JPS63143993A - Treatment of waste liquid from photographic process and apparatus thereof - Google Patents

Treatment of waste liquid from photographic process and apparatus thereof

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JPS63143993A
JPS63143993A JP29194486A JP29194486A JPS63143993A JP S63143993 A JPS63143993 A JP S63143993A JP 29194486 A JP29194486 A JP 29194486A JP 29194486 A JP29194486 A JP 29194486A JP S63143993 A JPS63143993 A JP S63143993A
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JP
Japan
Prior art keywords
waste liquid
tank
photographic processing
ions
gas
Prior art date
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Pending
Application number
JP29194486A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiro Kobayashi
一博 小林
Shigeharu Koboshi
重治 小星
Nobutaka Goshima
伸隆 五嶋
Masayuki Kurematsu
雅行 榑松
Naoki Takabayashi
高林 直樹
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
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Priority to DE8787310746T priority patent/DE3779880T2/en
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  • Heat Treatment Of Water, Waste Water Or Sewage (AREA)

Abstract

PURPOSE:To effectively remove offensive odor, by heating, a evaporating and concentrating waste liquid under the existence of a compd. capable of discharging sulfite ion. CONSTITUTION:Waste liquid is fed to an evaporation tank 3 via a feed pipe 1A thereof. A compd. capable of discharging sulfite ion (i.e. K2SO3, Na2SO3, (NH4)2SO3 and NaHSO3 or the like) is added to the evaporation tank 3 at 5X10<-4> g-ion/l expressed in terms of sulfite ion. The mixture is heated and evaporated in such a state that the pH of waste liquid is maintained at 3.0-11.0. A pH regulating agent is fed from a tank 13 thereof with a pump 14 for the pH regulating agent. Further as a heating means, an electric heater and a ceramic heater, etc., are preferably provided to the inside of the evaporation tank 3. Thereby the load of secondary treatment can be remarkably decreased.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、写真用自動現像機による写真感光材料の現像
処理に伴ない発生する廃液(本明細書において写真処理
廃液ないし廃液と略称)の加熱・蒸発処理における悪臭
を効果的に抑制するのに適切な方法及びその装置に関す
る。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention is directed to the treatment of waste liquid (herein referred to as photographic processing waste liquid or waste liquid) generated during the processing of photographic light-sensitive materials using an automatic photographic processor. The present invention relates to a method and apparatus suitable for effectively suppressing bad odors during heating and evaporation treatment.

[発明の背景] 近年、補充量の低減や水洗に替わる安定化処理を用い、
実質的に水洗を行わない、いわゆる無水洗自動現像機に
よる写真処理の普及によって廃液量は大幅に減少してき
た。
[Background of the invention] In recent years, stabilization treatments have been used to reduce the amount of replenishment and replace washing with water.
With the spread of photographic processing using so-called waterless automatic processors that do not substantially require water washing, the amount of waste liquid has been significantly reduced.

しかしかかる低補充や無水洗方式の写真処理によっても
、比較的小規模な処理でも、例えばXレイ感光材料の処
理で10に10文程度、印刷製版用感光材料の処理で1
日に30!l程度、カラー感光材料の処理で1日に50
fL程度の廃液が発生し、その処理が問題となる。
However, even with such low-replenishment and water-free photographic processing, even relatively small-scale processing is possible, for example, about 10 out of 10 when processing X-ray photosensitive materials, and about 1 out of 10 when processing photosensitive materials for printing plate making.
30 a day! 50 per day for color photosensitive material processing
A waste liquid of approximately fL is generated, and its disposal becomes a problem.

本発明者は、少量で高濃度(例えばBOD 20,00
0〜30,000ppm、 N)14’ 20,000
〜40.OOOppm程度)の写、真処理廃液を効率的
に処理するには蒸発法が優れていることを見い出し、種
々の提案を行ってきた(特願昭80−259001号〜
259010号、特願昭81−132098号、特願昭
81−185099号、特願昭81−165100号等
参照)。
The inventor has discovered that a small amount and a high concentration (e.g. BOD 20,00
0-30,000ppm, N)14' 20,000
~40. We discovered that the evaporation method is an excellent way to efficiently treat treated waste liquid (approximately OOppm), and have made various proposals (Japanese Patent Application No. 80-259001~
259010, Japanese Patent Application No. 81-132098, Japanese Patent Application No. 81-185099, Japanese Patent Application No. 81-165100, etc.).

しかしこの加a Q7/A発法においては、蒸発ガスあ
るいは留液等から、亜硫酸ガス、硫化水素ガス、イオウ
ガス、アンモニアガス、アミンガス等に基づく悪臭が発
生するという問題があり、この問題を解決しない限り、
完成されたプロセスとはならなかった。
However, in this addition method, there is a problem in that the evaporated gas or distillate generates a bad odor based on sulfur dioxide gas, hydrogen sulfide gas, sulfur gas, ammonia gas, amine gas, etc., and this problem cannot be solved. as long as
It was not a complete process.

従来かかる悪臭対策として1.実開昭Go−70841
号には、排気管部に吸着処理部を設ける方法が提案され
ている。
Conventional measures against such bad odors include: 1. Jikaisho Go-70841
No. 1 proposes a method of providing an adsorption treatment section in the exhaust pipe section.

しかしこの方法は排出された悪臭ガスを末端(系外に排
出されるすぐ手前、以下同じ)で処理しようとする点で
、これまで知られている排ガス処理と同様の技術思想に
基づくものであり1本発明の如き小規模な廃液処理設備
に付加するガス処理設備としては不適切なものであった
However, this method is based on the same technical concept as conventional exhaust gas treatment in that it attempts to treat the emitted foul-smelling gas at the end (immediately before it is emitted outside the system; the same applies hereinafter). 1. It was inappropriate as a gas treatment facility to be added to a small-scale waste liquid treatment facility such as the one of the present invention.

即ち悪臭ガスは一般に(成分によっても異なるが)凝結
の問題を解決すれば吸着等の設備で処塊可能であると考
えられるが、写真廃液を蒸発して得られる排ガス中の悪
臭ガス濃度は極めて高く、この高濃度の悪臭ガスを吸着
処理しようとすると、吸着剤がすぐに飽和してしまい、
ランニングコストが莫大にかかり、また吸着剤の交換作
業を頻繁に行う必要が生じ、極めて煩雑である欠点があ
った。更に交換作業を少なくしようとすると吸着塔の大
きさを大きくする必要があり、設備コストの増大を招く
という欠点があった。
In other words, it is generally considered that malodorous gases can be agglomerated using equipment such as adsorption if the problem of condensation is solved (although this varies depending on the component), but the concentration of malodorous gases in the exhaust gas obtained by evaporating photographic waste liquid is extremely low. If you try to adsorb and treat this high concentration of foul-smelling gas, the adsorbent will quickly become saturated.
The running cost is enormous, and the adsorbent has to be replaced frequently, which is extremely complicated. Furthermore, in order to reduce the number of replacement operations, it is necessary to increase the size of the adsorption tower, which has the disadvantage of increasing equipment costs.

E発IJIの目的] 本発明は従来技術の欠点を解決し、コスト増を招くこと
なく、かつ煩雑な作業を要することなく、効率よく悪臭
を抑制できる方法及びその装置を提供することを目的と
する。
Purpose of IJI from E] The purpose of the present invention is to solve the shortcomings of the prior art and provide a method and device for efficiently suppressing bad odors without increasing costs or requiring complicated work. do.

[問題点を解決するための手段] 本発明者等は上記目的を達成すべく鋭意検討を重ねた結
果1本発明に至ったものである。
[Means for Solving the Problems] The present inventors have conducted extensive studies to achieve the above object, and as a result, have arrived at the present invention.

即ち本発明に係る写真処理廃液の処理方法は、少なくと
も亜硫酸イオン及び亜硫酸イオンを放出することのでき
る化合物の存在下で写真処理廃液を加熱−蒸発・amす
ることを特徴とする。
That is, the method for treating photographic processing waste liquid according to the present invention is characterized in that the photographic processing waste liquid is subjected to heating-evaporation/am treatment in the presence of at least sulfite ions and a compound capable of releasing sulfite ions.

本発明の好ましい実施態様としては、写真処理廃液がチ
オ硫酸イオンを含有することであり、更にチオ硫酸イオ
ンに加えて銀イオンを含有することであり、更にまた写
真処理廃液のpHを3.0〜11.0に維持した状態で
加熱・蒸発することである。
In a preferred embodiment of the present invention, the photographic processing waste solution contains thiosulfate ions, further contains silver ions in addition to the thiosulfate ions, and furthermore, the pH of the photographic processing waste solution is adjusted to 3.0. It is heated and evaporated while maintaining the temperature at ~11.0.

[作用] 本発明は従来の如き排出された悪臭ガスを末端で処理す
る技術思想とは全く逆の発想に基づく技術思想であり、
悪臭の発生源に着目し、従来はとんど試みられたことの
ない悪臭対策の一手段を提供するものである。
[Function] The present invention is a technical idea based on an idea completely opposite to the conventional technical idea of treating emitted malodorous gas at the end,
Focusing on the source of the odor, the present invention provides a method of countermeasures against odor that has almost never been attempted before.

即ち、写真処理廃液中に、アミンやアンモニウムn1を
含有するため、アミンやアンモニア臭ヲ発生させ、また
廃液中にチオ硫酸イオンを含有すると、加熱されて高温
で分解し、Hasガスを発生させたり、遂には硫化して
Sガスを発生させ、悪臭を発生させる。
That is, since the photographic processing waste liquid contains amines and ammonium n1, it generates amine and ammonia odors, and if the waste liquid contains thiosulfate ions, it is heated and decomposed at high temperatures, generating Has gas. Eventually, it sulfurizes and generates S gas, which generates a bad odor.

本発明者等はかかる悪臭を抑制するために鋭意検;、=
1 ft重ねた結果、廃液の種類1組成によってアミン
臭、アンモニア臭がしたり、しなかったりすることがあ
ることを見い出し、更に検J・1シた所亜硫酸イオンの
存在する廃液の場合にはアミン臭、アンモニア臭が大幅
に減少することが判った。また更に廃液中にチオ硫酸イ
オンが存在するとき、亜硫酸イオンの存在する廃液の場
合には。
The present inventors conducted extensive research to suppress such malodors;,=
As a result of stacking 1 ft of waste fluid, we found that depending on the type and composition of the waste fluid, there may or may not be an amine odor or ammonia odor.Furthermore, in the case of waste fluid containing sulfite ions, we found that It was found that amine odor and ammonia odor were significantly reduced. Furthermore, when thiosulfate ions are present in the waste liquid, in the case of a waste liquid containing sulfite ions.

