JPS63165400A - ５′−ホスホリル化末端をもつオリゴヌクレオチド合成用の組成物と方法 - Google Patents

５′−ホスホリル化末端をもつオリゴヌクレオチド合成用の組成物と方法

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JPS63165400A
JPS63165400A JP62277230A JP27723087A JPS63165400A JP S63165400 A JPS63165400 A JP S63165400A JP 62277230 A JP62277230 A JP 62277230A JP 27723087 A JP27723087 A JP 27723087A JP S63165400 A JPS63165400 A JP S63165400A
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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    • C07F9/2404—Esteramides the ester moiety containing a substituent or a structure which is considered as characteristic
    • C07F9/2408—Esteramides the ester moiety containing a substituent or a structure which is considered as characteristic of hydroxyalkyl compounds

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は組成物、および、その組成物の使用法と合成方
法に関するものである。さらに具体的には、本発明はオ
リゴヌクレオチドの５′末端をホスホリル化するための
組成物と方法を含む。
遺伝情報はデオキシリボ核酸（ＤＮＡ）の糸状分子中で
生体細胞中に貯えられる。生体内において、ＤＮＡ分子
は二重螺旋であり、その各々の鎖はヌクレオチドの鎖で
ある。各ヌクレオチドは四つの塩基：アデニン（Ａ）、
グアニン（Ｇ）、チミン（７’）、シトシン（Ｃ）、の
一つを特徴とする。これらの塩基は官能基の配向に基づ
いて、いくつかの塩基対は水素結合を通じて相互に引合
い結合するという、意味において相補性である。ＤＮＡ
の一つの鎖の中のアデニンは向い合う相補鎖中のチミン
と対をなす。ＤＮＡの一つの鎖の中のグアニジンは向い
合う相補鎖中のアデニンと対をなす。
各々の核酸は一つのヌクレオチ・ドの糖の５′水酸基と
隣りのヌクレオチドの糖の３′水酸基との間の燐酸ジエ
ステル架橋によって連結される。このように％ＤＮＡ−
４たはＲＮＡの各々の線状鎖は５′水酸基の位置におい
て一つ末端をもち３′水酸基の位置においてもう一つの
末端をもつ。ポリヌクレオチドの末端はそれぞれの遊離
水酸基の位置を参照して５′末端または３′末端としば
しば呼ばれる。天然のＤＮＡとＥＮＡは５′末端水酸基
の位置において燐酸基を含む。
ホスホルアミダイト化学の発展は規定された配列のオリ
ゴヌクレオチドの日常的合成を可能にした。しかし、た
いていの合成りＮＡフラグメントば遊離の５′水酸基を
もつものとして単離される。
多くの生物学的応用に対しては、５′燐酸基をもつＤ’
ＮＡを直接に単離することが有利である。
５′燐酸基を導入するために各種の酵素的および化学的
方法が開発されてきた。５′燐酸基を導入する合成りＮ
Ａの酵素的または化学的変性の例は、ナトー、Ｊ、Ｇ、
　、シングルトン、Ｃ，に、、ケリー　、　Ｇ、Ｃ，、
