JPS63119442A - Amine compound - Google Patents

Amine compound

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JPS63119442A
JPS63119442A JP62030029A JP3002987A JPS63119442A JP S63119442 A JPS63119442 A JP S63119442A JP 62030029 A JP62030029 A JP 62030029A JP 3002987 A JP3002987 A JP 3002987A JP S63119442 A JPS63119442 A JP S63119442A
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宇野 準
Mikio Kurokawa
黒川 美貴雄
Fuminori Sato
文憲 佐藤
Shunsuke Naruto
成戸 俊介
Kazu Hosoki
細木 和
Kunihiko Takeyama
武山 邦彦
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Dainippon Pharmaceutical Co Ltd
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Abstract

NEW MATERIAL:A compound expressed by formula I (R1 is formula II or formula III; ring A is benzene ring or cyclohexane ring; Y and Z are both H or together form -O-, -S-, -CH=CH-, -CH2CH2-, -CH2O-, etc.; R2 is H, lower alkyl or lower alkoxy; R3 is H, lower alkoxy, alkyl, alkenyl, alkynyl, cycloalkyl, aryl, saturated heterocyclic group, etc.; R4 is aryl, heteroaryl, etc.; R5 is H, halogen, OH, NO2, lower alkyl, carboxy, etc.; R6 is H, halogen, OH, NO2, lower alkyl, etc.; V is CO or sulfonyl; W is single bond, lower alkylene, etc.) and salts thereof. EXAMPLE:[4-(N-benzyl-N-cyclopropylamino)butylylamino]diphenylmethane. USE:A calcium antagonist. PREPARATION:A compound expressed by formula IV is reacted with a compound expressed by formula V in the presence of a base at 40-150 deg.C to provide a compound expressed by formula I.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、カルシウム拮抗作用等を仔する、新規でイ「
川なアミン化合物及びその塩順に関する。
[Detailed Description of the Invention] Industrial Application Field The present invention is directed to a novel method that has a calcium antagonistic effect and the like.
This article relates to basic amine compounds and their salts.

従来の技術 近年、生体内カルシウムの生理が解明されるにつれ、種
々の化学構造を存するカルシウム拮抗剤が市販あるいは
研究されてきた。代表的なものとして、プレニラミン系
、ベラパミル系。
BACKGROUND OF THE INVENTION In recent years, as the physiology of calcium in living bodies has been elucidated, calcium antagonists having various chemical structures have been commercially available or studied. Representative examples include prenylamine and verapamil.

ニフェジピン系あるいはジルチアゼム系の化合物が知ら
れている。
Nifedipine and diltiazem compounds are known.

発明の目的 本発明は、従来のカルシウム拮抗剤のいずれの系統にも
属さない、新しいタイプのカルシウム拮抗剤を#X1(
ljするものである。
Purpose of the Invention The present invention provides a new type of calcium antagonist #X1 (
lj.

本発明によれば、一般式(1) [式中、R1は で示される基を意味し、 A環はベンゼン環又はシクロヘキサン環を意味し、 Y及びZは共に水素原子を意味するか、あるいはYと2
が一緒になって、−o−、−8−。
According to the present invention, the general formula (1) [wherein R1 means a group represented by, A ring means a benzene ring or a cyclohexane ring, and Y and Z both mean a hydrogen atom, or Y and 2
together, -o-, -8-.

R2は水素原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ基
を意味し、 R3は水素原子、低級アルコキシ基、アルキル基。
R2 means a hydrogen atom, a lower alkyl group or a lower alkoxy group, and R3 means a hydrogen atom, a lower alkoxy group or an alkyl group.

アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、1〜
2個の置換基を有するシクロアルキル基(該置換基はハ
ロゲン原子、ヒドロキシ基。
Alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group, 1-
A cycloalkyl group having two substituents (the substituents are a halogen atom and a hydroxy group).

低級アルキルL&、シクロアルキル基、低級アルコキシ
基、低級アルキルチオ基、アシルオキシ基、アシルチオ
基、ジ置換アミン基、アシルアミ7基、カルボキシ基、
低級アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、低級ア
ルキルカルバモイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基
、オキソ基又はアセタール化もしくはケタール化された
オキソ基である)、飽和複索環基、1〜2個の置換基を
有する飽和複素環基(該置換基はハロゲン原子、ヒドロ
キシ基2 ニトロ基、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、低級アルキルチオ基、アシルオキシ基、アミノ基、
低級アルキルアミノ基、ジ置換アミノ基、アンルアミノ
基、シアノ基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニ
ル基、カルバモイル基、低級アルキルカルバモイル基又
はジ低級アルキルカルバモイル基である)、アリール基
、1〜4個の置換基を存するアリール2&(該置換基は
ハロゲンね子。
Lower alkyl L&, cycloalkyl group, lower alkoxy group, lower alkylthio group, acyloxy group, acylthio group, di-substituted amine group, acylamide 7 group, carboxy group,
lower alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, lower alkylcarbamoyl group, di-lower alkylcarbamoyl group, oxo group or acetalized or ketalized oxo group), saturated polycyclic group, having 1 to 2 substituents Saturated heterocyclic group (the substituent is a halogen atom, a hydroxyl group2, a nitro group, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a lower alkylthio group, an acyloxy group, an amino group,
lower alkylamino group, di-substituted amino group, anrulamino group, cyano group, carboxy group, lower alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, lower alkylcarbamoyl group or di-lower alkylcarbamoyl group), aryl group, 1 to 4 substitutions Aryl 2 & (the substituent is a halogen group).

ヒドロキシ基、ニトロ基、低級アルキル基、トリフルオ
ロメチル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、
アミノ基、低級アルキルアミノIX、ジ置換アミノr&
、アシルアミノ基、シアン基、カルボキシ基、低級アル
コキシカルボニル基、カルバモイル基、低級アルキルカ
ルバモイル基又はジ低級アルキルカルバモイル基であり
、2個の置換基が隣接するときは一緒になってアルキレ
/ジオキシ基を形成していてもよい)。
Hydroxy group, nitro group, lower alkyl group, trifluoromethyl group, lower alkoxy group, lower alkylthio group,
Amino group, lower alkylamino IX, disubstituted amino r&
, acylamino group, cyan group, carboxy group, lower alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, lower alkylcarbamoyl group or di-lower alkylcarbamoyl group, and when two substituents are adjacent, they together form an alkylene/dioxy group. (may be formed).

アリール基と縮合したンクロアルケニル基(該アリール
部分及び/又はシクロアルケニル部分は置換されていて
もよい)、ヘテロアリール基。
a cycloalkenyl group condensed with an aryl group (the aryl moiety and/or the cycloalkenyl moiety may be substituted), a heteroaryl group;

1〜3個の置換基を有するヘテロアリール基(M置換基
はハロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトロ基、低級アルキ
ル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、アシル
オキシ基、アミ7基。
Heteroaryl group having 1 to 3 substituents (M substituents are halogen atom, hydroxy group, nitro group, lower alkyl group, lower alkoxy group, lower alkylthio group, acyloxy group, ami7 group).

低級アルキルアミ7基、ジ置換アミノl&、アシルアミ
/基、シア/基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、低級アルキルカルバモイル基
又はジ低級アルキルカルバモイル基である)、置換基を
有する低級アルキル基(該置換基はハロゲン原子、ヒド
ロキシ基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基。
(lower alkyl 7 groups, di-substituted amino l&, acyl ami/ groups, cya/ groups, carboxy groups, lower alkoxycarbonyl groups, carbamoyl groups, lower alkyl carbamoyl groups or di-lower alkyl carbamoyl groups), lower alkyl groups having a substituent (The substituent is a halogen atom, a hydroxy group, a lower alkoxy group, a lower alkylthio group.

オキン基、アセタール化もしくはケタール化されたオキ
ン基、ジ置換アミ7基、アシルアミノ基、アシルオキシ
基、アシルチオ基、カルボキシi、 低級アルコキシカ
ルボニル基、カルバモイル基、低級アルキルカルバモイ
ル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、シクロアルキル
基。
Okyne group, acetalized or ketalized Okyne group, di-substituted ami7 group, acylamino group, acyloxy group, acylthio group, carboxy i, lower alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, lower alkylcarbamoyl group, di-lower alkylcarbamoyl group, cycloalkyl group.

1〜2個の置換基を存するシクロアルキル基。Cycloalkyl group bearing 1 to 2 substituents.

飽和複素環基、1〜2個の置換基を有する飽和複索環基
、アリール基、1〜4個の置換基を有するアリール基、
ヘテロアリール基又は1〜3個の置換基を有するヘテロ
アリール基である)。
Saturated heterocyclic group, saturated polycyclic group having 1 to 2 substituents, aryl group, aryl group having 1 to 4 substituents,
a heteroaryl group or a heteroaryl group having 1 to 3 substituents).

