JPS63142624A - Capacitor and manufacture of the same - Google Patents

Capacitor and manufacture of the same

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Publication number
JPS63142624A
JPS63142624A JP28923686A JP28923686A JPS63142624A JP S63142624 A JPS63142624 A JP S63142624A JP 28923686 A JP28923686 A JP 28923686A JP 28923686 A JP28923686 A JP 28923686A JP S63142624 A JPS63142624 A JP S63142624A
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JP
Japan
Prior art keywords
capacitor
film
press molding
heat press
surface roughness
Prior art date
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Pending
Application number
JP28923686A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
木下 長男
一家 敏文
健治 山田
徹 大村
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPS63142624A publication Critical patent/JPS63142624A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、電子機器、電気機器に用いられる誘電体にプ
ラスチックフィルムを用いたコンデンサ及びその製造方
法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a capacitor using a plastic film as a dielectric for use in electronic and electrical equipment, and a method for manufacturing the same.

従来の技術 金属化プラスチックフィルムコンデンサは、電気特性信
頼性等に優れておシ、電子機器、電気機器の時定数・発
振回路等特に安定した電気特性を必要とする回路に数多
く用いられている。金属化プラスチックフィルムコンデ
ンサは、電極として蒸着金属膜を用いていることにより
、フィルムに絶縁欠陥部が存在しても電圧印加時のエネ
ルギーにより欠陥部周辺の蒸着金属膜が飛散し、絶縁特
性が回復し耐電圧レベルはフィルムのもつ実力値まで回
復できる特徴、すなわち一般的に呼ばれる自己回復作用
を有している。
BACKGROUND OF THE INVENTION Metallized plastic film capacitors have excellent reliability in electrical characteristics and are widely used in circuits that require particularly stable electrical characteristics, such as time constant and oscillation circuits of electronic devices and electrical devices. Metallized plastic film capacitors use a vapor-deposited metal film as an electrode, so even if there is an insulation defect in the film, the energy when voltage is applied scatters the vapor-deposited metal film around the defect and restores the insulation properties. However, the withstand voltage level can be recovered to the actual value of the film, that is, it has what is commonly called a self-healing action.

金属化プラスチックフィルムコンデンサの誘電体の代表
的なものに、ポリエチレンテレフタレート(以下PET
と略す)、ポリプロピレン(以下ppと略す)などがあ
る。
A typical dielectric material for metallized plastic film capacitors is polyethylene terephthalate (PET).
), polypropylene (hereinafter abbreviated as pp), etc.

これらの優れたコンデンサ誘電体フィルムに金属を蒸着
することにより、金属化プラスチックフィルムコンデン
サは着実にその利用分野の拡大を図っている。
By vapor-depositing metals onto these excellent capacitor dielectric films, the fields of use of metallized plastic film capacitors are steadily expanding.

一方、近年電子機器、電気機器は小型化、多機能化への
取組みが活発であシ、これらに用いられる電子部品もチ
ップ化、小型化、高密度実装化が実装技術の進歩に#い
日進月歩の勢いで進んでおシ、その波は金属化プラスチ
ックフィルムコンデンサにも押し寄せている。しかしな
がら、チップ化および小型化による高密度実装化は、コ
ンデンサの実装に際してコンデンサ本体が高温にさらさ
れることから、従来のPET、PPに代表されるプラス
チックフィルムの場合、フィルムの熱収縮率が大きいた
めに寸法変化等が発生し、電気特性。
On the other hand, in recent years, efforts have been made to make electronic and electrical equipment smaller and more multifunctional, and the electronic components used in these devices are also becoming more chip-based, smaller, and more densely packaged due to advances in packaging technology. This trend is also spreading to metallized plastic film capacitors. However, high-density packaging due to chipping and miniaturization means that the capacitor body is exposed to high temperatures when mounting the capacitor, and conventional plastic films such as PET and PP have a high thermal shrinkage rate. Dimensional changes, etc. occur in the electrical characteristics.