ウニイス、　Ｈ，Ｌ、　、およびボウ７゜Ｇ、Ｒ，の１
９８４年のＢｉ＠ａｋａｔｎ・２３．６１５３−６１５
９：ファンデルマレル、Ｇ、Ａ、、、ファンベツケル、
　Ｃ，Ａ、Ａ、　、ウィル、Ｇ、およびファンブーム、
　Ｊ、Ｈ，の１９８２年のＮ５ｏ１．　Ａｃ１ｄｓ　Ｒ
ａｍ。
１０．２３３７−２３５１　；がつ７　、　Ｇ、Ｒ，、
ブルンデン、Ｍ、Ｊ、、ナトー、Ｊ、Ｇ、、およびグリ
ハム。
Ｐ、Ｔ、の１９８２年のＴａｔｒａｈｍｄｒｏｎ　Ｌｇ
ｔｔ、　２３．３４３９−３４４３　：ファンブーム、
Ｊ、Ｈ，，クリア、Ｒｏ、ルイテン、Ｗ、Ｃ，およびヴ
アンク、Ａ。
Ｂ、の１９８５年のＴｍｔｒａｈａｄｒｏ％ｂ−ｔｔ、
。
２７７９−２７８２；ヨシキヮ２Ｍ、、サクラバ。
Ｍ、、およびクサシオ、に、の１９７０年の１％１１゜
Ｃｈｕｍ、　Ｓｏｃ、　Ｊａｐ、、　４５６−４６１　
：並びに、ヨシカワ、Ｍ、、テツヤ、に、およびタダオ
、Ｔ、の１９６９年のＢｓ１１．　Ｃｈａｍ、　Ｓｅ２
．　Ｊａｐ、、　３５０５−３５０８において開示され
ている。
酵素的方法が広（使用されているが、それらは大規模作
業には実際的でない。現在利用できる化学的方法もまた
日常的用途にとって非実用的なもＯＫさせる欠点をもっ
ている。これらの方法の大□部分は必要とされる反応剤
の不安定性と腐蝕的性質とのために自動化合成装置に適
合しない。その上、ホスホリル化および遮断基除去の間
にしばしば低収率を経験する。
発明の説明 本発明はオリゴヌクレオチドの５′末端にホスホリル基
を導入するための組成物をつくりそれを使用するための
組成物と方法を特徴とする。
本発明の一つの具体化は組成物を含む。この組成物は次
の式 によって表わされ、式中、ＹとＺを別々にとる場合には
、各々はアルキル、アリール、アリールアルキル、シク
ロアルキルあるいはシクロアルキルアリールであり、あ
るいは、ＹとＺが一緒にとられるときには、ＹとＺはア
ルキル鎖またはアルキレン鎖を形成し、その鎖の端末原
子価結合はＹとＺが結合している窒素原子へ結合され、
あるいは、ＹとＺを二重に窒素原子とともにとる場合に
は、ＹとＺは窒素、酸素、および硫黄から成る群から選
ばれる少くとも一つの追加複素原子を含む窒素複素環を
形成する。ＷとＸは求核的攻撃またはβ−説離を受ける
原子成分の群から選ばれる。
ここで、窒素とＹおよびＺとが一緒に取られるときに飽
和または不飽和の窒素複素環を形成する状況について言
及すると、その複素環はテトラゾール、インドール、イ
ミダゾール、ベンズイミダゾール、および類似の窒素複
素環を形成し、それらのうちのいくつかは通常は共役的
である少くとも二つのエチレン性二重結合を特徴とする
。この複素環は窒素、硫黄または酸素のような他の複素
原子を含んでいてよい。
好ましくは、ＹとＺは別々に取るときには３個または・
３個より少ない炭素のアルキル成分を表わす。好ましい
アルキル成分はイソプロピル基を含む。
ＷとＸを選ぶ際には、自動化ＤＮＡ合底根底機中リゴヌ
クレオチド合成の間でＷ・とＸが出会う条件の中での、
原子成分の室温における安定性について考慮が払われる
べきである。そのような条件は、ジクロロメタン中のト
リクロロ酢酸溶液のような酸反応剤、水およびテトラヒ
ドロフラン中の状変のような酸化用反応剤、無水酢酸お
よびジメチルアミノピリジンの溶液のようなアセチル化
剤、および活性化されたヌクレオシド・ホスホルアミダ
イトの溶液のようなホスホリル化反応剤、を含む。
好ましくは、ＷとＸはアルキル、アリール、アリールア
ルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアリール、シ
アノアルキルまたは求核的攻撃また゛はβ−説離を受け
