JPS63142318A - イメ−ジ・デイバイス - Google Patents
イメ−ジ・デイバイスInfo
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- JPS63142318A JPS63142318A JP28887186A JP28887186A JPS63142318A JP S63142318 A JPS63142318 A JP S63142318A JP 28887186 A JP28887186 A JP 28887186A JP 28887186 A JP28887186 A JP 28887186A JP S63142318 A JPS63142318 A JP S63142318A
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- JP
- Japan
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- lenses
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- fresnel lenses
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- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 31
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 abstract description 5
- 238000003491 array Methods 0.000 abstract description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 3
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 abstract 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 description 1
- 238000000609 electron-beam lithography Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 238000010137 moulding (plastic) Methods 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000009331 sowing Methods 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0018—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 with means for preventing ghost images
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の背景
この発明は、結像光学系として用いられるイメージ・デ
ィバイスに関する。
ィバイスに関する。
等倍結像素子としてロッド・レンズ−アレイがあり、こ
れは複写機、ファクシミリ、レーザ・プリンタなどの光
学電気機械において広く用いられている。出願人は、ロ
ッド・レンズ・アレイに代わるものとしてより小型、軽
量の多数のマイクロ・フレネル・レンズをもつイメージ
・ディバイスを案出した(たとえば特願昭61−189
608号参照)。
れは複写機、ファクシミリ、レーザ・プリンタなどの光
学電気機械において広く用いられている。出願人は、ロ
ッド・レンズ・アレイに代わるものとしてより小型、軽
量の多数のマイクロ・フレネル・レンズをもつイメージ
・ディバイスを案出した(たとえば特願昭61−189
608号参照)。
このイメージ−ディバイスは、第6図にその一部を示す
ように、多数のマイクロ・フレネル・レンズ1を表裏両
面に含んでおり1表裏に対応するレンズ1同志の光軸を
一致させて配列したものである。このイメージ・ディバ
イスの一方側に物体ORを配置すると、その反対側に等
倍の正立像O1が結像する。
ように、多数のマイクロ・フレネル・レンズ1を表裏両
面に含んでおり1表裏に対応するレンズ1同志の光軸を
一致させて配列したものである。このイメージ・ディバ
イスの一方側に物体ORを配置すると、その反対側に等
倍の正立像O1が結像する。
しかしながら、このイメージ・ディバイスでは結像に関
与しないフレア(f’1are)光Fが生じやすく、こ
のために結像特性が必ずしも良好ではないという問題が
あった。たとえばフレア光Fによって1または複数のゴ
ースト像が発生する。倒立像が結像され正立像と重なり
合う、ゴースト像や倒立像の発生によって正立像のコン
トラストが低下する。像面で光量のむらが生じるという
問題が発生する。
与しないフレア(f’1are)光Fが生じやすく、こ
のために結像特性が必ずしも良好ではないという問題が
