JPS63177433A - Detecting method for parallelism of stage to bonding tool - Google Patents

Detecting method for parallelism of stage to bonding tool

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JPS63177433A
JPS63177433A JP788387A JP788387A JPS63177433A JP S63177433 A JPS63177433 A JP S63177433A JP 788387 A JP788387 A JP 788387A JP 788387 A JP788387 A JP 788387A JP S63177433 A JPS63177433 A JP S63177433A
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JP
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stage
parallelism
bonding tool
transfer plate
bump transfer
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JP788387A
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Hiroshi Yuitsuka
結束 博史
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Toshiba Corp
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Abstract

PURPOSE:To easily, accurately detect a parallelism in an actual manner by placing a bump transfer board in which a heat resistant resin film is bonded onto a stage, and thermally pressing the board by a bonding tool to detect the parallelism from the state of the board. CONSTITUTION:A method for detecting the parallelism of a stage 3 set on a table 1 to a bonding tool 9 for TAB-connecting a semiconductor chip placed on the stage 3 to a film carrier comprises placing a bump transfer board 7 in which a heat resistant resin film is bonded onto the stage 3, and thermally pressing the board 7 by the tool 9 to detect the parallelism from the state of the board 7. For example, a resin film 15 is bonded with an adhesive onto the board 7. Then, the board 7 is placed on the stage 3 to thermally press it by the tool 9. As a result, the pressing mark 17 of the tool face 11 is formed on the film 15, and the parallelism is detected by observing the mark 17.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) この発明は、例えばテープキャリア方式によりフィルム
キャリアに半導体チップを接続させるボンディングツー
ルと、半導体チップが載置されるステージとの平行度検
出装置に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Objective of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention provides a bonding tool that connects a semiconductor chip to a film carrier using, for example, a tape carrier method, and a stage on which the semiconductor chip is placed. The present invention relates to a parallelism detection device.

(従来の技術) 近年、半導体技術の発展により、電子装置を小型で高機
能にする要求から、半導体チップの薄型高密度実装化が
進んでいる。この薄型高密度実装化を実現するための手
段として、例えば半導体チップをフィルムキャリアに取
付けて実装する所謂テープキャリア方式(TAB>があ
る。
(Prior Art) In recent years, with the development of semiconductor technology, semiconductor chips have become thinner and more densely packaged due to the demand for smaller and more highly functional electronic devices. As a means for realizing this thin, high-density packaging, there is, for example, the so-called tape carrier method (TAB) in which a semiconductor chip is mounted on a film carrier.

このようなテープキャリア方式は、第4図に示すように
、テーブル101上に設置されたステージ103上に半
導体チップ105を6X置し、この半導体チップ105
とフィルムキャリア107に形成された孔部109との
位置合わせを行った後、ボンディングツール111のツ
ール面113により半導体チップ105の電極パッド1
15とフィルムキャリア107のリード117とを加熱
押圧して金属共晶結合せしめるものである。なお、11
8は接続媒体としてのバンプである。
As shown in FIG. 4, in this tape carrier method, a semiconductor chip 105 is placed 6X on a stage 103 placed on a table 101, and the semiconductor chip 105 is
After aligning the holes 109 formed in the film carrier 107, the electrode pads 1 of the semiconductor chip 105 are aligned with the tool surface 113 of the bonding tool 111.
15 and the lead 117 of the film carrier 107 are heated and pressed to form a metal eutectic bond. In addition, 11
8 is a bump as a connection medium.