信頼性の著しい低下となっていた。また電子機器電気機
器の小型化は、高密度実装により実動作時の機器内部温
度は上昇方向にあり、これらに用いられる金属化プラス
チックフィルムコンデンサは従来の最高使用温度+86
℃の設計では不十分であシ、+126℃〜+150℃設
計が必要となってきており新たな耐熱性の優れたプラス
チックフィルム材料が望まれるに至った。
This resulted in a significant decrease in reliability. Furthermore, with the miniaturization of electronic and electrical equipment, the internal temperature of the equipment during actual operation is increasing due to high-density packaging, and the metallized plastic film capacitors used in these devices have a maximum operating temperature of 86% higher than the conventional maximum operating temperature.
℃ design is not sufficient, +126°C to +150°C design is now required, and a new plastic film material with excellent heat resistance has been desired.

昨今、耐熱性誘電体フィルム材料としてポリフェニレン
スルフィドフィルム(以下PPSと略f)が開発され、
PET 、PPフィルムに比べ耐熱性が大幅に向上し、
しかもフィルムコンデンサの大きな特徴の1つである電
気特性にも優れることから、前述の金属化プラスチック
フィルムコンデンサのチップ化、小型化、高密度実装化
による耐熱向上対応品として一躍脚光を浴びている。
Recently, polyphenylene sulfide film (hereinafter referred to as PPS) has been developed as a heat-resistant dielectric film material.
Heat resistance is significantly improved compared to PET and PP films,
Moreover, since they have excellent electrical properties, which is one of the major characteristics of film capacitors, they are now attracting attention as a product that can improve heat resistance by making chips, miniaturizing, and high-density packaging of the metallized plastic film capacitors mentioned above.

発明が解決しようとする問題点 しかしながら、PPSはポリマーの製造方法から、PE
T 、PPに比ベポリマー内に多量の不純物(例えば、
塩素、ナトリウム、カルシウム等)を含んでおシ、その
結果金属化プラスチックフィルムコンデンサの誘電体と
して使用した場合、その不純物の影響により、金属化プ
ラスチックフィルムコンデンサの特徴である自己回復性
が、他のPET 、PPに代表される金属化プラスチッ
クフィルムコンデンサに比較して劣シ、そのため絶縁抵
抗の低下、耐電圧レベルの低下が発生するという大きな
問題があった。
Problems to be Solved by the Invention However, due to the manufacturing method of PPS, PE
T, compared to PP, there are large amounts of impurities in the polymer (e.g.
(chlorine, sodium, calcium, etc.), and as a result, when used as a dielectric in metallized plastic film capacitors, the self-healing properties characteristic of metallized plastic film capacitors may be impaired due to the influence of the impurities. They are inferior to metallized plastic film capacitors such as PET and PP, and as a result, there are major problems in that insulation resistance and withstand voltage levels are lowered.

本発明は上記欠点に鑑み、金属化プラスチックフィルム
コンデンサの誘電体として、ppsを用い、金属化プラ
スチックフィルムコンデンサの最大の特徴である自己回
復性を大幅に向上させるため、絶縁抵抗の低下、耐電圧
レベルの低下の改善を図り、高耐熱、高性能、高信頼性
の金属化ppsフィルムコンデンサを提供するものであ
る。
In view of the above-mentioned drawbacks, the present invention uses pps as the dielectric material of the metallized plastic film capacitor, and in order to significantly improve the self-healing property, which is the most important feature of the metallized plastic film capacitor, it reduces insulation resistance and withstand voltage. The purpose is to provide a metallized pps film capacitor with high heat resistance, high performance, and high reliability by improving the level drop.

問題点を解決するための手段 この目的を達成するだめに本発明のコンデンサは、その
誘電体であるPPSフィルムの平均表面粗度Raを規定
するものである。すなわちPPSフィルムの平均表面粗
度Raを0.03μm−0,07μmの範囲とし、偏平
型成形におけるヒートプレス工程において、弾性を有す
るラバーにコンデンサ素子の平面部のみに圧力がかかる
平板を組合せて用い、さらに成形条件を圧力が単位面積
当たり5Kg / crl〜10 Kg / crl 
、温度1001.〜110C。
Means for Solving the Problems In order to achieve this object, the capacitor of the present invention defines an average surface roughness Ra of the PPS film that is its dielectric. That is, the average surface roughness Ra of the PPS film was set in the range of 0.03 μm to 0.07 μm, and in the heat press process for flat molding, a combination of elastic rubber and a flat plate that applied pressure only to the flat surface of the capacitor element was used. , and further molding conditions such that the pressure is 5Kg/crl to 10Kg/crl per unit area.
, temperature 1001. ~110C.