あった。たとえばフレア光Fによって1または複数のゴ
ースト像が発生する。倒立像が結像され正立像と重なり
合う、ゴースト像や倒立像の発生によって正立像のコン
トラストが低下する。像面で光量のむらが生じるという
問題が発生する。
発明の#!要
発明の目的
この発明は、結像に関与しないフレア光をできるだけ除
くことによって鮮明な像が得られるイメージ・ディバイ
スを提供することを目的とする。
くことによって鮮明な像が得られるイメージ・ディバイ
スを提供することを目的とする。
発明の構成と効果
この発明によるイメージ・ディバイスは2表裏両面に複
数個のマイクロ・フレネル・レンズが番の表裏に対応す
るもの同志の光軸を一致させて配列して設けられ2表裏
に対応するレンズ間の光路の周囲に視野絞りが設けられ
ていることを特徴とする。
数個のマイクロ・フレネル・レンズが番の表裏に対応す
るもの同志の光軸を一致させて配列して設けられ2表裏
に対応するレンズ間の光路の周囲に視野絞りが設けられ
ていることを特徴とする。
視野絞りは光をできるだけ吸収する材料で構成すること
が好ましい。この視野絞りは、最も好ましくは表裏のマ
イクロ・フレネルψレンズ間にわたって設けるが、実用
上支障が生じなければ表裏のマイクロ・フレネル・レン
ズ間の一部に設けてもよい。
が好ましい。この視野絞りは、最も好ましくは表裏のマ
イクロ・フレネルψレンズ間にわたって設けるが、実用
上支障が生じなければ表裏のマイクロ・フレネル・レン
ズ間の一部に設けてもよい。
この発明によると、正立像の結像に関与しないフレア光
の多くが視野絞りによって吸収されるために結像面側に
出射するフレア光の量を少なくまたは殆んど無くするこ
とができる。これによって、ゴースト像の発生を防止で
きるとともに像面における光量の均一性を保つことがで
きるようになる。そして、物体に1対工に対応する鮮明
な正立像のみが得られるようになる。
の多くが視野絞りによって吸収されるために結像面側に
出射するフレア光の量を少なくまたは殆んど無くするこ
とができる。これによって、ゴースト像の発生を防止で
きるとともに像面における光量の均一性を保つことがで
きるようになる。そして、物体に1対工に対応する鮮明
な正立像のみが得られるようになる。
この発明によるイメージ中ディバイスまたはイメージ・
ディバイスを構成する多数のマイクロ・フレネル・レン
ズは透明プラスチック成形によって作製することが可能
なので、この発明は、量産性に富み、安価に提供でき、
軽量化でき2等質のディバイス、レンズを作製できると
いった効果もまた奏する。
ディバイスを構成する多数のマイクロ・フレネル・レン
ズは透明プラスチック成形によって作製することが可能
なので、この発明は、量産性に富み、安価に提供でき、
軽量化でき2等質のディバイス、レンズを作製できると
いった効果もまた奏する。
実施例の説明
第1図はこの発明の実施例におけるイメージ・ディバイ
スを示している。また、このイメージ・ディバイスの断
面が結像の様子とともに第4図に示されている。
スを示している。また、このイメージ・ディバイスの断
面が結像の様子とともに第4図に示されている。
これらの図を参照して、透明なガラス、プラスチックそ
の他の光学物質からなる基板10の表面に多数のマイク
ロ◆フレネル・レンズ1が形成され、かつ2列に配列さ
れている。この基板10の裏面にも同じようにマイクロ
・フレネル・レンズ1が形成されかつ2列に配列されて
いる。基板IOの表面のフレネル・レンズ1とそれに対
応して設けられた裏面のフレネル・レンズ1とはそれら
の光軸が一致している。これらのマイクロ・フレネル・
レンズ1は同心円状の多数の凹凸パターンを有している
。透明基板lOに形成するマイクロ・フレネル・レンズ
1は2列にする必要はなく、何列でもよい。好ましくは
第1列目のレンズ1と第2列目のレンズ1とを互い違い
に配置する(図示のものは互い違いではない)。
の他の光学物質からなる基板10の表面に多数のマイク
ロ◆フレネル・レンズ1が形成され、かつ2列に配列さ
れている。この基板10の裏面にも同じようにマイクロ
・フレネル・レンズ1が形成されかつ2列に配列されて
いる。基板IOの表面のフレネル・レンズ1とそれに対
応して設けられた裏面のフレネル・レンズ1とはそれら
の光軸が一致している。これらのマイクロ・フレネル・
レンズ1は同心円状の多数の凹凸パターンを有している
。透明基板lOに形成するマイクロ・フレネル・レンズ
1は2列にする必要はなく、何列でもよい。好ましくは
第1列目のレンズ1と第2列目のレンズ1とを互い違い
に配置する(図示のものは互い違いではない)。
このような多数のマイクロ・フレネル・レンズ1の隣接
するものの間に視野絞り2が表裏にわたって設けられて
いる。この視野絞り2は、この実施例では第2図に示さ
れているように、外枠とその内部に設けられた多数の仕
切りとからなる枠体である。そして、仕切りによって囲
まれた直方体状の空1u1が表裏に対応するレンズ1間
の光路となっている。
するものの間に視野絞り2が表裏にわたって設けられて
いる。この視野絞り2は、この実施例では第2図に示さ