硫化水素やイオウガスの発生が大幅に減少することが判
った。
It was found that the generation of hydrogen sulfide and sulfur gas was significantly reduced.

本発明はかかる知見に基づきなされたもので、加熱時に
亜硫酸イオンが存在すれば、留液のアミン臭、アンモニ
ア臭を抑制でき、H2SやSガスの発生を防止できる。
The present invention was made based on this knowledge, and if sulfite ions are present during heating, the amine odor and ammonia odor of the distillate can be suppressed, and the generation of H2S and S gas can be prevented.

アミン臭やアンモニア臭を抑制できるのは、アミンやア
ンモニアが亜硫酸と共に水蒸気トラップされて凝集する
ためと推定され、またH2SやSガスの発生を防止でき
るのは、加熱によって起こるチオ硫酸イオンの分解反応
を亜硫酸イオンが有効に防止するためと推定される。
It is presumed that amine and ammonia odors can be suppressed because amines and ammonia are trapped with water vapor and coagulate with sulfurous acid, and the generation of H2S and S gas can be prevented due to the decomposition reaction of thiosulfate ions caused by heating. It is assumed that this is because sulfite ions effectively prevent this.

[実施例] 以下1本i1J]の実施例を悪臭の抑制方法の場合の一
例について添付図面に基づき説明する。
[Example] An example of the method for suppressing a bad odor will be described based on the accompanying drawings.

第1図は悪臭の抑制方法の一例を示す概念図である。FIG. 1 is a conceptual diagram showing an example of a method for suppressing bad odor.

図において、1は写真処理廃液の供給手段、IAは該供
給手段lに用いられる廃液供給管。
In the figure, 1 is a supply means for photographic processing waste liquid, and IA is a waste liquid supply pipe used in the supply means 1.

2は写真処理廃液を加熱前に予熱するための予熱器、3
は蒸発槽、4は加熱手段、たとえばヒーター、5は蒸発
槽3内の廃液を加熱した時に発生する蒸気を蒸発槽3外
に排出するための蒸気排出管26は該蒸気を冷却するた
めのガスクーラー。
2 is a preheater for preheating the photographic processing waste liquid before heating; 3
4 is a heating means such as a heater; 5 is a steam discharge pipe 26 for discharging steam generated when the waste liquid in the evaporation tank 3 is heated to the outside of the evaporation tank 3; 4 is a gas for cooling the steam; cooler.

7はガスクーラー用ファン、8は前記蒸気を冷却して得
られる留液を貯留するための留液槽、9は脱湿されたガ
スを蒸発槽に戻すための循環ファン、Aは写真処理廃液
に亜硫酸イオン及び亜6jL酸イオンを放出することの
できる化合物を供給する丁段であり、亜硫酸含有化合物
タンク10、亜硫酸含有化合物ポンプII、亜硫酸含有
化合物供給管12了からなる。Bは写真処理廃液にpH
調整剤を供給する手段であり、例えばPH調整剤タンク
13、pH調整剤ポンプ14. pH:A整剤供給管1
5、pHコントローラーpHC等からなる。TCは温度
コントローラーである。
7 is a gas cooler fan, 8 is a distillate tank for storing the distillate obtained by cooling the vapor, 9 is a circulation fan for returning the dehumidified gas to the evaporation tank, and A is a photographic processing waste liquid. This is a device for supplying a compound capable of releasing sulfite ions and 6jL acid ions to the system, and consists of a sulfite-containing compound tank 10, a sulfite-containing compound pump II, and a sulfite-containing compound supply pipe 12. B is the pH of the photographic processing waste liquid.
A means for supplying the adjusting agent, such as a pH adjusting agent tank 13, a pH adjusting agent pump 14. pH: A adjustment agent supply pipe 1
5. Consists of pH controller pHC, etc. TC is a temperature controller.

以上の装置を用いて加熱・蒸発処理するプロセスの概略
を説明すると、廃液は廃液供給管IAを介して蒸発槽3
に供給され、ヒーター4により加熱・蒸発される。この
加熱−蒸発は亜硫酸イオン及び亜硫酸イオンを放出する
ことができる化合物の存在下で行われる。また加熱・蒸
発は写真処理液のpHが3.0−11.0に維持された
状態で行われることが好ましく、より好ましくは4.0
〜8.0.特に好ましくは5.0〜7.0に維持された
状態で行われることである。加熱温度は温度コントロー
ラーTGで適宜調整される。
To explain the outline of the heating and evaporation process using the above-mentioned device, the waste liquid is passed through the waste liquid supply pipe IA to the evaporation tank 3.
and is heated and evaporated by the heater 4. This heating-evaporation is carried out in the presence of sulfite ions and compounds capable of releasing sulfite ions. Further, heating and evaporation are preferably performed while the pH of the photographic processing solution is maintained at 3.0-11.0, more preferably 4.0.
~8.0. Particularly preferably, the temperature is maintained at 5.0 to 7.0. The heating temperature is appropriately adjusted by a temperature controller TG.

蒸気は予熱器2で廃液と熱交換され、ガスクーラー6に
送られ、冷却され調湿されて、留液が分離される。留液
は留液槽8に貯留され、悪臭を感じさせることなく、ま
たBOO,COD、 SS等の排水規制値を満足するも
のであるため、必要に応じ河川等への放流又は再利用が
回部である。留液が分離されたガスは悪臭を感じさせる
こともなく、また問題となる成分も含有しないため、系
外に排出できる。
The steam exchanges heat with the waste liquid in the preheater 2, is sent to the gas cooler 6, where it is cooled and humidity-controlled, and the distillate is separated. The distillate is stored in the distillate tank 8 and does not give off any bad odor and satisfies wastewater regulation values such as BOO, COD, SS, etc., so it can be discharged into rivers or reused as necessary. Department. The gas from which the distillate is separated does not give off a bad odor and does not contain any problematic components, so it can be discharged from the system.

一方蒸発槽中の廃液は加熱φ蒸発時間の経過と共に容量
が減少し濃縮される。加熱用のヒーター4は例えばタイ
マーの作動によって停止し、加熱が読了する。残留e脳
液は系外に排出される。
On the other hand, the volume of the waste liquid in the evaporation tank decreases and becomes concentrated as the heating φ evaporation time elapses. The heating heater 4 is stopped, for example, by the operation of a timer, and the heating is completed. Residual e-brain fluid is drained out of the system.

次に本発明の一実施例である悪臭抑制方法について具体
的に説明する。
Next, a method for suppressing bad odor, which is an embodiment of the present invention, will be specifically described.

写真処理廃液の中でも発色現像液、漂白定着液は亜硫酸
イオンが含まれているが、漂白液のような場合には亜硫
酸イオンは含まれていない、従って、漂白液のみを蒸発
処理する場合には、本発明の方法は効果的である。
Among photographic processing waste solutions, color developing solutions and bleach-fixing solutions contain sulfite ions, but bleaching solutions do not contain sulfite ions. Therefore, when only bleaching solution is evaporated, , the method of the present invention is effective.

また亜硫酸イオンを含む廃液であっても、経時によって
減少・消失する。特に混合廃液の場合減少速度が早く、
数日の貯蔵によって消失されるため、かかる場合にも、
本発明の方法は効果的である。
Furthermore, even waste liquid containing sulfite ions decreases and disappears over time. Especially in the case of mixed waste liquid, the rate of decrease is fast;
Since it disappears after storage for several days, even in such cases,
The method of the invention is effective.

末完り1において「亜硫酸イオンの存在下に加熱・蒸発
する」ということは、蒸発槽に受け入れられた廃液に亜
硫酸イオンを含有する場合には、新たに添加してもしな
くてもよいが新たに添加することが好ましい、廃液に亜
硫酸イオンを含有しない場合、該廃液中の亜硫酸イオン
が貯蔵によって消失した場合、あるいは加熱過程で消失
した場合には、新たに添加して、亜硫酸イオンを廃液中
に存在させながら、加熱・蒸発を行うことである。
In Endpoint 1, "heating and evaporating in the presence of sulfite ions" means that if the waste liquid received in the evaporation tank contains sulfite ions, it is not necessary to add new ions or If the waste liquid does not contain sulfite ions, or if the sulfite ions in the waste liquid have disappeared due to storage, or if they have disappeared during the heating process, it is preferable to add new sulfite ions to the waste liquid. The process involves heating and evaporating the substance while allowing it to exist in the atmosphere.

I+[硫酸イオン及び亜硫酸イオンを放出できる化合物
は、予め蒸発槽中の廃液に存在させてもよいし、加熱蒸
発の過程で連続もしくは断続的に加えてもよい、また貯
留した廃液中に存在せしめ、該廃液を連続もしくは断続
的に蒸発槽に補充してもよい。
I+ [Compounds capable of releasing sulfate ions and sulfite ions may be present in the waste liquid in the evaporation tank in advance, may be added continuously or intermittently during the heating evaporation process, or may be present in the collected waste liquid. The waste liquid may be continuously or intermittently replenished into the evaporation tank.

本発明において蒸発槽中の亜硫酸イオン(SO32−)
は少なくとも5X 1G−’ダラムイオン/文存在して
いればよく、好ましくはIX 10−3グラムイオン/
文以上、より好ましくは5X 1G−3グラムイオン/
U以上存在していることにより悪臭の抑制効果がある。
In the present invention, sulfite ions (SO32-) in the evaporation tank
should be present at least 5X 1G-' Durham ion/gram, preferably IX 10-3 Gram ion/gram.
or more, preferably 5X 1G-3g ion/
The presence of U or more has the effect of suppressing bad odors.

また亜硫酸イオンの存在量が多すぎると、S02ガスの
発生等の問題を生じるので、4グラムイオン/皇以下が
好ましく、より好ましくは2グラムイオン/9.以下、
特に好ましくは0.5グラムイオン/交以下である。
Furthermore, if the amount of sulfite ions present is too large, problems such as the generation of S02 gas will occur, so it is preferably less than 4 grams ions/9.0 grams, more preferably 2 grams ions/9. below,
Particularly preferably, it is 0.5 gram ion/cross or less.

本発明において「亜硫酸イオン(SO32−)を放出す
ることのできる化合物」とは、蒸発槽で加水解離、もし
くは加熱・分解等によってを放出する化合物である。
In the present invention, a "compound capable of releasing sulfite ions (SO32-)" refers to a compound that releases sulfite ions (SO32-) by hydrolysis in an evaporation tank or by heating/decomposition.