時間5分〜15分で成形することから構成されている。It consists of molding for 5 to 15 minutes.

作  用 この構成による金属化PPSフィルムコンデンサの作用
について以下説明する。
Function The function of the metallized PPS film capacitor with this configuration will be explained below.

前述のごとく金属化フィルムコンデンサは、自己回復性
という優れた構造上の特徴を有している。
As mentioned above, metallized film capacitors have an excellent structural feature of self-healing.

この自己回復性を有効的に行なわせるためには、フィル
ムの表面に形成する蒸着金属膜をできるだけ薄く(蒸着
膜抵抗は高くなる)することはもちろんであるが、偏平
型コンデンサにおいて、最も自己回復性状態を左右する
のは、偏平型コンデンサ素子に成形するためのヒートポ
ンプレス成形ノ均−性である。す;なわちヒートポンプ
レス成形においてフィルムのシワ、傷、あるいは機械的
歪みを極力少なくすることにより、フィルム自体の熱的
1機械的ダメージを押さえ、フィルム層間の隔隙、ある
いは密着性を均一化し、蒸着金属膜飛散時のエネルギー
により発生する熱、ガス等をコンデンサ素子本体外に安
定して放出させることが必要なのである。
In order to effectively perform this self-healing property, it is necessary to make the vapor-deposited metal film formed on the surface of the film as thin as possible (the resistance of the vapor-deposited film becomes high). The condition of the capacitor is determined by the uniformity of the heat pumpless molding process used to form the flat capacitor element. In other words, by minimizing wrinkles, scratches, or mechanical distortion of the film during heat pumpless molding, thermal and mechanical damage to the film itself can be suppressed, and the gaps and adhesion between film layers can be made uniform. It is necessary to stably release heat, gas, etc. generated by the energy generated when the vapor-deposited metal film scatters out of the capacitor element body.

PPSフィルムの平均表面粗度Raが非常K 、J−さ
い場合は、PPSフィルム層間の摩擦が大きくなシヒー
トプレス成形時にシワ、あるいは機械的歪が発生しやす
く、電気特性を低下させるため、その結果ヒートプレス
成形条件は、非常に弱くしなければならず、−変成形し
た後の機械的安定性にバラツキが発生しやすくなる。
If the average surface roughness Ra of the PPS film is very small, wrinkles or mechanical distortions are likely to occur during heat press molding where the friction between the PPS film layers is large, and this will reduce the electrical properties. As a result, the heat press molding conditions must be made very weak, and the mechanical stability after deformation tends to vary.

一方平均表面粗度Raが非常に大きい場合、PPSフィ
ルム層間の摩擦は小さくヒートプレス成形歪は減少し、
均一な成形状態は得られるが、成形後の工程において、
ヒートプレス成形の圧力に対し垂直方向の力が加わると
ヒートプレス成形前の状態に容易に復元されてしまい機
械的に不安定となることはもちろんのこと、空気層の介
在を余儀なくされ本来の電気特性を確保できなく碌る。
On the other hand, when the average surface roughness Ra is very large, the friction between the PPS film layers is small and the heat press molding distortion is reduced.
Although a uniform molding state can be obtained, in the process after molding,
If a force is applied perpendicular to the pressure of heat press molding, it will easily return to the state before heat press molding, resulting in mechanical instability. It grows without being able to secure the characteristics.

また成形条件をさらに高め機械的成形強度を上げると、
フィルム自体への熱的1機械的ダメージ。
Furthermore, by further increasing the molding conditions and increasing the mechanical molding strength,
Thermal 1 Mechanical damage to the film itself.

ストレスを与える結果となシ、これもまた電気特性を低
下させることとなる。
This results in stress, which also deteriorates the electrical characteristics.

本発明者らは、種々角度からの実験結果より、これらの
欠点を解消するには、PPSフィルムの平均表面粗度R
aを0.03〜0.07μmの範囲にする必要があり、
その時のヒートプレス成形条件を、圧力が単位面積当た
シロ〜1o Ky / ca * R度100〜110
℃2時間5〜15分の条件であれば、歪発生もなく、ま
た機械的安定性、復元性も良好であることを確認したの
である。
Based on experimental results from various angles, the present inventors found that in order to eliminate these drawbacks, the average surface roughness R of the PPS film
a needs to be in the range of 0.03 to 0.07 μm,
The heat press molding conditions at that time were as follows: pressure per unit area: 10 Ky/ca * R degree: 100 to 110
It was confirmed that under the conditions of 2 hours and 5 to 15 minutes at °C, no distortion occurred and the mechanical stability and restorability were good.