やすいハロアルキル誘導体、がら成る群から選ばれる。
ＷとＸに関して、例として、限定するつもりではないが
、好ましいアルキル誘導体は炭素原子が１個と３個との
間のアルキル鎖ケ含み、最も好ましくはメチル誘導体で
ある。好ましいシクロアルキルまたはシクロアルキルア
リールの誘導体はヌクレオチド塩基および類似塩基およ
び２’、　３’−ジベンゾイル・ウリジル誘導体のよう
な、それらの誘導体を含む。もう一つの好ましいシクロ
アルキルアリール誘導体はフルオレニルメトキシカルボ
ニル（ＦＭＯＣ）およびそれの誘導体を含む。
限定を意味するものでなく例として、ＷとＸに関しては
、好ましいアリールまたはアルキルアリールの誘導体は
電子引抜基をもつ。例はクロロフェニル、ブロモフェニ
ルまたはフルオロフェニルの誘導体のようなハロフェニ
ルまたはフェノールの誘導体、あるいはニトロフェネチ
ル誘導体を含む。好ましいシアノアルキルおよびハロア
ルキル誘導体は２−シアンエチル誘導体および２，２゜
２−トリクロロ−または２，２．２−）リブロモエチル
誘導体を含む。
本発明のもう一つの具体化はオリゴヌクレオチドの５′
末端をホスホリル化する方法を含む。その方法は式 によって表わされ、式中、Ｗ、Ｘ、１’および２が組成
物に関する前記記述と同じ組成物と、オリゴヌクレオチ
ドの５′末端を反応させて反応生成物を形成する工程を
含む。次に反応生成物を酸化してホスホリル化化合物を
生成させる。
鎖伸長と５′末端ホスホリル化の工程の完了後、ＤＮＡ
を合成支持体から外し、慣用的工程を使って遮断基を外
した。必要ならば、追加的な遮断幕除去工程が保護基を
完全に除くために加えられる。
例えば、リボヌクレオチド誘導体を遮断基として使用す
る場合には、遊離されるオリがヌクレオチド・を起泡−
に過沃素酸ナトリウムおよびピペリジンで以て引続いて
処理する。過硼酸す）　ＩＪウムおよびピペリジンとの
反応は末端リボヌクレオチドを除き末端燐酸基をもつオ
リゴヌクレオチドが回収される。
本発明の化合物をつくる方法は以下の実数的実施例にお
いてさらに記述されており、それらは好ましい具体化の
特徴を例示するものである。実験記録は代表的争件と手
続を示している。
実験的実施例 １１重合部門 Ａ、一般的方法と物質。
すべての化学薬品は分析級のものであり、特記しないか
ぎり製造者または販売者から入手のままで使用した。特
記しないかぎり、化学薬品はすべてアルドリツヒ・ケミ
カルから入手できる。
Ｂ、２’、３’−ジベンゾイルウリジル−ｙ、ｙ−ジイ
ソプロピルアミノエトキシホスフィンの合成。
ジイソプロピルメチルホスホンアミディッククロライド
（３，３ｆ、１６．７ミリモル）をテトラヒドロフラン
（４００ｄ）、ジイソプロピルエチルアミン（３５ｍ、
２００ミリモル）および２’、　３’−ジベンゾイルウ
リジン（シグマ・ケミカル・Ｇｏ、）　　（１１，１ミ
リモル）の磁気攪拌溶液へ０℃で添加した。この混合物
を室温へ一晩加温した。
反応中に形成される塩酸塩を反応混合物から焼結ガラス
漏斗を通す一過によって除去する。得られる炉液を回収
し、酢酸エチルで以て１／１で稀釈し、５％Ｎ　ａ　Ｈ
ＣＯ＠の２００ｄ部分で３回洗滌した。
有機部分を次にＮａ１ＳＯ４上で乾燥し、蒸発させて粗
生成物を黄色油として得た。この油をジクロロメタン／
ヘキサン／トリエチルアミン（容積で６／４／１）（５
０ｍ）の混合物中で溶かし、同じ溶剤混合物で以て平衡
化させたシリカゲル（１５０９）のカラムへ施用した。
カラムを溶剤混合物で以【溶離し、画分（１０ｍｇ）を
捕集した。
所望生成物を含む画分は次に示す式 によって表わされる２’、　３’−ジベンゾイルウリジ
ル−Ｎ、Ｎ−ジイソプロピルアミノメトキシホスフィン
（以後は化合物ｌとよぶ）として同定され、式中、Ｕは
