JPS63187603A - 耐酸化性に優れた永久磁石及びその製造方法 - Google Patents
耐酸化性に優れた永久磁石及びその製造方法Info
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- JPS63187603A JPS63187603A JP1870887A JP1870887A JPS63187603A JP S63187603 A JPS63187603 A JP S63187603A JP 1870887 A JP1870887 A JP 1870887A JP 1870887 A JP1870887 A JP 1870887A JP S63187603 A JPS63187603 A JP S63187603A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はNd2Fe、4B系合金で代表される希土類元
素(R)と遷移金属(T)とからなるR2T14B 系
金属間化合物磁石に関し、特に耐酸化性を改善したR
、 Fe 、 B系永久磁2石に関するものである。
素(R)と遷移金属(T)とからなるR2T14B 系
金属間化合物磁石に関し、特に耐酸化性を改善したR
、 Fe 、 B系永久磁2石に関するものである。
Nd−Fe−Bで代表されるR−Fe−B 系磁石は。
従来の希土類永久磁石であるSm−Co系磁石に比較し
て高い磁気特性を有する。しかしながら、磁石合金は組
織中極めて酸化し易いNd−Fe固溶体相を含み、さら
にR2Fe14Bも酸化し易いため、磁気回路などの装
置に組み込んだ場合+Sm−Coに比較して磁石の酸化
による特性の劣化及びばらつきが大きい。さらに、磁石
から発生した酸化物の飛散による周辺部品への汚染を引
き起こす。
て高い磁気特性を有する。しかしながら、磁石合金は組
織中極めて酸化し易いNd−Fe固溶体相を含み、さら
にR2Fe14Bも酸化し易いため、磁気回路などの装
置に組み込んだ場合+Sm−Coに比較して磁石の酸化
による特性の劣化及びばらつきが大きい。さらに、磁石
から発生した酸化物の飛散による周辺部品への汚染を引
き起こす。
この腐食性を改善する方法として、特開昭60−544
06号公報や特開昭60−6390号公報が提案されて
いる。
06号公報や特開昭60−6390号公報が提案されて
いる。
しかしながら、上述の公報に提案されている耐酸化性皮
膜は、皮膜形成工程中で多量の水を使用するため、処理
工程中で磁石材料が酸化する場合が多く、耐酸化性が十
分とは言い難い。
膜は、皮膜形成工程中で多量の水を使用するため、処理
工程中で磁石材料が酸化する場合が多く、耐酸化性が十
分とは言い難い。
また、防錆表面処理の一般的方法である塗装法では、塗
料の基材が有機高分子であるため金属との親和性が不十
分で、磁石の部品化工程や使用時において亀裂や剥離が
生じ易いこと、また特に反応硬化型の塗料の場合は痕跡
種度の未反応の官能基の経時変化がサビ発生の原因とな
ることもあシ。
料の基材が有機高分子であるため金属との親和性が不十
分で、磁石の部品化工程や使用時において亀裂や剥離が
生じ易いこと、また特に反応硬化型の塗料の場合は痕跡
種度の未反応の官能基の経時変化がサビ発生の原因とな
ることもあシ。
殊にこのような合金系では信頼性が不十分である。
さらに、スパッター、イオウ蒸着法を用いた金属皮膜形
成による酸化防止法は、磁石全面への均一コーティング
が困難であること、また被覆層組織が下地面に垂直方向
に方向性を持ち、被覆層に微細な間隙が生じ、十分な耐
食性が期待できない等の問題がある。
成による酸化防止法は、磁石全面への均一コーティング
が困難であること、また被覆層組織が下地面に垂直方向
に方向性を持ち、被覆層に微細な間隙が生じ、十分な耐
食性が期待できない等の問題がある。
そこで2本発明の技術的課題は、上記欠点に鑑み水、酸
素の影響を被ることなく、接着強度の優〔問題を解決す
るための手段〕 本発明によれば、R−Fe−Bを主成分とするR2T1
4B 系合金(Rはイツトリウムを含む希土類元素、
Tは遷移金属、・Bはホウ素を表わす。)からなる焼結
型の永久磁石の表面に皮膜を形成された耐酸化性に優れ
た永久磁石において、前記皮膜は、有機物のプラズマ重
合反応によシ生成された有機高分子皮膜であることを特
徴とする耐酸化性に優れた永久磁石が得られる。
素の影響を被ることなく、接着強度の優〔問題を解決す