さらに偏平型コンデンサ素子に成形するがためのヒート
プレス成形工程において、電熱ヒーターを組み込んだ2
枚の熱板の間に、多数個コンデンサ素子を置き、加圧と
、加熱により成形を行なう場合では、コンデンサ素子寸
法のバラツキ、上下熱板の平行精度の狂い等により均一
な圧力を加えることは、非常に困難であシ、このため、
電熱ヒーターを組み込んだ2枚の熱板の間に、弾性を有
するラバーにコンデンサ素子平面部のみに圧力がかかる
平板を組合せた場合、コンデンサ素子寸法のバラツキ、
上下熱板の平行精度は、弾性を有するラバーで吸収され
ることにより、バラツキの少ない均一なヒートプレス成
形が得られることを発見したのである。
Furthermore, in the heat press molding process for forming flat capacitor elements, two
When placing a large number of capacitor elements between two hot plates and molding them by applying pressure and heating, it is very difficult to apply uniform pressure due to variations in the capacitor element dimensions and irregularities in the parallelism of the upper and lower hot plates. Because of this, it is difficult to
When a flat plate of elastic rubber that applies pressure only to the flat surface of the capacitor element is combined between two heat plates incorporating an electric heater, variations in the capacitor element dimensions,
They discovered that uniform heat press molding with less variation can be achieved by absorbing the parallelism of the upper and lower hot plates with elastic rubber.

実施例 以下本発明の一実施例について図面を参照しながら説明
する。
EXAMPLE An example of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例におけるコンデンサの構成図
を示すものである。第1図において、1は平均表面粗度
Raが0.03μm〜0−07μmに設定されたPPS
フィルム、2はPPSフィルム10表面に形成された蒸
着金属膜、3は金属溶射による電極引出し部を示し、電
圧はこれより印加される。
FIG. 1 shows a configuration diagram of a capacitor in one embodiment of the present invention. In Fig. 1, 1 is a PPS whose average surface roughness Ra is set to 0.03 μm to 0-07 μm.
The film, 2 is a vapor-deposited metal film formed on the surface of the PPS film 10, and 3 is an electrode extension part formed by metal spraying, from which a voltage is applied.

第2図に特性図を示す。@2図Aはコンデンサ素子歪発
生率を示している。横軸に平均表面粗度Ra、M軸に成
形歪発生率を示す。成形歪発生率は、ヒートプレス成形
により素子内部に発生するフィルムシワ、機械的歪の発
生率である。この時のと一ドブレス成形条件は、圧力6
 K9 /CIIK、温度100℃、時間5分である。
Figure 2 shows a characteristic diagram. @2 Figure A shows the capacitor element distortion occurrence rate. The horizontal axis shows the average surface roughness Ra, and the M axis shows the molding strain occurrence rate. The molding strain generation rate is the generation rate of film wrinkles and mechanical strain that occur inside the element due to heat press molding. The Toichido breath molding conditions at this time were pressure 6.
K9/CIIK, temperature 100°C, time 5 minutes.

第2図Aにおいて、フィルムの平均表面粗度は0.02
μm以下になると歪発生率は急増している。これは、コ
ンデンサ素子を構成するPPSフィルム相互間の摩擦が
大きくなり、相互にすべりがなくなるためである。
In Figure 2A, the average surface roughness of the film is 0.02
When the thickness becomes less than μm, the strain occurrence rate rapidly increases. This is because the friction between the PPS films constituting the capacitor element increases and there is no mutual slippage.

平均表面粗度Raが0.03μm以上になると、成形歪
発生率は減少し良好なものとなる。これは平均表面粗度
が大きくなることによりフィルムの表面積が大きくなシ
フィルム相互間の摩擦が小さくなるためである。
When the average surface roughness Ra becomes 0.03 μm or more, the molding strain occurrence rate decreases and becomes favorable. This is because as the average surface roughness increases, the friction between the films having a large surface area decreases.