ウリジル、７１ｇはベンジルであり、１−Ｐｒはイソプ
ロピルである（Ｒｆ＝０．６４、酢酸エチル／トリエチ
ルアミン９／１中で展開されるシリカゲルＴＬＣ）。化
合物■の画分を溜め、蒸発させ、次にトルエンと一緒に
同時蒸発させて所望生成物を油（６，４ｆ、９４％）と
して得た。
Ｃ，ビス（２−シアノエトキシ）−Ｎ、Ｎ−ジイソプロ
ピルアミノメトキシホスフィンの合成 タケオ、シマズらの核酸研究シンポジウムシリーズＡ６
１２．５５−５８（１９８３）において示される手順に
従ってつくられたジイソプロピルアミノホスホルジクロ
リダイト（１４，２Ｐ、７０．０ミリモル）をテトラヒ
ドロフラン（ｔｏｏｋ）、ジインプロピルエチルアミン
（３６，６ｍ、２１０ミリモル）および３−ヒドロキシ
プロピオニトリル（９，６１１！ｇ、１４０ミリモル）
の磁気攪拌溶液へ０℃において添加した。４時間後、混
合物を室温へ加温し、さらに２時間攪拌した。塩酸塩を
反応混合物から一過により焼結ガラス漏斗を通して除い
た。得られたろ液を回収し、酢酸エチルで以て１／１で
稀釈し、５％のＮａＨＣＯ３の１０〇一部分で３回洗滌
した。有機部分を次にＮａ　２　Ｓ　０４上で乾燥し、
蒸発させて１７．７ｆの粗生成物を黄色油として得た。
この油をジクロロメタン／ヘキサン／トリエチルアミン
（容積で６／４／１　）（５０ｍｇ）の混合物中に溶か
し、同じ溶剤混合物で平衡化させたシリカゲル（１７５
？）のカラムへ施用した。
カラムをこの溶剤混合物で以て溶離し、画分（２０ｄ）
を集めた。所望生成物を含む画分は次に示す式 によって表わされるビス−（２−シアノエトキシ）−Ｎ
、Ｎ−ジイソプロピルアミノメトキシホスフィン（以後
は化合物■とよぶ）として同定された。
ここでｉ−Ｐｒはイソプロピルである。（９／ｌの酢酸
エチル／トリエチルアミンの中で展開されるシリカゲル
ＴＬＣ，Ｒｆ＝０．６０）。化合物■を含む画分な溜め
、蒸発させ、次にトルエン（３×５−）と−緒に同時蒸
発させて無色の油（１１，ＩＰ。
５８．７％）として所望の生成物を得た。ＣＭ、Ｃ４中
のトリメチルホスフェートと相対的ＶＣ”ＰＮＭＲ＝−
１４６，７５２ｐｔｈ。
Ｄ、　　２−シアノエトキシメトキシ−Ｎ、Ｎ−ジイン
プロピルアミノホスフィンの合成 ジイソプロピルメチルホスホルアミダイトクロライド（
１０，７グ、５２．５ミリモル）をＴＨＦ（１００ｍ）
、ジイソプロピルエチルアミン（２７，５ｍ、１５７．
５ミリモル）および３−ヒドロキシプロピオニトリル（
７，２ｍ、１０５ミリモル）の磁気攪拌溶液へ０℃で添
加した。４時間後、混合物を室温へ加温し、さらに２時
間攪拌した。
塩酸塩を反応混合物から濾過により焼結ガラス漏斗を通
して除いた。得られたＦ液を回収し、酢酸エチルで以て
１／１で稀釈し、５％ＮａＨＣＯ＠の１００−の部分で
３回洗滌した。有機部分を次ＫＮａ　ｇ　５（）４上で
乾燥し、蒸発させて粗生成物が得られ、これはジクロロ
メタン／ヘキサン／トリエチルアミン（容積で６／４／
１　）の混合物（５０ｍｇ）の中でとかし、同じ溶剤混
合物で以【平衡化されたシリカゲル（１７５′Ｆ）のカ
ラムへ施用した。
カラムをその溶剤混合物で以て溶離し、画分（２０ｍｇ
）を集めた。所望生成物を含む両分は次に示す式 によって表わされる２−シアノエトキシメトキシ−Ｎ、
Ｎ−ジイソプロピルアミノホスフィン（以後は化合物■
とよぶ）として同定され、ここに１−Ｐｒはイソプロピ
ルである。化合物■を含む画分な溜め、蒸発させ、次に
トルエン（３Ｘ　５ｄ）と−緒に同時蒸発させた。
Ｅ、５′末端燐酸モノエステルをもつオリゴヌクレオチ
ドの合成 代表的合成において、合成装置は、化合物■、■および
■のような変性ホスホルアミダイトの添加を、他のホス
ホルアミダイト化合物と同様Ｋ。