具体的には以下の化合物が挙げられる。Specifically, the following compounds may be mentioned.

先ずに2SO3,Na2SO3,(884)2SO3,
NaHSOx。
First, 2SO3, Na2SO3, (884)2SO3,
NaHSOx.

KHSOx 、Na?520s、 、に2S20s等の
無機の亜硫酸塩が挙げられ、これらのうち1種又は2種
以上を選択して使用できる。これは蒸発槽に添加されて
主に加水解離して5032−を放出する化合物である。
KHSOx, Na? Examples include inorganic sulfites such as 520s, 2S20s, etc., and one or more of these can be selected and used. This is a compound that is added to the evaporator and mainly hydrodissociates to release 5032-.

また下記一般式[II又は[II ]で示される重亜硫
酸塩付加物が挙げられ、これらのうちから選ばれる少な
くとも一つの化合物を使用できる。
Further, bisulfite adducts represented by the following general formula [II or [II]] may be mentioned, and at least one compound selected from these can be used.

一般式[II R2−C−0)1 03M 式中、 R1は水素原子または炭素数 1〜8、好まし
くは1〜4のアルキル基を表し、R2は炭素数 1〜 
B、好ましくは 1〜4のアルキル基を表し1Mはアル
カリ全屈またはアンモニウム基を表す。
General formula [II R2-C-0)1 03M In the formula, R1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms, and R2 has 1 to 4 carbon atoms.
B preferably represents an alkyl group of 1 to 4, and 1M represents an alkali group or an ammonium group.

一般式[IIで示されるカルボニル重亜硫酸塩付加物の
好ましいものの一つは、R1が水素原子であり、R2が
炭素数1〜4のアルキル基であるものであり、他の一つ
はR1およびR2がそれぞれ炭素数1〜4のアルキル基
であるものである。
One of the preferable carbonyl bisulfite adducts represented by the general formula [II is one in which R1 is a hydrogen atom and R2 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and the other is one in which R1 and Each R2 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

一般式[111 式中、R3およびR4はそれぞれ水素原子または炭素a
1〜8.好ましくは1〜2のアルキル基を表し、Nはア
ルカリ全屈またはアンモニウム基を表し、nは0〜8、
好ましくは 1〜4の整数を表す。
General formula [111 In the formula, R3 and R4 are each a hydrogen atom or a carbon a
1-8. Preferably represents 1 to 2 alkyl groups, N represents an alkali total or ammonium group, n is 0 to 8,
Preferably represents an integer of 1 to 4.

一般式[■]で示されるカルボニルビス−重亜硫酸塩付
加物の好ましいものの一つは、 R3およびR4がそれ
ぞれ水素原子であり、nが1〜4であるものであり、他
の一つはR3およびR4がそれぞれ炭素数1〜2のアル
キル基であり、nが1〜4の整数であるものである。
One of the preferable carbonyl bis-bisulfite adducts represented by the general formula [■] is one in which R3 and R4 are each a hydrogen atom, and n is 1 to 4, and the other is one in which R3 and R4 are each an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms, and n is an integer of 1 to 4.

以下、上記一般式[11又は[nlに示される重亜硫酸
塩付加物の具体例を余すが、これらに限定されるもので
はない。
Specific examples of the bisulfite adduct represented by the above general formula [11 or [nl] will be shown below, but the invention is not limited to these.

一般式[IIの例示重亜硫酸塩付加物 I−(1)アセトアルデヒド重亜HaナトリウムI−(
2)プロピオンアルデヒド重亜硫酸ナトリウムI−(3
)ブチルアルデヒド重亜硫酸ナトリウムI−(4)アセ
トン重亜硫酸ナトリウム1−(5)ブタノン重亜硫酸ナ
トリウムI−(6)ペンタノン重亜硫酸ナトリウム一般
式[11]の例示重亜硫酸塩付加物n−(t)コハク酸
アルデヒドビス重亜硫酸ナトリウム 1l−(2)グルタルアルデヒドビス重亜Haナトリウ
ム n−(3)β−メチルグルタルアルデヒドビス重亜硫酸
ナトリウム H−(4)マレイン酸ジアルデヒドビス重亜硫酸ナトリ
ウム 1l−(5) 2.4−ペンタンジオンビス重亜硫酸ナ
トリウム 上記の重亜硫酸塩付加物は、1種を単独で用いても、2
種以上を併用して用いてもよい。
Exemplary bisulfite adduct of general formula [II I-(1) Acetaldehyde sodium bisulfite I-(
2) Propionaldehyde sodium bisulfite I-(3
) Butyraldehyde sodium bisulfite I-(4) Acetone sodium bisulfite 1-(5) Butanone sodium bisulfite I-(6) Pentanone sodium bisulfite Illustrative bisulfite adduct of general formula [11] n-(t) Succinic aldehyde sodium bisulfite 1 l - (2) Glutaraldehyde bis sodium bisulfite n - (3) β-Methylglutaraldehyde sodium bis bisulfite H - (4) Maleic acid dialdehyde sodium bis bisulfite 1 l - (5 ) 2.4-pentanedione sodium bisulfite The above bisulfite adducts may be used alone or in combination with 2.
More than one species may be used in combination.

上記以外の化合物として、加熱によって分解して503
2−を放出する化合物としては、上記以外に下記一般式
[AI で示される化合物が挙げられる。
As a compound other than the above, it can be decomposed by heating to 503
Examples of compounds that release 2- include compounds represented by the following general formula [AI] in addition to the above.

一般式[A] 上式中R5,R6は各々水素原子、置換基を有してもよ
いアルキル基、置換基を有してもよいアシルノ人、又は
置換ノルを有してもよいカルバモイル基を表す、またR
5. R6は互いに連結して環を形成してもよい。
General formula [A] In the above formula, R5 and R6 each represent a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted acyl group, or an optionally substituted carbamoyl group. represents, also R
5. R6 may be linked to each other to form a ring.

R5又はR6において、置換基を有してもよいアルキル
基は、好ましくは炭素数1−8の置換又は無を換のアル
キル基であり、無こ換アルキル基としては1例えばメチ
ル基、エチル基、ブチル基などが挙げられ、置換アルキ
ル基としては1例えばヒドロキシ基で置換されたアルキ
ル基(例えば2−ヒドロキシエチル基)、アルコキシ基
で置換されたアルキル基が挙げられる。ここでアルコキ
シ基としてはメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基等が
挙げられる。またこ換基を有してもよいアシル基又はカ
ルバモイル基は、好ましくは脂肪族基又は刀香族ノ、(
を置換)、(とじて有してもよいアシル基又はカルバモ
イル基であり1例えばアセチル基等の無置換アシル基の
ほか、置換基として例えばアミツノ^を有する7ミノア
セチル基(別名グリシルノ、0笠の置換アシル基が挙げ
られ、また無置換のカルバモイル基のほか、置換基を有
するものとして例えばN−メチルカルバモイル基、N、
N−ジメチルカルバモイル71u、N、N−テトラメチ
レンカルバモイル基等の置換カルバモイル基が挙げられ
る。
In R5 or R6, the alkyl group which may have a substituent is preferably a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and examples of the unsubstituted alkyl group include methyl group, ethyl group, etc. Examples of the substituted alkyl group include an alkyl group substituted with a hydroxy group (for example, a 2-hydroxyethyl group) and an alkyl group substituted with an alkoxy group. Here, examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a butoxy group, and the like. Further, the acyl group or carbamoyl group which may have a substituent is preferably an aliphatic group or an aliphatic group, (
In addition to unsubstituted acyl groups such as acetyl groups, 7-minoacetyl groups (also known as glycylno, 0 Kasa's Examples include substituted acyl groups, and in addition to unsubstituted carbamoyl groups, examples with substituents include N-methylcarbamoyl groups, N,
Substituted carbamoyl groups such as N-dimethylcarbamoyl 71u and N,N-tetramethylenecarbamoyl group can be mentioned.

R5,R6が連結して形成される環としては例えばモル
ホリン環、ピペラジン環、ピロリジン環Tが挙げられる
。 R5,R6として好ましいのは、水素原子、メチル
基、エチル基で、特に好ましいのは水素原子である。
Examples of the ring formed by connecting R5 and R6 include a morpholine ring, a piperazine ring, and a pyrrolidine ring T. Preferred as R5 and R6 are a hydrogen atom, a methyl group, and an ethyl group, and a hydrogen atom is particularly preferred.

xl、 x7及びx3は水素原子又は置換基を有しても
よいアルキル基を表す。
xl, x7 and x3 represent a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent.

×1〜X3において1iii換基を有してもよいアルキ
ル基は、好ましくは炭素数1〜5の置換又は焦り換のア
ルキル基であり、例えばメチル基、エチルノ、(、n−
プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、1so−
ブチル基、 5ee−ブチル基などの無置換アルキル基
のほか1置換基として例えばヒドロキシ基。
The alkyl group which may have 1iii substituent in x1 to
Propyl group, i-propyl group, n-butyl group, 1so-
In addition to unsubstituted alkyl groups such as butyl group and 5ee-butyl group, examples of one substituent include hydroxy group.

カルボキシ基等を有するヒドロキシメチル基。Hydroxymethyl group with carboxy group, etc.

3−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシエチル基。3-hydroxyethyl group, 2-hydroxyethyl group.

カルボキシメチル基、2−カルボキシエチル基。Carboxymethyl group, 2-carboxyethyl group.

3−カルボキシプロヒル 基、2−ヒドロキシ−4−カルボキシブチル基等の置換
アルキル基が挙げられる。
Examples include substituted alkyl groups such as 3-carboxyproyl group and 2-hydroxy-4-carboxybutyl group.

Xl. X?及びX)として好ましいのは,水素原子、
メチル基、エチル基、ヒドロキシ置換されたメチル基で
あり,特に好ましいのは水素原子である。
Xl. X? and X) are preferably hydrogen atoms,
Among these are a methyl group, an ethyl group, and a hydroxy-substituted methyl group, and particularly preferred is a hydrogen atom.

には水素原子、アルカリ全屈(例えばナトリウム、カリ
ウム等)を表す.■は0〜2の整数、好ましくは0又は
 1,特に好ましくは0を表す。
represents a hydrogen atom or an alkali (e.g. sodium, potassium, etc.). (2) represents an integer of 0 to 2, preferably 0 or 1, particularly preferably 0.