るための手段〕 本発明によれば、R−Fe−Bを主成分とするR2T1
4B 系合金(Rはイツトリウムを含む希土類元素、
Tは遷移金属、・Bはホウ素を表わす。)からなる焼結
型の永久磁石の表面に皮膜を形成された耐酸化性に優れ
た永久磁石において、前記皮膜は、有機物のプラズマ重
合反応によシ生成された有機高分子皮膜であることを特
徴とする耐酸化性に優れた永久磁石が得られる。
また本発明によれば、R−Fe−B を主成分とする
R2T14B系合金(Rはイツトリウムを含む希土類元
素、Tは遷移金属、Bはホウ素を表わす。)からなる焼
結型の永久磁石の表面に有機皮膜を形成する耐酸化性に
優れた永久磁石の製造方法において、前記永久磁石を準
備する準備工程と、有機物蒸気の存在下のグロー放電中
に、前記永久磁石を通し、前記有機物蒸気のプラズマ重
合反応により生成される有機高分子皮膜を前記永久磁石
の表面に形成する有機皮膜形成工程とを有することを特
徴とする耐酸化性に優れた永久磁石の製造方法が得られ
る。
R2T14B系合金(Rはイツトリウムを含む希土類元
素、Tは遷移金属、Bはホウ素を表わす。)からなる焼
結型の永久磁石の表面に有機皮膜を形成する耐酸化性に
優れた永久磁石の製造方法において、前記永久磁石を準
備する準備工程と、有機物蒸気の存在下のグロー放電中
に、前記永久磁石を通し、前記有機物蒸気のプラズマ重
合反応により生成される有機高分子皮膜を前記永久磁石
の表面に形成する有機皮膜形成工程とを有することを特
徴とする耐酸化性に優れた永久磁石の製造方法が得られ
る。
即ち2本発明によれば、グロー放電中にガス状の有機物
を導入すると有機高分子の薄膜を生成することができる
。このような有機高分子の合成法はプラズマ重合と呼ば
れ、新規な薄膜製造2表面処理法として近年実用化に向
けての検討がなされている。この方法によって固体表面
に形成した高分子膜は従来の有機高分子の製造法によっ
ては得られない次のような特徴を有する。
を導入すると有機高分子の薄膜を生成することができる
。このような有機高分子の合成法はプラズマ重合と呼ば
れ、新規な薄膜製造2表面処理法として近年実用化に向
けての検討がなされている。この方法によって固体表面
に形成した高分子膜は従来の有機高分子の製造法によっ
ては得られない次のような特徴を有する。
(1)官能基をもたない化合物からでも高分子が生成す
る。
る。
(2)直接、基板上に高分子を生成し得る。
(3)グロー放電の条件によって同一出発物質から異な
った化学構造を有する高分子を生成し得る。
った化学構造を有する高分子を生成し得る。
本発明者らはこれらの特徴を考慮して、このような反応
系にR−Fe−Bを主成分とするR2T14B系合金の
焼結型永久磁石を導入することにより、該磁石表面に高
分子薄膜を形成することを鋭意検討の結果、意外にもグ
ロー放電によって該磁石表面が活性化され、前記の特徴
の他に、薄膜が、塗装法などの方法に比較すると非常に
高い接着性を具備することを見出し2本発明を完成する
に至った。
系にR−Fe−Bを主成分とするR2T14B系合金の
焼結型永久磁石を導入することにより、該磁石表面に高
分子薄膜を形成することを鋭意検討の結果、意外にもグ
ロー放電によって該磁石表面が活性化され、前記の特徴
の他に、薄膜が、塗装法などの方法に比較すると非常に
高い接着性を具備することを見出し2本発明を完成する
に至った。
即ち2本発明はR−Fe −B 系焼結磁石の光面に
工程中で、水及び酸素の影響を受けることなく。
工程中で、水及び酸素の影響を受けることなく。
従来の有機高分子てよる表面処理法に比較してはるかに
高い耐酸化性、信頼性を具備した有機高分子皮膜の形成
方法を提供するものである。
高い耐酸化性、信頼性を具備した有機高分子皮膜の形成
方法を提供するものである。
その成膜工程は、まず磁石をトリクレン等の有機溶剤に
て、脱脂洗浄を行う。次に磁石を所要の電極を具備した
反応管の内部に置いた後に、ロータリーポンプ、拡散ポ
ンプにて真空引を行い反応管の内部を1O−3torr
以下とする。そして、この状態に保持した反応管内に所
要の圧力となるように有機物を導入し、グロー放電を行
い、有機高分子で被覆された磁石を得る。
て、脱脂洗浄を行う。次に磁石を所要の電極を具備した
反応管の内部に置いた後に、ロータリーポンプ、拡散ポ
ンプにて真空引を行い反応管の内部を1O−3torr
以下とする。そして、この状態に保持した反応管内に所
要の圧力となるように有機物を導入し、グロー放電を行
い、有機高分子で被覆された磁石を得る。