ところで、電極パッド115とリード117との接続は
数十μm間で行われるため、ステージ103とボンディ
ングツール111との平行度として高い精度(数μl程
度)が要求される。すなわち、両者間が相対的に傾いて
いると、例えば各リード117に加わる圧力分布が不均
一となり、リード117と電極パッド115とが接続さ
れない所謂片当り現象が起こる虞れがある。このような
場合、半導体チップ105の電極パッド115に外部と
接続されない部分が生じ、正常な機能を発揮しないとい
う問題がある。
Incidentally, since the connection between the electrode pad 115 and the lead 117 is made within a distance of several tens of micrometers, high accuracy (on the order of several microliters) is required for the parallelism between the stage 103 and the bonding tool 111. That is, if the two are relatively inclined, for example, the pressure applied to each lead 117 will be unevenly distributed, and there is a risk that a so-called uneven contact phenomenon will occur in which the lead 117 and the electrode pad 115 are not connected. In such a case, there is a problem that some portions of the electrode pads 115 of the semiconductor chip 105 are not connected to the outside, and the semiconductor chip 105 does not function normally.

また、ステージ103とボンディングツール111とが
相対的に傾いていると、半導体チップ105のエツジと
リード117とが接触して所謂エツジシュートが発生す
る虞れもある。
Furthermore, if the stage 103 and the bonding tool 111 are tilted relative to each other, there is a risk that the edge of the semiconductor chip 105 and the leads 117 will come into contact with each other, causing a so-called edge shoot.

また、パン7118は例えば第9図に示すようにしてフ
ィルムキャリア107のリード117に転写される。ま
ず、バンプ118が形成されたバンプ転写盤120をス
テージ103上に載置し、一方、ステージ103上にフ
ィルムキャリア107を配設する。そして、このステー
ジ103を図中2点鎖線の位置まで上昇させた後、所定
温度に加熱されたボンディングツール111を加工させ
、リード117をバンプ118に加熱加圧して共晶結合
反応等を起こさせて行われる。
Further, the pan 7118 is transferred to the lead 117 of the film carrier 107 as shown in FIG. 9, for example. First, the bump transfer plate 120 on which the bumps 118 are formed is placed on the stage 103, and on the other hand, the film carrier 107 is placed on the stage 103. After this stage 103 is raised to the position indicated by the two-dot chain line in the figure, the bonding tool 111 heated to a predetermined temperature is processed, and the lead 117 is heated and pressed against the bump 118 to cause a eutectic bonding reaction, etc. will be carried out.

この場合でも、ステージ103とボンディングツール1
11とが相対的に傾いていると、リード117にかかる
圧力分布が不均一となり転写が良好に行われないという
問題がある。
Even in this case, stage 103 and bonding tool 1
If the leads 11 are tilted relative to each other, the pressure applied to the leads 117 will be unevenly distributed, resulting in poor transfer.

これに対し、従来のステージ103とボンディングツー
ル111との平行度の検出は、例えば第5図および第6
図に示すようにして行われている。
In contrast, the conventional detection of parallelism between the stage 103 and the bonding tool 111 is as shown in FIGS. 5 and 6, for example.
This is done as shown in the figure.

すなわち、ステージ103上にすき間ゲージ11.9を
載置し、このすき間ゲージ119に加熱したボンディン
グツール111のツール面113を押付ける。すき間ゲ
ージ119には例えばポリイミドフィルム121が粘着
材123により接続されており、すき間ゲージ119上
に形成されたツール面113の圧痕125又は粘着材1
23の溶は具合を観察して平行度を検出するのである。
That is, the feeler gauge 11.9 is placed on the stage 103, and the tool surface 113 of the heated bonding tool 111 is pressed against the feeler gauge 119. For example, a polyimide film 121 is connected to the feeler gauge 119 with an adhesive 123, and the impression 125 of the tool surface 113 formed on the feeler gauge 119 or the adhesive 1
23, the parallelism is detected by observing the condition.

一方、第7図および第8図に示すように、すき間ゲージ
119の代わりにステージ103上に熱溶融性の接着剤
127が塗布されたフィルム129を使用する方法もあ
る。
On the other hand, as shown in FIGS. 7 and 8, there is also a method of using a film 129 coated with a hot-melt adhesive 127 on the stage 103 instead of the feeler gauge 119.