以下本発明に用いられる一般式[A]で示される化合物
の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。
Specific examples of the compound represented by the general formula [A] used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

[例示化合物] A−(+)  Nll,CII2SO□11A−(2)
  NlI□C 11 2C II□SO,IIA−(
16)  NlI□CII□CII 、CII□SO:
1llA−(17)  C113−NIICIItCI
ItSO,IIA−(21) Vq−cnrsosn υ−ノ 上記化合物は単独て廃液に添加してもよいし、2種以1
;組合せて添加することもてきる。
[Exemplary compound] A-(+) Nll, CII2SO□11A-(2)
NlI□C 11 2C II□SO, IIA-(
16) NlI□CII□CII, CII□SO:
1llA-(17) C113-NIICIIItCI
ItSO, IIA-(21) Vq-cnrsosn υ-The above compounds may be added to the waste liquid alone, or two or more of them may be added to the waste liquid.
;Can also be added in combination.

末完’11においてに記soコ’−を放出てきる化合物
の添加場所は、!に発槽3に供給される前の廃液に含有
せしめておいてもよいし、あるいは蒸発槽に供給後、加
熱開始前又は加熱開始後に外部から添加されてもよい。
The location of addition of the compound that releases the so-co'- in the ending '11 is! It may be contained in the waste liquid before being supplied to the evaporation tank 3, or it may be added from the outside after being supplied to the evaporation tank and before or after the start of heating.

上記5Oz2−を放出てきる化合物を外部から供給する
場合には、第1図に示す如く、タンク10からポンプ1
1により供給するようにしてもよいし、ポンプ11を用
いずにタンク10を蒸発槽3の上方に設はヘッド圧で供
給するようにしてもよい。
When the compound that releases 5Oz2- is supplied from the outside, as shown in FIG.
1, or the tank 10 may be placed above the evaporation tank 3 without using the pump 11, and the water may be supplied using head pressure.

未発11において5032−を放出できる化合物が液体
である場合には1例えば第1図に示すように添加できる
が、固体である場合には、該固体を直接廃液又は濃縮液
に添加してもよいし、あるいは予めタンクに溶解して第
1図に示すように添加してもよい。
If the compound capable of releasing 5032- in unreleased 11 is a liquid, it can be added as shown in Figure 1, but if it is a solid, the solid can be added directly to the waste liquid or concentrated liquid. Alternatively, it may be dissolved in the tank in advance and added as shown in FIG.

本発明において5032−を放出できる化合物を2種以
上用いる場合、第1図に示すようにタンクから外添する
場合には、各添加化合物毎に複数のタンクを設けること
が好ましいが、化合物の物性によっては、1つのタンク
で共用できる場合もある。
In the present invention, when two or more compounds capable of releasing 5032- are used, it is preferable to provide a plurality of tanks for each additive compound when externally added from a tank as shown in FIG. In some cases, one tank can be used in common.

本発明においては廃液(ella液)のPHを3.0〜
11.0.好ましくは4.0〜8.0.より好ましくは
5.0〜7.0に維持した状態で加熱蒋発することによ
り悪臭をより効果的に抑制することができる。
In the present invention, the pH of the waste liquid (ella liquid) is set to 3.0~
11.0. Preferably 4.0 to 8.0. More preferably, malodor can be suppressed more effectively by heating and emitting while maintaining the temperature at 5.0 to 7.0.

通常、廃液のp)lは廃液の種類によって異なるが、チ
オ硫酸イオン(例えばチオ硫酸アンモニウム)や亜硫酸
イオン(例えば亜硫酸アンモニウム)を含みpHの低い
定石液等である場合には、PHが低く(例えばpH7〜
3程度)、また発色現像液や白黒現像液の場合にはP)
lは高く(例えばpH14〜8程度)にあると考えられ
る。
Normally, p)l of waste liquid varies depending on the type of waste liquid, but if it is a joseki liquid containing thiosulfate ions (e.g. ammonium thiosulfate) or sulfite ions (e.g. ammonium sulfite) and has a low pH, the pH is low (e.g. pH7~
3), or P in the case of color developer or black and white developer)
l is considered to be high (for example, around pH 14 to 8).

これらの廃液は、蒸発槽3内で加熱されると、pH変動
を引き起すのでこのpH変動を制御するためにpH調整
剤が用いられる。
When these waste liquids are heated in the evaporation tank 3, they cause pH fluctuations, so a pH adjuster is used to control this pH fluctuation.

本発明に用いることができるpH2g1整剤は、広義の
調整剤であり、必ずしも明確に分けられる訳ではないが
、例えば(I)pH変動に対して廃液に緩街性を持たせ
る化合物、(II)7A発過程でPHの変動に対し外添
によりpHを制御するする化合物が挙げられる。
The pH2g1 adjuster that can be used in the present invention is a adjuster in a broad sense, and is not necessarily clearly classified, but includes, for example, (I) a compound that makes the waste liquid resistant to pH fluctuations, (II) ) 7A Compounds that control pH fluctuations during the development process by external addition are listed.

上記(I)の化合物としては、例えば (+) Ca、Mg、 An 、 Fe、 Zn等の金
属酸化物、全屈水酸化物又は金属塩のようなpH低下に
よって [0)1−]を’ff1E&し、緩Ii性を有
する化合物(2) 1.<酸塩の固体(例えばCaC0
3)のようにPHの低下によって溶解し、アルカリ性を
呈する化合物(3)有機酸(例えばクエンm等)及びそ
の塩のような緩衝剤 (4)無機酸(例えばホウ酸、リン酸等)及びその塩の
ような緩衝剤 (5) EDTA等のアミノカルボン酸系のキレート剤
(6)l−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン
酸等が挙げられ、これらの1種又は2種以上を組合せ使
用できる。
Examples of the compound (I) above include (+) metal oxides such as (+) Ca, Mg, An, Fe, Zn, etc., as well as total hydroxides or metal salts that reduce [0)1-]' Compound (2) with ff1E& and slow Ii property 1. <Acid acid solids (e.g. CaC0
3) Compounds that dissolve and become alkaline as the pH decreases (3) Buffers such as organic acids (e.g. citric acid, etc.) and their salts (4) Inorganic acids (e.g. boric acid, phosphoric acid, etc.) and Buffers such as salts thereof (5) Aminocarboxylic acid chelating agents such as EDTA (6) l-hydroxyethylidene-1,1-diphosphonic acid, etc., and these may be used alone or in combination of two or more. can.

また上記(II )の化合物としては、例えば(1) 
NaOH,KOH,Ca(DH)2等のアルカリ全屈、
又はアルカリ土類金属の水酸化物 (2)炭酸塩 (3)ケイ酸塩(例えばケイ酸ソーダ等)(4)リン酸
塩 (5)ホウ酸塩 (8) Ca塩やMg塩等のアルカリ土類金属塩(7)
有機酸及び無機酸等の各種酸(pH上昇時に使用) 等が挙げられ、これらの1種又は2粍以上を組合せて使
用できる。
Further, as the compound (II) above, for example, (1)
Alkali such as NaOH, KOH, Ca(DH)2,
or alkaline earth metal hydroxide (2) carbonate (3) silicate (e.g. sodium silicate) (4) phosphate (5) borate (8) alkali such as Ca salt or Mg salt Earth metal salt (7)
Examples include various acids such as organic acids and inorganic acids (used when pH increases), and these acids can be used alone or in combination of two or more.

本発明において上記p)17A整剤の添加場所は。In the present invention, where is the above p) 17A conditioning agent added?

」−2(1)の化合物の場合には、加熱前に予め添加さ
れていればよいので、蒸発槽3に供給される前の廃液に
含有せしめておいてもよいし、あるいは蒸発槽に供給後
、加熱開始前に外部から添加されてもよい、なお上記(
II)の化合物の場合にはツム発槽3に外部から供給さ
れることは勿論である。
In the case of the compound of ``-2 (1), it is sufficient if it is added in advance before heating, so it may be contained in the waste liquid before being supplied to the evaporation tank 3, or it may be added to the evaporation tank 3. After that, it may be added externally before the start of heating.
In the case of the compound II), it goes without saying that it is supplied to the Tsum development tank 3 from the outside.

P)!調整剤を外部から供給する場合には、第1図に示
す如く、pH調整剤タンク13からpH調整剤ポンプ1
4により供給するようにしてもよいし。
P)! When supplying the adjuster from the outside, as shown in FIG.
4 may be supplied.

pH:Affi剤ポンプ14を用いずにタンク13を蒸
発I!II3の上方に設はヘッド圧で供給するようにし
てもよい。
pH: Evaporate tank 13 without using Affi agent pump 14 I! The supply may be provided above II3 using head pressure.

本発明においてpH3J?!剤が液体である場合には1
例えば第1図に示すように添加できるが、固体である場
合には、該固体を直接廃液又は濃縮液に添加してもよい
し、あるいは予めタンクに溶解して第1図に示すように
添加してもよい。
In the present invention, pH3J? ! 1 if the agent is a liquid
For example, it can be added as shown in Figure 1, but if it is a solid, it can be added directly to the waste liquid or concentrated liquid, or it can be dissolved in a tank beforehand and added as shown in Figure 1. You may.

本発明においてpH3J整剤を2種以上用いる場合、第
1図に示すようにタンクから外添する場合には、各鯰加
化合物毎に複数のタンクを設けることが好ましいが、化
合物の物性によっては、1つのタンクで共用できる場合
もある。
In the present invention, when two or more types of pH 3J regulators are used, it is preferable to provide a plurality of tanks for each catfish compound when adding them externally from a tank as shown in Figure 1. However, depending on the physical properties of the compound, In some cases, one tank can be used in common.

本発明において第1図に示すようにpHmff1剤を外
添する場合には、pHコントローラーの信号によって添
加量を制御することもできる0例えば蒸発槽3内のpH
が加熱書蒸発時間の経過と共に低下した場合に、コント
ローラーからの信号でポンプ14をONさせ、 pH調
整剤を供給するようにすることができる。なおポンプ1
4がストローク調整式である場合には、該ストロークを
自動調整するようにすることもできる。
In the present invention, when adding pHmff1 agent externally as shown in FIG.
When the pH value decreases with the elapse of the heating book evaporation time, the pump 14 can be turned on by a signal from the controller to supply the pH adjusting agent. Furthermore, pump 1
4 is a stroke adjustable type, the stroke can also be automatically adjusted.