置換基を有するアルケニル基もしくはアルキニル基(該
置換基はハロゲン原子、ヒドロキシ基。
An alkenyl group or an alkynyl group having a substituent (the substituent is a halogen atom or a hydroxy group).

低級アルコキ7基、低級アルキルチオ基、アシルオキシ
基又はアシルチオ基である)、アシル基、低級アルコキ
シカルボニル基、カルバモイル基、低級アルキルカルバ
モイル基又はジ低級アルキルカルバモイル基を意味し、 R4はアリール基、1〜4個の置換基を存するアリール
基(該置換基はハロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトロ基
、低級アルキル基、トリフルオロメチル基。低級アルコ
キシ基、低級アルキル、ヂオ基、アシルオキシ基、アミ
7基、低級アルキルアミノ基、ジ置換アミノ基、アシル
アミノLC、シア/基、カルボキシ基、低級アルコキシ
カルボニル基、カルバモイル基、低級アルキルカルバモ
イル基又はジ低級アルキルカルバモイル基であり、2個
の置換基が隣接するときは一緒になってアルキレフジオ
キシ基を形成していてもよい)、ヘテロアリール基又は
1〜3個の置換基を有するヘテロアリール基(該置換基
はハロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトロ基、低級アルキ
ル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ
基、低級アルキルアミノ基、ジ置換アミン基、アシルア
ミノ基、シア/基、カルボキシ基、低級アルコキシカル
ボニル基、カルバモイル基、低級アルキルカルバモイル
基又はジ低級アルキルカルバモイル基である)を意味し
、 R5は同−又は異なって水素原子、ハロゲ/原子。
lower alkoxy7 group, lower alkylthio group, acyloxy group or acylthio group), acyl group, lower alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, lower alkylcarbamoyl group or di-lower alkylcarbamoyl group, R4 is an aryl group, 1- An aryl group having four substituents (the substituents are a halogen atom, a hydroxy group, a nitro group, a lower alkyl group, a trifluoromethyl group, a lower alkoxy group, a lower alkyl group, a dio group, an acyloxy group, an ami7 group, Lower alkylamino group, di-substituted amino group, acylamino LC, sia/group, carboxy group, lower alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, lower alkylcarbamoyl group or di-lower alkylcarbamoyl group, and when two substituents are adjacent may be taken together to form an alkyrefudioxy group), a heteroaryl group, or a heteroaryl group having 1 to 3 substituents (the substituents include a halogen atom, a hydroxy group, a nitro group, a lower Alkyl group, lower alkoxy group, lower alkylthio group, amino group, lower alkylamino group, di-substituted amine group, acylamino group, sia/group, carboxy group, lower alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, lower alkylcarbamoyl group or di-lower alkyl group carbamoyl group), and R5 is the same or different and is a hydrogen atom or a halogen/atom.

ヒドロキシ基、ニトロ基、低級アルキル基、トリフルオ
ロメチル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、
アシルオキシ基、アミ7基。
Hydroxy group, nitro group, lower alkyl group, trifluoromethyl group, lower alkoxy group, lower alkylthio group,
Acyloxy group, amide 7 group.

低級アルキルアミノ基、ジ置換アミ7基、アシルアミノ
基、シアノ基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニ
ル基、カルバモイル!、 低mアルキルカルバモイル基
又はジ低級アルキルカルバモイル基を意味し、 Reは同−又は異なって水素原子、ハロゲン原子。
Lower alkylamino group, di-substituted amine 7 group, acylamino group, cyano group, carboxy group, lower alkoxycarbonyl group, carbamoyl! , means a low-m alkylcarbamoyl group or a di-lower alkylcarbamoyl group, and Re is the same or different and is a hydrogen atom or a halogen atom.

ヒドロキシ基、ニトロ基、低級アルキル基、トリフルオ
ロメチル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、
アシルオキシ基又はシアノ基を意味し、 ■はカルボニル基又はスルホニル基を意味し、Wはアル
キレフ基を意味し、 Xは単結合、低級アルキレフ基、低級アルコキシカルボ
ニル、カルバモイル、低級アルキルカルバそイル、ジ低
級アルキルカルバモイルもしル基又はアシル基を意味し
、dは1又は2fi味する)で置換された低級アルキレ
フ基、又は−CO−<ケタール化された形であってもよ
い)。
Hydroxy group, nitro group, lower alkyl group, trifluoromethyl group, lower alkoxy group, lower alkylthio group,
means an acyloxy group or a cyano group, (1) means a carbonyl group or a sulfonyl group, W means an alkyref group, and X means a single bond, a lower alkyref group, lower alkoxycarbonyl, carbamoyl, lower alkylcarbazoyl, di Lower alkylcarbamoyl means a syl group or an acyl group, where d is 1 or 2), or a lower alkyleph group substituted with -CO-<ketalized form).

−O−、−3−、−NRa −(式中、Raは低級アル
キレフハ前掲に同じものを意味する) 、  −CH=
Cll−及び−CミC−から選ばれる基で中断されてい
るか、又はこれらの基を介してR4と結合する低級アル
キレン基を意味し、 a及びbはそれぞれ1〜4の整数を意味し、Cは0〜2
の整数を意味する。
-O-, -3-, -NRa - (in the formula, Ra means the same as lower alkyleph), -CH=
means a lower alkylene group interrupted by a group selected from Cll- and -CmiC- or bonded to R4 through these groups, a and b each mean an integer from 1 to 4, C is 0-2
means an integer of

但し、A環がシクロヘキサン環のとき、Y及びZは共に
水素原子を意味するか、あるいはYと原子を意味する。
However, when the A ring is a cyclohexane ring, Y and Z both mean a hydrogen atom, or Y and an atom mean an atom.

] で表されるアミン化合物及びその塩類が提供される。] An amine compound and its salts are provided.

式(I)で表される化合物の塩類とは、式(I)におい
てアミノ基又は置換アミノ基が存在する化合物の塩類を
t1味する。塩類としては、生理的に許容される塩類が
好ましく、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸
塩、硫酸塩、す/酸塩等の無機酸塩、及びシュウ酸塩、
マレイン酸塩、フマル酸塩、乳酸塩、リンゴ酸塩、クエ
ン酸塩、酒石酸塩、安息香酸塩、メタンスルホン酸塩等
の有機酸塩が挙げられる6式(1)の化合物及びその塩
は水和物又は溶媒和物の形で存在することもあるので、
これらの水和物及び溶媒和物もまた本発明の化合物に包
含される。
Salts of the compound represented by formula (I) refer to salts of the compound in which an amino group or substituted amino group is present in formula (I). The salts are preferably physiologically acceptable salts, such as inorganic acid salts such as hydrochloride, hydrobromide, hydroiodide, sulfate, and oxalate;
Compounds of formula (1) and their salts include organic acid salts such as maleate, fumarate, lactate, malate, citrate, tartrate, benzoate, methanesulfonate, etc. They may exist in the form of hydrates or solvates, so
Hydrates and solvates of these are also included in the compounds of the present invention.

式(夏)の化合物は、場合によっては1個以上の不斉炭
素原子を「シ、更に場合によっては1個の不斉イオウ原
子を存するので、立体異性体として存在し得る。これら
の立体異性体、それらの混合物及びラセミ体は本発明の
化合物に包含される。
The compound of the formula (summer) may exist as stereoisomers because it may contain one or more asymmetric carbon atoms and, in some cases, one asymmetric sulfur atom. compounds, mixtures thereof and racemates are included in the compounds of the present invention.

本明細書における用語を以下に説明する。Terms used in this specification will be explained below.

低級アルキル基、低級アルキル部分、アルキル基、アル
キル部分、低級アルキレフ基又はアルキレン基は、直鎖
状でも分伎鎖伏でもよい。「低級アルキル基」とは、炭
素原子数1〜6のものを、「アルキル基」とは、炭素原
子数1〜12のものを意味し、例えばメチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ブチル、インブチル、べエチ
ル、インペンチル、2−メチルブチル、2.2−ジメチ
ルプロピル、ヘキシル、2−エチルブチル、ヘプチル。
The lower alkyl group, lower alkyl moiety, alkyl group, alkyl moiety, lower alkyref group, or alkylene group may be linear or branched. "Lower alkyl group" means one having 1 to 6 carbon atoms, and "alkyl group" means one having 1 to 12 carbon atoms, such as methyl, ethyl,
Propyl, isopropyl, butyl, inbutyl, bethyl, impentyl, 2-methylbutyl, 2,2-dimethylpropyl, hexyl, 2-ethylbutyl, heptyl.

