JPS6314447A - Microscope for wafer prober - Google Patents

Microscope for wafer prober

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JPS6314447A
JPS6314447A JP15847286A JP15847286A JPS6314447A JP S6314447 A JPS6314447 A JP S6314447A JP 15847286 A JP15847286 A JP 15847286A JP 15847286 A JP15847286 A JP 15847286A JP S6314447 A JPS6314447 A JP S6314447A
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wafer
chip
wafer prober
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microscope
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Abstract

PURPOSE:To facilitate the inspecting work of a wafer prober itself by a method wherein the title microscope is provided with the first optical system to from an enlarged image of a chip in contact with a pointer of wafer prober, displaying means to display the wafer inspection results and the second optical system to display the images of said displaying means together with the enlarged image of chip. CONSTITUTION:The title microscope is provided with the first optical system 2 to form an enlarged image of a chip in contact with a pointer 17 of a wafer prober on a wafer W loaded on the wafer prober displaying means 14a-14c optically displaying the wafer inspection results of wafer prober and the second optical system 7 displaying the images of said displaying means 14a-14c together with the enlarged image of chip through the intermediary of a beam splitter 4 (halfmirror) provided on the first optical system 2. Said displaying means 14a-14c are fitted with a transparent displayers 15a-15c with letters PASS, FAIL, SENSOR respectively written e.g. in a notch part 12a of a displaying plate 12 while LED 13a-13c are respectively arranged backside to light the LED corresponding to the measured results by a measuring circuit 16.

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 この発明は、ウェハプローバに付設される顕微鏡の改良
に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (a) Field of Industrial Application This invention relates to an improvement in a microscope attached to a wafer prober.

(ロ)従来の技術 ウェハプローバを終了したウェハ上には、IC等の半導
体装置が網目状のチップに配置されて作込まれている。
(B) Conventional Technology On a wafer that has been processed by a wafer prober, semiconductor devices such as ICs are arranged in a mesh-like chip structure.

こられウェハ上のチップのうちには、様々な原因により
生じた不良チップが含まれている。そこで、各チップの
電気的特性を検査して、不良チップを選別することが行
われている。
These chips on the wafer include defective chips caused by various causes. Therefore, defective chips are selected by inspecting the electrical characteristics of each chip.

このウェハの検査(ウェハプロービング)に使用される
ウェハプローバとしては、ウェハ上のチップに接触する
針と、この針が接続される測定回路と、この測定回路の
測定結果に基づいて不良チップにマークを付すマーキン
グ手段と、ウェハを上下動及びチップ毎に移動させるウ
ェハ駆動機構を備えたものが知られている。
The wafer prober used to inspect this wafer (wafer probing) has a needle that contacts the chips on the wafer, a measurement circuit to which this needle is connected, and a marking of defective chips based on the measurement results of this measurement circuit. A device is known that is equipped with a marking means for marking a wafer and a wafer drive mechanism that moves the wafer up and down and moves it chip by chip.

このウェハプローバには、チップと針との接触状態等を
確認するための光学顕微鏡が付設されている。この従来
のウエハプローバ用の顕微鏡は、一般の光学顕微鏡の構
成と略同様の構成であり、対物レンズ、接眼レンズ、鏡
筒等を備えたものである。
This wafer prober is equipped with an optical microscope for checking the state of contact between the chip and the needle. This conventional microscope for a wafer prober has a configuration substantially similar to that of a general optical microscope, and includes an objective lens, an eyepiece lens, a lens barrel, and the like.

(ハ)発明が解決しようとする問題点  ・ウェハプロ
ーバは、ウェハの検査を続けていくうちに、針や測定回
路に異常が起き、チップの良。
(c) Problems to be solved by the invention - As the wafer prober continues to inspect wafers, abnormalities occur in the needle or measurement circuit, leading to problems with the quality of the chips.