ここで、処理を施す磁石は、溶剤で洗浄したままでも、
グロー放電を行うことによって表面が活性化されるので
、接着性の良好な皮膜が得られるが、有機物の種類によ
っては予め別途に前処理を行って有機物と化学的に結合
し得る官能基を導入することも可能である。例えば、官
能基を有する溶剤に浸漬し、加熱乾燥を施すものである
。具体的には有機物がビニル基を有するものである場合
は磁石表面にビニル基を、有機物がエポキシ基を有する
ものである場合は磁石表面にアミン基を導入するのが効
果的である。このような目的に使用される表面処理剤と
して、前者の場合はビニルトリエトキシシラン、後者の
場合はγ−アミノプロピルトリメトキシシラン等が挙げ
られるが、これらに限定されるものではない。
グロー放電を行うことによって表面が活性化されるので
、接着性の良好な皮膜が得られるが、有機物の種類によ
っては予め別途に前処理を行って有機物と化学的に結合
し得る官能基を導入することも可能である。例えば、官
能基を有する溶剤に浸漬し、加熱乾燥を施すものである
。具体的には有機物がビニル基を有するものである場合
は磁石表面にビニル基を、有機物がエポキシ基を有する
ものである場合は磁石表面にアミン基を導入するのが効
果的である。このような目的に使用される表面処理剤と
して、前者の場合はビニルトリエトキシシラン、後者の
場合はγ−アミノプロピルトリメトキシシラン等が挙げ
られるが、これらに限定されるものではない。
次にツ反応に使用する有機物としては、前述のように高
分子化するための官能基を持たない化合物でも使用でき
るのがこの方法の大きな特徴であることから2種々の有
機化合物を挙げることができる。例として、ビニル基を
有する化合物としては、4−ビニルピリジン、スチレン
、N−ビニルピロリドン等が、2置換エチレンとしては
α−メチルスチレン、メタクリル酸等が、また、いわゆ
るビニル系モノマー以外の化合物としては、4−メチル
ベンジルアミン、5−エチル−2−メチルピリジン、フ
ラン、n−ヘキサン、ジメチルスルホキシド等が挙げら
れるが、これらに限定されるものではない。また、これ
らの化合物の反応管内への導入方法は2通常は蒸気とし
て導入するという方法が取られるが、該有機化合物が気
化し難い場合は霧状即ち液/気コロイドとして導入して
も良い。
分子化するための官能基を持たない化合物でも使用でき
るのがこの方法の大きな特徴であることから2種々の有
機化合物を挙げることができる。例として、ビニル基を
有する化合物としては、4−ビニルピリジン、スチレン
、N−ビニルピロリドン等が、2置換エチレンとしては
α−メチルスチレン、メタクリル酸等が、また、いわゆ
るビニル系モノマー以外の化合物としては、4−メチル
ベンジルアミン、5−エチル−2−メチルピリジン、フ
ラン、n−ヘキサン、ジメチルスルホキシド等が挙げら
れるが、これらに限定されるものではない。また、これ
らの化合物の反応管内への導入方法は2通常は蒸気とし
て導入するという方法が取られるが、該有機化合物が気
化し難い場合は霧状即ち液/気コロイドとして導入して
も良い。
そして、グロー放電の出力としては2本方法は。
同一の有機化合物を使用しても放電のエネルギーによる
プラズマ重合反応によって、生成する高分子膜の化学的
構造や物性が異なってくるというのも一つの特徴である
ため、使用する化合物等により適切な条件を選ぶ必要が
ある。しかし、あまり出力が小さいと反応が起こり難く
、あまシ出力が大きいと高分子生成反応よりも原料物質
の分解反応のみ優先して起こるので、自ずから限定され
。
プラズマ重合反応によって、生成する高分子膜の化学的
構造や物性が異なってくるというのも一つの特徴である
ため、使用する化合物等により適切な条件を選ぶ必要が
ある。しかし、あまり出力が小さいと反応が起こり難く
、あまシ出力が大きいと高分子生成反応よりも原料物質
の分解反応のみ優先して起こるので、自ずから限定され
。
10〜300W程度とするのが適当である。
このようにして得られた高分子皮膜は、そのままでも耐
酸化膜として十分な接着性と信頼性を有するが、該高分
子の融点以下で熱処理を施すことによυ、皮膜が緻密に
なシ、信頼性が向上する場合もある。また皮膜の厚みは
、耐酸化膜としての信頼性、経済性製品の寸法精度を考
慮して決定されるが、十分な耐酸化性を持たせるために
は5μm以上とすることが望ましい。
酸化膜として十分な接着性と信頼性を有するが、該高分
子の融点以下で熱処理を施すことによυ、皮膜が緻密に