第2図Bはコンデンサ素子のヒートプレス震形強さを示
すものである。横軸に平均的表面粗度り縦軸に復元力を
表わしている。復元力とは、ヒートプレス成形を実施し
た後にヒートプレス成形時に加わる圧力に対して垂直方
向に力を加え、その値を示している。したがってヒート
プレス成形後、復元力の値として大きい方が機械的強度
は安定していると言える。この時のヒートプレス成形条
件は、圧力5に?/cIIK+温度100℃、時間5分
である。第2図Bにおいてフィルム平均表面粗度Raが
0.07μmでは2Kg以上であシ、比較的大きい値を
示してAるが、平均表面粗度Raが0.08μm以上に
なると急速に小さな値になることがわかる。
FIG. 2B shows the heat press seismic strength of the capacitor element. The horizontal axis represents the average surface roughness and the vertical axis represents the restoring force. The restoring force is the value obtained by applying a force in a direction perpendicular to the pressure applied during heat press molding after heat press molding. Therefore, it can be said that the larger the restoring force value after heat press molding, the more stable the mechanical strength. The heat press molding conditions at this time are pressure 5? /cIIK+temperature 100°C, time 5 minutes. In Fig. 2B, when the average surface roughness Ra of the film is 0.07 μm, it shows a relatively large value at 2 kg or more, but when the average surface roughness Ra becomes 0.08 μm or more, the value rapidly decreases. I know what will happen.

ヒートプレス成形以降の工程において、復元方向の力が
加わる工程が存在していることから、復元力の値として
は2にノ以上は必要である。−2に9以下になった場合
、復元方向に力が加わることにより素子のもどりがある
Since there is a step in which a force in the restoring direction is applied in the steps after heat press molding, the restoring force value needs to be 2 or more. If -2 becomes 9 or less, the element returns due to force being applied in the restoring direction.

以上のことからヒートプレス成形に適したPPSフィル
ム平均表面粗度Raは、第2図A、Bを鑑み、0.o3
μm〜0.07μmの範囲にする必要がある。
From the above, the average surface roughness Ra of PPS film suitable for heat press molding is 0. o3
It is necessary to range from μm to 0.07 μm.

次表は、素子のヒートプレス成形条件(圧力。The following table shows the heat press molding conditions (pressure) of the element.

温度1時間)と成形強さく復元力)を示すものである。It shows the temperature (1 hour) and molding strength and restoring force).

PPSフィルム平均表面粗度Ra o、oa 〜0.0
7μmの範囲において、復元力が2に2以上になる条件
は、圧力5 Kg /cI!、温度100℃1時間6分
であることがわかる。
PPS film average surface roughness Ra o, oa ~0.0
In the range of 7 μm, the condition for the restoring force to be 2 to 2 or more is a pressure of 5 Kg/cI! , the temperature was 100°C for 1 hour and 6 minutes.

第2図Cは素子のヒートプレス成形条件(圧力。Figure 2C shows the heat press molding conditions (pressure) of the element.

温度1時間)とコンデンサ昇圧破壊値の関係を示す図で
ありPPSPPフィルム平均表面粗度Ra03μm〜0
.07μmの範囲において、圧力6に9/ctA〜10
 K9 /al +温度100℃〜110℃1時間6分
〜15分の条件範囲内であるならば、コンデンサの昇圧
破壊レベルは安定していることがわかる。
This is a diagram showing the relationship between the capacitor boost breakdown value and the temperature (1 hour) and the capacitor pressure breakdown value.
.. In the range of 0.7 μm, pressure 6 to 9/ctA to 10
It can be seen that the boost breakdown level of the capacitor is stable if the temperature is within the range of K9 /al + temperature 100° C. to 110° C. 1 hour 6 minutes to 15 minutes.

第3図は偏平型コンデンサ素子に成形するがための、ヒ
ートプレス成形状態を示す構成図である。
FIG. 3 is a configuration diagram showing a state of heat press molding for molding into a flat capacitor element.

第3図Aは、本発明の実施例であシ、4,4′は電熱ヒ
ーターを組み込んだ熱板、6はコンデンサ素子、6は弾
性を有するラバー、7は鉄板等の平板である。以上のよ
うに構成されたヒートプレス成形方法は、コンデンサ素
子寸法のバラツキ、上下熱板の平行精度は、弾性を有す
るラバー3で吸収されることにより、バラツキの少ない
均一なヒートプレス成形が得られることとなる。
FIG. 3A shows an embodiment of the present invention, where 4 and 4' are hot plates incorporating electric heaters, 6 is a capacitor element, 6 is elastic rubber, and 7 is a flat plate such as an iron plate. In the heat press molding method configured as described above, uniform heat press molding with little variation can be obtained by absorbing variations in capacitor element dimensions and parallel accuracy of the upper and lower hot plates with the elastic rubber 3. That will happen.

