JPS6316618A - Control of semiconductor diffusion furnace - Google Patents

Control of semiconductor diffusion furnace

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Publication number
JPS6316618A
JPS6316618A JP16049286A JP16049286A JPS6316618A JP S6316618 A JPS6316618 A JP S6316618A JP 16049286 A JP16049286 A JP 16049286A JP 16049286 A JP16049286 A JP 16049286A JP S6316618 A JPS6316618 A JP S6316618A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tube
control
tubes
common
gas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP16049286A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Atsuo Atobe
跡部 淳夫
Masahiro Ishibashi
石橋 昌宏
Shigemi Goto
後藤 茂美
Hidemi Inaba
稲葉 秀実
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yokogawa Electric Corp
Original Assignee
Yokogawa Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yokogawa Electric Corp filed Critical Yokogawa Electric Corp
Priority to JP16049286A priority Critical patent/JPS6316618A/en
Publication of JPS6316618A publication Critical patent/JPS6316618A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To facilitate effective control of tubes by a method wherein the respective tubes are operated in accordance with specific control information specified by describing functions of a common recipe and 1st, 2nd and 3rd tables. CONSTITUTION:A control system is constituted by a common recipe 101 in which the fundamental control information common to respective tubes and 1st, 2nd and 3rd tables 1111, 1112 and 1113 in which the control information characteristic of the 1st tube is described. The 1st table 1111 has the describing function such that the name of output gas is converted into open/close of the respective valves and open/close of the respective valves is converted into ON/ OFF in accordance with the specification of the polarizations of the valves, i.e. normal open/normal close. The 2nd table 1112 has the describing function such that the name of output gas and flow of the gas is converted into a control valve number and the open degree of the valve in accordance with the specification of the flow control valve and the specification of connection. The 3rd table 1113 has the describing function such that control information related to the temperature information of the tubes, i.e. the correction information of the predetermined value for a temperature regulator and the monitored value of the temperature in the tubes, is described.

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は半導体拡散炉におけるチューブの制御方法の改
善に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial Application Field> The present invention relates to an improvement in a method of controlling a tube in a semiconductor diffusion furnace.

〈従来技術〉 第1図に基づいて従来の制御方法の概要を説明する。1
.〜ITLはn台の半導体拡散炉であり、各拡散炉は夫
々3台のチューブ2+11212+21コ〜2m+ +
 2xxa 2uコを有している。
<Prior Art> An overview of a conventional control method will be explained based on FIG. 1
.. ~ITL has n semiconductor diffusion furnaces, and each diffusion furnace has 3 tubes 2+11212+21~2m+ +
It has 2xxxa 2u.

3雷〜3TLは、半導体拡散炉11〜ITLに対応した
ラインコントローラであり、夫々3台のチューブに操作
信号を供給すると共にプロセスデータ゛を収集し、ガス
供給バルブのシーケンス制御、ガス流量、温度制御など
のフィードバック1III御機能、ポートローダ制御、
自動ドア制御、温度などのプロセスデータのモニター機
能などを有する。
3-3TL are line controllers compatible with semiconductor diffusion furnaces 11-ITL, which supply operation signals to each of the three tubes, collect process data, and perform sequence control of gas supply valves, gas flow rate, and temperature control. Feedback 1III control functions such as port loader control,
It has functions such as automatic door control and monitoring of process data such as temperature.

41〜47Lは、ラインコントローラ31〜37Lに対
応する操作パネルであり、各ラインコントローラに対し
てチューブの制御シーケンスの起動、ボートローダ、自
動ドアのマニュアル操作、緊急停止などの操作信号の発
信並びにプロセスデータを受信してプロセス進行状況の
表示等を実行する機能を有する。
41 to 47L are operation panels corresponding to the line controllers 31 to 37L, and are used to issue and process operation signals to each line controller, such as starting a tube control sequence, manual operation of a boat loader and automatic door, and emergency stop. It has the function of receiving data and displaying process progress status.

5はマイクロコンピュータを用いた管理レベルの制御装
置であり、通信線6G、1より各ラインコントローラに
接続され、各ラインコントローラよりプロセスデータを
収集すると共に各チューブの制御情報が記述されたレシ
ピをダウンロードする。
5 is a management-level control device using a microcomputer, which is connected to each line controller through communication lines 6G and 1, and collects process data from each line controller and downloads recipes containing control information for each tube. do.

7は制御装置5との情報交換を行うマンマシンインター
フェイスであり、半導体拡散炉の稼動状況の表示、レジ
どのメンテナンス、プロセスデー′タモニター、生産履
歴表示、チューブ温度トレンド表示、温度設定タイマ操
作、温度モニター値の補正操作等を実行する。
7 is a man-machine interface for exchanging information with the control device 5, which displays the operating status of the semiconductor diffusion furnace, maintains the register, monitors process data, displays production history, displays tube temperature trends, operates temperature setting timer, Executes correction operations for temperature monitor values.