オクチル、デシル等が挙げられる。「低級アルコキシ基
」とは、炭素原子数1〜6のものを意味し、例えばメト
キシ、エトキシ、プロポキシ、インプロポキシ、ブトキ
シ、t−ブトキシ等が挙げられる。
Examples include octyl and decyl. "Lower alkoxy group" means a group having 1 to 6 carbon atoms, and includes, for example, methoxy, ethoxy, propoxy, impropoxy, butoxy, t-butoxy, and the like.

「アルケニル基」とは、二重結合を1〜2個有する炭素
原子数3〜10の非環式又は環式のものを意味し、例え
ばアリル、2−ブテニル、3−メチル−2−ブテニル、
3−もしくは4−ペンテニル。
"Alkenyl group" means an acyclic or cyclic group having 1 to 2 double bonds and 3 to 10 carbon atoms, such as allyl, 2-butenyl, 3-methyl-2-butenyl,
3- or 4-pentenyl.

2−.3−.4−もしくは5−へキセニル、シクロベ/
テニル、シクロヘキセニル、シクロペンテニルメチル、
シクロへキセニルメヂル、2.4−ぺ7タジエニル等が
挙げられる。「アルキニル基」とは、炭素原子数3〜1
0のものを意味し、例えば2−プロピニル、3−ブチニ
ル、5−へキシニル等が挙げられる。「シクロアルキル
基」とは、炭素原子数3〜12のものを意味し、例えば
シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シク
ロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロ
ドデンル、アダマ/チル、ノルボルニル、デカヒドロナ
フチル等が挙げられる。「ハロゲン原子」とは、フッ素
、塩素、臭素、ヨウ素を意味するが、フッ素、塩素、臭
素が好ましい。「アシル基」とは、炭素原子数1〜7の
脂肪族カルボン酸残基又は芳香族カルボン酸残基を意味
し、例えばホルミル、アセチル、2−メチルアセデル、
プロピオニル、ブチリル、インブチリル、ベンゾイル。
2-. 3-. 4- or 5-hexenyl, cyclobe/
thenyl, cyclohexenyl, cyclopentenylmethyl,
Examples include cyclohexenylmedyl, 2,4-pe7tadienyl, and the like. "Alkynyl group" means 3 to 1 carbon atoms
Examples thereof include 2-propynyl, 3-butynyl, 5-hexynyl, and the like. "Cycloalkyl group" means a group having 3 to 12 carbon atoms, such as cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl, cyclododenyl, adama/thyl, norbornyl, decahydronaphthyl, etc. It will be done. "Halogen atom" means fluorine, chlorine, bromine, and iodine, with fluorine, chlorine, and bromine being preferred. "Acyl group" means an aliphatic carboxylic acid residue or an aromatic carboxylic acid residue having 1 to 7 carbon atoms, such as formyl, acetyl, 2-methylacedel,
Propionyl, butyryl, imbutyryl, benzoyl.

ナフトイル等が挙げられる。「ジ117換アミ7基」と
は、ジ低級アルキルアミ7基又は環伏アミノ基を意味し
、環状アミノ基の具体例としてはモルホリノ、1−ピロ
リジニル、ピペリクツ、4−メチル−1−ピペラジニル
等が挙げられる。「アリール基」としては、例えばフェ
ニル、ナフチル等が挙げられる。「ヘテロアリール基」
とは、窒素原子2m索原子又はイオウ原子を少な(とも
1個含む単房性又は二環性のものを意味し、例えばフリ
ル、チェニル、イミダゾリル、チアゾリル、オキサシリ
ル、インオキサシリル、ピリジル、インドリル、インキ
ノリル笠が挙げられる。「置換基を有する低級アルキル
基」とは、任なの位置に前掲の置換基の1〜2個を仔す
るものを意味するが、置換基がハロゲン原子、ヒドロキ
シ基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、オキソ
基、アセタール化もしくはケタール化されたオキン基、
アシルオキシ基又はアシルチオ基であるとき、これらの
置換基は1位以外の炭素原子に結合している。
Examples include naphthoyl. "Di-117-substituted ami7 group" means a di-lower alkylamino group or a cyclic amino group, and specific examples of the cyclic amino group include morpholino, 1-pyrrolidinyl, piperictu, 4-methyl-1-piperazinyl, etc. Can be mentioned. Examples of the "aryl group" include phenyl, naphthyl, and the like. "Heteroaryl group"
means a unilocular or bicyclic type containing a nitrogen atom or a sulfur atom, such as furyl, chenyl, imidazolyl, thiazolyl, oxasilyl, inoxasilyl, pyridyl, indolyl, The term "lower alkyl group having a substituent" means one having one or two of the above substituents at any position, but the substituent may be a halogen atom, a hydroxy group, Alkoxy group, lower alkylthio group, oxo group, acetalized or ketalized okyne group,
When it is an acyloxy group or an acylthio group, these substituents are bonded to a carbon atom other than the 1-position.

「飽和複素環基」とは、窒素原子、酸素原子又はイオウ
原子を1〜2個含む環状エーテル、環状チオエーテル又
は環状アミンから由来する基を意味し、例えばテトラヒ
ドロフリル、テトラヒドロチェニル、テトラヒドロピラ
ニル、]、3−もしくは1.4−ジオキサシクロヘキシ
ル、2−もしくは3−ピロリジニル、2−.3−もしく
は4−ピペリジニル、2−もしくは3−モルホリニル、
2−もしくは3−ピペラジニル等が挙げられるが、環状
アミンから由来する基における窒素原子は、低級アルキ
ル基、アラルキル基、アシル基又は低級アルコキシカル
ボニル基のような置換基を有していてもよい1lR3が
酸素原子又はイオウ原子を含む飽和複素環バのときは、
これらl!Ir6原子又はイオウ醪子に隣接する炭素原
子以外の位こでR8は窒素原子と結合している。「低級
アルキレフ基」とは炭素原子数1〜6のものを、「アル
キレン基」とは炭素原子数1〜+2のものを意味し、例
えばメチレ/、エチレン、メチルメチレン、トリメチレ
ン。
"Saturated heterocyclic group" means a group derived from a cyclic ether, cyclic thioether or cyclic amine containing 1 to 2 nitrogen atoms, oxygen atoms or sulfur atoms, such as tetrahydrofuryl, tetrahydrochenyl, tetrahydropyranyl. , ], 3- or 1,4-dioxacyclohexyl, 2- or 3-pyrrolidinyl, 2-. 3- or 4-piperidinyl, 2- or 3-morpholinyl,
2- or 3-piperazinyl, etc., but the nitrogen atom in the group derived from a cyclic amine may have a substituent such as a lower alkyl group, an aralkyl group, an acyl group, or a lower alkoxycarbonyl group. When is a saturated heterocycle containing an oxygen atom or a sulfur atom,
These l! R8 is bonded to a nitrogen atom at a position other than the Ir6 atom or the carbon atom adjacent to the sulfur atom. "Lower alkylev group" means one having 1 to 6 carbon atoms, and "alkylene group" means one having 1 to +2 carbon atoms, such as methylene/, ethylene, methylmethylene, trimethylene.

テトラメチレ乙ペンタメチレ乙ヘキサメチレ/、ヘプタ
メチレン、オクタメチレン、ノナメチレン、デカメチレ
ン等が挙げられる。
Examples include tetramethylene, pentamethylene, hexamethylene, heptamethylene, octamethylene, nonamethylene, and decamethylene.

本発明の化合物の内で好適なものは、式(I)において
YとZが一緒になって−S −、−CH=CH−。
Preferred among the compounds of the present invention are formula (I) in which Y and Z taken together are -S-, -CH=CH-.

R2が水素原子であり、R11及びReの一方が水素原
子であり、他方が水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ
基、低級アルキル基、低級アルコキシ基又は低級アルキ
ルチオ基であり、■がカルボニル基であり、Wが=(C
)h) n−で、nが1〜5の整数であり、a及びbが
それぞれ1又は2、cが0〜2の整数である化合物及び
その生理的に許容される塩類である。
R2 is a hydrogen atom, one of R11 and Re is a hydrogen atom, the other is a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxy group, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a lower alkylthio group, and ■ is a carbonyl group, W = (C
) h) Compounds and physiologically acceptable salts thereof, wherein n-, n is an integer of 1 to 5, a and b are each 1 or 2, and c is an integer of 0 to 2.

本発明化合物は例えば以下の方法により製造することか
できる。
The compound of the present invention can be produced, for example, by the following method.