以上述べた如く濃縮液のPHが3.0〜11.0に維持
されると、蒸発ガス中における悪臭となりうる成分、特
にH2SやSガスの含有量は少なく、留液中からのアミ
ン臭、アンモニア臭がない。
As mentioned above, when the pH of the concentrated liquid is maintained at 3.0 to 11.0, the content of components that can cause bad odor in the evaporated gas, especially H2S and S gas, is small, and the amine odor from the distillate is reduced. No ammonia odor.

本発明において悪臭を効果的に抑制するには、蒸発槽3
内でヒーター4から供給される熱量を調整することが好
ましい、即ち、単位時間当りの加えるf)’l L”:
を多くすると、チオ硫酸塩が分解する前に結晶化され、
外部に放出されず悪臭を抑制でき2反面加える熱;逢が
少ないと1分解が促進され、悪臭の原因となる物質の流
出が活発化される。
In order to effectively suppress bad odor in the present invention, the evaporation tank 3
It is preferable to adjust the amount of heat supplied from the heater 4 within the range, i.e., the amount of heat added per unit time f)'l L'':
When increasing the amount, thiosulfate crystallizes before it decomposes,
It suppresses bad odors without being released to the outside; on the other hand, it adds heat; when there is little heat, 1) decomposition is accelerated, and the outflow of substances that cause bad odors is activated.

以上、悪臭の抑制方法及びその装置の一例について説明
したが、これに限定されず、本発明の範囲には、種々の
態様を含む、以下にその主な態様を挙げる。なお下記以
外の態様については既出願(例えば特願昭80−259
001号〜259010号、特願昭f31−13209
8号、特願11081−185099号、特願閉81−
165100号等)の明細書を参照できる。
Although an example of a method and a device for suppressing bad odor has been described above, the present invention is not limited thereto, and the scope of the present invention includes various embodiments, and the main embodiments thereof are listed below. For aspects other than those listed below, please refer to existing applications (for example, Japanese Patent Application No. 80-259).
No. 001 to No. 259010, patent application No. Sho F31-13209
No. 8, Patent Application No. 11081-185099, Patent Application Closed 81-
165100 etc.) can be referred to.

(1)本発明の写真処理廃液はチオ硫酸イオン(例えば
チオ硫酸アンモニウム)が含有されている時に特に本発
明が有効に作用し、該チオ硫酸イオンの含有濃度はチオ
硫酸アンモニウムの場合5〜500 gelが好ましい
、廃液の種類としては例えば発色現像液と漂白定着液又
は安定液との混廃液又、あるいは漂白定石液単独、定着
液単独、安定液単独の廃液等が挙げられる。また廃液に
銀イオンが含有されている時に特に本発明が有効に拗さ
、その濃度は0.01〜50g/J1の範囲にあること
が好ましい。
(1) The present invention works particularly effectively when the photographic processing waste solution of the present invention contains thiosulfate ions (for example, ammonium thiosulfate). Preferred types of waste solution include, for example, a mixed waste solution of a color developing solution and a bleach-fixing solution or a stabilizing solution, or a waste solution of a bleach fixing solution alone, a fixing solution alone, a stabilizing solution alone, and the like. The present invention is particularly effective when the waste liquid contains silver ions, and the concentration thereof is preferably in the range of 0.01 to 50 g/J1.

また本発明においては、例えば無水洗自動現像機等のよ
うな小容量の廃液の処理に適用することが好ましい、こ
こに小容量とは、大容量な工場廃液等に対する概念とし
て用いているもので、格別数イ1^上限定される訳では
ないが、例えば11/rJ〜1000又/D程度をいう
Furthermore, the present invention is preferably applied to the treatment of small-volume waste liquids, such as those from waterless automatic processors, etc. The term "small capacity" here is used as a concept for large-capacity factory waste liquids, etc. , is not limited to a particular number, but is, for example, about 11/rJ to 1000 or /D.

(2)本発明において廃液を蒸発槽3に供給する手段は
1図示されていない廃液タンクからポンプアップして供
給する方法、ヘッド圧を利用して供給する方法、その他
人手によって供給する方法がある。
(2) In the present invention, the means for supplying the waste liquid to the evaporation tank 3 include a method of pumping it up from a waste liquid tank (not shown), a method of supplying using head pressure, and other methods of manually supplying the liquid. .

また廃液の供給は連続・不連続のいずれでもよく、蒸発
処理が連続式か回分式かによって決まる。
Furthermore, the waste liquid may be supplied either continuously or discontinuously, depending on whether the evaporation process is continuous or batchwise.

更に廃液は液状のまま供給してもよいが、スプレー状に
供給してもよい。
Further, the waste liquid may be supplied in liquid form, or may be supplied in spray form.

(3)本発明において蒸発槽3は、供給された廃液を加
熱し、その一部を蒸発させることにより廃液をelli
(して廃棄すべき廃液の量を少量化する槽である0本I
Jl細書において濃縮とは、蒸発後の廃液体積を蒸発面
の体積の4分の1以下、好ましくは5分の1以下、最も
好ましくは10分の1にすることである。なお本発明は
廃液の全部(略全部を含む)を蒸発させ乾固させる場合
にも適用きる。
(3) In the present invention, the evaporation tank 3 heats the supplied waste liquid and evaporates a part of it to ellipse the waste liquid.
(This is a tank that reduces the amount of waste liquid that must be disposed of.)
In the Jl Specification, "concentration" refers to reducing the volume of waste liquid after evaporation to 1/4 or less, preferably 1/5 or less, and most preferably 1/10 of the volume of the evaporation surface. Note that the present invention can also be applied to cases where all (including substantially all) of the waste liquid is evaporated to dryness.

蒸発槽3の形態は特に限定される訳ではないが、外4P
J(外釜)と内槽(内釜)の2重構造をなし、内槽が例
えば樹脂製の袋で着脱可億に形成されることが好ましい
、なお蒸発槽3の外周には断熱材(例えばグラスウール
マット)が設けられることが好ましい、蒸発槽3の上部
にはヒンジ付の開閉蓋が設けられることが好ましい。
The form of the evaporation tank 3 is not particularly limited, but may be
It is preferable that it has a double structure of a J (outer pot) and an inner tank (inner pot), and that the inner tank is made of a resin bag, for example, and is removable. For example, a glass wool mat) is preferably provided, and the upper part of the evaporation tank 3 is preferably provided with a hinged opening/closing lid.

(0木発明において加熱手段は、特に限定されず、第1
図にはその一例としてヒーター加熱方式が挙げられてい
る。ヒーターには、例えば電熱ヒーター、石英管内蔵ニ
クロム線ヒーター、セラミックヒータ−等があり、これ
らを図示の如く蒸発槽3の内部に設けることが好ましい
、なおヒーター以外に直火やマイクロ波の照射の如く誘
電加熱方式の採用も可f彪であり、またこれらを組合せ
て利用するものであってもよい。
(In the invention, the heating means is not particularly limited, and the heating means is
The diagram shows a heater heating method as an example. Heaters include, for example, electric heaters, nichrome wire heaters with built-in quartz tubes, ceramic heaters, etc., and it is preferable to install these inside the evaporation tank 3 as shown in the figure. It is also possible to employ a dielectric heating method, as shown in FIG.

なおヒーターによる加熱は、タイマーの作動によって停
止してもよいが、これに限定されず。
Note that the heating by the heater may be stopped by the operation of a timer, but is not limited to this.

例えばe線法の液面をレベルセンサーで桧山し。For example, the liquid level of the e-line method can be measured using a level sensor.

該検出信号によって加熱を停止するようにしてもよい。Heating may be stopped based on the detection signal.

(5)本発明において蒸発ガスは、例えばガスクーラー
6を用いて冷却されるが、冷却手段は任意である。なお
本発明の目的を達成する上では強制的に冷却することは
本質的要件ではない、自然冷却によって留液を生成し、
廃棄するような場合も本発明の範囲に包含される。
(5) In the present invention, the evaporated gas is cooled using, for example, the gas cooler 6, but any cooling means may be used. Note that in order to achieve the purpose of the present invention, forced cooling is not an essential requirement; the distillate is generated by natural cooling,
The scope of the present invention also includes cases where the product is discarded.

なお本発明において、冷却後には臭気等の問題がなく、
しかも亜硫酸アンモニウム等のアンモニウム塩を含有す
る留液が得られ、自動現像機における写真処理液(例え
ば補充液の溶解水、或いは水洗水)以外にも1例えば肥
料等としての再利用も11丁を赴となる。
In addition, in the present invention, there are no problems such as odor after cooling,
In addition, a distillate containing ammonium salts such as ammonium sulfite can be obtained, and in addition to being used as a photographic processing solution in automatic processing machines (for example, water for dissolving replenisher or washing water), it can also be reused as fertilizer, etc. I will go to work.

(6)冷却・調湿後のガスは悪臭をほとんど感じさせな
い程抑制されるが、更に完全に悪臭をなくすには、活性
炭等の吸若剤を用いることも好ましい。
(6) After cooling and humidity conditioning, the gas is suppressed to the extent that almost no foul odor is felt, but to further completely eliminate the foul odor, it is also preferable to use a youth absorbing agent such as activated carbon.

このようにすれば従来のように高濃度の悪臭ガスを処理
するときのような問題(例えば飽和が早くなる、交換作
業の煩雑さ等)がない点で優れており、更に本発明の悪
臭抑制手段が末端に設けられる吸若処理等の悪臭防止手
段の前処理として効果的に機能する点で優れている。
This method is advantageous in that it does not have the problems (for example, early saturation, complicated replacement work, etc.) that occur when treating high-concentration foul-smelling gases as in the past, and furthermore, the present invention's foul-smelling control is effective. It is excellent in that it functions effectively as a pretreatment for malodor prevention means such as youth absorption treatment, which is provided at the end of the treatment.

[実験例コ 以下の実験例は、下記に示す写真処理廃液を利用して行
なったものである。
[Experimental Example The following experimental example was conducted using the photographic processing waste liquid shown below.

(ネガフィルム処理) SR−V100フィルム(小西六写真工業社製)に露光
後、次の処理工程と処理液を使用してネガフィルムの連
続処理を行った。
(Negative Film Processing) After exposing SR-V100 film (manufactured by Konishiroku Photo Industry Co., Ltd.), the negative film was continuously processed using the following processing steps and processing liquid.