れているように、外枠とその内部に設けられた多数の仕
切りとからなる枠体である。そして、仕切りによって囲
まれた直方体状の空1u1が表裏に対応するレンズ1間
の光路となっている。
視野絞り2は、光をよく吸収する材料(たとえば黒色樹
脂)でつくることが好ましい。場合によっては光を散乱
させる表面処理を施こしてもよい。光を正反射させる表
面とすることはできるだけ避けることが好ましいが1反
射率が低くゴースト等が多少発生しても実用上支障のな
い程度であればよい。視野絞り2の幅Wはこの実施例で
は。
脂)でつくることが好ましい。場合によっては光を散乱
させる表面処理を施こしてもよい。光を正反射させる表
面とすることはできるだけ避けることが好ましいが1反
射率が低くゴースト等が多少発生しても実用上支障のな
い程度であればよい。視野絞り2の幅Wはこの実施例で
は。
表のフレネル・レンズ1から裏のフレネル・レンズ1に
までわたっているが、これよりも狭くてもよい。狭い場
合にはフレア光は完全には除去できないが実用上支障が
なければ構わない。
までわたっているが、これよりも狭くてもよい。狭い場
合にはフレア光は完全には除去できないが実用上支障が
なければ構わない。
第4図によく示されているように9表裏のフレネル・レ
ンズ1によって等倍結像が得られる。
ンズ1によって等倍結像が得られる。
すなわち9表側に置かれた物体ORの正立等倍像o1が
裏側に得られる。このさい、フレア光Fは視野絞り2に
よって吸収されるが、場合によっては散乱されるので、
ゴーストの発生は抑制され。
裏側に得られる。このさい、フレア光Fは視野絞り2に
よって吸収されるが、場合によっては散乱されるので、
ゴーストの発生は抑制され。
鮮明な像0!が得られるようになる。
物体ORから一方のフレネルeレンズ1までの距離を変
えることによって任意の倍率の像OIを得ることもでき
る。
えることによって任意の倍率の像OIを得ることもでき
る。
第5図はこの発明の他の実施例を示している。
第1図に示すイメージ・ディバイスでは基板10の表裏
にフレネル・レンズ1が形成されているが。
にフレネル・レンズ1が形成されているが。
第5図の実施例では2枚の基板10Aが用いられ。
各基板10Aの一面にのみフレネル中レンズ1が形成さ
れている。そして、これら2枚の基板10Aが視野絞り
2となる枠体を介して相互に固定されている。視野絞り
2は表裏のフレネル・レンズ1間の距離を一定に保つス
ペーサとしての働きもなしている。
れている。そして、これら2枚の基板10Aが視野絞り
2となる枠体を介して相互に固定されている。視野絞り
2は表裏のフレネル・レンズ1間の距離を一定に保つス
ペーサとしての働きもなしている。
第5図ではフレネル中レンズ1の凹凸面が外側を向いて
いるが、内側を向くようにしてもよいし、その方が好ま
しい(特願昭81−254883号参照)。このように
することによって、塵埃や汚れがフレネル・レンズ1の
凹凸パターン加工面に付着することが防止され、損傷を
受けることも未然に防ぐことができる。基板10Aの外
側面は平坦であるから、塵埃や汚れが付着しても容易に
除去することができる。これによって、イメージ・ディ
バイスの光学特性をほぼ一定に保持することが可能とな
る。
いるが、内側を向くようにしてもよいし、その方が好ま
しい(特願昭81−254883号参照)。このように
することによって、塵埃や汚れがフレネル・レンズ1の
凹凸パターン加工面に付着することが防止され、損傷を
受けることも未然に防ぐことができる。基板10Aの外
側面は平坦であるから、塵埃や汚れが付着しても容易に
除去することができる。これによって、イメージ・ディ
バイスの光学特性をほぼ一定に保持することが可能とな
る。
さらに、3枚以上の基板10Aを一定間隔で配置するよ
うにしてもよい。この場合にも、対応するフレネル・レ
ンズ1の光軸を一致させ、かつ対応するフレネル・レン
ズ1の光路の周囲に視野絞りを設ける。
うにしてもよい。この場合にも、対応するフレネル・レ
ンズ1の光軸を一致させ、かつ対応するフレネル・レン
ズ1の光路の周囲に視野絞りを設ける。
視野絞り2は第2図に示すものに限られない。
たとえば円筒状の視野絞りを表裏のレンズ対のそれぞれ
に対して設けるようにしてもよい。
に対して設けるようにしてもよい。
上述のイメージ・ディバイスにおけるフレネル中レンズ
をもつ基板10. IOAは種々のやり方で作製するこ
とができる。
をもつ基板10. IOAは種々のやり方で作製するこ
とができる。
たとえば、透明基板上に電子線レジストを塗布し、電子
線描画法によりレジスト上にマイクロ・フレネル・レン
ズ・パターンを描画し、その後。
線描画法によりレジスト上にマイクロ・フレネル・レン
ズ・パターンを描画し、その後。
このレジストを現像する。基板上に残った残膜レジスト
がフレネル・レンズ1となる。
がフレネル・レンズ1となる。
上記基板上の残膜レジスト・パターンをドライφエツチ
ングによって基板に転写して、これをフレネル・レンズ
としてもよい。
ングによって基板に転写して、これをフレネル・レンズ
としてもよい。
基板の一面に対して上述の処理を施こせば一面にレンズ