不良の選別を誤るというエラーが生じる。そこで、ウエ
ハプローバ自体の検査を行う必要がある。この検査は、
以下の手順に従って行われる。
Errors occur due to incorrect selection of defects. Therefore, it is necessary to inspect the wafer prober itself. This test is
This is done according to the following steps:

先ス、リファレンスのウェハを、ウエハプローバに装填
する。このリファレンスのウェハは、以前に当該ウエハ
プローバにより検査されたウェハの一枚を保存しておい
たものであり、不良チップにはマークが付されているも
のである。
First, load the reference wafer into the wafer prober. This reference wafer is one of the wafers that was previously inspected by the wafer prober and has been saved, and defective chips are marked.

次に、このリファレンスのウェハ上のチップに順次針を
接触させていき、チップの電気的特性を測定していく。
Next, the needle is brought into contact with the chips on this reference wafer one after another, and the electrical characteristics of the chips are measured.

この時、作業者は、前記従来のウェハプローバ用顕微鏡
を覗き、チップに不良マークが付されているか否かを確
認する。次いで作業者は、ウェハプローバの操作部に表
示される測定結果を確認する。
At this time, the operator looks through the conventional wafer prober microscope and confirms whether a defective mark is attached to the chip. Next, the operator confirms the measurement results displayed on the operation section of the wafer prober.

チップに不良マークが付されていないのに、測定結果が
不良である場合、又はチップに不良マークが付されてい
るのに、測定結果が良である場合には、ウェハプローバ
の測定回路等に異常が生じていることになる。
If the measurement result is bad even though there is no defect mark on the chip, or if the measurement result is good even though there is a defect mark on the chip, check the measurement circuit of the wafer prober, etc. This means that an abnormality has occurred.

しかし、上述のウエハプローバの検査においては、作業
、者は、ウエハプローバ用ra徽鏡とウェハプローバの
操作部を交互に見なければならず、不便であり、また作
業に時間がかかる不都合があった。
However, in the above-mentioned wafer prober inspection, the operator must alternately look at the wafer prober RA mirror and the wafer prober operating section, which is inconvenient and takes time. Ta.

この発明は、上記不都合に濡みなされたもので、ウェハ
ブローバ自体の検査作業を容易とするウェハプローバ用
顕微鏡の提供を目的としている。
The object of the present invention is to provide a microscope for a wafer prober, which overcomes the above-mentioned disadvantages and facilitates the inspection work of the wafer prober itself.

(ニ)問題点を解決するための手段 上記不都合を解決するための手段として、この発明のウ
ェハプローバ用顕微鏡は、ウエハブローバに装填された
ウェハ上のチップであって、ウェハプローバの針が接触
しているチップの拡大像を得る第1の光学系と、ウェハ
プローバのウェハ検査結果を光学的に表示する表示手段
と、前記第1の光学系に設けられたビームスプリッタを
介して前記表示手段の像を前記チップの拡大像と共に表
示する第2の光学系とを備えてなるものである。
(d) Means for Solving the Problems As a means for solving the above-mentioned disadvantages, the microscope for wafer prober of the present invention has a chip on a wafer loaded in a wafer prober, in which the needle of the wafer prober comes into contact with the microscope. a first optical system that obtains an enlarged image of the chip being inspected; a display unit that optically displays the wafer inspection results of the wafer prober; and a display unit that displays the display unit via a beam splitter provided in the first optical system. and a second optical system that displays an image of the chip along with an enlarged image of the chip.

(ホ)作用 この発明のウェハプローバ用顕微鏡は、チップの拡大像
と共に、チップの測定結果が表示されるため、作業者は
顕微鏡だけを覗いていればよい。
(E) Function The wafer prober microscope of the present invention displays the measurement results of the chip as well as the enlarged image of the chip, so the operator only has to look through the microscope.

このため、ウエハプローバ自体の検査作業が容易となり
、その時間が短縮される。
Therefore, the inspection work of the wafer prober itself is facilitated and the time required for inspection is shortened.