可能とするようプログラム化されている。鎖伸長工程お
よび５′末端ホスホリル基導入工程の完了後、ＤＮＡを
合成支持体から外すし、通常の方式で遮断基を除く。末
端燐酸トリエステルを外ずし、ここでリボヌクレオチド
遮断基とよぶ追加的遮断基および関連化合物を除くため
に、遊離遣れたオリゴヌクレオチドは次に一連の適切な
遮断幕脱離工程を受けさせる。例えば、リボヌクレオチ
ド遮断基の場合には、遮断幕脱離は次に輪廓を示すとお
り過沃素酸ナトリウムおよびピペリジンで以て屓次処理
することによって達成される。
５′ に 化合物■および関連化合物のようなホスホリル化剤と結
合したオリゴヌクレオチドの脱保護は次に示すとおり水
酸化アンモニウムによる塩基遮断幕脱離工程の間で達成
することができる：ｃｙｃｚｚ、ｃｘ、ｏ−ｊ−ω〜〜
→ＨＭＥ、ＯＨ１−一一一一一一〉 化合物２−シアノエトキシメトキシ−Ｎ、Ｎ−ジイソプ
ロピルアミノホスフィンは所望のオリゴヌクレオチド燐
酸モノエステルを効率的に提供しない。保護基の完全除
去がＤＮＡがさらされ得る正常な条件下で困難である。
合成５′燐酸基を含むいくつかのフラグメントをつくっ
た。図１および２は合成的にホスホリル化したＤＮＡを
商業源から得られる標準試料と比較するＨＰＬＣ特性デ
ータを描いている。まず図１に戻ると、プロットＡはｐ
Ｔ、の商業的に得られる標準試料についてのＨＰＬＣ特
性データを記載している。プロットＢは化合物１［ＩＣ
よる合成の後のＰＴｔｔ　の試料についてのＨＰＬＣ特
性データを記述している。プロットＣは標準のｊｌｒｔ
ｔ試料と化合物Ｉを使って得られるｐＴ□試料との同時
注入についてのＨＰＬＣ特性データを記述している。
ここで図２を見ると、プロットＡはｊｌ　Ｔ　ｘ＊の商
業的標準試料についてのＨＰＬＣ特性データを記載して
いる。プロワ）ｆｆは合成のびＦｒ（ｊｌｆｆ’）ｕの
試料についてのＨＰＬＣ特性データを記載している。プ
ロットＣは合成ＵｐＴ（２７）ｎとびｐＴ　（ｐＴ　）
ｕの過沃素酸塩酸化後に得られるνｒｔｔとを含む混合
物についてのＨＰＬＣ特性データを記載し【いる。プロ
ットＤはＵｐ（ｐＴ）　　の過沃素酸塩処理後に得られ
る（ｐｒ）ｔｔである。プロットＥは（ｊＩＴ）ｔｘの
商業的標準試料についてのＨＰＬＣ特性データを述べて
いる。最後に、プロットＦは（ｐＴ’）ｔｔの商業的標
準試料とＵＦｆｆ’（ｐＴ）ｕの酸化後に得られる（ｊ
Ｔ）ｓｔとの同時注入についてのＨＰＬＣ特性データな
記載している。
次に図３を見ると、プロワ）Ａは（ｐ　Ｔ　）ｔｚの商
業的標準試料についてのＨＰＬＣ保持時間を記載してい
る。プロットＢは化合物■を使って合成した（ｐＴ）□
から得られる５　’　ＥＤＡ　ｐ　Ｔ　（ｐ　Ｔ　）ｔ
ｔ　ｔｃついてのＨＰＬＣ保持時間を記載している。プ
ロットＣは商業的に得られる試料（ｊｒ）ｎから得られ
るＨＤＡｐｒ（ｐＴ）□と化合物Ｉを使って合成した（
１’Ｔ）ｎから得た５’ＥＤＡｐＴ（ＰＴ）ｎとの同時
注入についてのＨＰＬＣ保持時間データを述べている。
プロットＤは（ｐ　Ｔ　）ｔｔの商業的標準についてＨ
ＰＬＣ保持時間データを述べている。最後に、プロワ）
Ｊは化合物ｌを使って合成した（ＦＴ’）ｔｔから得ら
れる５’ＨＤＡｐｒ（ｐＴ）ｓｔについてのＨＰＬＣ保
持時間を記載している。
合成燐酸基をもつＤＮＡの短かいフラグメントは鎖長の
のびたフラグメントを生成するよう酵素的に結合された
。化合物■が燐酸保護基の完了除去に好都合でないこと
は注目されるべきである。
化合物■の保護基はともに、好ましい除去方法であると
思われるβ−説離を受けにくい。
本発明の方法と化合物は、５′燐酸基をもつよ、５直接
に合成され得る合成りＮＡに対して改善を提供するもの
である。本発明の方法と化合物は自動化合成装置に適合
