C (Example 2)
, 800°C (Example 3), 850°C (Example 4) and 900°C (
Example 5) After baking for 20 minutes under zero order, the baked sample was baked with Ag paste as an electrode, and the specific resistance (ρ2°) at 20°C was measured by the four-terminal method. Good results were obtained as shown in Table 1 below and FIG. 1 attached.

匠i友囚匠り 前記例1〜例5に記載のものと同一の方法で試料を作成
した。但し、本例の場合、Baとpbのモル比が1 :
1.2(Pbリッチ)となるように調整し、また、75
0℃(例6)及び850℃(例7)の焼付温度を適用し
た。下記の第1表に示すような良好な結果が得られた。
Samples were prepared in the same manner as described in Examples 1 to 5 above. However, in the case of this example, the molar ratio of Ba and pb is 1:
1.2 (Pb rich), and 75
Baking temperatures of 0°C (Example 6) and 850°C (Example 7) were applied. Good results were obtained as shown in Table 1 below.

匠比ヱ鮭10 前記例1〜例5に記載のものと同一の方法で試料を作成
した。但し、本例の場合、ペースト作成時、ペースト焼
付後の接着強度を向上させる目的でガラスフリットを添
加し、また、700℃(例8)、750℃(饅(9)及
び800℃(例10)の焼付温度を適用した。下記の第
1表に示すような良好な結果が得られた。
Takumi Salmon 10 Samples were prepared in the same manner as described in Examples 1 to 5 above. However, in the case of this example, glass frit was added during paste preparation for the purpose of improving the adhesive strength after paste baking, and glass frit was added at 700°C (Example 8), 750°C (Ran (9)), and 800°C (Example 10). ) was applied.Good results were obtained as shown in Table 1 below.

涯りに匠支土(比較例) 前記例1〜例5に記載のものと同一の方法で試料を作成
した。但し、比較のため、本例で使用したBaPbO3
仮焼物は、共沈法によってではなく、次のような従来の
手法に従って調製した。
Ari Ni Takumi Shido (Comparative Example) Samples were prepared in the same manner as those described in Examples 1 to 5 above. However, for comparison, BaPbO3 used in this example
The calcined product was prepared not by the coprecipitation method but by the following conventional method.

出発原料としてBaC01及びpb、o、を使用した。BaC01 and pb,o were used as starting materials.

これらの原料について、Baとpbのモル比を1=1と
して、ボールミルで湿式混合を行った。乾燥後、混合物
を900℃で2時間にわたうて酸素雰囲気中で仮焼した
。しかる後に、ボールミルで粉砕し、乾燥した。さらに
900℃で2時間酸素雰囲気中で仮焼し、ボールミルで
粉砕、乾燥した。
These raw materials were wet mixed in a ball mill with a molar ratio of Ba to Pb of 1=1. After drying, the mixture was calcined at 900° C. for 2 hours in an oxygen atmosphere. Thereafter, it was ground in a ball mill and dried. Further, it was calcined at 900° C. for 2 hours in an oxygen atmosphere, pulverized in a ball mill, and dried.

BaPbO,粉体が得られた。得られたBaPbO3 
ioogに対してPVAの10%溶液を10g添加し、
溶剤を加えてペーストとした。さらに、これらの例では
、前記PA8〜例10と同様、接着強度を向上させる目
的でガラスフリットを添加し、また、異なる焼付温度=
800℃(例11)、850℃(例12)、900℃(
例13)及び950℃(例14)を適用した。
BaPbO powder was obtained. The obtained BaPbO3
Add 10g of 10% solution of PVA to ioog,
A solvent was added to make a paste. Furthermore, in these examples, glass frit was added for the purpose of improving adhesive strength, as in PA8 to Example 10, and different baking temperatures were used.
800°C (Example 11), 850°C (Example 12), 900°C (
Example 13) and 950°C (Example 14) were applied.

下記の第1表及び添付の第1図に示すような望ましくな
い結果が得られた。
Undesirable results were obtained as shown in Table 1 below and Figure 1 attached.

皿よj」比較例) 前記例11〜例14に記載のものと同一の方法で試料を
作成した。但し、本例の場合、Baとpbのモル比が1
:1.2(Pbリッチ)となるように調整し、また、8
50℃の焼付温度を適用した。得られた結果を次の第1
表に示す。
Comparative Example) Samples were prepared in the same manner as described in Examples 11 to 14 above. However, in the case of this example, the molar ratio of Ba and pb is 1
: 1.2 (Pb rich), and 8
A baking temperature of 50°C was applied. The obtained results are as follows:
Shown in the table.