8は磁気ディスク、フロッピーディスク等によるファイ
ル手段であり、各チューブに対応したレシピファイル、
生産履歴ファイルが収容され、レシピファイルは、制御
装置5より9アクセスで読み出され、制御装置を介して
マンマシンインターフェイス7によりファイルの内容が
メンテナンスされる。
8 is a file means using a magnetic disk, a floppy disk, etc., and a recipe file corresponding to each tube,
A production history file is stored, and the recipe file is read by the control device 5 in nine accesses, and the contents of the file are maintained by the man-machine interface 7 via the control device.

この様な構成により、各半導体拡散炉のチューブの運転
は、制御装置5よりラインコントローラにダウンロード
された各チューブに対応するレシピに記述された制御情
報に基づいてシーケンス制御、フィードバック制御、モ
ニターなどが実行される。
With this configuration, the operation of the tubes in each semiconductor diffusion furnace is controlled by sequence control, feedback control, monitoring, etc. based on the control information described in the recipe corresponding to each tube downloaded from the control device 5 to the line controller. executed.

〈発明が解決しようとする問題点〉 チューブの制御は、これに対応したレジとに記述した制
御情報によるが、複数のチューブについ□ て同−又は
極めて類似の制御を実行したい場合でも、各チューブの
バルブ類の極性や詳細な構成の相違、部分的な修理、改
造などのハードウェアレベルの構成の相違により、具体
的な制御レベルでは各チューブの制御パターンが相違し
てくる。
<Problems to be Solved by the Invention> Tube control is based on the control information written in the corresponding register, but even when it is desired to perform the same or extremely similar control for multiple tubes, each tube Due to differences in the polarity of valves and detailed configurations, and differences in hardware level configurations such as partial repairs and modifications, the control patterns for each tube will differ at the specific control level.

従って、各チューブに対応するレシピは、詳細な制御レ
ベルの情報について別個に定義し、かつメンテナンスす
る必要がある。従って基本シーケンスの異なるレシピを
多数用意したい場合には、レジとはチューブの数と基本
シーケンスの数の積だけ必要とし、レシピ数が膨大にな
ると共にファイル手段のコストが上昇し、レシピの管理
も繁雑になる欠点がある。
Therefore, recipes corresponding to each tube must be defined and maintained separately with detailed control level information. Therefore, if you want to prepare a large number of recipes with different basic sequences, you will need a register equal to the product of the number of tubes and the number of basic sequences, and as the number of recipes increases, the cost of the file means will increase, and recipe management will be difficult. It has the disadvantage of becoming complicated.

本発明はこの様なレシピ管理の問題点を解消し、効率的
なチューブの制御が可能な制御方式の提供を目的とする
It is an object of the present invention to provide a control system that solves such recipe management problems and enables efficient tube control.

く問題点を解決するための手段〉 夫々複数の拡散用チューブを有する複数の半導体拡散炉
において、各拡散炉内の各チューブ共通に設けられる共
通レシピファイルを有し、この共通レシピファイルに対
応して、各チューブ毎に開閉供給されるガス名を対応す
るバルブの開閉信号に変換する第1テーブル記述maと
、流量制御される出力ガス塩と流量仕様を各ガスに対応
する各バルブ並びにその開度信号に変換する第2テーブ
ル記述機能と、各チューブ内の温度設定並びにモニター
値の補正を行う第3テーブル記述n能とを具備し、各チ
ューブは上記共通レシピおよび第1゜第2.第3テーブ
ル記述機能で特定された固有の制御情報に基づいて運転
される点にある。
Means for Solving Problems〉 In a plurality of semiconductor diffusion furnaces each having a plurality of diffusion tubes, a common recipe file is provided for each tube in each diffusion furnace, and a method corresponding to this common recipe file is provided. The first table description ma converts the name of the gas to be opened and closed supplied for each tube into the corresponding valve opening/closing signal, and the output gas salt whose flow rate is controlled and the flow rate specifications are written for each valve corresponding to each gas and its opening. It is equipped with a second table description function for converting into a temperature signal, and a third table description function for correcting temperature settings and monitor values in each tube. It is operated based on unique control information specified by the third table description function.