し得るものであり、高収率の生成物を与える。５′ホス
ホリル化ＤＮＡを直接的に単離できる能力は商業的意義
をもつ人工的遺伝予め構築に必要とされる手続を簡略化
する。酵素的のホスホリル基導入の必要性を無くし、鎖
長の伸長した合成りＮＡの構築に必要とされる合計時間
を短縮した。５′末端燐酸基をもつ合成フラグメントは
また末端アミン官能基をもつＤＮＡを合成するのにも使
用できる。これらのフラグメントは次に非放射性のリポ
ータ−・グループをつくるその後の変性を受けることが
できる。
以上のとおり、本発明の好ましい具体化を説明してきた
が、本発明は変更および修正が可能であり、従って、本
発明はここで述べた詳細そのものに限定されるべきでは
なく、「特許請求の範囲」の範囲内に入るような変更お
よび代替を含むべきものである。
【図面の簡単な説明】
第１Ａ図至第１Ｃ図、第２Ａ図至第２Ｆ図及び第３Ａ図
至第３Ｅ図は合成的にホスホリル化したＤＮＡと商業源
から入手した標準試料とを比較しているＨＰＬＣ特性デ
ータを描くものである。 （外４名）

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １）オリゴヌクレオチドの５′末端をホスホリル化する
    方法であって、 ａ）オリゴヌクレオチドの５′末端を式： ▲数式、化学式、表等があります▼ によって表わされる組成物と反応させ、式中、ＹとＺは
    別々に取るときには各々アルキル、アリール、アリール
    アルキル、シクロアルキルあるいはシクロアルキルアリ
    ールを表わし；あるいはＹとＺは一緒に取るときにはア
    ルキル基あるいはアルキレン鎖を形成し、その鎖の端末
    原子はともにＹとＺが結合されている窒素原子へ結合し
    ており；あるいはＹとＺは窒素原子と一緒に取るときに
    は窒素、酸素、および硫黄から成る群から選ばれる少く
    とも１個の追加の複素原子を含む飽和された窒素複素環
    を形成し；そして、ＷとＸは求核的攻撃あるいはβ−脱
    離を受ける原子成分の群から選ばれる遮断基であり、 ｂ）遮断基ＷとＸを除去する、 各工程を含む、方法。 ２）ＷとＺが室温において安定であり、酸反応剤、酸化
    性反応剤、アセチル化反応剤、およびホスホリル化反応
    剤の中で安定である、特許請求の範囲第１項に記載の方
    法。 ３）ＷとＸがアルキル、アリール、アリールアルキル、
    シクロアルキル、シクロアルキルアリール、シアノアル
    キル、あるいは、求核的攻撃またはβ−脱離を受けるこ
    とができるハロアルキル誘導体、から成る群から選ばれ
    る、特許請求の範囲第１項に記載の方法。 ４）ＹとＺが別々に取るときに炭素数が３個またはそれ
    より少ないアルキル成分を表わす、特許請求の範囲第１
    項に記載の方法。 ５）アルキル成分がイソプロピル基を表わす、特許請求
    の範囲第４項に記載の方法。 ６）求核的攻撃を受けやすい上記遮断基が炭素原子が３
    個またはそれより少ないアルキル誘導体および電子引抜
    基をもつフェニル誘導体を含む、特許請求の範囲第１項
    に記載の方法。 ７）β−脱離が可能である上記の基がハロアルキル、シ
    アノアルキル、アルキルアリール、およびシクロアルキ
    ルアリール誘導体を含む、特許請求の範囲第３項に記載
    の方法。 ８）上記アルキル誘導体がメチルである、特許請求の範
    囲第６項に記載の方法。 ９）上記フェニル誘導体がクロロフェニル、ブロモフェ
    ニル、およびフルオロフェニルの誘導体から成る群から
    選ばれる、特許請求の範囲第６項に記載の方法。 １０）オリゴヌクレオチドの５′端末をホスホリル化す