一般式(■) R+−N−V−W−T        (■)(式中、
RI+  R*+ v及びWは前掲に同じものを意味し
、Tはアルコールの反応性エステル残基を意味する。) で表される化合物と、一般式(Ill)(式中、R4は
前掲に同じものを意味し、X′は単結合以外の前掲のX
と同じものを意味し、R3′は前掲のR3と同じものを
意味するが、非置換もしくは置換アリール基、非置換も
しくは置換へテロアリール基、アシル基、低級アルコキ
シカルボニル基、カルバモイル基、低級アルキルカルバ
モイル基又はジ低級アルキルカルバモイル基である場合
を除く。) で表される化合物とを反応させることにより、式(1)
においてR3が非置換もしくは置換アリール基、非置換
もしくは置換へテロアリール基、アシルバ、低級アルコ
キシカルボニル基、カルバモイル基、低級アルキルカル
バモイル基又はジ低級フルキルカルバモイル基以外の基
であり、Xが単結合以外の基である化合物を得ることが
できる。
General formula (■) R+-N-V-W-T (■) (in the formula,
RI+ R*+ v and W mean the same as above, and T means a reactive ester residue of alcohol. ) and the compound represented by the general formula (Ill) (wherein R4 means the same as above, and X' is the above-mentioned X other than a single bond)
R3' means the same as R3 above, but includes an unsubstituted or substituted aryl group, an unsubstituted or substituted heteroaryl group, an acyl group, a lower alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, a lower alkylcarbamoyl group. group or di-lower alkylcarbamoyl group. ) By reacting with a compound represented by formula (1)
in which R3 is a group other than an unsubstituted or substituted aryl group, an unsubstituted or substituted heteroaryl group, acylva, lower alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, lower alkylcarbamoyl group, or dilower furkylcarbamoyl group, and X is other than a single bond. A compound that is a group can be obtained.

式(II)においてTで表されるアルコールの反応性エ
ステル残基としては、例えば塩素、臭素。
Examples of the reactive ester residue of alcohol represented by T in formula (II) include chlorine and bromine.

ヨウ素のようなハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ
、エタンスルホニルオキシのような低級アルキルスルホ
ニルオキシ基、べ/ゼンスルホニルオキシ、p−トルエ
ンスルホニルオキシ、m−二トロベンゼンスルホニルオ
キシのようなアリールスルホニルオキシ基が挙げられる
A halogen atom such as iodine, a lower alkylsulfonyloxy group such as methanesulfonyloxy, ethanesulfonyloxy, an arylsulfonyloxy group such as be/zenesulfonyloxy, p-toluenesulfonyloxy, m-nitrobenzenesulfonyloxy Can be mentioned.

式(II)の化合物と式(Ill)の化合物との反応は
、無溶媒下、又は適当な溶媒中で行われ、溶媒の具体例
としては、ベンゼン、トルエン、キシレ/のような芳香
族炭化水素類、メチルエチルケトンのようなケトン類、
テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、
エタノール、イソプロピルアルコールのようなアルコー
ル類、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド等が挙げ
られる。
The reaction between the compound of formula (II) and the compound of formula (Ill) is carried out without a solvent or in a suitable solvent, and specific examples of the solvent include aromatic carbonization compounds such as benzene, toluene, and xylene. hydrogens, ketones such as methyl ethyl ketone,
Ethers such as tetrahydrofuran and dioxane,
Examples include alcohols such as ethanol and isopropyl alcohol, acetonitrile, and dimethylformamide.

これらの溶媒はそれぞれ単独で、又は2!i以上を混合
して用いられる。本反応は塩基の存在下に行うのが好ま
しく、塩基の具体例としては、重炭酸ナトリウム、重炭
酸カリウムのようなm炭酸アルカリ、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウムのような炭酸アルカリあるいはトリエチル
アミン、N−メチルモルホリンのようなa機塩基が挙げ
られるが、式(m)の化合物の過剰量で兼ねることもで
きる。
These solvents can be used alone or in combination! A mixture of i or more is used. This reaction is preferably carried out in the presence of a base, and specific examples of the base include alkali carbonates such as sodium bicarbonate and potassium bicarbonate, sodium carbonate,
Examples include alkali carbonates such as potassium carbonate, or bases such as triethylamine and N-methylmorpholine, but an excess amount of the compound of formula (m) may also serve as the base.

また、式(II)においてTが塩素又は臭素である化合
物を用いるときは、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム
のようなアルカリ金属ヨウ化物を添加すると反応は円滑
に進行する0反温度度は通常的0℃ないし約200℃、
好ましくは約40℃ないし約150℃である。なお、式
(Iff)の化合物のR3又はR4申に反応性のアミ7
基が存在するときは、これらの基は常法に従って保護し
ておき、反応後に税額させるのが望ましい。
Furthermore, when using a compound in which T is chlorine or bromine in formula (II), the reaction proceeds smoothly by adding an alkali metal iodide such as sodium iodide or potassium iodide. 0℃ to about 200℃,
Preferably the temperature is about 40°C to about 150°C. In addition, an amine 7 reactive with R3 or R4 of the compound of formula (Iff)
When groups are present, it is desirable to protect these groups according to conventional methods and to remove them after the reaction.

■ R+−NH(IV) (式中、R1及びR2は前掲に同じものを意味する。)
で表される化合物と、一般式(V) (以下余白) (式中、R3,Ra、 W及びXは前掲に同じものを意
味する。) で表される化合物又はその反応性誘導体とを反応させる
ことにより、式(I)においてVがカルボニル基である
化合物を得ることができる。
■ R+-NH(IV) (In the formula, R1 and R2 have the same meanings as above.)
A compound represented by the general formula (V) (hereinafter referred to as the blank) (in the formula, R3, Ra, W and X have the same meanings as above) or a reactive derivative thereof are reacted. By doing so, a compound in which V in formula (I) is a carbonyl group can be obtained.

式(V)の化合物の反応性誘導体としては、例えば活性
エステル、酸無水物、ffiハライド(特に酸クロリド
)を挙げることができる。活性エステルの具体例として
はp−ニトロフェニルエステル。
As reactive derivatives of the compound of formula (V), mention may be made, for example, of active esters, acid anhydrides, ffi halides (especially acid chlorides). A specific example of the active ester is p-nitrophenyl ester.

24+ 5+ −) !J りo oフェニルエステル
、ペンタクロロフェニルエステル、シアノメチルエステ
ル。
24+ 5+ -)! J Rio phenyl ester, pentachlorophenyl ester, cyanomethyl ester.

N−ヒドロキシコハク酸イミドエステル、N−ヒドロキ
シフタルイミドエステル等が挙げられる。
Examples include N-hydroxysuccinimide ester and N-hydroxyphthalimide ester.

酸無水物としては、対称酸無水物又は混合酸無水物が用
いられ、混合酸無水物の具体例としてはクロルギ酸エチ
ル、クロルギ酸インブチルのようなりロルギ酸アルキル
エステルとの混合酸無水物、クロルギ酸フェニルのよう
なりロルギ酸アリールエステルとの混合酸無水物、イソ
吉草酸、ピバリン酸のようなアルカン酸との混合r!l
i無水物等が挙げられる。
As the acid anhydride, a symmetrical acid anhydride or a mixed acid anhydride is used. Specific examples of the mixed acid anhydride include ethyl chloroformate, inbutyl chloroformate, mixed acid anhydride with an alkyl lorformate, and chloroformate. Mixed acid anhydrides with lorformic acid aryl esters such as phenyl acids, mixed with alkanoic acids such as isovaleric acid, pivalic acid r! l
Examples include i-anhydrides and the like.

式(V)の化合物を用いる場合には、ジシクロへキシル
カルボジイミド、1−エチル−3−(3−ジメチルアミ
ノプロピル)カルボジイミド塩酸塩、カルボニルジイミ
ダゾール、1−エトキシノJルボニルー2−エトキシ−
1,2−ジヒドロキ/リンのような縮合剤の存在下に反
応させることができる。
When using the compound of formula (V), dicyclohexylcarbodiimide, 1-ethyl-3-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide hydrochloride, carbonyldiimidazole, 1-ethoxyl-2-ethoxy-
The reaction can be carried out in the presence of a condensing agent such as 1,2-dihydroxy/phosphorus.

式(IV)の化合物と式(V)の化合物又はその反応性
誘導体との反応は通常、溶媒中で行われる。
The reaction between the compound of formula (IV) and the compound of formula (V) or a reactive derivative thereof is usually carried out in a solvent.