しかしながら、このような従来のステージ103とボン
ディングツール111との平行度を検出する方法にあっ
ては、すき間ゲージ119をステージ103上に載置す
る際の平行度が異なったまま行われた場合、例えば実際
にバンプ転写盤120よりバンプ118を転写する際の
平行度と異なってしまう虞れがあり、中挟のすき間ゲー
ジ119では特に実際に即した巾方向の平行度検出に熟
練を要していた。
However, in such a conventional method of detecting the parallelism between the stage 103 and the bonding tool 111, if the clearance gauge 119 is placed on the stage 103 with different parallelisms, For example, there is a risk that the parallelism will be different from that when the bumps 118 are actually transferred from the bump transfer plate 120, and the intermediate gap gauge 119 requires special skill to detect the parallelism in the width direction in accordance with the actual situation. Ta.

また、フィルム129を用いる場合にあってはフィルム
129が薄膜であるためカール等の形状のくせが生じや
すく、このくせが接着剤127の溶融状態に影響し、正
確な平行度検出が困難である。
Furthermore, when the film 129 is used, since the film 129 is a thin film, it tends to have curls or other irregularities in shape, and this irregularity affects the melting state of the adhesive 127, making it difficult to accurately detect parallelism. .

さらに、すき間ゲージ119を用いる場合でもフィルム
129を用いる場合においても、ボンディングツール1
11の圧痕125等を検出する部位の面積が狭く、複数
のデータを得るためにはすき間ゲージ119又はフィル
ム129を交換するという煩雑な作業工程を要していた
Furthermore, whether the feeler gauge 119 is used or the film 129 is used, the bonding tool 1
The area for detecting the impressions 125, etc. of No. 11 is small, and in order to obtain a plurality of pieces of data, a complicated process of replacing the feeler gauge 119 or the film 129 is required.

(発明が解決しようとする問題点) 上記のように従来のステージ103とボンディングツー
ル111との平行度を検出する方法は、ボンディングツ
ール111のツール面113でステージ103上の粘着
材123又は接着剤127を押圧した圧痕を観察するこ
とより行なっている。
(Problems to be Solved by the Invention) As described above, the conventional method for detecting the parallelism between the stage 103 and the bonding tool 111 is to This is done by observing the impression made by pressing 127.

このため、実際に即した正確な平行度検出に熟練を要し
、また複数のデータを得るためには煩雑な作業工程が必
要であった。
For this reason, skill is required to accurately detect parallelism in practice, and complicated work steps are required to obtain a plurality of pieces of data.

この発明は、上記問題に着目して゛なされたもので、実
際に即した正確な平行度検出を容易に行なうことができ
るステージとボンディングツールとの平行度検出方法の
提供を目的とする。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problem, and an object of the present invention is to provide a method for detecting parallelism between a stage and a bonding tool, which can easily detect parallelism accurately in practice.

[発明の構成] (問題点を解決するための手段) この発明は、上記問題にW目してなされたもので、テー
ブル上に設置されたステージと、このステージ上に載置
された半導体チップをフィルムキャリアにTAB接続さ
せるボンディングツールとの平行度を検出する方法であ
って、前記ステージ上に耐熱性の樹脂性フィルムが接着
されたバンプ転写盤を載置し、このバンプ転写盤を前記
ボンディングツールにより加熱押圧して該バンプ転写盤
の状態より平行度を検出することとした。
[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) This invention was made in view of the above problems, and includes a stage installed on a table and a semiconductor chip placed on the stage. A method for detecting the parallelism between a bonding tool and a bonding tool for TAB-connecting a film carrier to a film carrier, the bump transfer board having a heat-resistant resin film adhered to it is placed on the stage, and the bump transfer board is connected to the bonding tool. The parallelism was detected from the state of the bump transfer plate by heating and pressing with a tool.