(へ)実施例 この発明の一実施例を、第1図乃至第3図に基づいて以
下に説明する。
(F) Embodiment An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 3.

第1図は、この発明の一実施例に係るウエハプローバ用
顕微鏡(以下、単に顕微鏡という)1の光学系を示す図
である。
FIG. 1 is a diagram showing an optical system of a wafer prober microscope (hereinafter simply referred to as a microscope) 1 according to an embodiment of the present invention.

顕微鏡1は、第1の光学系2と、第2の光学系7とより
構成されている。第1の光学系2は、対物レンズ3、ハ
ーフミラ−(ビームスプリッタ)4、接眼レンズ5及び
鏡筒6より構成されている。
The microscope 1 includes a first optical system 2 and a second optical system 7. The first optical system 2 includes an objective lens 3, a half mirror (beam splitter) 4, an eyepiece lens 5, and a lens barrel 6.

対物レンズ3は、鏡筒6下端に支持され、ウェハプロー
バ内に装填されたウェハW上のチップtの像(第3図参
照)を捉える。対物レンズ3よりの光束は、鏡筒6内を
上方に進み、ハーフミラ−4を透過する(第1図参照)
。ハーフミラ−4を透過した光束は、さらに接眼レンズ
5に達する。作業者は、肉眼eで接眼レンズ5を覗くこ
とにより、チップtの拡大像を見ることができる。
The objective lens 3 is supported by the lower end of the lens barrel 6 and captures an image of the chip t on the wafer W loaded in the wafer prober (see FIG. 3). The light beam from the objective lens 3 travels upward inside the lens barrel 6 and passes through the half mirror 4 (see Figure 1).
. The light beam transmitted through the half mirror 4 further reaches the eyepiece lens 5. The operator can see an enlarged image of the chip t by looking through the eyepiece 5 with the naked eye e.

第2の光学系7は、シャッタ8、レンズ9、ディスプレ
イ板12及び鏡筒11により構成される。
The second optical system 7 includes a shutter 8, a lens 9, a display plate 12, and a lens barrel 11.

鏡筒11は鏡筒6に設けられ、その左端部11aが鏡筒
6のハーフミラ−4の収納部6aと連通している。
The lens barrel 11 is provided in the lens barrel 6, and its left end portion 11a communicates with the housing portion 6a of the half mirror 4 of the lens barrel 6.

鏡筒11の右端部11bには、ディスプレイ板12が設
けられている。ディスプレイ板12には、発光ダイオー
ド素子(LED)13 a、 13 b、 13Cによ
って前後より照明される表示部(表示手段)14a、1
4b、14Cが設けられている(第1図中には、LED
13b、表示部14bのみを示している)。
A display plate 12 is provided at the right end portion 11b of the lens barrel 11. The display board 12 has display parts (display means) 14a, 1 illuminated from the front and back by light emitting diode elements (LEDs) 13a, 13b, 13C.
4b, 14C (in Figure 1, LED
13b, only the display section 14b is shown).

表示部14a、14b、14Cは、ディスプレイ板12
の切欠部12aに、無色透明又は有色透明の表示板15
a、15b、15cを装着したものである。表示板15
a、15b、15cには、それぞれr P A S S
 J  r F A I L J  r S E N 
S OR」の文字が印されており、これらの文字により
、表示部14a、14b、14Cの点燈の意味が示され
る。
The display parts 14a, 14b, 14C are the display board 12
A colorless transparent or colored transparent display plate 15 is placed in the notch 12a of the
A, 15b, and 15c are attached. Display board 15
a, 15b, and 15c, respectively r P A S S
J r F A I L J r S E N
The characters "SOR" are marked, and these characters indicate the meaning of the lights on the display sections 14a, 14b, and 14C.