処理工程 処理温度    処理時間 発色現像      38℃     3分15秒漂 
 白       38℃      3分15秒定 
 若       38℃      3分15秒第1
安定第1槽   32℃〜38℃  1分第1安定第2
槽   32℃〜38℃  1分第2安定      
38℃     1分位   繰         4
5℃〜65℃[発色現像液] j欠耐カリウム            30g炭酸水
;にナトリウム        2.5g亜硫酸カリウ
ム           5g1−ヒドロキシエチリデ
ン−1,1− ジホスホン#(60%)        1.0g臭化
ナトリウム          1.3g沃化カリウム
           2mgヒドロキシルアミン硫酸
IH2、5g 塩化ナトリウム          0.6g4−アミ
ノ−3−メチル−N−エチル ート(β−ヒドロキシルエチル) アニリン硫酸Ji!          4 、8 g
水酸化カリウム          1.2g水を加え
てillとし、水酸化カリウムまたは20%硫酸を用い
てpH10,08に調整する。
Processing process Processing temperature Processing time Color development 38℃ 3 minutes 15 seconds bleaching
White 38℃ constant for 3 minutes 15 seconds
Young 38℃ 3 minutes 15 seconds 1st
Stability 1st tank 32℃~38℃ 1 minute 1st stability 2nd
Tank 32℃~38℃ 1 minute second stabilization
38℃ for about 1 minute 4
5°C to 65°C [Color developer] j Potassium resistance 30g Carbonated water; Sodium 2.5g Potassium sulfite 5g 1-Hydroxyethylidene-1,1-diphosphone # (60%) 1.0g Sodium bromide 1.3g Iodine Potassium chloride 2mg Hydroxylamine sulfate IH2, 5g Sodium chloride 0.6g 4-Amino-3-methyl-N-ethyl root (β-hydroxylethyl) Aniline sulfate Ji! 4,8 g
Potassium hydroxide 1.2g Add water to make an ill, and adjust the pH to 10.08 using potassium hydroxide or 20% sulfuric acid.

[発色現像補充液] 炭酸カリウム            40g炭酸水素
ナトリウム         3g亜硫酸カリウム  
         7g臭化ナトリウム       
   0.8g1−ヒドロキシエチリデン−1,1− ジホスホン酸(60%)        1.2gヒド
ロキシルアミン硫酸塩     3.114−アミノ−
3−メチル−N−エチル −N−(β−ヒドロキシルエチル) アニリン硫酸11!8.0g 水酸化カリウム           2g水を加えて
1文とし、水酸化カリウムまたは20%硫酸を用いてp
H10,12に調整する。
[Color developer replenisher] Potassium carbonate 40g Sodium bicarbonate 3g Potassium sulfite
7g sodium bromide
0.8g 1-hydroxyethylidene-1,1-diphosphonic acid (60%) 1.2g hydroxylamine sulfate 3.114-amino-
3-Methyl-N-ethyl-N-(β-hydroxylethyl) Aniline sulfuric acid 11!8.0g Potassium hydroxide 2g Add water to make one sentence, and use potassium hydroxide or 20% sulfuric acid to make p
Adjust to H10,12.

[漂白液] エチレンジアミンテトラ酢酸鉄 アンモニウム          180gエチレンジ
アミンテトラ酢酸 2ナトリウム          10g臭化アンモニ
ウム         150g氷酢酸       
         lO麿文立木加えて11とし、アン
モニア水または氷酢酸を用いてpH5,8に調整する。
[Bleach solution] Iron ammonium ethylenediaminetetraacetate 180g Disodium ethylenediaminetetraacetate 10g Ammonium bromide 150g Glacial acetic acid
Add lO Marofumi Tachiki to bring the solution to 11, and adjust the pH to 5.8 using aqueous ammonia or glacial acetic acid.

[L);白補充液] エチレンジアミンテトラ酢酸鉄 アンモニウム          170gエチレンジ
アミンテトラ酢酸 2ナトリウム          12g臭化アンモニ
ウム         178g氷酢酸       
        2111交水を加えてIJIとし、ア
ンモニア水または氷酢酸を用いてPI(5,8に調整す
る。
[L); White replenisher] Iron ammonium ethylenediaminetetraacetate 170g Disodium ethylenediaminetetraacetate 12g Ammonium bromide 178g Glacial acetic acid
Add 2111 water to make IJI, and adjust to PI (5, 8) using aqueous ammonia or glacial acetic acid.

[定着液] チオ硫酸アンモニウム       150g無水重亜
硫酸ナトリウム       12gメタ重亜硫酸ナト
リウム      2.5gエチレンジアミンテトラ酢
酸 2ナトリウム          0.58炭酸ナトリ
ウム           10g水を加えてIJLと
し、アンモニア水または氷酢酸を用いてpH7,0に調
整する。
[Fixer] Ammonium thiosulfate 150g Anhydrous sodium bisulfite 12g Sodium metabisulfite 2.5g Disodium ethylenediaminetetraacetate 0.58 Sodium carbonate 10g Add water to make IJL, and adjust to pH 7.0 using aqueous ammonia or glacial acetic acid. do.

[定着補充液] チオ硫酸アンモニウム       300g無水重亜
硫酸ナトリウム      15gメタ重亜硫酸ナトリ
ウム       3gエチレンジアミンテトラ酢酸 2ナトリウム          0.88炭酸ナトリ
ウム           14g木ヲ加えて11とし
、アンモニア水または氷酢酸を用いてpH7,5に調整
する。
[Fixer replenisher] Ammonium thiosulfate 300g Anhydrous sodium bisulfite 15g Sodium metabisulfite 3g Disodium ethylenediaminetetraacetate 0.88 Sodium carbonate 14g Add wood to make 11, and adjust to pH 7.5 using ammonia water or glacial acetic acid. .

[第1安定液及び第1安定補充液] 5−クロロ−2−メチルート イソチアゾリン−3−オン     0.02g2−才
クチル−4−イソチアゾリン −3−オン               0.02g
エチレングリコール        1.0g木で1文
とし、20%m酸でp)17.0に調整する。
[First stable solution and first stable replenisher] 5-chloro-2-methyltoisothiazolin-3-one 0.02g 2-chloro-4-isothiazolin-3-one 0.02g
Ethylene glycol Make one sentence with 1.0g wood and adjust to p) 17.0 with 20% m acid.

[第2安定液及び第2安定補充液] ホルマリン(37%水溶液)2鵬交 コニダツクス(小西六写真工業社製)51見本を加えて
lJlとする。
[Second Stable Solution and Second Stable Replenisher] Add 2 samples of formalin (37% aqueous solution) and 51 samples of Konishiroku Photo Industry Co., Ltd. to make 1 Jl.

発色現像補充液は、カラーネガフィルム100cm当り
 13.5mlを発色現像浴に補充し、漂白補充液は、
カラーネガフィルム100 c m’当り5.5miを
漂白浴に補充し、定着補充液は、カラーネガフィルム1
00crtI′当り811文を定着浴に補充し、更に第
1安定補充液は、カラーネガフィルムIQOcm’当り
8−1を第1安定浴に補充し、第2安定浴には第2安定
補充液をカラーネガフィルム100cm当り150■交
流した。
The color development replenisher is added to the color development bath at 13.5ml per 100cm of color negative film, and the bleaching replenisher is
Replenish the bleach bath with 5.5 mi per 100 cm of color negative film, and add fixing replenisher to 100 cm of color negative film.
The fixing bath is replenished with 811 sentences per 00crtI', and the first stable replenisher is replenished with 8-1 per IQOcm' of color negative film, and the second stable replenisher is added to the second stable bath. 150 current was generated per 100 cm of film.

(ペーパー処理) 次いでサクラカラーSRペーパー(小西六写真工業社製
)に絵焼き後、次の処理工程と処理液を使用して連続処
理を行った。
(Paper Processing) Next, after printing on Sakura Color SR Paper (manufactured by Konishiroku Photo Industry Co., Ltd.), continuous processing was performed using the following processing steps and processing liquid.

ノ、ti準処理工程 (1)発色現像  38℃     3分30秒(2)
漂白定着  38°C1分30秒(3)安定化処理 2
5℃〜35℃  3分(4)乾  燥  75℃〜10
0℃ 約2分処理液組成 [発色現像タンク液] ベンジルアルコール         15m立エチレ
ングリコール        15思交亜硫酸カリウム
           2.0g臭化カリウム    
        1.3g塩化ナトリウム      
      0.2g炭酸カリウム         
   24.0g3−メチル−4−アミノ−に−エチル
−N−(β−メタンスルホンアミドエチル) アニリン硫酸塩             4.5g蛍
光増白剤(4,4゛−ジアミノスチルベンズスルホンM
、J導体)(商品名ケイコールPK−コンク(新日佇化
工社製) )      1.0gヒドロキシルアミン
硫酸塩3.0g 1−ヒドロキシエチリデン−1,l− ニホスホン酸            0.4gヒドロ
キシエチルイミノジ酢1%j     5.Og塩化マ
グネシウム・6水Jfi       O,7゜1.2
−ヒドロキシベンゼン−3,5−ジスルホン酸−ニナト
リウムII!0 、2 g水を加えて1文とし、水酸化
カリウムと硫酸でP)! 10.20とする。
ノ、ti Semi-processing step (1) Color development 38℃ 3 minutes 30 seconds (2)
Bleach fixing 38°C 1 minute 30 seconds (3) Stabilization treatment 2
5℃~35℃ 3 minutes (4) Drying 75℃~10
0°C for about 2 minutes Processing liquid composition [Color developing tank liquid] Benzyl alcohol 15 ml ethylene glycol 15 ml Potassium sulfite 2.0 g Potassium bromide
1.3g sodium chloride
0.2g potassium carbonate
24.0g 3-Methyl-4-amino-ethyl-N-(β-methanesulfonamidoethyl) aniline sulfate 4.5g optical brightener (4,4゛-diaminostilbenzsulfone M
, J conductor) (trade name Keikoru PK-Conc (manufactured by Shinnichiba Kako Co., Ltd.)) 1.0 g Hydroxylamine sulfate 3.0 g 1-hydroxyethylidene-1,l-niphosphonic acid 0.4 g Hydroxyethylimino diacetic acid 1 %j 5. Og Magnesium chloride 6 water Jfi O, 7°1.2
-Hydroxybenzene-3,5-disulfonic acid disodium II! Add 0,2 g water to make one sentence, and add potassium hydroxide and sulfuric acid to P)! 10.20.