第1去 I     BaPbO3       700   
 6.6 Xl0− ’    7502    Ba
PbO57505,6X10−コ   耐3     
    BaPbO,8006,0xlO−コ    
   7604    BaPbO18506,3xl
O−’    7605         BaPbO
39007,9xlO−り       7606  
  BaPb、 、203    750    7.
2xlO−’    7407    BaPb、、、
0.    850    8.6xlO−’    
7408        BaPbOコ+力゛テス71
7.、)      700          6.
7X10−’         7509      
 BaPbO5+fp’テス7リツト     750
         6.lX10−’        
75010       BaPbO5+jp’テス7
リツト     800         6.3xl
O−’        75011(上ヒ華”1jlf
)   BaPb!Jx+lj’テスフリ、)    
  800         6.2xlO−2750
12(11’N)   BaPbO5+6’テス7リツ
ト     850         1.6xlO−
”        75013(上ヒaイ’if)  
 BaPbO5+9’テス7す、)      900
         2.0刈0−2       75
014(上ヒMU   BaPbO3 +1’テスフリ
、)      950         5.lX1
0−2      76015(上ヒ華交f!K)  
 BaPb+ 、203+6’テス7すJ   850
         2.5xlO−2740上記の表や
第1図から、本発明方法により作成した素子は焼付温度
の影響が少なく、したがって、はぼフラットな比抵抗を
奏し得ること、また、これとは対照的に、従来方法によ
り作成した素子は焼付温度の影響が大であり比抵抗も大
きいことが判る。さらに、本発明方法のこの効果は、p
bがリッチな系、そしてガラスフリットを添加した系に
ついても同様に達成し得るということが判る。
First step I BaPbO3 700
6.6 Xl0-' 7502 Ba
PbO57505, 6X10-Co Resistance 3
BaPbO, 8006, 0xlO-co
7604 BaPbO18506,3xl
O-' 7605 BaPbO
39007, 9xlO-ri 7606
BaPb, , 203 750 7.
2xlO-' 7407 BaPb,,,
0. 850 8.6xlO-'
7408 BaPbO + force test 71
7. ) 700 6.
7X10-' 7509
BaPbO5 + fp' test 7 littutes 750
6. lX10-'
75010 BaPbO5+jp'tes7
Ritsu 800 6.3xl
O-' 75011 (Kamihika"1jlf
) BaPb! Jx+lj'Tesufuri,)
800 6.2xlO-2750
12 (11'N) BaPbO5+6'test 7 lits 850 1.6xlO-
” 75013 (upper hi ai'if)
BaPbO5+9'Tess7su,) 900
2.0 mowing 0-2 75
014 (Upper MU BaPbO3 +1'Tesfuri,) 950 5. lX1
0-2 76015 (Kamihi Hanakko f!K)
BaPb+, 203+6'Tess7suJ 850
2.5xlO-2740 From the above table and FIG. It can be seen that the elements produced by the conventional method are greatly influenced by the baking temperature and have a large specific resistance. Furthermore, this effect of the method of the invention is due to p
It can be seen that similar results can be achieved for b-rich systems and systems to which glass frit is added.

また、比抵抗が最小となる焼付温度で従来方法と本発明
方法を比較すると、本発明方法では焼付温度を約100
℃以上下げることが可能となり、低温での焼付が可能と
なることから、Pbの飛散等による組成変動の影響が少
なく、したがって、低コストでBaPbO3系組成物を
得ることができる。
Furthermore, when comparing the conventional method and the method of the present invention at the baking temperature at which the specific resistance is minimized, the method of the present invention has a baking temperature of approximately 100%.
Since it is possible to lower the temperature by more than .degree. C. and to perform baking at a low temperature, there is little influence of compositional fluctuations due to scattering of Pb, etc., and therefore a BaPbO3-based composition can be obtained at low cost.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によれば、比抵抗の焼付温度依存性を小さく抑え
ることが可能となり、また、従来に比べ比抵抗を下げる
ことができる。さらに、ペーストとした非晶質BaPb
O5系組成物は従来に・比べ焼付温度を下げるのに有効
であり実際に約100℃以上も焼付温度を低下させるこ
とができる。さらにまた、本発明では、比抵抗に殆んど
影響を及ぼすことなくガラスフリット等の添加剤を使用
することができるので、接着強度の向上を得ることがで
きる。
According to the present invention, it is possible to suppress the baking temperature dependence of resistivity to a low level, and it is also possible to lower resistivity compared to the conventional method. Furthermore, amorphous BaPb as a paste
O5-based compositions are effective in lowering the baking temperature compared to conventional compositions, and can actually lower the baking temperature by about 100°C or more. Furthermore, in the present invention, since additives such as glass frit can be used with almost no effect on specific resistance, it is possible to improve adhesive strength.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、本発明方法及び従来方法により製造した高温
PTC材料の比抵抗の焼付温度依存性を示したグラフで
ある。
FIG. 1 is a graph showing the baking temperature dependence of resistivity of high-temperature PTC materials produced by the method of the present invention and the conventional method.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、BaPbO_3系組成物からなる高温PTC材料を
製造する方法であって、溶射法により得た非晶質BaP
bO_3系組成物をその融点を下廻る温度で加熱処理す
ることにより結晶化する工程を含むことを特徴とする高
温PTC材料の製法。 2、前記非晶質BaPbO_3系組成物をペースト化し
た後に加熱処理を行う、特許請求の範囲第1項に記載の
製法。 3、前記非晶質BaPbO_3系組成物のペーストにガ
ラスフリットを添加する、特許請求の範囲第2項に記載
の製法。
[Claims] 1. A method for producing a high-temperature PTC material consisting of a BaPbO_3-based composition, which comprises amorphous BaP obtained by a thermal spraying method.
A method for producing a high-temperature PTC material, comprising the step of crystallizing a bO_3-based composition by heat-treating it at a temperature below its melting point. 2. The manufacturing method according to claim 1, wherein heat treatment is performed after the amorphous BaPbO_3-based composition is made into a paste. 3. The manufacturing method according to claim 2, wherein a glass frit is added to the paste of the amorphous BaPbO_3-based composition.
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