JPS63168038A - レ−ザマ−キング装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 （産業上の利用分野） 本発明は、特に樹脂製の半導体パッケージの表面にレー
ザによるマークを付ける時に使用するレーザマーキング
装置に関する。

（従来の技術） 上記レーザマーキング装置は、例えば第４図に示すよう
に、ベース板１に反射ミラー３、シリンドリカルレンズ
４、マスクパターンのマスク５及び集光レンズ６からな
る光学系ユニット２を直列的に固着し、レーザ発振器か
ら照射されるレーザ光を、反射ミラー３で９０″変換し
て反射させ、この反射したレーザ光をシリンドリカルレ
ンズ４で集束させ、この集束光をマスクパターンのマス
ク５を透過させ、この透過光を集光レンズ６で集光させ
て半導体パッケージ７に入射させることにより、半導体
パッケージ７の表面のマーク位置Ｍにレーザによるマー
クを付けるものである。

従来、１−記装置において半導体パッケージ７に対して
マーク位置Ｍを任意に変換したい場合で、新たなマーク
位置Ｍ′との変換ｍｓが小さく、２關程度以下（Ｓ≦２
ＩＩＩＩ）の場合には、第５図に示すように、集光レン
ズ６のみを移動させたい方向に移動させることにより、
新たなマーク位置Ｍ′にマークを付けることができる。

しかしながら、この変換全が多い時には、集光レンズ６
のみを移動させるだけでは不十分である。このため、第
６図に示すように、光学系ユニット２を固着したべ−ス
板１を二本のレール８．８でス［シ行移動自在に支持し
、この移動はを調節することにより十分な変換はを得る
ようにしたり、第７図に示すように、光学系ユニット２
を固着したベース板１を固定しておき、半導体パッケー
ジ７をリードフレーム９を介して前後勤口（１：となし
て、この前後動により十分は変換量を得るようにしたり
、また第８図に示すように、ベース板１に光学系ユニッ
ト２を固着したものを、各通路毎に並列的に設置すると
ともに、各光学系ユニット２にレーザ光を照射するよう
にすることが一般に行われたいた。

（発明が解決しようとする問題点） しかしながら、上記第６図に示すものは、機構的に）Ｍ
雑となるばかりでなく、形状も大きく、しかも全体的に
重量も増大し、史に短い時間での変換が困難であった。

また、第７図に示すものは、半導体パッケージを前後に
移動させるための機構が必要となって装置自体の機構が
複雑となり、価格がアップし、しかも生産能力にも限界
があった。

更に、第８図に示すものは、段数の光学系二ニットが必
要となって、価格の大幅なアップに繋がるばかりでなく
、かなり大きな設置スペースが必要であるといった問題
点があった。

本発明は１−記に鑑み、安価で、トラブルの少ない比較
的簡単な機構であって、しかも微少時間で大きな変換が
できるものを提供することを目的としてなされたもので
ある。

〔発明の構成〕

（問題点を解決するための手段） 本発明は上記目的を達成するため、半導体パッケージの
表面にレーザマークを付ける光学系ユニットをベース板
に直列的に固着するとともに、このベース板の上端を揺
動自在に支承したものである。

（作　用） 而して、半導体パッケージのマーク位置を変換する場合
には、ベース板を揺動させることにより、これに伴って
このベース板に固着した光学系ユニット全体を揺動させ
、これによってこのマーク位置の変換を行うものである
。

（実施例） 第１図は本発明の一実施例を示すもので、ベース板１に
は反射ミラー３、シリンドリカルレンズ４、マスクパタ
ーンのマスク５及び集光レンズ６からなる光学系ユニッ
ト２が直列的に固着されている。そして、レーザ発振器
から照射されるレーザ光を、反射ミラー３で９０°変換
して反射させ、この反射したレーザ光をシリンドリカル
レンズ４で集束させた後、この集束光をマスクパターン
のマスク５を透過させ、この透過光を集光レンズ６で集
光させて半導体パッケージ７に入射させることにより、
半導体パッケージ７の表面のマーク位７５Ｍにレーザに
よるマークを付けるよう構成されている。

」−記ベース板１の］二端には光学系ユニット２のｈ゛
向に突出した突出片１ａが一体に連接され、この突出片
１ａの上記光学系ユニット２の中心の延長方向との交点
は、枢軸１０が挿着されて、この枢軸１０を介してベー
ス板１が揺動自在に支承されている。

而して、半導体パッケージ７のマーク位置Ｍを変換して
Ｍ′又はＭ′にマークを付ける時は、枢軸１０を中心と
してベース板１を揺動させ、これによって光学系ユニッ
ト２を全体として一体に揺動させてレーザ光の光軸を振
らせてこのマーク位置の変換を行うのである。

なお、枢軸１０の設定位置は、マーク位置Ｍ。

Ｍ′及びＭ′の変換量に応じて任意の位置に設定するこ
とができる。ここに、この変換量が多きいほど反射ミラ
ー３から遠い位置に設定した方が、この反射ミラー３に
対する反射角と理想光軸とのずれを少なくする」二で好
ましい。

また、第２図に示すように、ベース板１ひいては光学系
ユニット２が揺動角αだけ揺動すると、フォーカスのぼ
けｌａＡが生じるが、集光レンズ７は焦点深度の深いも
のほど、この瓜は少なくて済み、マークが鮮明に打てて
有利である。しかも、この時の象のひずみＩｌｍＢは非
常に微少であるため、汝のひずみには影響を受けること
はない。

更に、第３図（イ）で示すように、理論光軸は反射ミラ
ー３に対して４５°の角度であるが、光学系ユニット２
の揺動に伴って、同図（ロ）で示すように、実線の実際
の光軸と破線の理論光軸との間に角度βのずれが生じて
象のひずみが出るが、この角度βは非常に微少のため、
事実上問題はない。

〔発明の効果〕

本発明は上記のような構成であるので、非常に簡単な機
構でかなり大きなマーク位置の変換を容易に行うことが
できるばかりでなく、この変換スピードも揺動運動を利
用した角度変更のため高速で行うことができる。更に、
形状的にコンパクトで、トラブルも少なく、しかも非常
に安価に製作することができるといった効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す側面図、第２図は揺動
前後の光の入射の状態の説明図、第３図（イ）は理想的
な光の反射状態を示す図、同図（ロ）は本発明による揺
動後の光の反射状態を示ず図、第４図は従来の微少位置
変換前の、第５図は同じく変換後の状態を示す側面図、
第６図乃至第８図は夫々異なる従来の位置変換機構を備
えた装置の斜視図である。 １・・・ベース板、２・・・光学系ユニット、３・・・
反射ミラー、４・・・シリンドリカルレンズ、５・・・
マスク、６・・・集光レンズ、７・・半導体パッケージ
、１０・・・枢軸。 出願人代理人　　佐　　藤　　−雄 弔１目 （イ） 弔３ 第２目 図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 半導体パッケージの表面にレーザマークを付ける光学系
   ユニットをベース板に直列的に固着するとともに、この
   ベース板の上端を揺動自在に支承したことを特徴とする
   レーザマーキング装置。