(作用) 上記構成において、バンプ転写盤に耐熱性の樹脂性フィ
ルムを接着し、このバンプ転写盤をステージ上に載置し
てボンディングツールにより加熱押圧する。そして、バ
ンプ転写盤の状態よりステージとボンディングツールと
の平行度を検出する。
(Function) In the above configuration, a heat-resistant resin film is adhered to the bump transfer plate, and the bump transfer plate is placed on a stage and heated and pressed using a bonding tool. Then, the parallelism between the stage and the bonding tool is detected from the state of the bump transfer plate.

(実施例) ゛ 以下図面に基づき、この発明の実施例を詳細に説明する
(Example) ゛Examples of the present invention will be described in detail below based on the drawings.

第1図乃至第3図は、この発明の一実施例に係わるステ
ージとボンディングツールとの平行度検出方法を示して
いる。ここで、第1図はこの発明の概略的全体構成図、
第2図はバンプ転写盤の拡大された斜視図、第3図はボ
ンディングツールの作用説明図である。
1 to 3 show a method for detecting parallelism between a stage and a bonding tool according to an embodiment of the present invention. Here, FIG. 1 is a schematic overall configuration diagram of this invention,
FIG. 2 is an enlarged perspective view of the bump transfer plate, and FIG. 3 is an explanatory diagram of the operation of the bonding tool.

第1図において、テーブル1上にはステージ3が第1図
中X軸方向およびY軸方向に移動可能に設置されている
。ステージ3の上部にはフラット面5が形成され、この
フラット面5にバンプ転写盤7が図外の真空吸着器によ
り真空吸着されている。
In FIG. 1, a stage 3 is installed on a table 1 so as to be movable in the X-axis direction and the Y-axis direction in FIG. A flat surface 5 is formed on the upper part of the stage 3, and a bump transfer plate 7 is vacuum-adsorbed onto this flat surface 5 by a vacuum suction device (not shown).

ステージ5の上方にはボンディングツール9が設けられ
ている。ボンディングツール9はラム部(図示しない)
によって第1図中のY軸方向およびZ軸方向に移動可能
に支持され、第3図に示すようにステージ3上のバンプ
転写盤7を上方から加圧できる構成となっている。また
、ボンディングツール9の先端下部には、表面が研磨さ
れたツール面11が形成されている。
A bonding tool 9 is provided above the stage 5. The bonding tool 9 is a ram part (not shown)
It is supported so as to be movable in the Y-axis direction and the Z-axis direction in FIG. 1, and is configured to be able to press the bump transfer plate 7 on the stage 3 from above, as shown in FIG. 3. Further, a tool surface 11 whose surface is polished is formed at the lower part of the tip of the bonding tool 9.

バンプ転写盤7は例えばバンプを形成可能な一般的なガ
ラスウェハよりなっており、ステージ3と略同じ外径を
なしている。バンプ転写盤7上には接着剤13が全面に
薄く塗布され、ポリイミドフィルム等の耐熱性の樹脂製
フィルム15が接着されている。従って、樹脂製フィル
ム15はステージ3のフラット面5を略同−条件下で再
現することになる。
The bump transfer plate 7 is made of, for example, a general glass wafer on which bumps can be formed, and has approximately the same outer diameter as the stage 3. An adhesive 13 is thinly applied to the entire surface of the bump transfer plate 7, and a heat-resistant resin film 15 such as a polyimide film is adhered thereto. Therefore, the resin film 15 reproduces the flat surface 5 of the stage 3 under substantially the same conditions.

次に作用を説明する。Next, the effect will be explained.

上記構成において、ステージ3とボンディングツール9
との平行度を検出するには次のようにして行う。まず、
バンプ転写盤7上に樹脂製フィルム15を接着剤13に
より接着する。そして、このバンプ転写盤7をステージ
3上に載置してボンディングツール9により加熱押圧す
る。この結果、樹脂製フィルム15上にツール面11の
圧痕17が形成され、この圧痕17を観察することによ
り平行度を検出するのである。
In the above configuration, the stage 3 and the bonding tool 9
To detect the parallelism with first,
A resin film 15 is adhered onto the bump transfer plate 7 using an adhesive 13. Then, this bump transfer plate 7 is placed on the stage 3 and heated and pressed by the bonding tool 9. As a result, an indentation 17 of the tool surface 11 is formed on the resin film 15, and by observing this indentation 17, parallelism is detected.