なシ、信頼性が向上する場合もある。また皮膜の厚みは
、耐酸化膜としての信頼性、経済性製品の寸法精度を考
慮して決定されるが、十分な耐酸化性を持たせるために
は5μm以上とすることが望ましい。
以下に本発明の実施例を示し、説明する。
〈実施例1〉
純度95係以上のNd 、電解鉄、フェロボロンを所定
量秤量し、アルゴン雰囲気中、高周波加熱によシ、溶解
して鋳込み、64.9 wt % Fe −34wt%
Nd −1,1wt%B合金のインゴットを得た。次に
。
量秤量し、アルゴン雰囲気中、高周波加熱によシ、溶解
して鋳込み、64.9 wt % Fe −34wt%
Nd −1,1wt%B合金のインゴットを得た。次に
。
このインゴットを粗粉砕し、ゴールミルにより有機溶剤
とともに湿式粉砕し平均粒径3μmの微粉末を得た。こ
の粉末を20 koeの磁界中r 1 ton/7F+
2の圧力で成形した。得られた成形体を1050〜11
00℃、2時間真空焼結後、炉冷して焼結体を得た。
とともに湿式粉砕し平均粒径3μmの微粉末を得た。こ
の粉末を20 koeの磁界中r 1 ton/7F+
2の圧力で成形した。得られた成形体を1050〜11
00℃、2時間真空焼結後、炉冷して焼結体を得た。
この焼結体を500〜600℃で1時間熱処理した後急
冷した。そして、得られた永久磁石から10mmX 1
0mmX 10rrvnの寸法に試験片を切シ出した。
冷した。そして、得られた永久磁石から10mmX 1
0mmX 10rrvnの寸法に試験片を切シ出した。
上記試験片をトリクレンで洗浄脱脂後2反応管内に設置
した。次に、この反応管内を真空引して5 X IQ
torr とした後、メタクリル酸メチルモノマー
の蒸気を導入し2反応管内を0.1 torr とし
て出力60Wでグロー放電を40分間行った。
した。次に、この反応管内を真空引して5 X IQ
torr とした後、メタクリル酸メチルモノマー
の蒸気を導入し2反応管内を0.1 torr とし
て出力60Wでグロー放電を40分間行った。
この間、モノマーが消費されることによシ99反応管内
減圧したので、 O,L torrの圧力を保持するよ
うに適宜モノマーを補給した。このようにして得た高分
子皮膜の厚みを測定したところ、最小で11μm、最大
で14μmであった。
減圧したので、 O,L torrの圧力を保持するよ
うに適宜モノマーを補給した。このようにして得た高分
子皮膜の厚みを測定したところ、最小で11μm、最大
で14μmであった。
〈実施例2〉
実施例1と同様に調整した永久磁石試験片(焼結体)を
アリルトリエトキシシラン液に浸漬シ。
アリルトリエトキシシラン液に浸漬シ。
加熱乾燥させて前(表面)処理を行って、約2μmの厚
みの表面処理層を付着させた。この後実施例1とまった
く同じ手法でグロー放電を通し高分子皮膜を形成した磁
石を得た。
みの表面処理層を付着させた。この後実施例1とまった
く同じ手法でグロー放電を通し高分子皮膜を形成した磁
石を得た。
〈実施例3〉
実施例1と同様に調整した試験片を、トリクレンで洗浄
脱脂後2反応管内に設置した。次に、この反応管内を真
空引して5 X 10−’torrとした後。
脱脂後2反応管内に設置した。次に、この反応管内を真
空引して5 X 10−’torrとした後。
プロパンを導入し9反応管内を0.2 torr とし
て出力40Wでグロー放電を50分間行った。この間、
プロパンの消費によシ反応管内の圧力が低下しないよう
に適宜プロパンを補給した。このようにして得た高分子
皮膜の厚みを測定したところ。
て出力40Wでグロー放電を50分間行った。この間、
プロパンの消費によシ反応管内の圧力が低下しないよう
に適宜プロパンを補給した。このようにして得た高分子
皮膜の厚みを測定したところ。
最小で14μm、最大で17μmであった。
〈実施例4〉
グロー放電の出力を70Wとした他は実施例3とまった
く同じ操作を行って、最小で12μm。
く同じ操作を行って、最小で12μm。
最大で14μmの厚みを有する皮膜を得た。
〈実施例5〉
実施例1と同様に調整した試験片をトリクレンで洗浄脱
脂後2反応管内に設置した。次に、この反応管内を真空
引して5 X 10−’torr とした後。
脂後2反応管内に設置した。次に、この反応管内を真空
引して5 X 10−’torr とした後。
テトラフルオロメタンを導入し9反応管内を0.1to
rr として出力120Wでグロー放電を40分間行っ