く作用〉 本発明によれば、半導体拡散炉内のチューブに共通な基
本シーケンス情報は、共通レシピに定義され、各チュー
ブに特有の制御情報は、ガスに対応して開閉されるバル
ブ情報を記述した第1テーブル、流量制御されるガス名
により対応するガスのバルブ開度情報が記述された第2
テーブル、温度制御情報が記述された第3テーブルで定
義され、チューブに共通な基本制御情報のみがレシピで
管理される。
According to the present invention, basic sequence information common to tubes in a semiconductor diffusion furnace is defined in a common recipe, and control information specific to each tube describes information on valves that are opened and closed in response to gas. The first table contains the valve opening information of the gas whose flow rate is controlled by the name of the gas whose flow rate is controlled.
The table is defined by a third table in which temperature control information is described, and only basic control information common to tubes is managed by the recipe.

〈実施例〉 第1図に基いて本発明の詳細な説明する。従来技術で説
明した要素と同一な構成要素についての説明は省略する
<Example> The present invention will be explained in detail based on FIG. Description of the same components as those described in the prior art will be omitted.

本発明の特徴部分は、制御115内に示された特定のチ
ューブに対する制御情報のファイルの構成にあり、例え
ば第1チユーブについて見るとチューブ共通の基本制御
情報が記述された共通レシピ101と第1チユーブ固有
の制御情報が記述された第1.第2第3テーブル11+
+、111z。
The characteristic part of the present invention lies in the structure of the control information file for a specific tube shown in the control 115. For example, when looking at the first tube, there is a common recipe 101 in which basic control information common to the tubes is described, and The first section describes control information unique to the tube. 2nd 3rd table 11+
+, 111z.

1113により構成されており、これらが第1チユーブ
に対する制御情報として通信線6を介して第1チユーブ
が含まれる半導体拡散炉のラインコントローラにダウン
ロードされる。
1113, and these are downloaded as control information for the first tube to the line controller of the semiconductor diffusion furnace including the first tube via the communication line 6.

第2図は、ファイルの全体構成の例を示すものであり、
全チューブに共通に用いられ基本制御情報が操業の種類
ごとに記述されたレシピファイル群101.102・・
・107Lと、各レシピファイルに対応してすべてのチ
ューブ毎に設けられているテーブル群111.112・
・・11亀とからなる。
Figure 2 shows an example of the overall structure of the file.
Recipe file group 101, 102, which is commonly used for all tubes and describes basic control information for each type of operation.
・Table group 111.112 provided for each tube corresponding to 107L and each recipe file.
...consists of 11 turtles.

各テーブルの内容は、テーブル11+を例にとると、第
1テーブル1111では出力ガス名を各バルブの開/閑
に変換すると共に各バルブの開/閉をバルブの極性即ち
ノーマルオーブン、ノーマルクローズの仕様に従って0
N10FFに変換する記述機能を有する。
Taking table 11+ as an example, the contents of each table are as follows: In the first table 1111, the output gas name is converted to open/off for each valve, and the open/close of each valve is changed to the polarity of the valve, that is, normal oven, normally closed. 0 according to specifications
It has a description function to convert to N10FF.

第2テーブル1112は、出力するガス名とそのガス流
計を流量制御弁の仕様と接続仕様にしたがってυ制御弁
番号と弁開度に変換する記述v!A能を有する。
The second table 1112 is a description v! of converting the name of the gas to be output and its gas flowmeter into the υ control valve number and valve opening according to the specifications and connection specifications of the flow control valve. Has A ability.

第3テーブル1113は、チューブの濃度情報に関する
制御情報、すなわち温度調節器に対する設定値、チュー
ブ内濡度のモニター値の補正情報を記述する機能を有す
る。
The third table 1113 has a function of describing control information regarding the concentration information of the tube, that is, setting values for the temperature controller and correction information for the monitor value of the wetness inside the tube.

次に第3回によりチューブ制御の手順について説明する
。ステップ■でチューブ操作パネルからの使用レシピの
ダウンロード要求が発生すると、ステップ■で当該レジ
とファイル達レシピファイル群より検索され、制御装置
内のメモリに読み込まれる。
Next, in the third part, the tube control procedure will be explained. When a download request for a recipe to be used is generated from the tube operation panel in step (2), the register and file are searched from the recipe file group and read into the memory in the control device in step (2).

ステップ■では、ファイル手段から読み出される使用チ
ューブの第1テーブルの記述内容を用いてバルブの開閉
に関するレシピデータの変換を実行する。
In step (2), the recipe data regarding opening and closing of the valve is converted using the description contents of the first table of the used tubes read from the file means.

ステップ■では、ファイル手段から読み出される使用チ
ューブの第2テーブルの記述内容を用いて流量制御に関
するレシピデータの変換を実行する。
In step (2), recipe data regarding flow rate control is converted using the description contents of the second table of tubes to be used read from the file means.