    る方法であつて、 ａ）オリゴヌクレオチドの５′末端を式 ▲数式、化学式、表等があります▼ によつて表わされる組成物と反応させ、 式中、ＹとＺは別々に取るときには各々アルキル、アリ
    ール、アリールアルキル、シクロアルキル、あるいはシ
    クロアルキルアリールを表わし；あるいは、ＹとＺは一
    緒に取るときにはアルキル鎖またはアルキレン鎖を形成
    し、その鎖の端末原子価はともにＹとＺが結合している
    窒素原子へ結合しており；あるいは、ＹとＺは窒素原子
    と一緒に取るときに窒素、酸素および硫黄から成る群か
    ら選ばれる少くとも一つの追加の複素原子を含む飽和さ
    れた窒素複素環を形成し；そして、Ｗが次に示すとおり
    の式 ▲数式、化学式、表等があります▼ によつてさらに表わされ、この式において、Ｂはヌクレ
    オチド塩基、類似塩基あるいはそれらの誘導体であり、
    ＭとＮはＨ、ＯＨ、またはＯＲ＿２であつて、ここにＲ
    ＿２は遮断基であり、そしてＸはアルキル、アリール、
    アリールアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルア
    リール、シアノアルキルあるいは求核的攻撃またはβ−
    脱離を受けることができるハロアルキル誘導体である、
    工程を含む方法。 １１）ＹとＺがイソプロピルである、特許請求の範囲第
    １０項に記載の方法。 １２）ＭとＮがベンジルである、特許請求の範囲第１１
    項に記載の方法。 １３）Ｘがメトキシである、特許請求の範囲第１０項に
    記載の方法。 １４）オリゴヌクレオチドの５′末端をホスホリル化す
    る方法であつて、 ａ）オリゴヌクレオチドの５′末端を式 ▲数式、化学式、表等があります▼ によつて表わされる組成物と反応させ、式中、ＹとＺは
    別々に取るときには各々アルキル、アリール、アリール
    アルキル、シクロアルキル、あるいはシクロアルキルア
    リールを表わし；あるいは、ＹとＺは一緒に取るときに
    アルキル鎖またはアルキレン鎖を形成し、その鎖の端末
    原子価はともにＹとＺが結合している窒素原子へ結合し
    ており；あるいは、ＹとＺはその窒素原子と一緒にとる
    ときには窒素、酸素、および硫黄から成る群から選ばれ
    る少くとも一つの追加的複素原子を含み；そして、Ｗと
    Ｘが鎖長がシアノ成分を別にして３個または３個より少
    ない炭素のシアノアルキルである、 工程を含む方法。 １５）ＷとＸがシアノエチルである、特許請求の範囲第
    １４項に記載の方法。 １６）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ によつて表わされる組成物であつて、式中、ＹとＺは別
    々に取るときには各々アルキル、アリール、アリールア
    ルキル、シクロアルキル、あるいはシクロアルキルアリ
    ールであり；あるいは、ＹとＺは一緒にとるときにはア
    ルキル鎖またはアルキレン鎖を形成し、その鎖の端末原
    子価はともにＹとＺが結合している窒素原子へ結合して
    おり；あるいは、ＹとＺはその窒素原子と一緒に取ると
    きに窒素、酸素および硫黄から成る群から選ばれる少く
    とも一つの追加複素原子を含む飽和された窒素複素環を
    形成し；そして、ＷとＸが求核的攻撃またはβ−脱離を
    受ける原子成分の群から選ばれる遮断基である、組成物
    。 １７）ＷとＸが室温において安定であり、酸反応剤、酸
    化性反応剤、アセチル化反応剤、およびホスホリル化反
    応剤に対して安定である、特許請求の範囲第１６項に記
