JPH0736414B2 - Wafer prober microscope - Google Patents

Wafer prober microscope

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JPH0736414B2
JPH0736414B2 JP15847286A JP15847286A JPH0736414B2 JP H0736414 B2 JPH0736414 B2 JP H0736414B2 JP 15847286 A JP15847286 A JP 15847286A JP 15847286 A JP15847286 A JP 15847286A JP H0736414 B2 JPH0736414 B2 JP H0736414B2
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wafer
wafer prober
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秀文 竹澤
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ロ−ム株式会社
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  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (イ) 産業上の利用分野 この発明はウェハプローバに付設される顕微鏡の改良に
関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (a) Field of Industrial Application The present invention relates to improvement of a microscope attached to a wafer prober.

(ロ) 従来の技術 ウェハプロセスを終了したウェハ上には、IC等の半導体
装置が網目状のチップに配置されて作込まれている。こ
れらウェハ上のチップのうちには、様々な原因により生
じた不良チップが含まれている。そこで、各チップの電
気的特性を検査して、不良チップを選別することが行わ
れている。
(B) Conventional technology On a wafer that has undergone the wafer process, semiconductor devices such as ICs are arranged and built in mesh chips. The chips on these wafers include defective chips caused by various causes. Therefore, the defective chip is selected by inspecting the electrical characteristics of each chip.

このウェハの検査(ウェハプロービング)に使用される
ウェハプローバとしては、ウェハ上のチップに接触する
針と、この針が接続される測定回路と、この測定回路の
測定結果に基づいて不良チップにマークを付すマーキン
グ手段と、ウェハを上下動及びチップ毎に移動させるウ
ェハ駆動機構を備えたものが知られている。
As a wafer prober used for this wafer inspection (wafer probing), a needle that contacts a chip on the wafer, a measurement circuit to which the needle is connected, and a defective chip are marked based on the measurement result of this measurement circuit. There is known a marking means for attaching a mark and a wafer drive mechanism for moving the wafer up and down and moving it chip by chip.

このウェハプローバには、チップと針との接触状態等を
確認するための光学顕微鏡が付設されている。この従来
のウェハプローバ用の顕微鏡は、一般の光学顕微鏡の構
成と略同様の構成であり、対物レンズ、接眼レンズ、鏡
筒等を備えたものである。
The wafer prober is provided with an optical microscope for confirming the contact state between the chip and the needle. The conventional microscope for a wafer prober has substantially the same configuration as that of a general optical microscope, and includes an objective lens, an eyepiece lens, a lens barrel, and the like.

(ハ) 発明が解決しようとする問題点 ウェハプローバは、ウェハの検査を続けていくうちに、
針や測定回路に異常が起き、チップの良・不良の選別を
誤るというエラーが生じる。そこで、ウェハプローバ自
体の検査を行う必要がある。この検査は、以下の手順に
従って行われる。
(C) Problems to be solved by the invention As the wafer prober continues to inspect wafers,
An error occurs in the selection of good or bad chips due to an abnormality in the needle or measuring circuit. Therefore, it is necessary to inspect the wafer prober itself. This inspection is performed according to the following procedure.

先ず、リファレンスのウェハを、ウェハプローバに装填
する。このリファレンスのウェハは、以前に当該ウェハ
プローバにより検査されたウェハの一枚を保存しておい
たものであり、不良チップにはマークが付されているも
のである。
First, the reference wafer is loaded into the wafer prober. The reference wafer is one in which one wafer previously inspected by the wafer prober is stored, and a defective chip is marked.

次に、このリファレンスのウェハ上のチップに順次針を
接触させていき、チップの電気的特性を測定していく。
この時、作業者は、前記従来のウェハプローバ用顕微鏡
を覗き、チップに不良マークが付されているか否かを確
認する。次いで作業者は、ウェハプローバの操作部に表
示される測定結果を確認する。
Next, the needles are sequentially brought into contact with the chips on the reference wafer, and the electrical characteristics of the chips are measured.
At this time, the operator looks into the conventional wafer prober microscope to check whether or not the chip has a defect mark. Next, the operator confirms the measurement result displayed on the operation unit of the wafer prober.

チップに不良マークが付されていないのに、測定結果が
不良である場合、又はチップに不良マークが付されてい
るのに、測定結果が良である場合には、ウェハプローバ
の測定回路等に異常が生じていることになる。
If the measurement result is bad even if the chip is not marked with a bad mark, or if the chip is marked with a bad mark and the measurement result is good, then the measurement circuit of the wafer prober, etc. An abnormality has occurred.