使用する溶媒は、原料化合物の種類等に従って適宜選択
されるべきであるが、例えばべ/セン。トルエン、キン
レンのような芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラ乙ジオキサ/のようなエーテル類、塩化
エチル/l クロロ−れルムのようなハロゲン化炭化水
素類、酢酸エチル、アセトニトリル、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、水等が挙げられ、これら
のeB煤はそれぞれ単独で、あるいは2!1以上混合し
て用いられる0本反応は必要に応じて塩基の存在下に行
われ、塩基の具体例としては、(a)法の部分で述べた
塩基の具体例をそのまま挙17ることができる。反応m
度は用いる原料化合物の!l類等により異なるが、通常
的−20℃ないし約!50℃、好ましくは約0℃ないし
約80℃である。なお、式(■)の化合物のR+又は式
(V)の化合物のR3もしくはR4中に反応性のアミ7
基又はカルボキシ基が存在するときは、これらの基は常
法に従って保護しておき、反応後に脱離させるのが望ま
しい。
The solvent to be used should be appropriately selected according to the type of raw material compound, etc., and for example, be/then. Aromatic hydrocarbons such as toluene and quinoa, ethers such as diethyl ether and tetrahydrofuratodioxa, halogenated hydrocarbons such as ethyl chloride/l chloride, ethyl acetate, acetonitrile, dimethylformamide, Dimethyl sulfoxide, water, etc. are mentioned, and these eB soots are used alone or in a mixture of 2:1 or more.The reaction is carried out in the presence of a base if necessary, and specific examples of the base are , (a) The specific examples of the bases mentioned in the method section can be listed as they are. reaction m
The degree of the raw material compound used! It varies depending on the type, etc., but it is usually -20℃ to about ! 50°C, preferably about 0°C to about 80°C. In addition, a reactive amine 7 is present in R+ of the compound of formula (■) or R3 or R4 of the compound of formula (V).
When a group or a carboxy group is present, it is desirable to protect these groups according to a conventional method and remove them after the reaction.

製法(a>及び(b)によって得られる生成物が、その
構造中にヒドロキシ基、アミノ基又はモノ置換アミ7基
を存するときは、常法に従ってアシル化することにより
、アシルミg体に変換することができる。
When the product obtained by the production method (a> and (b) has a hydroxy group, an amino group, or a monosubstituted amine 7 group in its structure, it is converted into an acylmi-g form by acylation according to a conventional method. be able to.

上記各製法により生成する式(I)の化合物は、クロマ
トグラフィー、再結晶又は再沈殿等の常法により単離、
精製される。
The compound of formula (I) produced by each of the above production methods can be isolated by conventional methods such as chromatography, recrystallization, or reprecipitation.
Refined.

式(I)においてアミノ基又は置換アミ7基が存在する
化合物は、原料化合物の選定1反応・処理条件等により
、遊離塩基又は塩の形で得られる。
The compound in which an amino group or a substituted amino group is present in formula (I) can be obtained in the form of a free base or a salt depending on the selection 1 reaction and treatment conditions of the raw material compound.

塩は、常法、例えば炭酸アルカリのような塩基で処理す
ることにより、遊離塩基に変えることができる。一方、
遊離塩基は、常法に従って各種の酸と処理することによ
り、塩に導くことができる。
Salts can be converted to the free base in conventional manner, eg, by treatment with a base such as an alkali carbonate. on the other hand,
Free bases can be converted into salts by treatment with various acids according to conventional methods.

式(りの化合物及びその生理的に許容される塩類は、優
れたカルシウム拮抗作用を有するので、高血圧症及び/
又は虚血性循環器障害の予防並びに治療に有用である。
The compound of formula (RI) and its physiologically acceptable salts have excellent calcium antagonistic effects, and therefore are effective against hypertension and/or
It is also useful for the prevention and treatment of ischemic cardiovascular disorders.

以下に、本発明の代表的化合物並びに市販のカルシウム
拮抗剤である塩酸ジルチアゼムについての薬理試験の結
果を示し、本発明の化合物の薬理作用を説明する。
Below, the results of pharmacological tests on representative compounds of the present invention and diltiazem hydrochloride, a commercially available calcium antagonist, will be shown, and the pharmacological action of the compounds of the present invention will be explained.

試験例 カルシウム拮抗作用 本試験は、 GodfralndとKabaの方法[1
1r、J。
Test Example Calcium antagonism This test was performed using the method of Godfralnd and Kaba [1
1r, J.

Pharmac、、 30.549〜500 (190
9)]に準じて行った。
Pharmac, 30.549-500 (190
9)].

体ff1250〜300 gの雄性ウィスター(1li
star)系ラットの摘出胸部大動脈を螺旋伏に切開し
、幅3〜4■■、長さ約3(++nの動脈切片標本を作
製した。
Male Wistar (1li) body weight 1250-300g
The isolated thoracic aorta of a star) rat was incised in a spiral fashion to prepare an artery section specimen with a width of 3 to 4 mm and a length of approximately 3 (++n).

95%02+5%CO2の混合ガスを通気し、37℃に
保温した101のクレブス・ビカーボネート液を入れた
マグヌス槽内に標本を野生し、1gの張力を加えた。標
本の収縮反応は張力−変位トランスジューサーを介して
インク吉きオシログラフで記録した。
Specimens were placed in a Magnus tank containing 101 Krebs bicarbonate solution kept at 37°C and a gas mixture of 95% 02 + 5% CO2 was aerated, and a tension of 1 g was applied. The contraction response of the specimen was recorded with an inkjet oscillograph via a tension-displacement transducer.

まず、標本を懸垂したマグヌス槽内の溶液をCa”を含
まない高に+クレプス・ビカーボネート液に交換し、脱
分極を惹起させた後に、CaC1zを累積的に添加し、
Ca”による用量−収縮曲線を求めた。次に試験化合物
存在下に同様の実験を行い、Ca″による用量−収縮曲
線を求め、Van Rossum (7)方法[^rc
h、 +nt、 Pharmacodyn、、 143
.299〜330(1903>]に準じてカルシウム拮
抗作用のpA2を算出した。なお、pA2とは、Ca*
による用量−収縮曲腺(試験化合物非存在下)を2倍だ
け高15度側へ平行移動させるのに必要な試験化合物の
モル0度の逆対数で定義される数値である。
First, the solution in the Magnus bath in which the specimen was suspended was exchanged with a Ca''-free solution of Krebs bicarbonate to induce depolarization, and then CaC1z was cumulatively added.
A dose-contraction curve due to Ca'' was determined. Next, a similar experiment was conducted in the presence of the test compound, a dose-contraction curve due to Ca'' was determined, and Van Rossum (7) method [^rc
h, +nt, Pharmacodyn, 143
.. pA2 of calcium antagonism was calculated according to 299-330 (1903>).
Dose - is the number defined as the antilogarithm of the mole of test compound 0 degrees required to translate the contractile flexure (in the absence of test compound) by a factor of 2 to the higher 15 degrees.

結果を表1に示す0表中の数値は、3〜6e′3本につ
いての平均値士標型誤差を表す。
The results are shown in Table 1. The numerical values in Table 1 represent the average value and standard error for the three pieces 3 to 6e'.

表 1  カルシウム拮抗作用 0 実施例1の化合物を意味する(以下同じ)6表 1
 (続き) 表 1(続き) 表 1(続き) 表 1 (続き) 表1から明らかなように、試験した本発明化合物の大部
分は、塩酸ジルチアゼムよりもはるかに強いカルシウム
拮抗作用を示した。
Table 1 Calcium antagonistic effect 0 means the compound of Example 1 (the same applies hereinafter) 6 Table 1
(Continued) Table 1 (Continued) Table 1 (Continued) Table 1 (Continued) As is clear from Table 1, most of the compounds of the present invention tested exhibited much stronger calcium antagonistic activity than diltiazem hydrochloride.

試験例2 高血圧自然発症ラフ)(SHR)における抗高血圧作用 実験には、大日本製薬株式会社総合研究所で自家繁殖し
た生後18〜26週令の雄性SHR[開本−青本系統;
 Jap、CIrcul、 J、、 27.282〜2
93(1983>参照コを用いた。大部分の動物の平均
血圧は150〜170m++l−1gであった。Wee
ksとJonesの方法[Proc。
Test Example 2 For antihypertensive effect experiments on spontaneously developing hypertension (Rough) (SHR), 18-26 week old male SHR [Kaimoto-Aomoto line;
Jap, CIrcul, J., 27.282-2
93 (1983) was used. The average blood pressure of most animals was 150-170 m++l-1 g. Wee
ks and Jones' method [Proc.