また、接着剤13をボンディングツール9の加熱温度で
溶融するような融点を持った材料で構成すれば、圧痕1
7の下の接着剤13の溶融状態を観察することにより平
行度を検出することもできる。
Furthermore, if the adhesive 13 is made of a material having a melting point that melts at the heating temperature of the bonding tool 9, the indentation 1
Parallelism can also be detected by observing the melted state of the adhesive 13 under the adhesive 7.

以上のようにこの実施例では、実際に使用されるバンプ
転写盤7を利用してステージ3とボンディングツール9
との平行度を検出するため実際にバンプ転写盤7を使用
する時と同じ条件下での正確な平行度を検出することが
できる。
As described above, in this embodiment, the bump transfer plate 7 that is actually used is used to connect the stage 3 and the bonding tool 9.
Since the parallelism between the bump transfer plate 7 and the bump transfer plate 7 is detected, accurate parallelism can be detected under the same conditions as when the bump transfer plate 7 is actually used.

また、樹脂製フィルム15は接着剤13によりバンプ転
写盤7に接着されているため、樹脂製フィルム15がカ
ールして正確な平行度検出に支障をきたすことがない。
Further, since the resin film 15 is bonded to the bump transfer plate 7 with the adhesive 13, the resin film 15 does not curl and interfere with accurate parallelism detection.

さらに、バンプ転写盤7はステージ3と略同径状をなし
ているため、ステージ3を第1図中X軸又はY軸方向に
移動させることにより複数のボンディングツール9によ
る圧痕17を形成することができる。従って、容易に平
行度検出用の多くのデータが得られ作業工程が簡略化さ
れる。
Further, since the bump transfer plate 7 has approximately the same diameter as the stage 3, the impressions 17 by the plurality of bonding tools 9 can be formed by moving the stage 3 in the X-axis or Y-axis direction in FIG. Can be done. Therefore, a large amount of data for detecting parallelism can be easily obtained and the work process can be simplified.

しかも、バンプ転写117を自動送りする従来の機能を
そのまま適用することができ、機構を複雑にするもので
はなくまた平行度検出の自動化に寄与できる。
Moreover, the conventional function of automatically feeding the bump transfer 117 can be applied as is, without complicating the mechanism and contributing to automation of parallelism detection.

なお、この発明は上記実施例のものに限定されず、例え
ば樹脂製フィルムはポリイミドフィルムでなく他の耐熱
性を備えたフィルムであってもよく、特に接着剤13を
ボンディングツール9の加熱温度と略同−にし溶融状態
を観察しなくてもよい。また、バンプ転写盤7はガラス
ウェハよりなっていなくてもよいことはいうまでもない
Note that the present invention is not limited to the above-mentioned embodiments; for example, the resin film may be not a polyimide film but a film with other heat resistance. It is not necessary to observe the melted state at approximately the same time. Furthermore, it goes without saying that the bump transfer plate 7 does not have to be made of a glass wafer.