しかし、上述のウェハプローバの検査においては、作業
者は、ウェハプローバ用顕微鏡とウェハプローバの操作
部を交互に見なければならず、不便であり、また作業に
時間がかかる不都合があった。
However, in the above-described inspection of the wafer prober, the operator has to look at the wafer prober microscope and the operation portion of the wafer prober alternately, which is inconvenient and time-consuming.

この発明は、上記不都合に鑑みなされたもので、ウェハ
プローバ自体の検査作業を容易とするウェハプローバ用
顕微鏡の提供を目的としている。
The present invention has been made in view of the above-mentioned inconvenience, and an object thereof is to provide a microscope for a wafer prober that facilitates the inspection work of the wafer prober itself.

(ニ) 問題点を解決するための手段 上記不都合を解決するための手段として、この発明のウ
ェハプローバ用顕微鏡は、ウェハプローバに装填された
ウェハ上のチップであって、ウェハプローバの針が接触
しているチップの拡大像を得る第1の光学系と、ウェハ
プローバのウェハ検査結果を光学的に表示する表示手段
と、前記第1の光学系に設けられたビームスプリッタを
介して前記表示手段の像を前記チップの拡大像と共に表
示する第2の光学系とを備えてなるものである。
(D) Means for Solving Problems As a means for solving the above-mentioned inconveniences, the wafer prober microscope of the present invention is a chip on a wafer loaded in the wafer prober, and the needle of the wafer prober makes contact. Optical system for obtaining a magnified image of the chip being processed, display means for optically displaying the wafer inspection result of the wafer prober, and the display means via a beam splitter provided in the first optical system. A second optical system for displaying the image of 1) together with the magnified image of the chip.

(ホ) 作用 この発明のウェハプローバ用顕微鏡は、チップの拡大像
と共に、チップの測定結果が表示されるため、作業者は
顕微鏡だけを覗いていればよい。このため、ウェハプロ
ーバ自体の検査作業が容易となり、その時間が短縮され
る。
(E) Action In the microscope for wafer prober of the present invention, the measurement result of the chip is displayed together with the enlarged image of the chip, so that the operator need only look into the microscope. Therefore, the inspection work of the wafer prober itself is facilitated and the time is shortened.

(ヘ) 実施例 この発明の一実施例を、第1図乃至第3図に基づいて以
下に説明する。
(F) Embodiment One embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 3.

第1図は、この発明の一実施例に係るウェハプローバ用
顕微鏡(以下、単に顕微鏡という)1の光学系を示す図
である。
FIG. 1 is a diagram showing an optical system of a wafer prober microscope (hereinafter, simply referred to as a microscope) 1 according to an embodiment of the present invention.

顕微鏡1は、第1の光学系2と、第2の光学系7とより
構成されている。第1の光学系2は、対物レンズ3、ハ
ーフミラー(ビームスプリッタ)4、接眼レンズ5及び
鏡筒6より構成されている。対物レンズ3は、鏡筒6下
端に支持され、ウェハプローバ内に装填されたウェハW
上のチップtの像(第3図参照)を捉える。対物レンズ
3よりの光束は、鏡筒6内を上方に進み、ハーフミラー
4を透過する(第1図参照)。ハーフミラー4を透過し
た光束は、さらに接眼レンズ5に達する。作業者は、肉
眼eで接眼レンズ5を覗くことにより、チップtの拡大
像を見ることができる。
The microscope 1 is composed of a first optical system 2 and a second optical system 7. The first optical system 2 includes an objective lens 3, a half mirror (beam splitter) 4, an eyepiece lens 5, and a lens barrel 6. The objective lens 3 is supported by the lower end of the lens barrel 6, and the wafer W loaded in the wafer prober.
Capture the image of tip t (see FIG. 3). The light flux from the objective lens 3 travels upward in the lens barrel 6 and passes through the half mirror 4 (see FIG. 1). The light flux transmitted through the half mirror 4 further reaches the eyepiece lens 5. The operator can see an enlarged image of the tip t by looking into the eyepiece lens 5 with the naked eye e.