表示板15a、15b、15cの背後には、前記LED
13a、13b、13cがそれぞれ位置している。LE
D13a、13b、13cは、ウェハブローパの測定回
路16に接続され、測定回路16での測定結果に応じた
LEDが点燈するようになっている。LED13a、1
3b、13cよりの光は、表示板15a、15b、15
cを透過することにより、表示部14a、14b、14
Cが照明される。
Behind the display boards 15a, 15b, 15c are the LEDs.
13a, 13b, and 13c are located respectively. L.E.
D13a, 13b, and 13c are connected to the measurement circuit 16 of the wafer blower, and the LEDs are turned on according to the measurement result of the measurement circuit 16. LED13a, 1
The light from 3b, 13c is transmitted to the display boards 15a, 15b, 15
By passing through the display parts 14a, 14b, 14
C is illuminated.

表示部14a、14b、14cよりの光は、鏡筒11内
を左方に進み、レンズ9を透過する(第1図参照)。レ
ンズ9を透過した光は、ハーフミラ−4で反射して鏡筒
6内を上方に進行し、接眼レンズ5に入る。こうして、
ウェハの拡大像と共に、表示部14a、14b、14c
の像が表示される(第3図参照)。なお、シャッタ8は
、ウェハプローバの検査時以外に表示部14a、14b
、14Cの像が見えないように、表示部14a、14b
、14cよりの光を遮るためのものである。
The light from the display sections 14a, 14b, and 14c travels to the left inside the lens barrel 11 and passes through the lens 9 (see FIG. 1). The light transmitted through the lens 9 is reflected by the half mirror 4, travels upward in the lens barrel 6, and enters the eyepiece 5. thus,
Along with the enlarged image of the wafer, display sections 14a, 14b, 14c
image is displayed (see Figure 3). Note that the shutter 8 is used to close the display sections 14a and 14b except when inspecting the wafer prober.
, 14C so that the images of the displays 14a and 14b are not visible.
, 14c.

ウェハWは、ウェハプロ〜バ内のウェハ駆動機構(図示
せず)上に支持されている。このウェハ駆動機構は、ウ
ェハW上のチップを順次対物レンズ3直下に位置させべ
く、ウェハWを水平面内で移動させる機能を有している
。また、前記ウェハ駆動機構はウェハWを上下動し、針
17、・・・、17先端にチップtを接触させる機能も
有している。
The wafer W is supported on a wafer drive mechanism (not shown) within the wafer processor. This wafer drive mechanism has a function of moving the wafer W within a horizontal plane in order to sequentially position the chips on the wafer W directly under the objective lens 3. The wafer drive mechanism also has the function of moving the wafer W up and down and bringing the tip t into contact with the tips of the needles 17, . . . , 17.

針17、・・・、17は、接眼レンズ3下方とウェハW
との間に水平に支持固定されるリング18により支持さ
れている。針17、・・・、17は、ツレぞれ測定回路
16に接続されている。
The needles 17, . . . , 17 are located below the eyepiece 3 and the wafer W.
It is supported by a ring 18 that is horizontally supported and fixed between. The needles 17, . . . , 17 are each connected to a deflection measuring circuit 16.

次に、この顕微鏡1の使用例を以下に説明する。Next, an example of how this microscope 1 is used will be explained below.

ウェハプローパに異常が生じていると考えられる時には
、リファレンスのウェハWをウエハプローバに装填し、
シャッタ8を開ける。
When it is thought that an abnormality has occurred in the wafer prober, load the reference wafer W into the wafer prober,
Open shutter 8.

次いで、ウェハ駆動機構により、ウェハWの各チップt
を順次対物レンズ3下方に移動し、チップに針17、・
・・、17を接触させていく。この間、作業者は接眼レ
ンズ5を覗いている。作業者の肉眼eにうつる像が第3
図に示されている(第3図中の斜線を施した部分は、そ
の部分が暗いことを示している)。
Next, each chip t of the wafer W is moved by the wafer drive mechanism.
are sequentially moved below the objective lens 3, and the needles 17, .
..., 17 are brought into contact. During this time, the worker is looking into the eyepiece 5. The image that appears to the worker's naked eye is the third image.
(The shaded area in FIG. 3 indicates that the area is dark).