1をもつ基板10Aが1両面に対して同じ処理を行なえ
ば表裏両面にレンズ1をもつ基板10ができあがる。
1をもつ基板10Aが1両面に対して同じ処理を行なえ
ば表裏両面にレンズ1をもつ基板10ができあがる。
さらに1両面または一面にフレネル・レンズが形成され
た透明基板IOまたはIOAを、あらかじめ作製した雌
型を用いて透明な合成樹脂によって一体成形することに
よりつくることもできる。
た透明基板IOまたはIOAを、あらかじめ作製した雌
型を用いて透明な合成樹脂によって一体成形することに
よりつくることもできる。
この雌型は種々のやり方でこれをつくることができるが
、たとえば次のようにして作製すればよい。
、たとえば次のようにして作製すればよい。
所定の基板上に電子線レジストを塗布し、電子線描画法
によりレジスト上に多数のマイクロ・フ。
によりレジスト上に多数のマイクロ・フ。
レネル・レンズ会パターンを描画し、その後、このレジ
ストを現像する。そして、基板上の残膜レジスト・パタ
ーンをドライ・エツチングによって基板に転写する。こ
の基板が雌型となる(特願昭01−3419号参照)。
ストを現像する。そして、基板上の残膜レジスト・パタ
ーンをドライ・エツチングによって基板に転写する。こ
の基板が雌型となる(特願昭01−3419号参照)。
または、上記の残膜レジスト・パターンを雄型として電
鋳法によって雌型を形成する。すなわち、残膜レジスト
◆パターンに金属をめっきし。
鋳法によって雌型を形成する。すなわち、残膜レジスト
◆パターンに金属をめっきし。
ソノ後、残膜パターンおよび基板を有機溶剤等で溶解す
ることにより、金属めっき部分のみを残す(特願昭81
−3420号参照)。
ることにより、金属めっき部分のみを残す(特願昭81
−3420号参照)。
このような雌型を用いて、視野絞り2とともに第1図に
示すイメージ・ディバイスを作製する様子が第3図に示
されている。
示すイメージ・ディバイスを作製する様子が第3図に示
されている。
イメージ・ディバイス作製のための樹脂充填孔21aと
樹脂が充填される凹所とをもちかつ底面にフレネル・レ
ンズ雌型パターンが形成された金型21と、この金型2
1の上記凹所にはめ合わされかつ内面にフレネル・レン
ズ雌型パターンが形成された金型22とが用いられる。
樹脂が充填される凹所とをもちかつ底面にフレネル・レ
ンズ雌型パターンが形成された金型21と、この金型2
1の上記凹所にはめ合わされかつ内面にフレネル・レン
ズ雌型パターンが形成された金型22とが用いられる。
金型21の上記凹所内に視野絞り2が収められかつ金型
22をはめ合わせたのち、孔21aから透明樹脂を上記
凹所内に充填していく。そして、金型22に外から圧力
を加え、余分な樹脂を金型22の孔22aからはみ出さ
せながら所定位置まで金型22を押圧する。樹脂が硬化
したのち金型21.22内から取出せばイメージ・ディ
バイスが完成する。
22をはめ合わせたのち、孔21aから透明樹脂を上記
凹所内に充填していく。そして、金型22に外から圧力
を加え、余分な樹脂を金型22の孔22aからはみ出さ
せながら所定位置まで金型22を押圧する。樹脂が硬化
したのち金型21.22内から取出せばイメージ・ディ
バイスが完成する。
1つのマイクロ・フレネル・レンズの雌型をつくり、こ
の雌型を用いて多数の同形のマイクロ・フレネル・レン
ズをプラスチック形成し、これらのフレネル・レンズを
、ガラスまたはプラスチック基板上の一面に、または視
野絞りが内部に埋込まれた基板の両面に接着することに
よってフレネル・レンズを存する」二記の基板10A、
10をつくることもできる。
の雌型を用いて多数の同形のマイクロ・フレネル・レン
ズをプラスチック形成し、これらのフレネル・レンズを
、ガラスまたはプラスチック基板上の一面に、または視
野絞りが内部に埋込まれた基板の両面に接着することに
よってフレネル・レンズを存する」二記の基板10A、
10をつくることもできる。
このようにして、多数のフレネル赤レンズを備えた基板
、したがってイメージ・ディバイスは。
、したがってイメージ・ディバイスは。
大二生産が可能となるので、安価に提供できることにな
る。
る。
第1図はこの発明の実施例を示す斜視図、第2図は第1
図のイメージ・ディバイスで用いられる視野絞りを示す
斜視図、第3図は第1図のイメージ・ディバイスを金型
成形する様子を示す断面図、第4図は第1図のイメージ
・ディバイスによる結像の様子を示す拡大断面図、m5
図はこの発明の他の実施例を示すもので、イメージ・デ
ィバイスの一部の断面図である。 第6図は先願の明細書に記載されたイメージ・ディバイ
スの一部および結像の様子を示す断面図である。 1・・・マイクロ・フレネル・レンズ。 2・・・視野絞り、 10. IOA・・・透明
基板。 以 上 特許出願人 立石電機株式会社 代 理 人 弁理士 牛久健司 (外1名) 第1図 第2図 第3図 第4図 第511 第6図 F、7/ ゝ)/ 1 ゝ・、
図のイメージ・ディバイスで用いられる視野絞りを示す
斜視図、第3図は第1図のイメージ・ディバイスを金型
成形する様子を示す断面図、第4図は第1図のイメージ