第3図Bは、従来例であシ、4,4′は電熱ヒーターを
組み込んだ鉄板、εはコンデンサ素子であり、この構成
では、均一な圧力を加えることは、非常に困難であるこ
とは言うまでも々い。
Figure 3B shows a conventional example, where 4 and 4' are iron plates incorporating electric heaters, and ε is a capacitor element.With this configuration, it is extremely difficult to apply uniform pressure. Needless to say.

第4図は、本発明のヒートプレス成形方法と、従来のヒ
ートプレス成形方法のヒルドブレス成形後の静電容量分
布を比較した図であシ、本発明のヒートプレス成形方法
の静電容量は、バラツキが少なく、両者には明白な違い
が認められる。
FIG. 4 is a diagram comparing the capacitance distribution after hild breath molding of the heat press molding method of the present invention and the conventional heat press molding method.The capacitance of the heat press molding method of the present invention is There is little variation, and there are clear differences between the two.

発明の効果 以上のように本発明は、PPSフィルムの平均表面粗度
Ra 0.03μm〜0.07/jmの範囲とすること
により、金属化プラスチックフィルムコンデンサの誘電
体として、PPSを用いたコンデンサにおいて金属化プ
ラスチックフィルムコンデンサの最大の特徴である自己
回復性を大幅に向上させることができ、絶縁抵抗の低下
、耐電圧レベルの低下の改善を図シ、高耐熱、高性能、
高信頼性の金属化PPSフィルムコンデンサを提供する
ことができる。
Effects of the Invention As described above, the present invention provides a capacitor using PPS as a dielectric material of a metallized plastic film capacitor by setting the average surface roughness Ra of the PPS film in the range of 0.03 μm to 0.07/jm. The most important feature of metallized plastic film capacitors, self-healing, can be greatly improved, reducing insulation resistance and withstanding voltage levels, resulting in high heat resistance, high performance,
A highly reliable metallized PPS film capacitor can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例によるコンデンサを示す構成
図、第2図Aは本発明の平均表面粗変電とコンデンサ素
子歪発生率を示す特性図、第2図Bは本発明の平均表面
粗度Raとコンデンサヒートプレス成形強さを示す特性
図、第2図Cは本発明のヒートプレス成形条件と、コン
デンサ昇圧破壊値を示す特性図、第3図Aは本発明のヒ
ートプレス成形状態を示す構成図、第3図Bは従来のヒ
ートプレス成形状態を示す構成図、第4図は本発明と従
来のヒートプレス成形方法のヒートプレス後の静電容量
分布を比較した特性図である。 1・・・・・・PPSフィルム、2・・・・・・蒸着金
属膜、3・・・・・・電極引出し部、4,4′・・・・
・・熱板、6・・・・・・コンデンサ素子、6・・・・
・・弾性を有するラバー、7・・・・・・平板。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名/=
−FPS 7/rルム 2− 蒸着金属膜 第1図     3−電極引出し/都 ? 第2図 G) 0 0.62ρ03664 4M a、a’y a、o
a  o、を壬換幻對44〜      (、u仇ジ第
2図 )iカ<’kwz)sssssssstottrttr
tototststs壜虞(#リ too t’tyt
r /# no Ito m uθtrtrqθtm 
ax uθtto to qa to。
FIG. 1 is a configuration diagram showing a capacitor according to an embodiment of the present invention, FIG. 2A is a characteristic diagram showing the average surface roughness transformation and capacitor element strain occurrence rate of the present invention, and FIG. 2B is a diagram showing the average surface roughness of the present invention. A characteristic diagram showing roughness Ra and capacitor heat press molding strength, Figure 2C is a characteristic diagram showing the heat press molding conditions of the present invention and capacitor pressure increase destruction value, and Figure 3A is a characteristic diagram showing the heat press molding state of the present invention. FIG. 3B is a configuration diagram showing the conventional heat press molding state, and FIG. 4 is a characteristic diagram comparing the capacitance distribution after heat pressing between the present invention and the conventional heat press molding method. . DESCRIPTION OF SYMBOLS 1...PPS film, 2...Vapour-deposited metal film, 3...Electrode extension part, 4, 4'...
...Hot plate, 6...Capacitor element, 6...
... Elastic rubber, 7... Flat plate. Name of agent: Patent attorney Toshio Nakao and 1 other person/=
-FPS 7/r lume 2- Deposited metal film Figure 1 3- Electrode drawer/capital? Figure 2G) 0 0.62ρ03664 4M a, a'y a, o
a o, the illusion 44 ~ (, u 寇 fig. 2) i ka<'kwz)sssssssstotttrtr
too t'tyt
r/# no Ito m uθtrtrqθtm
ax uθtto to qa to.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)平均表面粗度Raを0.03μm〜0.07μm
の範囲としたポリフェニレンスルフィドフィルムの表面
に電極を形成して金属化フィルムを構成し、この金属化
フィルムにより構成したコンデンサ。
(1) Average surface roughness Ra of 0.03 μm to 0.07 μm
A metallized film is formed by forming electrodes on the surface of a polyphenylene sulfide film having a temperature within the range of 100 to 1000, and a capacitor is constructed from this metalized film.
(2)平均表面粗度Raを0.03μm〜0.07μm
の範囲としたポリフェニレンスルフィドフィルムの表面
に電極を形成し、この金属化フィルムを巻回してコンデ
ンサ素子とした後、ヒートプレス成形することを特徴と
するコンデンサの製造方法。
(2) Average surface roughness Ra of 0.03 μm to 0.07 μm
1. A method for manufacturing a capacitor, which comprises: forming an electrode on the surface of a polyphenylene sulfide film having a polyphenylene sulfide film having a range of 100 to 1000 ml, winding this metallized film to form a capacitor element, and then heat-press molding the film.
(3)ヒートプレス成形工程において、弾性を有するラ
バーにコンデンサ素子の平面部のみに圧力がかかる平板
を組合せて用いることを特徴とする特許請求の範囲第2
項に記載のコンデンサの製造方法。
(3) In the heat press molding process, elastic rubber is used in combination with a flat plate that applies pressure only to the flat surface of the capacitor element.
2. Method for manufacturing the capacitor described in section.
(4)ヒートプレス成形工程において、圧力を単位面積
当たり5Kg/cm^2〜10Kg/cm^2、温度を
100℃〜110℃、時間を5分〜15分として成形す
ることを特徴とする特許請求の範囲第2項に記載のコン
デンサの製造方法。
(4) A patent characterized in that in the heat press molding process, the pressure is 5 Kg/cm^2 to 10 Kg/cm^2 per unit area, the temperature is 100°C to 110°C, and the time is 5 to 15 minutes. A method for manufacturing a capacitor according to claim 2.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0230109A (en) * 1988-07-20 1990-01-31 Matsushita Electric Ind Co Ltd Manufacture of film capacitor
JPH0298913A (en) * 1988-10-05 1990-04-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd Manufacture of film capacitor for acoustic use