[発明の効果コ 以上説明したように、この発明によれば、耐熱性の樹脂
製フィルムが接着されたバンプ転写盤をボンディングツ
ールにより加熱押圧し、該バンプ転写盤の状態より平行
度を検出する構成としたため、実際に即した正確な平行
度の検出を容易に行うことができまた平行度検出の自動
化にも寄与できる。
[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, a bump transfer plate to which a heat-resistant resin film is bonded is heated and pressed by a bonding tool, and the parallelism is detected from the state of the bump transfer plate. Because of this configuration, it is possible to easily detect the parallelism accurately in accordance with the actual situation, and it can also contribute to the automation of the parallelism detection.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明の一実施例に係わるステージとボンデ
ィングツールとの平行度検出方法の概略的全体構成図、
第2図はバンプ転写盤の拡大された斜視図、第3図は作
用説明図、第4図は従来の作用説明図、第5図乃至第8
図は従来例のステージとボンディングツールとの平行度
検出方法を示す図、第9図はフィルムキャリアにバンプ
を転写する作用説明図である。 1・・・テーブル 3・・・ステージ 7・・・バンプ転写盤 9・・・ボンディングツール
FIG. 1 is a schematic overall configuration diagram of a method for detecting parallelism between a stage and a bonding tool according to an embodiment of the present invention;
Fig. 2 is an enlarged perspective view of the bump transfer plate, Fig. 3 is an explanatory diagram of the operation, Fig. 4 is an explanatory diagram of the conventional operation, and Figs.
The figure shows a conventional method for detecting parallelism between a stage and a bonding tool, and FIG. 9 is an explanatory diagram of the operation of transferring bumps to a film carrier. 1...Table 3...Stage 7...Bump transfer plate 9...Bonding tool

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)テーブル上に設置されたステージと、このステー
ジ上に載置された半導体チップをフィルムキャリアにT
AB接続させるボンディングツールとの平行度を検出す
る方法であつて、前記ステージ上に耐熱性の樹脂製フィ
ルムが接着されたバンプ転写盤を載置し、このバンプ転
写盤を前記ボンディングツールにより加熱押圧して該バ
ンプ転写盤の状態より平行度を検出することを特徴とす
るステージとボンディングツールとの平行度検出方法。
(1) A stage installed on a table and a semiconductor chip placed on this stage placed on a film carrier.
A method for detecting parallelism with a bonding tool for A-B connection, in which a bump transfer plate to which a heat-resistant resin film is adhered is placed on the stage, and the bump transfer plate is heated and pressed by the bonding tool. A method for detecting parallelism between a stage and a bonding tool, comprising: detecting parallelism from the state of the bump transfer plate.
(2)前記平行度の検出は、前記バンプ転写盤の前記樹
脂製フィルムに形成された前記ボンディングツールの圧
痕により行うことを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載のステージとボンデイングツールとの平行度検出方法
(2) The detection of the parallelism is performed by the impression of the bonding tool formed on the resin film of the bump transfer plate. Parallelism detection method.
(3)前記バンプ転写盤は、ガラスウェハよりなること
を特徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項記載のス
テージとボンディングツールとの平行度検出方法。
(3) The method for detecting parallelism between a stage and a bonding tool according to claim 1 or 2, wherein the bump transfer plate is made of a glass wafer.
(4)前記樹脂性フィルムは、前記ボンディングツール
の熱で溶融する接着剤により前記バンプ転写盤に接着さ
れていることを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第
3項記載のステージとボンディングツールとの平行度検
出方法。
(4) The stage and bonding according to any one of claims 1 to 3, wherein the resin film is bonded to the bump transfer plate with an adhesive that melts with the heat of the bonding tool. How to detect parallelism with the tool.
(5)前記平行度の検出は、前記接着剤の溶融状態によ
り行うことを特徴とする特許請求の範囲第4項記載のス
テージとボンディングツールとの平行度検出方法。
(5) A method for detecting parallelism between a stage and a bonding tool according to claim 4, wherein the parallelism is detected based on a molten state of the adhesive.
(6)前記樹脂性フィルムは、ポリイミドフィルムであ
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第5項記
載のステージとボンディングツールとの平行度検出方法
(6) The method for detecting parallelism between a stage and a bonding tool according to any one of claims 1 to 5, wherein the resin film is a polyimide film.
JP788387A 1987-01-16 1987-01-16 Detecting method for parallelism of stage to bonding tool Pending JPS63177433A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020148980A1 (en) * 2019-01-15 2020-07-23 キヤノンマシナリー株式会社 Solder planarizing device, die bonder, solder planarizing method, and bonding method

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WO2020148980A1 (en) * 2019-01-15 2020-07-23 キヤノンマシナリー株式会社 Solder planarizing device, die bonder, solder planarizing method, and bonding method

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