    載の組成物。 １８）ＷとＸがアルキル、アリール、アリールアルキル
    、シクロアルキル、シクロアルキルアリール、シアノア
    ルキル、あるいは求核的攻撃またはβ−脱離を受けるこ
    とができるハロアルキル誘導体から成る群から選ばれ、
    その際、βがいずれかのヌクレオチド塩基、類似塩基あ
    るいはそれらの誘導体であつてよい、特許請求の範囲第
    １６項に記載の組成物。 １９）ＹとＺが別々に取るときに３個または３個より少
    ない炭素のアルキル成分を表わす、特許請求の範囲第１
    ６項に記載の組成物。 ２０）アルキル成分がイソプロピル基を表わす、特許請
    求の範囲第１９項に記載の組成物。 ２１）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ によつて表わされる組成物であつて、 式中、ＹとＺは別々に取るときには各々、アルキル、ア
    リール、アリールアルキル、シクロアルキル、あるいは
    シクロアルキルアリールを表わし；あるいは、ＹとＺが
    一緒に取るときにはアルキル鎖またはアルキレン鎖を形
    成し、その鎖の端末原子価はＹとＺが結合している窒素
    原子へ結合されており；あるいは、ＹとＺはその窒素原
    子と一緒に取るときに窒素、酸素および硫黄から成る群
    から選ばれる少くとも一つの追加複素原子を含む飽和さ
    れた窒素複素環を形成し；そして、ＷとＸが一緒にとる
    ときにシアノ成分を別にして３個または３個より少ない
    鎖長である少くとも一つのシアノアルキルを含む、組成
    物。 ２２）ＷとＸがともにシアノエチルである、特許請求の
    範囲第２１項に記載の組成物。 ２３）ＷとＸが一緒にとるときに３個または３個より少
    ない炭素のアルキルを少くとも含む、特許請求の範囲第
    ２１項に記載の組成物。 ２４）上記アルキルがメチルである、特許請求の範囲第
    ２３項に記載の組成物。 ２５）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ によつて表わされる組成物であつて、式中、ＹとＺは別
    々に取るときに各々、アルキル、アリール、アリールア
    ルキル、シクロアルキル、あるいはシクロアルキルアリ
    ールを表わし；あるいは、ＹとＺは一緒に取るときにア
    ルキル鎖またはアルキレン鎖を形成し、その鎖の端末原
    子価はともにＹとＺが結合している窒素原子へ結合して
    おり；あるいは、ＹとＺを窒素原子と一緒にとるときに
    窒素、酸素、および硫黄から成る群から選ばれる少くと
    も一つの追加複素原子を含む飽和された窒素複素環を形
    成し；そしてＷは次に示す式 ▲数式、化学式、表等があります▼ によつてさらに表わされ、この式において、Ｂはヌクレ
    オチド塩基、類似塩基、あるいはそれらの誘導体であり
    、ＭとＮはＨ、ＯＨ、またはＯＲ＿２であり、ここにＲ
    ＿２は遮断基であり、そして、Ｘはアルキル、アリール
    、アリールアルキル、シクロアルキル、シクロアルキル
    アリール、シアノアルキル、あるいは求核的攻撃または
    β−脱離を受けるハロアルキル誘導体である、組成物。 ２６）ＹとＺがイソプロピルである、特許請求の範囲第
    ２５項に記載の組成物。 ２７）ＭとＮがベンジルである、特許請求の範囲第２５
    項に記載の組成物。 ２８）Ｘがメチルである、特許請求の範囲第２５項に記
    載の組成物。
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