た。この間実施例1〜4と同様にテトラフルオロメタン
を補給した。この結果最小で12μm、最大で15μm
の厚みを持つ皮膜を得た。
rr として出力120Wでグロー放電を40分間行っ
た。この間実施例1〜4と同様にテトラフルオロメタン
を補給した。この結果最小で12μm、最大で15μm
の厚みを持つ皮膜を得た。
〈実施例6〉
実施例5で得た皮膜を280℃×30分間Ar雰囲気中
で熱処理した。
で熱処理した。
く比較例1〉
実施例1と同様に調整した試験片に粘度平均分子量約3
0,000のポリメタクリル酸メチルの15wt%)ル
エン溶液を、乾燥後の塗膜の厚みが15〜25μmとな
るように塗布した。
0,000のポリメタクリル酸メチルの15wt%)ル
エン溶液を、乾燥後の塗膜の厚みが15〜25μmとな
るように塗布した。
以上の実施例1〜6.比較例1で得られた皮膜の物性を
次に述べる方法で評価した。
次に述べる方法で評価した。
(1)接着強度
試験片を5S−41板にアラルダイトAV−138(主
剤) 、 HV−998(硬化剤)(いずれも商品名)
を用いて接着した後剪断加圧試験を行った。
剤) 、 HV−998(硬化剤)(いずれも商品名)
を用いて接着した後剪断加圧試験を行った。
(2)塩水噴霧試験
JIS −=Z −2371に準拠し、24時間、5チ
食塩水を噴霧し2発錆の有無を観察した。
食塩水を噴霧し2発錆の有無を観察した。
(3)溶媒抽出試験
試験片を80℃に保持したキシレンに1時間浸漬し2重
量の変化を調べた。結果は抽出残率で表わし、その計算
法を次に示す。
量の変化を調べた。結果は抽出残率で表わし、その計算
法を次に示す。
抽出残率(%)=
これらの試験結果を第1表に示す。
以下余日
第 1 表
第1表に示したように、実施例2のように表面処理した
方が皮膜が下地に化学的に結合する度合が増加(実施例
1との比較)することや、同じ出発物質によっても皮膜
の物性が変化する(実施例3.4では架橋度に差がある
と推定される)ことや、熱処理によって皮膜を緻密化で
きることが分かる。また、いずれにしても通常の塗装法
よシも優れた皮膜となっていることも明らかである。
方が皮膜が下地に化学的に結合する度合が増加(実施例
1との比較)することや、同じ出発物質によっても皮膜
の物性が変化する(実施例3.4では架橋度に差がある
と推定される)ことや、熱処理によって皮膜を緻密化で
きることが分かる。また、いずれにしても通常の塗装法
よシも優れた皮膜となっていることも明らかである。
以上の説明のとおシ1本発明によれば、水、酸素の影響
を被ることなく、接着強度の優れた有機高分子皮膜で、
永久磁石の表面を皮膜することができるから2耐酸化性
に優れた永久磁石を提供することができる。
を被ることなく、接着強度の優れた有機高分子皮膜で、
永久磁石の表面を皮膜することができるから2耐酸化性
に優れた永久磁石を提供することができる。
h、7
手続補正書く自発)
昭和62年9月8日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、R−Fe−Bを主成分とするR_2T_1_4B
系合金(Rはイットリウムを含む希土類元素、T_1_
2遷移金属、Bはホウ素を表わす。)からなる焼結型の
永久磁石の表面に皮膜を形成された耐酸化性に優れた永
久磁石において、前記皮膜は、有機物のプラズマ重合反
応により生成された有機高分子皮膜であることを特徴と
する耐酸化性に優れた永久磁石。 2、特許請求の範囲第1項記載の耐酸化性に優れた永
久磁石において、前記有機高分子皮膜は、前記有機物と
化学的及び物理的に相互作用し得る官能基からなる中間
膜を介して前記永久磁石の表面に形成されていることを
特徴とする耐酸化性に優れた永久磁石。 3、R−Fe−Bを主成分とするR_2T_1_4B
系合金(Rはイットリウムを含む希土類元素、Tは遷移
金属、Bはホウ素を表わす。)からなる焼結型の永久磁
石の表面に有機皮膜を形成する耐酸化性に優れた永久磁
石の製造方法において、前記永久磁石を準備する準備工
程と、有機物蒸気の存在下のグロー放電中に、前記永久
磁石を通し、前記有機物蒸気のプラズマ重合反応により
生成される有機高分子皮膜を前記永久磁石の表面に形成
する有機皮膜形成工程とを有することを特徴とする耐酸
化性に優れた永久磁石の製造方法。 4、特許請求の範囲第3項記載の耐酸化性に優れた永
久磁石の製造方法において、前記有機皮膜形成工程は、
前記プラズマ重合反応後、生成された前記有機高分子皮