・ディバイスによる結像の様子を示す拡大断面図、m5
図はこの発明の他の実施例を示すもので、イメージ・デ
ィバイスの一部の断面図である。 第6図は先願の明細書に記載されたイメージ・ディバイ
スの一部および結像の様子を示す断面図である。 1・・・マイクロ・フレネル・レンズ。 2・・・視野絞り、 10. IOA・・・透明
基板。 以 上 特許出願人 立石電機株式会社 代 理 人 弁理士 牛久健司 (外1名) 第1図 第2図 第3図 第4図 第511 第6図 F、7/ ゝ)/ 1 ゝ・、
Claims (1)
- 表裏両面に複数個のマイクロ・フレネル・レンズがその
表裏に対応するもの同志の光軸を一致させて配列して設
けられ、表裏に対応するレンズ間の光路の周囲に視野絞
りが設けられているイメージ・ディバイス。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28887186A JPS63142318A (ja) | 1986-12-05 | 1986-12-05 | イメ−ジ・デイバイス |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28887186A JPS63142318A (ja) | 1986-12-05 | 1986-12-05 | イメ−ジ・デイバイス |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63142318A true JPS63142318A (ja) | 1988-06-14 |
Family
ID=17735835
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28887186A Pending JPS63142318A (ja) | 1986-12-05 | 1986-12-05 | イメ−ジ・デイバイス |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63142318A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000016157A1 (fr) * | 1998-09-16 | 2000-03-23 | Fujitsu Limited | Dispositif optique et dispositif d'affichage utilisant ce dispositif |
US6449094B1 (en) * | 1995-05-09 | 2002-09-10 | Olympus Optical Co., Ltd. | Optical system including diffraction optical element |
JP2005315924A (ja) * | 2004-04-27 | 2005-11-10 | Enplas Corp | 面光源装置、画像表示装置及び光束制御板 |
JP2009122400A (ja) * | 2007-11-15 | 2009-06-04 | Gyoseiin Genshino Iinkai Kakuno Kenkyusho | リブ構造付きのフレネルソーンレンズ |
-
1986
- 1986-12-05 JP JP28887186A patent/JPS63142318A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6449094B1 (en) * | 1995-05-09 | 2002-09-10 | Olympus Optical Co., Ltd. | Optical system including diffraction optical element |
WO2000016157A1 (fr) * | 1998-09-16 | 2000-03-23 | Fujitsu Limited | Dispositif optique et dispositif d'affichage utilisant ce dispositif |
US6396636B2 (en) | 1998-09-16 | 2002-05-28 | Fujitsu Limited | Optical device and display device using the same |
JP2005315924A (ja) * | 2004-04-27 | 2005-11-10 | Enplas Corp | 面光源装置、画像表示装置及び光束制御板 |
JP4636811B2 (ja) * | 2004-04-27 | 2011-02-23 | 株式会社エンプラス | 面光源装置、画像表示装置及び光束制御板 |
JP2009122400A (ja) * | 2007-11-15 | 2009-06-04 | Gyoseiin Genshino Iinkai Kakuno Kenkyusho | リブ構造付きのフレネルソーンレンズ |
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