[9,色現像補充液1 ベンジルアルコール         2h交エナレン
グリコール        20+s見亜硫酸カリウム
           3.0g)5酸カリウム   
        30.0gヒドロキシルアミン硫酸t
l       4.0g3−メチル−4−アミノ−N
−エチル−N−(β−メタンスルホンアミドエチル) アニリン硫酸塩11!8.0g 蛍光増白剤(4,4゛−ジアミノスチルベンズスルホン
酸誘導体)(商品名ケイコールPK−コンク(新日曹化
工社製) )      2.5g1−ヒドロキシエチ
リデン−1,1− ニホスホン酸            0.5gヒドロ
キシエチルイミノジ酢酸    5.0g塩化マグネシ
ウム・6水塩      0.8g1.2−ヒドロキシ
ベンゼン−3,5−ジスルホン酸−二ナトリウム塩  
  0.3g木を加えて141とし、水酸化カリウムで
pH10,70とする。
[9, Color developer replenisher 1 Benzyl alcohol 2h Cross enalene glycol 20+s Potassium sulfite 3.0g) Potassium pentate
30.0g hydroxylamine sulfate
l 4.0g3-methyl-4-amino-N
-Ethyl-N-(β-methanesulfonamide ethyl) Aniline sulfate 11!8.0g Fluorescent brightener (4,4゛-diaminostilbenzsulfonic acid derivative) (Product name: Keikol PK-Conc (Nippon Soka Kogyo) ) 2.5g 1-hydroxyethylidene-1,1-niphosphonic acid 0.5g hydroxyethyliminodiacetic acid 5.0g magnesium chloride hexahydrate 0.8g 1.2-hydroxybenzene-3,5-disulfonic acid disodium salt
Add 0.3 g of wood to make the solution 141, and adjust the pH to 10.70 with potassium hydroxide.

[を−内定着タンク液] エチレンジアミンテトラ酢酸第2鉄 アンモニウム2水jlj         60.0g
エチレンジアミンテトラ酢酸     3.0gチオ硫
酸アンモニウム(70%溶液)  100.0g+見亜
硫酸アンモニウム(40%溶液)    27.5iJ
L水を加えて全量をIILとし、炭酸カリウムまたは木
酢酩でpH7,1に31!!!する。
[Fixing tank liquid] Ethylenediaminetetraacetic acid ferric ammonium diwater jlj 60.0g
Ethylenediaminetetraacetic acid 3.0g Ammonium thiosulfate (70% solution) 100.0g + Ammonium thiosulfite (40% solution) 27.5iJ
Add L water to make the total volume IIL, and adjust the pH to 7.1 with potassium carbonate or wood vinegar to 31! ! ! do.

[漂白定着補充液A] エチレンジアミンテトラ酢酸第2鉄 アンモニウム2水塩        2B0.0g炭酸
カリウム           42.0g水を加えて
全量を1交にする。
[Bleach-fixing replenisher A] Ethylenediaminetetraacetic acid ferric ammonium dihydrate 2B0.0g Potassium carbonate 42.0g Add water to make the total volume 1/2.

この溶液のpHは6.7± 0.1である。The pH of this solution is 6.7±0.1.

[漂白定着補充液B] チオ硫酸アンモニウム(70%溶液)  500.0−
交亜硫酸アンモニウム(40%溶液)   250.0
腸交エチレンジアミンテトラ酢酸     17.0g
氷酢酸               85.0+s文
水を加えて全量を1文とする。
[Bleach-fix replenisher B] Ammonium thiosulfate (70% solution) 500.0-
Ammonium persulphite (40% solution) 250.0
Enteric ethylenediaminetetraacetic acid 17.0g
Add glacial acetic acid 85.0+s Bunsui to bring the total volume to 1 Bun.

この溶液のpHは5.3± 0.1である。The pH of this solution is 5.3±0.1.

[水洗代()安定タンク液及び補充液]エチレングリコ
ール         1.0g1−ヒドロキシエチリ
デン−1,1− ニホスホンm(80%水溶液)      1.0gア
ンモニア水(水酸化アンモニウム 25%水溶液)             2.0g水
でIJlとし、硫酸でP)I 7.0とする。
[Water washing allowance () Stable tank liquid and replenisher] Ethylene glycol 1.0g 1-hydroxyethylidene-1,1-niphosphon m (80% aqueous solution) 1.0g ammonia water (ammonium hydroxide 25% aqueous solution) 2.0g with water IJl and P)I 7.0 with sulfuric acid.

自動現像機に上記の発色現像タンク液、漂白定着タンク
液及び安定タンク液を満し、前記サクラカラーSRペー
パー試ネ1を処理しながら3分間隔毎に上記した発色現
像補充液と漂白定着補充液A、Bと安定補充液を定量カ
ップを通じて補充しながらランニングテストを行った。
Fill an automatic developing machine with the above color developing tank solution, bleach fixing tank solution and stabilizing tank solution, and add the above mentioned color developing replenisher and bleach fixing tank solution every 3 minutes while processing the Sakura Color SR Paper Sample 1. A running test was conducted while replenishing solutions A, B, and a stable replenisher through a metering cup.

補充量はカラーペーパー1rn’当りそれぞれ発色現像
タンクへの補充量として190層文、漂白定着タンクへ
の補充量として漂白定性補充液A、B各々50■立、安
定化槽への補充量として水洗代任安定液充液を2501
見補充した。なお、自動現像機の安定化槽は試料の流れ
の方向に第1槽〜第3槽となる安定槽とし、最終槽から
補充を行い、最終槽からのオーバーフロー液をその前段
の槽へ流入させ、さらにこのオーバーフロー液をまたそ
の前段の槽に流入させる多槽向流方式とした。
The amount of replenishment is 190 layers per rn' of color paper to the color development tank, 50 layers each of Bleach and Qualitative Replenisher A and B to the bleach-fixing tank, and 50 μl of each of Bleach Qualitative Replenishers A and B to the stabilizing tank. Fill with substitute stabilizing liquid 2501
I looked at it and replenished it. The stabilization tanks of the automatic processor are the first to third tanks in the direction of sample flow, and the final tank is replenished and the overflow liquid from the final tank is allowed to flow into the previous tank. Furthermore, a multi-tank countercurrent system was adopted in which this overflow liquid also flows into the preceding tank.

水洗代任安定液の総補充量が安定タンク容量の3倍とな
るまで連続処理を行った。
Continuous processing was carried out until the total amount of water washing substitute stabilizing solution replenished was three times the capacity of the stabilizing tank.

上記処理によって生じるすべての写真処理廃液を混合し
1次の処理を行った。
All of the photographic processing waste liquids produced by the above processing were mixed and subjected to the first processing.

実験例1 上記写真処理廃液を5日間貯蔵した後、廃液中のSo 
32−c度を、ヨードメトリーにより定量したところ、
 4.5 Xl0Iグラムイオン/交であった。
Experimental Example 1 After storing the above photographic processing waste solution for 5 days, the So
32-c degree was determined by iodometry.
It was 4.5 Xl0I gram ion/cross.

またpHは8.0であった。この写真処理廃液5文を第
1図に示す装置に受け入れて、蒸発処理を行った。
Moreover, the pH was 8.0. Five volumes of this photographic processing waste liquid were received into the apparatus shown in FIG. 1 and subjected to evaporation treatment.

2.5文になるまで蒸発・濃縮し、蒸発ガスを冷却して
留液を得た。
The mixture was evaporated and concentrated until it became 2.5 grams, and the evaporated gas was cooled to obtain a distillate.

留液の温度が25℃のとき、留液表面のガス中のN83
ガス、H2Sガス、S02ガスを定量すると共に、留液
の外観を調べた。その結果を表1に記した。
When the temperature of the distillate is 25°C, N83 in the gas on the surface of the distillate
Gas, H2S gas, and S02 gas were quantified, and the appearance of the distillate was examined. The results are shown in Table 1.

次に亜硫酸ナトリウムを添加し、廃液中の亜硫酸イオン
(SO32−) 5度を表1の如く変化させ同様の実験
を繰り返した。結果を表1に合わせて記した。
Next, sodium sulfite was added, and the same experiment was repeated by changing the 5 degrees of sulfite ion (SO32-) in the waste liquid as shown in Table 1. The results are shown in Table 1.

ただしここでは蒸発拳濃縮を開始し、500鵬fL7〜
発することにS(h”5度を初期elffに調整した。
However, here we start evaporation fist concentration, and 500peng fL7~
I adjusted S(h"5 degrees to the initial elf to emit.

表  1 表1から151らかなように、廃液中の5O32−C度
が5X 10−4〜4グラムイオン/立の範囲にあれば
、留液が白濁せず、かつN83ガス、)12Sガス及び
SO?ガスが少なく好ましい、とりわけ5X 1G−3
グラムイオン/交〜0.5グラムイオン/又の範囲であ
れば、留液が無色透明になり、 NH3ガス、H,Sガ
ス及びS02ガスの発生が少ない。
Table 1 From Table 1, it is clear that if the 5O32-C degree in the waste liquid is in the range of 5X 10-4 to 4 gram ions/vertical, the distillate will not become cloudy, and N83 gas, )12S gas and SO? Less gas and preferred, especially 5X 1G-3
When the concentration is in the range of gram ion/cross to 0.5 gram ion/cross, the distillate becomes clear and colorless, and less NH3 gas, H, S gas, and S02 gas are generated.

これに対し廃液中の5(h2−5度が5X 10−4グ
ラムイオン/立未満では、NH3ガス及びH?Sガスの
発生は著しく留液が白謁し、4グラムイオン/立を越え
るとSO2ガスの発生が著しくなる。
On the other hand, if the 5 (h2-5 degree) in the waste liquid is less than 5X 10-4 gram ions/vertical, the generation of NH3 gas and H?S gas will be significant, and if it exceeds 4 grams ions/vertical The generation of SO2 gas becomes significant.

実験例2 実験例1で用いた経時保存後の廃液5J1に表2に示す
化合物を100g添加後、H2S0sとNaOHテPH
8,0に調整し、蒸発槽で2.51に汝w1後、実験例
1と同様にN)+3ガス、H2Sガス及びSO2ガスを
定量すると共に、留液の外観を調べた。濃1ii@、各
々の濃縮液中の化合物を定量したところすべて5g/1
以上存在していることが判った。結果を表2に示した。
Experimental Example 2 After adding 100g of the compounds shown in Table 2 to the waste liquid 5J1 used in Experimental Example 1 after storage over time, H2SOs and NaOHTEPH were added.
After adjusting the temperature to 8.0 and reducing the temperature to 2.51 in the evaporator, the N)+3 gas, H2S gas and SO2 gas were determined in the same manner as in Experimental Example 1, and the appearance of the distillate was examined. Concentration 1ii@, when the compounds in each concentrate were quantified, all were 5g/1
It turns out that there are more. The results are shown in Table 2.