チップtに針17、・・・、17が完全に接触し・測定
可能状態になると、測定回路16がこれを検出し、LE
D 13 Cを点燈させる。LED13Cが点燈すると
、表示部14cが輝いて、チップtの拡大像Iと共に表
示される(第3図参照)。表示部14cの表示の有無に
より、作業者は接眼レンズ5を覗きながら、針17、・
・・、17に異常があるか否かを確認することができる
When the needles 17, .
Turn on D 13 C. When the LED 13C is turned on, the display section 14c lights up and is displayed together with the enlarged image I of the chip t (see FIG. 3). Depending on the presence or absence of the display on the display section 14c, the operator can adjust the needles 17, . . . while looking through the eyepiece 5.
..., it is possible to check whether or not there is an abnormality in 17.

針17、・・・、17が完全にチップtに接触し、表示
部14Cが表示された場合には、測定回路16はチップ
tの電気的特性を測定する。測定結果が「良」の場合に
はLED13aを点燈し、表示部14aを表示する。一
方、測定結果が「不良」の場合にはLED13bを点燈
し、表示部14bを表示する。
When the needles 17, . . . , 17 completely contact the tip t and the display section 14C is displayed, the measuring circuit 16 measures the electrical characteristics of the tip t. If the measurement result is "good", the LED 13a is turned on and the display section 14a is displayed. On the other hand, if the measurement result is "defective", the LED 13b is turned on and the display section 14b is displayed.

リファレンスのウェハW上の不良なチップtには、不良
マークmが印されている。不良マークnの印されたチッ
プtを測定した時に、表示部14bが表示される(第3
図参照)と共に、不良マー−りnの印されていないチッ
プtを測定した時に、表示部14aが表示される場合に
は、測定回路16には異常がないことになる。
A defective mark m is marked on a defective chip t on the reference wafer W. When the chip t marked with the defective mark n is measured, the display section 14b is displayed (the third
(see figure), and if the display section 14a is displayed when measuring the chip t on which no defective mark n is marked, it means that there is no abnormality in the measuring circuit 16.

逆に、不良マークmが印されたチップtを測定した時に
表示部142表示される場合、あるいは不良マークmが
印されてないチップtを測定した時に表示部14bが表
示される場合には、測定回路16に異常が生じているこ
とになる。
Conversely, if the display section 142 displays when a chip t with a defective mark m is measured, or if the display section 14b displays when a chip t without a defective mark m is measured, This means that an abnormality has occurred in the measurement circuit 16.

作業者は、接眼レンズ5を除きながら、各チップを上の
不良マークmを有無及び表示部14a、14bの表示を
確認していく。表示部14a、14bの誤表示が多発す
る場合には、測定回路16の再調整・修理等を行う。
While removing the eyepiece 5, the operator checks each chip for the presence or absence of the defective mark m on the chip and the display on the display sections 14a and 14b. If erroneous displays on the display sections 14a and 14b occur frequently, readjustment or repair of the measurement circuit 16 is performed.

ウェハプローバが通常のウェハ検査状態である時には、
顕微鏡1のシャッタ8が閉じられ、従来通りのウエハプ
ローバ用顕微鏡として機能する。
When the wafer prober is in normal wafer inspection state,
The shutter 8 of the microscope 1 is closed and functions as a conventional wafer prober microscope.

なお、上記実施例においては、第1の光学系、第2の光
学系とも最も簡単な構成のものを示し、ビームスプリッ
タとしてハーフミラ−を示しているが、これらに限定さ
れるものではなく、適宜設計変更可能である。
In the above embodiment, both the first optical system and the second optical system have the simplest configuration, and a half mirror is shown as the beam splitter, but the invention is not limited to these, and may be used as appropriate. Design changes are possible.