膜に熱処理を施こす熱処理工程を含むことを特徴とする
耐酸化性に優れた永久磁石の製造方法。 5、特許請求の範囲第3項又は第4項記載の耐酸化性
に優れた永久磁石の製造方法において、前記準備工程は
、前記永久磁石を、前記有機物蒸気と化学的及び物理的
に相互作用し得る官能基を有する溶剤に浸漬した後、加
熱乾燥して中間膜を形成する前処理工程を含むことを特
徴とする耐酸化性に優れた永久磁石の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1870887A JPS63187603A (ja) | 1987-01-30 | 1987-01-30 | 耐酸化性に優れた永久磁石及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1870887A JPS63187603A (ja) | 1987-01-30 | 1987-01-30 | 耐酸化性に優れた永久磁石及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63187603A true JPS63187603A (ja) | 1988-08-03 |
Family
ID=11979149
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1870887A Pending JPS63187603A (ja) | 1987-01-30 | 1987-01-30 | 耐酸化性に優れた永久磁石及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63187603A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4990876A (en) * | 1989-09-15 | 1991-02-05 | Eastman Kodak Company | Magnetic brush, inner core therefor, and method for making such core |
WO2007077602A1 (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Aisin Seiki Kabushiki Kaisha | 耐食性希土類磁石 |
US7285674B2 (en) * | 2004-05-06 | 2007-10-23 | Interuniversitair Microelektronica Centrum (Imec) | Silane molecules with pre-activated and protein-resistant functionalities and silane films comprising such molecules |
-
1987
- 1987-01-30 JP JP1870887A patent/JPS63187603A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4990876A (en) * | 1989-09-15 | 1991-02-05 | Eastman Kodak Company | Magnetic brush, inner core therefor, and method for making such core |
US7285674B2 (en) * | 2004-05-06 | 2007-10-23 | Interuniversitair Microelektronica Centrum (Imec) | Silane molecules with pre-activated and protein-resistant functionalities and silane films comprising such molecules |
WO2007077602A1 (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Aisin Seiki Kabushiki Kaisha | 耐食性希土類磁石 |
JPWO2007077602A1 (ja) * | 2005-12-28 | 2009-06-04 | アイシン精機株式会社 | 耐食性希土類磁石 |
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