SOC,EXP、旧of、 Med、、 104.64
0〜048 (1900)]に準じて、ラットの腹部大
動脈内にカニユーレ(米国C1ay Adams社製ポ
リエチレンチューブ、  PE−50)を埋込んだ。カ
ニユーレの他端は頚背部に露出させ固定した。1〜4日
後にカニユーレを圧トランスジューサー(日本光電製、
MP−4Tu)に接続し、直接法により覚醒時血圧を測
定した。実験当日、投与前血圧を1時間にわたり測定し
た後、0.5%トラガント水溶液に!!!濁した試験化
合物を経口投与(3,Oal八霧へシ、以後5時間にわ
たり血圧を連続的に測定した。なお、1群2〜5匹の動
物を使用した。
SOC, EXP, old of, Med,, 104.64
A cannula (polyethylene tube, PE-50, manufactured by CIay Adams, USA) was implanted into the abdominal aorta of the rat according to the method described in [0-048 (1900)]. The other end of the cannula was exposed and fixed on the back of the neck. After 1 to 4 days, the cannula was transduced using a pressure transducer (Nihon Kohden,
MP-4Tu) and the awake blood pressure was measured by the direct method. On the day of the experiment, pre-administration blood pressure was measured for 1 hour and then 0.5% tragacanth aqueous solution was added! ! ! The cloudy test compound was orally administered (3, Oal Yagiri Heshi), and blood pressure was continuously measured for 5 hours thereafter. 2 to 5 animals were used per group.

表2に試験化合物の平均血圧における最大降圧度を示す
。本発明化合物の大部分は投与後30〜60分で最大の
降圧効果示した。
Table 2 shows the maximum degree of hypotension in mean blood pressure of the test compounds. Most of the compounds of the present invention showed their maximum hypotensive effect 30 to 60 minutes after administration.

表2 抗高血圧作用 ”)  実施例4の化合物を意味する(以下同じ)。Table 2 Antihypertensive effect ”) means the compound of Example 4 (the same applies hereinafter).

表2(続き) 表2から明らかなように、本発明の化合物はいずれもI
O〜30鴫ハ客の経口投与で明確な降圧効果を示した。
Table 2 (Continued) As is clear from Table 2, all of the compounds of the present invention have I
Oral administration of 0 to 30 liters of water showed a clear hypotensive effect.

これに対して、塩酸ジルチアゼムは30■ハgでは有音
な降圧効果を示さなかった。
On the other hand, diltiazem hydrochloride did not show any noticeable hypotensive effect at 30 μg.

式(I)の化合物及びその生理的に許容される塩類の投
与経路としては、経口投与、非経口投与あるいは直腸内
投与のいずれでもよいが、経口投与が好ましい。その投
与量は、化合物の種類、投与方法、患者の症伏・年令等
により異なるが、通常0.001〜20■八g/日であ
る。式(I)の化合物又はその塩は通常、製剤用担体と
混合して調製した製剤の形で投与される。製剤用担体と
しては、製剤分野において常用され、かつ式(I)の化
合物又はその塩と反応しない物質が用シ)られる、具体
的には、例えば乳糖、ブドウ糖、マンニット、デキスト
リ/l シクロデキストリン、デンプン、白糖。
The compound of formula (I) and its physiologically acceptable salts may be administered via oral, parenteral or rectal administration, but oral administration is preferred. The dosage varies depending on the type of compound, administration method, patient's symptoms, age, etc., but is usually 0.001 to 20 g/day. The compound of formula (I) or a salt thereof is usually administered in the form of a preparation prepared by mixing it with a pharmaceutical carrier. As pharmaceutical carriers, substances that are commonly used in the pharmaceutical field and do not react with the compound of formula (I) or its salts are used, specifically, for example, lactose, glucose, mannitol, dextrin/l cyclodextrin, etc. , starch, white sugar.

メタケイ酸アルミン酸マグネシウム、合成ケイ酸アルミ
ニウム、結晶セルロース、カルボキシメチルセルロース
ナトリウム、ヒドロキシプロピルデンプン、カルボキシ
メチルセルロースカルシウム。
Magnesium aluminate metasilicate, synthetic aluminum silicate, crystalline cellulose, sodium carboxymethylcellulose, hydroxypropyl starch, calcium carboxymethylcellulose.

イオン交換樹1111t、  メチルセルロース、ゼラ
チン。
Ion exchange tree 1111t, methyl cellulose, gelatin.

アラビアゴム、プルラン、ヒドロキシプロピルセ、lk
 lj−ス、低置換eヒドロキシプロビルセルロース、
ヒトaキシプaピルメチルセルロース、ポリビニルピロ
リドン、ポリビニルアルコール、軽質無水ケイ酸、ステ
アリン酸マグネシウム、タルク。
Gum arabic, pullulan, hydroxypropylce, lk
lj-su, low substituted e-hydroxypropyl cellulose,
Human axypyl methylcellulose, polyvinylpyrrolidone, polyvinyl alcohol, light silicic anhydride, magnesium stearate, talc.

トラガント、ベントナイト、ビーガム、カルボキシビニ
ルポリマー、酸化チタン、ソルビタン脂肪酸エステル、
ラウリル硫酸ナトリウム、カカオ脂。
Tragacanth, bentonite, vegum, carboxyvinyl polymer, titanium oxide, sorbitan fatty acid ester,
Sodium lauryl sulfate, cocoa butter.

グリセリン、脂肪酸グリセリンエステル、精製う/リン
、グリセロゼラチン、ポリンルベート、マクロゴール、
植物油、ロウ、プロピレングリコール、水等が挙げられ
る。剤型としては、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、細粒剤
、散剤、シロップ剤。
Glycerin, fatty acid glycerin ester, purified phosphorus/phosphorus, glycerogelatin, porin rubate, macrogol,
Examples include vegetable oil, wax, propylene glycol, water, and the like. Dosage forms include tablets, capsules, granules, fine granules, powders, and syrups.

懸濁剤、注射剤、小割等が挙げられる。これらの製剤は
常法に従って調製される。なお液体製剤にあっては、用
時、水又は他の適当な媒体に溶解又は懸濁する形であっ
てもよい。また錠剤、顆粒剤。
Examples include suspensions, injections, and small portions. These formulations are prepared according to conventional methods. In the case of a liquid preparation, it may be dissolved or suspended in water or other suitable medium before use. Also tablets and granules.

細粒剤は周知の方法でコーティングしてもよい。Granules may be coated by known methods.

これらの製剤は、式(I)の化合物又はその生理的に許
容される塩を0.5%以上、好ましくは1〜70%の割
合で含有することができる。これらの製剤はまた、治療
上価値ある他の成分を含有していてもよい。
These preparations can contain the compound of formula (I) or a physiologically acceptable salt thereof in a proportion of 0.5% or more, preferably 1 to 70%. These formulations may also contain other ingredients of therapeutic value.

本発明を更に具体的に説明するために、以下に参考例及
び実施例を挙げるが、本発明はこれら実施例に限定され
るものではない、なお、化合物の同定は元素分析値、マ
ス・スペクトル、  IRスペクトル、NMRスペクト
ル等により行った。
In order to explain the present invention more specifically, reference examples and examples are given below, but the present invention is not limited to these examples. , IR spectrum, NMR spectrum, etc.

また、以下の参考例及び実施例において記αの簡略化の
ために次の略号を使用することもある。
Further, in the following reference examples and examples, the following abbreviations may be used to simplify the notation α.

Mc:メチル基 Et :エチル基 Ph :フェニル基 へ〇ニアセチル基 e−Cml−12m=亀 二m員環のシクロアルキルA
 :エタノール AE :酢酸エチル CH:クロロホルム E ニジエチルニーチル ト■ :ヘキサン T:トル工/ 参考例1 +1−(5−クロロバレリルアミノ)−8,I+−ジヒ
ドロジベンゾ[b,elチェピンの製造=11ーアミ/
ー6.11ージヒトロジヘンゾ[b,elチェピン8.
8g,  5−クロロ吉草酸クロリドe.og及びジオ
キサ7100mlの混合物を撹拌下に15時間加熱還流
する。溶媒を減圧で留去し、残渣をエタノールから再結
晶して目的物12.5gを得る。
Mc: Methyl group Et: Ethyl group Ph: Phenyl group 〇 Niacetyl group e-Cml-12m=tortoise 2m-membered ring cycloalkyl A
: Ethanol AE : Ethyl acetate CH : Chloroform E Nidiethyl Nitilt ■ : Hexane T : Tol/ Reference Example 1 +1-(5-chlorovalerylamino)-8,I+-dihydrodibenzo[b,elProduction of chepin= 11-Ami/
-6.11-Dihydrodihenzo[b,elchepin8.
8g, 5-chlorovaleric acid chloride e. A mixture of 7100 ml of dioxa and 7100 ml of dioxa is heated under reflux for 15 hours with stirring. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was recrystallized from ethanol to obtain 12.5 g of the desired product.