第2の光学系7は、シャッタ8、レンズ9、ディスプレ
イ板12及び鏡筒11により構成される。鏡筒11は鏡筒6に
設けられ、その左端部11aが鏡筒6のハーフミラー4の
収納部6aと連通している。
The second optical system 7 is composed of a shutter 8, a lens 9, a display plate 12 and a lens barrel 11. The lens barrel 11 is provided in the lens barrel 6, and its left end portion 11a communicates with the storage portion 6a of the half mirror 4 of the lens barrel 6.

鏡筒11の右端部11bには、ディスプレイ板12が設けられ
ている。ディスプレイ板12には、発光ダイオード素子
(LED)13a、13b、13cによって背後より照明される表示
部(表示手段)14a、14b、14cが設けられている(第1
図中には、LED13b、表示部14bのみを示している)。
A display plate 12 is provided at the right end 11b of the lens barrel 11. The display plate 12 is provided with display portions (display means) 14a, 14b, 14c illuminated from behind by light emitting diode elements (LEDs) 13a, 13b, 13c (first).
Only the LED 13b and the display section 14b are shown in the figure).

表示部14a、14b、14cは、ディスプレイ板12の切欠部12a
に、無色透明又は有色透明の表示板15a、15b、15cを装
着したものである。表示板15a、15b、15cには、それぞ
れ「PASS」「FAIL」「SENSOR」の文字が印されており、
これらの文字により、表示部14a、14b、14cの点燈の意
味が示される。
The display portions 14a, 14b, 14c are the cutout portions 12a of the display board 12.
Further, colorless and transparent or colored and transparent display plates 15a, 15b and 15c are mounted. The letters "PASS", "FAIL" and "SENSOR" are stamped on the display boards 15a, 15b, 15c,
These characters indicate the meaning of lighting of the display units 14a, 14b, 14c.

表示板15a、15b、15cの背後には、前記LED13a、13b、13
cがそれぞれ位置している。LED13a、13b、13cは、ウェ
ハプローバの測定回路16に接続され、測定回路16での測
定結果に応じたLEDが点燈するようになっている。LED13
a、13b、13cよりの光は、表示板15a、15b、15cを透過す
ることにより、表示部14a、14b、14cが照明される。
Behind the display plates 15a, 15b, 15c, the LEDs 13a, 13b, 13
c are located respectively. The LEDs 13a, 13b, 13c are connected to the measurement circuit 16 of the wafer prober, and the LEDs corresponding to the measurement result of the measurement circuit 16 are lit. LED13
Light from a, 13b, and 13c is transmitted through the display plates 15a, 15b, and 15c to illuminate the display units 14a, 14b, and 14c.

表示部14a、14b、14cよりの光は、鏡筒11内を左方に進
み、レンズ9を透過する(第1図参照)。レンズ9を透
過した光は、ハーフミラー4で反射して鏡筒6内を上方
に進行し、接眼レンズ5に入る。こうして、ウェハの拡
大像と共に、表示部14a、14b、14cの像が表示される
(第3図参照)。なお、シャッタ8は、ウェハプローバ
の検査時以外に表示部14a、14b、14cの像が見えないよ
うに、表示部14a、14b、14cよりの光を遮るためのもの
である。
Light from the display units 14a, 14b, 14c travels leftward in the lens barrel 11 and passes through the lens 9 (see FIG. 1). The light transmitted through the lens 9 is reflected by the half mirror 4, travels upward in the lens barrel 6, and enters the eyepiece lens 5. In this way, the images of the display units 14a, 14b, and 14c are displayed together with the enlarged image of the wafer (see FIG. 3). The shutter 8 is for blocking light from the display units 14a, 14b, 14c so that the images on the display units 14a, 14b, 14c are not visible except when the wafer prober is inspected.

ウェハWは、ウェハプローバ内のウェハ駆動機構(図示
せず)上に支持されている。このウェハ駆動機構は、ウ
ェハW上のチップを順次対物レンズ3直下に位置させべ
く、ウェハWを水平面内で移動させる機能を有してい
る。また、前記ウェハ駆動機構はウェハWを上下動し、
針17、…、17先端にチップtを接触させる機能も有して
いる。
The wafer W is supported on a wafer drive mechanism (not shown) in the wafer prober. The wafer drive mechanism has a function of moving the wafer W in a horizontal plane so that the chips on the wafer W are sequentially positioned immediately below the objective lens 3. Further, the wafer drive mechanism moves the wafer W up and down,
It also has a function of bringing the tip t into contact with the tips of the needles 17 ,.