表   2 表2より明らかなように、本発明の亜硫酸イオンを放出
できる化合物を使用しても、実験例1で使用した亜硫酸
ナトリウムとほぼ同様の効果があった。
Table 2 As is clear from Table 2, the use of the compound capable of releasing sulfite ions of the present invention had almost the same effect as the sodium sulfite used in Experimental Example 1.

実験例3 実験例1で用いた経時保存された廃液No、1と。Experimental example 3 Waste liquid No. 1 used in Experimental Example 1 and stored over time.

更に重亜硫酸カリウムを20g/sL添加した廃液No
、23のpHを表3の如<、H2SO4とKOHによっ
て調整した。蒸発を開始し、500+s文蒸発するごと
にp)lを表1のように調整した。 2.51になるま
で蒸発・e縮し、蒸発ガスを冷却して留液を得、実験例
1と同様に評価した。なお、実験終了後の蒸発槽中のS
o 32−5度は、いずれも5X 10−3グラムイオ
ン/立以上であった・ 表   3 表3より明らかなように、亜硫酸イオン(S032−)
の添加により、 NH3ガス、 H2S及びS02ガス
の発生が少なく、留液の濁りの発生も少ないが、特にp
H3,0〜11.0の範囲で良好な結果がfIIられて
いることが判る。
Furthermore, 20g/sL of potassium bisulfite was added to waste liquid No.
, 23 was adjusted with H2SO4 and KOH as shown in Table 3. Evaporation was started, and p)l was adjusted as shown in Table 1 every 500+ seconds. Evaporation and e-condensation were performed until the concentration reached 2.51, and the evaporated gas was cooled to obtain a distillate, which was evaluated in the same manner as in Experimental Example 1. In addition, the S in the evaporation tank after the end of the experiment
o 32-5 degrees were all 5X 10-3 gram ions/vertical or higher. Table 3 As is clear from Table 3, sulfite ions (S032-)
Due to the addition of
It can be seen that good results are obtained for fII in the range of H3.0 to 11.0.

実験例4 チオ硫酸塩を含有しない発色現像廃液No、24をH2
SO4とNaOHでPH2,0,8,0,12,0に調
整し、同様にチオ硫酸塩を含有しない漂白廃液を発色現
像廃液に30容量%加えた廃液No、25を同様にpH
調整した。
Experimental Example 4 Color developing waste solution No. 24 that does not contain thiosulfate was converted into H2
The pH was adjusted to 2, 0, 8, 0, 12, 0 with SO4 and NaOH, and 30% by volume of a bleach waste solution containing no thiosulfate was added to the color development waste solution.
It was adjusted.

また、 No、25の廃液にチオ硫酸アンモニウムを5
0g/41加えた廃液をNo、28を同様にpH調整し
In addition, 55% of ammonium thiosulfate was added to the waste liquid of No. 25.
The pH of No. 28 was adjusted in the same way as the waste liquid to which 0g/41 was added.

No、25の廃液にチオ硫酸アンモニウム50g/lと
AgBr 5g/lを加えた廃液No、27及び、 N
o、25の廃液に定着廃液を30%容量加えた廃液No
、28を同様にpH調整した。
Waste liquid No. 27 and N are obtained by adding 50 g/l of ammonium thiosulfate and 5 g/l of AgBr to the waste liquid of No. 25.
Waste liquid No. o, 30% volume of fixing waste liquid was added to the waste liquid of No. 25.
, 28 was similarly pH-adjusted.

これらの廃液を1週間保存し、廃液中の亜硫酸イオン濃
度を測定したところ、すべて4.5X 10−4グラム
イオン/見未満であった。
When these waste solutions were stored for one week and the sulfite ion concentrations in the waste solutions were measured, they were all less than 4.5×10 −4 gram ions/concentration.

次にこれらNo、24〜28の経時保存廃液に亜硫酸ナ
トリウムを108/l添加してNo、29〜33の廃液
を準備し、同様にpHを2.0.8.0.12.0に調
整した。
Next, 108/l of sodium sulfite was added to these time-preserved waste liquids of Nos. 24 to 28 to prepare waste liquids of Nos. 29 to 33, and the pH was adjusted to 2.0.8.0.12.0 in the same way. did.

上記のすべての廃液各5文を第1図に示す装置に受け入
れて2.Olになるまで蒸発濃縮を行った。また500
■交蒸発するごとに最初のpHに補正した。
2. Receive all of the above waste liquids, each with 5 volumes, into the apparatus shown in Figure 1. Evaporation concentration was performed until it became 0. 500 again
■Corrected to the initial pH after each exchange evaporation.

なお蒸発濃縮後のNo、29〜33の廃液中の亜硫酸イ
オン濃度は?、94 Xl0−3グラムイオン/見以上
であった。
What is the sulfite ion concentration in the waste liquids Nos. 29 to 33 after evaporation and concentration? , 94 Xl0-3 gram ions/view.

以上の結果を表4に示す。The above results are shown in Table 4.

表   4 表4より明らかなように、いずれの場合も亜硫酸イオン
を含有する廃液は悪臭が少なく、特にチオ硫Mイオンの
含有によって発生しやすくなるHasガスを亜硫酸イオ
ンがよく防止し、特に銀を含有した廃液No、32及び
33のpHが6.0の廃液ではHasガスが完全に防止
されている。
Table 4 As is clear from Table 4, in all cases, the waste liquid containing sulfite ions has less bad odor, and in particular, sulfite ions effectively prevent Has gas, which is likely to be generated due to the inclusion of M thiosulfate ions. Has gas was completely prevented in the waste liquids No. 32 and 33 that contained waste liquids with a pH of 6.0.

[発IJ1の効果] 未発1jlJによれば、廃液を蒸発処理する際に亜硫酸
イオンが存在するために、留液のアミン臭及びアンモニ
ア臭を抑制し、かつH2Sガスなどの発生を抑制できる
。また二次処理として例えば活性炭処理等を設けた場合
にも該二次処理の負荷が大巾に軽減され、吸着剤の消費
量が軽減され、吸着剤の交換に要する煩雑さもなくなる
[Effects of IJ1] According to IJ1, since sulfite ions are present when waste liquid is evaporated, it is possible to suppress the amine odor and ammonia odor of the distillate, and to suppress the generation of H2S gas and the like. Further, even if activated carbon treatment or the like is provided as a secondary treatment, the load of the secondary treatment is greatly reduced, the amount of adsorbent consumed is reduced, and the complexity required for replacing the adsorbent is eliminated.

また本発明によれば、留液の濁り等も解消され、廃棄上
問題ないだけでなく再利用等も可能となり、極めて汎用
性が高いプロセス及び装置を提供できる。
Further, according to the present invention, turbidity of the distillate is eliminated, and not only is there no problem in terms of disposal, but also reuse is possible, and it is possible to provide an extremely versatile process and apparatus.

なお末完IJ1は上記した悪臭の抑制以外に適用が可能
である。
It should be noted that Seikan IJ1 can be applied to purposes other than the above-mentioned malodor suppression.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は1本発明に係る悪臭の抑制方法の一例を示す概
念図である。 1: 廃液供給手段 2: 予熱器 3: 蒸発槽 4: 加熱手段、ヒーター 5: 蒸気排出管 6: ガスクーラー 7: ガスクーラー用ファン 8: 留液槽 9: 循環ファン lO: 亜硫酸含有化合物タンク 11: 亜硫酸含有化合物「ンプ 12: 亜硫酸含有化合物供給管 13:pH調整剤タンク 14二 P)I調整剤ポンプ 15:p)I調整剤供給管
FIG. 1 is a conceptual diagram showing an example of a method for suppressing bad odor according to the present invention. 1: Waste liquid supply means 2: Preheater 3: Evaporation tank 4: Heating means, heater 5: Steam discharge pipe 6: Gas cooler 7: Gas cooler fan 8: Distillate tank 9: Circulation fan 1O: Sulfite-containing compound tank 11 : Sulfite-containing compound pump 12: Sulfite-containing compound supply pipe 13: pH adjuster tank 142 P) I regulator pump 15: p) I regulator supply pipe

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)少なくとも亜硫酸イオン及び亜硫酸イオンを放出
することのできる化合物の存在下で写真処理廃液を加熱
・蒸発・濃縮することを特徴とする写真処理廃液の処理
方法。
(1) A method for processing a photographic processing waste liquid, which comprises heating, evaporating, and concentrating the photographic processing waste liquid in the presence of at least sulfite ions and a compound capable of releasing sulfite ions.
(2)写真処理廃液がチオ硫酸イオンを含有することを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載の写真処理廃液の
処理方法。
(2) The method for treating photographic processing waste liquid according to claim 1, wherein the photographic processing waste liquid contains thiosulfate ions.
(3)写真処理廃液が銀イオンを含有することを特徴と
する特許請求の範囲第2項記載の写真処理廃液の処理方
法。
(3) The method for treating photographic processing waste liquid according to claim 2, wherein the photographic processing waste liquid contains silver ions.
(4)写真処理廃液のpHを3.0〜11.0に維持し
た状態で加熱・蒸発することを特徴とする特許請求の範
囲第1項〜第3項のいずれかに記載の写真処理廃液の処
理方法。
(4) The photographic processing waste liquid according to any one of claims 1 to 3, wherein the photographic processing waste liquid is heated and evaporated while maintaining the pH of the photographic processing waste liquid at 3.0 to 11.0. processing method.
(5)写真処理廃液の供給手段と、該廃液を受け入れる
蒸発槽と、該蒸発槽内の廃液を加熱する加熱手段とを有
し、該廃液を加熱・蒸発・濃縮する写真処理廃液の処理
装置において、前記写真処理廃液に亜硫酸イオン及び亜
硫酸イオンを放出することのできる化合物を供給する手
段を有することを特徴とする写真処理廃液の処理装置。
(5) A processing device for photographic processing waste liquid that has a supply means for photographic processing waste liquid, an evaporation tank that receives the waste liquid, and a heating means that heats the waste liquid in the evaporation tank, and that heats, evaporates, and concentrates the waste liquid. A processing apparatus for photographic processing waste liquid, characterized in that it has means for supplying sulfite ions and a compound capable of releasing sulfite ions to the photographic processing waste liquid.
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