融点155〜+5[i℃ 参考例2〜27 対応する原料化合物を用い、参考例1と同様に反応・処
理して表3〜5に示す化合物を得る。
Melting point: 155 to +5 [i° C. Reference Examples 2 to 27 Using the corresponding raw material compounds, the compounds shown in Tables 3 to 5 are obtained by reacting and treating in the same manner as in Reference Example 1.

(以下余白) 表3 ’)  m/z(M”)(以下同じ) (以下余白) 表4 ” )  m/z (M”)(以下同じ)(以下余白) 表5 参考例28 11−(4−クロロブチリルアミノ)−6,11−ジヒ
ドロジベンゾ[b、elチェピア −5,5−ジオキシ
ドの製造: !+−(4−クロロブチリルアミノ)−6,11−ジヒ
ドロジベンゾ[b、eコチェピ75.0gをクロロホル
ムl001に溶解し、これに水冷下m−クロロ過安息香
酸12gを加えた後、0℃で1時間撹拌する。
(Margins below) Table 3 ') m/z (M") (Same below) (Margins below) Table 4 ") m/z (M") (Same below) (Margins below) Table 5 Reference example 28 11-( 4-chlorobutyrylamino)-6,11-dihydrodibenzo[b,el Chepia-5,5-dioxide production: !+-(4-chlorobutyrylamino)-6,11-dihydrodibenzo[b,e 75.0 g of Kochepi was dissolved in 1001 chloroform, and 12 g of m-chloroperbenzoic acid was added thereto while cooling with water, followed by stirring at 0° C. for 1 hour.

反応液を10%水酸化す) IJウム、水、飽和食塩水
で順次洗浄したのち硫酸マグネシウムで乾燥する。
The reaction solution was washed with 10% hydroxide), water, and saturated saline in this order, and then dried over magnesium sulfate.

溶媒を留去し、残渣をメタノールから再結晶して目的物
5.1gを得る。融点 215〜227℃参考例29 11−(4−り1jロブチリルアミ/)−6,11−ジ
ヒドロジベンゾ[:b、e]チェピン−5−オキシドの
製造: +1−(4−クロロブチリルアミノ)−all−ジヒド
ロジベンゾ[b、ellチェピッ10を塩化メチレフ5
00m1に溶解し、これに水冷下m−クロロ過安息香酸
7.Ogを加えた後、室温で30分撹拌する。
The solvent was distilled off, and the residue was recrystallized from methanol to obtain 5.1 g of the desired product. Melting point 215-227°C Reference Example 29 Production of 11-(4-di1jbutyrylamino)-6,11-dihydrodibenzo[:b,e]chepin-5-oxide: +1-(4-chlorobutyrylamino)- all-dihydrodibenzo[b, ell Chepi 10 to methylene chloride 5
00ml of m-chloroperbenzoic acid under water cooling. After adding Og, stir at room temperature for 30 minutes.

反応液を10%水酸化す) IJウム、水、飽和食塩水
で順次洗浄した後、f[酸マグネシウムで乾燥する。
The reaction solution was washed with 10% magnesium hydroxide, water, and saturated saline, and then dried over magnesium oxide.

塩化メチレンを留去し、残渣をクロロホルム−ヘキサ7
から再結晶して目的物860gを得る。
Methylene chloride was distilled off, and the residue was dissolved in chloroform-hexane 7
860 g of the target product was obtained by recrystallization from the following.

融点210〜212°C 参考例30 トランス−11−(4−クロロブチリルアミノ)−G、
Ga、?、8,9,10.IQa、11−オクタヒドロ
ジベンゾ[b、elチェピンの製造: (1)トランス−〇+61+7+8+9+ 10. l
oa、 It−オクタヒドロ−11−オキソジベンゾ[
b、e]チェピア6g及びギ酸アンモニウム40gの混
合物を220℃で2時間溶融撹拌した後、ギ酸アンモニ
ウム40gヲH1加し、220℃で更に2時間撹拌する
。冷浸、反応混合物に水を加え、析出する油状物をトル
エンで抽出する。抽出液を水洗したのち減圧で濃縮し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ク
ロロホルムで溶出してトランス−11−ホルミルアミノ
−〇、Oa、7,8,9.10. loa、 I+−オ
クタヒドロジベンゾ[b、 e]チェピン5g8nlI
状物として得る。
Melting point 210-212°C Reference example 30 trans-11-(4-chlorobutyrylamino)-G,
Ga,? , 8, 9, 10. Production of IQa, 11-octahydrodibenzo[b, el chepin: (1) trans-〇+61+7+8+9+ 10. l
oa, It-octahydro-11-oxodibenzo[
b, e] After melting and stirring a mixture of 6 g of Chepia and 40 g of ammonium formate at 220°C for 2 hours, 1 H of 40 g of ammonium formate was added, and the mixture was further stirred at 220°C for 2 hours. After cooling, add water to the reaction mixture and extract the precipitated oil with toluene. After washing the extract with water, it was concentrated under reduced pressure.
The residue was subjected to silica gel column chromatography and eluted with chloroform to obtain trans-11-formylamino-〇, Oa, 7,8,9.10. loa, I+-octahydrodibenzo[b,e]chepin5g8nlI
Obtained as a solid product.

■ 上記11−ホルミルアミノ体5ff、  エタノー
ル401及び製塩ff120m+の混合物を100℃で
30分間加熱還流する。反応液を減圧で濃縮し、残渣に
10%炭酸カリウムを加え、析出する油状物を酢酸エチ
ルで抽出する。抽出液を水洗し、硫酸マグネシウムで乾
燥した後、減圧で0縮してトランス−11−アミノ−G
、Oa、7,8,9.10. IOa、 ++−オクタ
ヒドロジベンゾ[b、eコチェピ74gを油状物として
得る。
(2) A mixture of the above 11-formylamino compound 5ff, ethanol 401 and salt production ff120m+ is heated under reflux at 100°C for 30 minutes. The reaction solution was concentrated under reduced pressure, 10% potassium carbonate was added to the residue, and the precipitated oil was extracted with ethyl acetate. The extract was washed with water, dried over magnesium sulfate, and then concentrated under reduced pressure to obtain trans-11-amino-G.
, Oa, 7, 8, 9.10. 74 g of IOa, ++-octahydrodibenzo[b,e cochepi are obtained as an oil.

(3)  上記11−アミ7体2.513g、  )ル
エン501及び4−クロロ酪酸クロリド1.9gの混合
物を130℃で16時間加熱還流する。溶媒を減圧で留
去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
し、クロロホルムで溶出して目的物3.0gを油拭物と
して得る。マス・スペクトルm/z : 337 (M
” )実施例1 [4−(N−ベンジル−N−シクロプロピルアミノ)ブ
チリルアミノコジフェニルメタンの製造:(4−りaa
ブチリルアミ/)ジフェニルメタン2.0g、N−ベン
ジル−N−シクロプロピルアミ:/4.Og及びキシレ
ン501の混合物を撹拌下に6時間加熱還流する0反応
液にトルエン100■1を加え、10%炭酸カリウム、
水、飽和食塩水で順次洗浄した後、硫酸マグネシウムで
乾燥する。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付し、りaaホルムで溶出して目的物
1.5gを得る。融点107〜109℃(ジエチルエー
テルから再結晶) 実施例2 [4−(N−ベンジル−N−シクロプロピルアミノ)ブ
チリルアミノコシクロへキシルフェニルメタンの製造: (4−クロロブチリルアミノ)シクロヘキシルフェニル
メタ/1.5g、N−ベンツルーN−シクロプロピルア
ミン2.0g、  ヨウ化ナトリウム5g及びジメチル
ホルムアミド151の混合物を60℃で10時間撹拌す
る。冷浸、反応液に10%炭酸カリウムを加えクロロホ
ルムで抽出する。t111出液を水。
(3) A mixture of 2.513 g of the above 11-ami7 body, 501 toluene, and 1.9 g of 4-chlorobutyric acid chloride is heated under reflux at 130° C. for 16 hours. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to silica gel column chromatography and eluted with chloroform to obtain 3.0 g of the desired product as an oil wipe. Mass spectrum m/z: 337 (M
”) Example 1 [Production of 4-(N-benzyl-N-cyclopropylamino)butyrylaminocodiphenylmethane: (4-riaa
Butyrylamine/) diphenylmethane 2.0g, N-benzyl-N-cyclopropylamine:/4. A mixture of Og and xylene 501 was heated under reflux for 6 hours with stirring. Toluene 100 x 1 was added to the reaction mixture, and 10% potassium carbonate,
After sequentially washing with water and saturated saline, drying with magnesium sulfate. The solvent was distilled off, and the residue was subjected to silica gel column chromatography and eluted with aaa form to obtain 1.5 g of the desired product. Melting point 107-109°C (recrystallized from diethyl ether) Example 2 Production of [4-(N-benzyl-N-cyclopropylamino)butyrylaminococyclohexylphenylmethane: (4-chlorobutyrylamino)cyclohexyl A mixture of 1.5 g of phenylmeth/2.0 g of N-benzene-N-cyclopropylamine, 5 g of sodium iodide, and 151 g of dimethylformamide is stirred at 60° C. for 10 hours. After cooling, add 10% potassium carbonate to the reaction solution and extract with chloroform. Drain the t111 fluid into water.