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5272458A (en) * 1975-12-15 1977-06-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd Capacitor
JPS57187327A (en) * 1981-05-13 1982-11-18 Toray Ind Inc Poly-p-phenylene sulfide film
JPS596520A (en) * 1982-07-02 1984-01-13 松下電器産業株式会社 Condenser
JPS62203319A (en) * 1986-03-03 1987-09-08 松下電器産業株式会社 Capacitor
JPS62203314A (en) * 1986-03-03 1987-09-08 松下電器産業株式会社 Capacitor

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5272458A (en) * 1975-12-15 1977-06-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd Capacitor
JPS57187327A (en) * 1981-05-13 1982-11-18 Toray Ind Inc Poly-p-phenylene sulfide film
JPS596520A (en) * 1982-07-02 1984-01-13 松下電器産業株式会社 Condenser
JPS62203319A (en) * 1986-03-03 1987-09-08 松下電器産業株式会社 Capacitor
JPS62203314A (en) * 1986-03-03 1987-09-08 松下電器産業株式会社 Capacitor

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0230109A (en) * 1988-07-20 1990-01-31 Matsushita Electric Ind Co Ltd Manufacture of film capacitor
JPH0298913A (en) * 1988-10-05 1990-04-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd Manufacture of film capacitor for acoustic use
JPH0577324B2 (en) * 1988-10-05 1993-10-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd

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