ステップ■では、ファイル手段から読み出される使用チ
ューブの第3テーブルの記述内容を用いて温度制御に関
するレシピデータの変換を実行する。
In step (2), the recipe data regarding temperature control is converted using the description contents of the third table of the used tubes read from the file means.

ステップ■では各テーブルの記述内容によりにより変換
されたレシピデータを使用チューブの制御0機能へダウ
ンロードし、ステップ■で使用チューブのυ110が実
行される。
In step (2), the recipe data converted according to the description contents of each table is downloaded to the control 0 function of the tube in use, and in step (2), υ110 of the tube in use is executed.

〈発明の効果〉 以上説明したように、本発明によれば次のような効果が
期待できる。
<Effects of the Invention> As explained above, according to the present invention, the following effects can be expected.

(1)多数のレジとを複数のチューブでオンラインで共
有して使用することができるので、各チューブ毎にレシ
ピを開発するために要する多大な工数を節約すやことが
できる。
(1) Since a large number of cash registers can be shared and used online by a plurality of tubes, a large amount of man-hours required to develop recipes for each tube can be saved.

(2)各チューブ側から見るとオンラインで使用できる
レシピの数を増加することができる。
(2) From the perspective of each tube, the number of recipes that can be used online can be increased.

(3)チューブに特有なハードウェア的な詳細情報をテ
ーブルに記述することにより、バルブ、流量制御弁、配
管などの仕様の追加、変更などに対してレシピファイル
を変更するメンテナンスを必要としない。
(3) By writing detailed hardware information specific to a tube in a table, there is no need for maintenance to change recipe files for additions or changes to specifications of valves, flow control valves, piping, etc.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明方式を適用した制御ll装置の実施例を
示す構成図、第2図はレシピファイル並びにテーブルの
内容説明図、第3図は動作説明図である。 11〜ITL・・・半導体拡散炉  2・・・チューブ
3、〜3TL・・・ラインコントローラ  41〜4T
L・・・操作パネル  5・・・制御装置  6・・・
通信線7・・・マンマシンインターフェイス  8・・
・ファイル手段  9・・・プリンタ  101〜10
7L・・・し第1図 第 31!!
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a control device to which the method of the present invention is applied, FIG. 2 is a diagram explaining the contents of a recipe file and a table, and FIG. 3 is a diagram explaining the operation. 11~ITL...Semiconductor diffusion furnace 2...Tube 3,~3TL...Line controller 41~4T
L...Operation panel 5...Control device 6...
Communication line 7...Man-machine interface 8...
・File means 9...Printer 101-10
7L...Fig. 1 No. 31! !

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 夫々複数の拡散用チューブを有する複数の半導体拡散炉
において、各拡散炉内の各チューブ共通に設けられる共
通レシピフアイルを有し、この共通レシピフアイルに対
応して、各チューブ毎に開閉供給されるガス名を対応す
るバルブの開閉信号に変換する第1テーブル記述機能と
、流量制御される出力ガス名と流量仕様を各ガスに対応
する各バルブ並びにその開度信号に変換する第2テーブ
ル記述機能と、各チューブ内の温度設定並びにモニター
値の補正を行う第3テーブル記述機能とを具備し、各チ
ューブは上記共通レシピおよび第1、第2、第3テーブ
ル記述機能で特定された固有の制御情報に基づいて運転
されることを特徴とする半導体拡散炉制御方法。
In a plurality of semiconductor diffusion furnaces each having a plurality of diffusion tubes, there is a common recipe file provided in common to each tube in each diffusion furnace, and the supply is opened and closed for each tube in accordance with this common recipe file. A first table description function that converts gas names into corresponding valve opening/closing signals, and a second table description function that converts the name and flow rate specification of the output gas whose flow rate is controlled into each valve corresponding to each gas and its opening signal. and a third table description function that corrects temperature settings and monitor values in each tube, and each tube has a unique control specified by the common recipe and the first, second, and third table description functions. A method for controlling a semiconductor diffusion furnace, characterized in that it is operated based on information.
JP16049286A 1986-07-08 1986-07-08 Control of semiconductor diffusion furnace Pending JPS6316618A (en)

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JP16049286A JPS6316618A (en) 1986-07-08 1986-07-08 Control of semiconductor diffusion furnace

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02114516A (en) * 1988-10-24 1990-04-26 Tel Sagami Ltd Heat treatment device
JP2007243119A (en) * 2006-03-13 2007-09-20 Hitachi Kokusai Electric Inc Substrate processing apparatus
CN102534803A (en) * 2012-01-04 2012-07-04 北京七星华创电子股份有限公司 Electrical apparatus control system and method for vertical diffusion furnace

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