針17、…、17は、接眼レンズ3下方とウェハWとの間に
水平に支持固定されるリング18により支持されている。
針17、…、17は、それぞれ測定回路16に接続されてい
る。
The needles 17, ..., 17 are supported by a ring 18 horizontally supported and fixed between the lower side of the eyepiece 3 and the wafer W.
The needles 17, ..., 17 are respectively connected to the measuring circuit 16.

次に、この顕微鏡1の使用例を以下に説明する。Next, an example of use of this microscope 1 will be described below.

ウェハプローバに異常が生じていると考えられる時に
は、リファレンスのウェハWをウェハプローバに装填
し、シャッタ8を開ける。
When it is considered that an abnormality has occurred in the wafer prober, the reference wafer W is loaded in the wafer prober and the shutter 8 is opened.

次いで、ウェハ駆動機構により、ウェハWの各チップt
を順次対物レンズ3下方に移動し、チップに針17、…、
17を接触させていく。この間、作業者は接眼レンズ5を
覗いている。作用者の肉眼eにうつる像が第3図に示さ
れている(第3図中の斜線を施した部分は、その部分が
暗いことを示している)。
Then, each chip t of the wafer W is moved by the wafer drive mechanism.
Sequentially move to the lower side of the objective lens 3, and the needle 17, ...
Touch 17 together. During this time, the operator is looking through the eyepiece lens 5. An image transferred to the naked eye e of the operator is shown in FIG. 3 (a shaded portion in FIG. 3 indicates that the portion is dark).

チップtに針17、…、17が完全に接触し、測定可能状態
になると、測定回路16がこれを検出し、LED13cを点燈さ
せる。LED13cが点燈すると、表示部14cが輝いて、チッ
プtの拡大像Iと共に表示される(第3図参照)。表示
部14cの表示の有無により、作業者は接眼レンズ5を覗
きながら、針17、…、17に異常があるか否かを確認する
ことができる。
, 17 are brought into complete contact with the tip t, and when the measurement is possible, the measuring circuit 16 detects this and turns on the LED 13c. When the LED 13c is turned on, the display portion 14c shines and is displayed together with the enlarged image I of the chip t (see FIG. 3). Whether or not the needles 17, ..., 17 are abnormal can be checked by looking at the eyepiece lens 5 based on the presence or absence of the display on the display unit 14c.

針17、…、17が完全にチップtに接触し、表示部14cが
表示された場合には、測定回路16はチップtの電気的特
性を測定する。測定結果が「良」の場合にはLED13aを点
燈し、表示部14aを表示する。一方、測定結果が「不
良」の場合にはLED13bを点燈し、表示部14bを表示す
る。
When the needles 17, ..., 17 are completely in contact with the tip t and the display portion 14c is displayed, the measuring circuit 16 measures the electrical characteristics of the tip t. When the measurement result is “good”, the LED 13a is turned on and the display unit 14a is displayed. On the other hand, when the measurement result is “defective”, the LED 13b is turned on and the display unit 14b is displayed.

リファレンスのウェハW上の不良なチップtには、不良
マークmが印されている。不良マークnの印されたチッ
プtを測定した時に、表示部14bが表示される(第3図
参照)と共に、不良マークnの印されていないチップt
を測定した時に、表示部14aが表示される場合には、測
定回路16には異常がないことになる。
The defective chip t on the reference wafer W is marked with a defective mark m. When the chip t marked with the defective mark n is measured, the display section 14b is displayed (see FIG. 3), and the chip t not marked with the defective mark n is displayed.
When the display unit 14a is displayed when the measurement is performed, it means that the measurement circuit 16 has no abnormality.

逆に、不良マークmが印されたチップtを測定した時に
表示部14a表示される場合、あるいは不良マークmが印
されていないチップtを測定した時に表示部14bが表示
される場合には、測定回路16に異常が生じていることに
なる。
On the contrary, when the display section 14a is displayed when the chip t with the defective mark m is measured, or when the display section 14b is displayed when the chip t without the defective mark m is measured, An abnormality has occurred in the measurement circuit 16.