また、上記実施例では、表示手段として背後より照明さ
れる透明表示板を使用しているが、これに限定されるも
のではなく、適宜設計変更可能である。
Further, in the above embodiment, a transparent display plate illuminated from behind is used as the display means, but the display is not limited to this, and the design can be changed as appropriate.

(ト)発明の効果 この発明のウェハブローバ用顕微鏡は、ウェハプローバ
に装填されたウェハ上のチップであって、ウエハプロー
バの針が接触しているチップの拡大像を得る第1の光学
系と、ウェハプローバのウェハ検査結果を光学的に表示
する表示手段と、前記第1の光学系に設けられたビーム
スプリッタを介して前記表示手段の像を前記チップの拡
大像と共に表示する第2の光学系とを備えてなるもので
あるから、ウエハプローバ自体の検査作業を容易に、か
つ短時間で行える利点を有する。
(G) Effects of the Invention The wafer prober microscope of the present invention includes a first optical system that obtains an enlarged image of a chip on a wafer loaded in a wafer prober and in contact with a needle of the wafer prober. , a display means for optically displaying a wafer inspection result of the wafer prober, and a second optical system for displaying an image of the display means together with an enlarged image of the chip via a beam splitter provided in the first optical system. Since the wafer prober is equipped with a system, it has the advantage that the inspection work of the wafer prober itself can be carried out easily and in a short time.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

図面は、いずれもこの発明の一実施例を示し、第1図は
、同実施例に係るウェハブローバ用顕微鏡の光学系を示
す図、第2図は、同つエハプローバ用顕微鏡のディスプ
レイ板を示す正面図、第3図は、同つェハプローバ用顕
微鏡で得られたウェハ上のチップの拡大像及び表示部の
像を示す図である。 2:第1の光学系、 4:ハーフミラ−,7:第2の光
学系、 14a14b・14c:表示部、 W:ウェハ、     t:チップ。 特許出願人        ローム株式会社代理人  
   弁理士  中 村 茂 信第3図
Each of the drawings shows an embodiment of the present invention; FIG. 1 shows an optical system of a wafer prober microscope according to the same embodiment, and FIG. 2 shows a display plate of the same wafer prober microscope. The front view and FIG. 3 are diagrams showing an enlarged image of a chip on a wafer and an image of a display section obtained by the same wafer prober microscope. 2: first optical system, 4: half mirror, 7: second optical system, 14a14b/14c: display section, W: wafer, t: chip. Patent applicant ROHM Co., Ltd. agent
Patent Attorney Shigeru Nakamura Figure 3

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)ウェハプローバに装填されたウェハ上のチップで
あって、ウェハプローバの針が接触しているチップの拡
大像を得る第1の光学系と、ウェハプローバのウェハ検
査結果を光学的に表示する表示手段と、前記第1の光学
系に設けられたビームスプリッタを介して前記表示手段
の像を前記チップの拡大像と共に表示する第2の光学系
とを備えてなるウェハプローバ用顕微鏡。
(1) A first optical system that obtains an enlarged image of the chip on the wafer loaded in the wafer prober and that is in contact with the needle of the wafer prober, and optically displays the wafer inspection results of the wafer prober. and a second optical system that displays an image of the display means together with an enlarged image of the chip via a beam splitter provided in the first optical system.
JP15847286A 1986-07-05 1986-07-05 Wafer prober microscope Expired - Lifetime JPH0736414B2 (en)

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JPS6314447A true JPS6314447A (en) 1988-01-21
JPH0736414B2 JPH0736414B2 (en) 1995-04-19

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ID=15672491

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63265435A (en) * 1987-04-23 1988-11-01 Tokyo Electron Ltd Position alignment method

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63265435A (en) * 1987-04-23 1988-11-01 Tokyo Electron Ltd Position alignment method

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