作業者は、接眼レンズ5を除きながら、各チップt上の
不良マークmを有無及び表示部14a、14bの表示を確認し
ていく。表示部14a、14bの誤表示が多発する場合には、
測定回路16の再調整・修理等を行う。
The operator confirms the presence or absence of the defect mark m on each chip t and the display of the display units 14a and 14b while removing the eyepiece 5. If there are many false displays on the display 14a, 14b,
Readjustment and repair of the measurement circuit 16 are performed.

ウェハプローバが通常のウェハ検査状態である時には、
顕微鏡1のシャッタ8が閉じられ、従来通りのウェハプ
ローバ用顕微鏡として機能する。
When the wafer prober is in the normal wafer inspection state,
The shutter 8 of the microscope 1 is closed to function as a conventional wafer prober microscope.

なお、上記実施例においては、第1の光学系、第2の光
学系とも最も簡単な構成のものを示し、ビームスプリッ
タとしてハーフミラーを示しているが、これらに限定さ
れるものではなく、適宜設計変更可能である。
In the above embodiments, both the first optical system and the second optical system have the simplest configurations, and half mirrors are shown as the beam splitter, but the present invention is not limited to these and may be appropriately. The design can be changed.

また、上記実施例では、表示手段として背後より照明さ
れる透明表示板を使用しているが、これに限定されるも
のではなく、適宜設計変更可能である。
Further, in the above embodiment, the transparent display plate illuminated from behind is used as the display means, but the present invention is not limited to this, and the design can be changed appropriately.

(ト) 発明の効果 この発明のウェハプローバ用顕微鏡は、ウェハプローバ
に装填されたウェハ上のチップであって、ウェハプロー
バの針が接触しているチップの拡大像を得る第1の光学
系と、ウェハプローバのウェハ検査結果を光学的に表示
する表示手段と、前記第1の光学系に設けられたビーム
スプリッタを介して前記表示手段の像を前記チップの拡
大像と共に表示する第2の光学系とを備えてなるもので
あるから、ウェハプローバ自体の検査作業を容易に、か
つ短時間で行える利点を有する。
(G) Effect of the Invention A wafer prober microscope according to the present invention comprises a first optical system for obtaining an enlarged image of a chip on a wafer loaded in the wafer prober, the chip being in contact with a needle of the wafer prober. Display means for optically displaying a wafer inspection result of the wafer prober, and second optical means for displaying an image of the display means together with an enlarged image of the chip via a beam splitter provided in the first optical system. Since the system includes the system, it has an advantage that the inspection work of the wafer prober itself can be performed easily and in a short time.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

図面は、いずれもこの発明の一実施例を示し、第1図
は、同実施例に係るウェハプローバ用顕微鏡の光学系を
示す図、第2図は、同ウェハプローバ用顕微鏡のディス
プレイ板を示す正面図、第3図は、同ウェハプローバ用
顕微鏡で得られたウェハ上のチップの拡大像及び表示部
の像を示す図である。 2:第1の光学系、4:ハーフミラー、7:第2の光学系、14
a・14b・14c:表示部、W:ウェハ、t:チップ。
Each of the drawings shows an embodiment of the present invention, FIG. 1 shows an optical system of a wafer prober microscope according to the embodiment, and FIG. 2 shows a display plate of the wafer prober microscope. FIG. 3 is a front view and FIG. 3 are diagrams showing an enlarged image of a chip on a wafer and an image of a display unit obtained by the same microscope for a wafer prober. 2: First optical system, 4: Half mirror, 7: Second optical system, 14
a ・ 14b ・ 14c: Display, W: Wafer, t: Chip.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ウェハプローバに装填されたウェハ上のチ
ップであって、ウェハプローバの針が接触しているチッ
プの拡大像を第1の光学系と、ウェハプローバのウェハ
検査結果を光学的に表示する表示手段と、前記第1の光
学系に設けられたビームスプリッタを介して前記表示手
段の像を前記チップの拡大像と共に表示する第2の光学
系とを備えてなるウェハプローバ用顕微鏡。
1. A magnified image of a chip on a wafer loaded in a wafer prober, which is in contact with a needle of the wafer prober, is optically detected by a first optical system and a wafer inspection result of the wafer prober is optically obtained. A wafer prober microscope comprising: display means for displaying; and a second optical system for displaying an image of the display means together with an enlarged image of the chip via a beam splitter provided in the first optical system.
JP15847286A 1986-07-05 1986-07-05 Wafer prober microscope Expired - Lifetime JPH0736414B2 (en)

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JPS6314447A JPS6314447A (en) 1988-01-21
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