飽和食塩水で順次洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥
する。クロロホルムを留去し、!i!清をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルムで溶出し
て目的物1.2gを得る。
After sequentially washing with saturated saline, drying with magnesium sulfate. Distill the chloroform away! i! The supernatant was subjected to silica gel column chromatography and eluted with chloroform to obtain 1.2 g of the desired product.

融点 85〜87℃(ジエチルエーテル−ヘキサンから
再結晶) 実施例3 5−[5−(N−ベンジル−N−ブチルアミノ)バレリ
ルアミノコ−5H−ジベンゾ[a、d]シクロヘプテン
の製造: 5−(5−クロロバレリルアミノ)−5H−ジベンゾ[
a、d]シクロヘプテ71.5g、N〜ベンジル−N−
ブチルアミン1.5g、  ヨウ化ナトリウム2.0g
及びジメチルホルムアミド50m1の混合物を100℃
で1.5時間撹拌する0反応液を実施例2と同様に処理
して、目的物1.1gを油状物として得る。
Melting point 85-87°C (recrystallized from diethyl ether-hexane) Example 3 Preparation of 5-[5-(N-benzyl-N-butylamino)valerylaminoco-5H-dibenzo[a,d]cycloheptene: 5-(5 -chlorovalerylamino)-5H-dibenzo[
a, d] cyclohepte 71.5 g, N~benzyl-N-
Butylamine 1.5g, sodium iodide 2.0g
and dimethylformamide (50 ml) at 100°C.
The reaction solution stirred for 1.5 hours was treated in the same manner as in Example 2 to obtain 1.1 g of the desired product as an oil.

上記遊離塩基1.0gとシュウ!II0.4gをエタノ
ール51に溶解する。このエタノールm液を撹拌下ジエ
チルエーテル2001に滴下し、析出する沈殿を濾取し
て目的物のシュウ酸塩・3/4水和物1.0 gを得る
。融点98〜101℃ 実施例4 +1− [4−[N−ベアジル−N−(2−ヒドロキシ
−2−メチルプロピル)アミノ]ブチリルアミノ]−2
−メチル−11−ジヒドロジベンゾ[:b、elチェピ
ンの製造: +1−(4−クロロブチリルアミノ)−2−メチル−+
3.I+−ジヒドロジベンゾ[b、 elチェピン1.
0g。
1.0 g of the above free base and Shu! Dissolve 0.4 g of II in 51 ml of ethanol. This m solution of ethanol was added dropwise to diethyl ether 2001 with stirring, and the precipitate was collected by filtration to obtain 1.0 g of the target oxalate 3/4 hydrate. Melting point 98-101°C Example 4 +1- [4-[N-bearzyl-N-(2-hydroxy-2-methylpropyl)amino]butyrylamino]-2
-Methyl-11-dihydrodibenzo[:b,elChepin production: +1-(4-chlorobutyrylamino)-2-methyl-+
3. I+-dihydrodibenzo[b, el chepin 1.
0g.

N−べ/ジルーN−(2−ヒドロキシ−2−メチルプロ
ピル)アミン1.0g、  ヨウ化ナトリウム3.0g
及びジメチルホルムアミド20m1の混合物を60℃で
18時間撹拌する。反応液を実施例2と同様に処理して
、目的物0.7gを油状物として得る。
1.0 g of N-be/gi-N-(2-hydroxy-2-methylpropyl)amine, 3.0 g of sodium iodide
and 20 ml of dimethylformamide is stirred at 60° C. for 18 hours. The reaction solution was treated in the same manner as in Example 2 to obtain 0.7 g of the desired product as an oil.

上記遊離塩基を実施例3と同様に処理して、目的物のシ
ュウ酸塩・!水和物を得る。融点87〜90℃(エタノ
ール−ジエチルエーテルから再沈殿)実施例5 11 [4−CN−ベンジル−N−(2−ヒドロキシブ
チル)アミノコブチリルアミノ]−(3,+1−ジヒド
ロジベンゾ[b、e]チェピンの!!!ifl:1l−
(4−クロロブチリルアミノ)−all−ジヒドロジベ
ンゾ[b、e]チェピア2.Og、N−ベンジル−N−
(2−ヒドロキシブチル)アミン2.0g。
The above free base was treated in the same manner as in Example 3 to obtain the desired oxalate salt.! Obtain hydrate. Melting point 87-90°C (reprecipitation from ethanol-diethyl ether) Example 5 11 [4-CN-benzyl-N-(2-hydroxybutyl)aminocobutyrylamino]-(3,+1-dihydrodibenzo[b,e ] Chapin's!!!ifl:1l-
(4-Chlorobutyrylamino)-all-dihydrodibenzo[b,e]Chepia 2. Og, N-benzyl-N-
(2-hydroxybutyl)amine 2.0 g.

ヨウ化ナトリウム4.0g及びジメチルホルムアミド3
01の混合物を60℃で10時間撹拌する。反応液を実
施例2と同様に処理して、目的物1.3gを油状物とし
て得る。
Sodium iodide 4.0g and dimethylformamide 3
The mixture of 01 was stirred at 60°C for 10 hours. The reaction solution was treated in the same manner as in Example 2 to obtain 1.3 g of the desired product as an oil.

上記遊離塩基を実施例3と同様に処理して、目的物のシ
ュウ酸塩・3/4水和物を得る。
The above free base is treated in the same manner as in Example 3 to obtain the desired product, oxalate 3/4 hydrate.

融点 90〜92℃(エタノール−ジエチルエーテルか
ら再沈殿) 実施例6 +1− [4−(N−ベンジル−N−ブチルアミノ)ブ
チリルアミノ]−all−ジヒドロジベンゾ[b、e]
チェピン−へ5−ジオキシドの製造:目−(4−クロロ
ブチリルアミノ)−8,11−ジヒドロジベンゾ[b、
e]チェピン−5,5−ジオキシド2.0g、N−べブ
チル−N−ブチル7ミ72.Og。
Melting point 90-92°C (reprecipitation from ethanol-diethyl ether) Example 6 +1-[4-(N-benzyl-N-butylamino)butyrylamino]-all-dihydrodibenzo[b,e]
Preparation of chepin-5-dioxide: -(4-chlorobutyrylamino)-8,11-dihydrodibenzo[b,
e] Chepine-5,5-dioxide 2.0g, N-bebutyl-N-butyl 7mi72. Og.

ヨウ化ナトリウム3.0g及びジメチルポルムアミド1
51の混合物を00℃で20時間撹拌する。反応液を実
施例2と同様に処理して目的物0.35gを油状物とし
て得る。マス・スペクトルm/z : 490 (M”
 )実施例7 トランスー11− [4−(N−ベンジル−N−シクロ
プロピルアミノ)ブチリルアミ/ ]−G、Gλ、7.
8,9゜10、IOa、II−オクタヒドロジベンゾ[
b、e]チェピンの製造ニ ドランス−71−(4−クロロブチリルアミノ)−0,
6a、7,8,9,10.IOa、11−オクタヒドロ
ジベンゾ[b、e]チェピン1.0g、N−ベンジル−
N−シクロプロピルアミ/1.0g及びキシレフ50m
1の混合物を150℃で10時間加熱還流する。、溶媒
を減圧で留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付し、クロロホルム−メタノール(+00:3
)で溶出して目的物0.6gを油状物として得る。
3.0 g of sodium iodide and 1 part of dimethylpolamide
The mixture of No. 51 is stirred at 00° C. for 20 hours. The reaction solution was treated in the same manner as in Example 2 to obtain 0.35 g of the target product as an oil. Mass spectrum m/z: 490 (M”
) Example 7 trans-11-[4-(N-benzyl-N-cyclopropylamino)butyrylamine/ ]-G, Gλ, 7.
8,9゜10, IOa, II-octahydrodibenzo [
b, e] Production of chepin Nidoran-71-(4-chlorobutyrylamino)-0,
6a, 7, 8, 9, 10. IOa, 11-octahydrodibenzo[b,e]chepine 1.0 g, N-benzyl-
N-cyclopropylamide/1.0g and Xylef 50m
The mixture of 1 was heated under reflux at 150° C. for 10 hours. , the solvent was distilled off under reduced pressure, the residue was subjected to silica gel column chromatography, and chloroform-methanol (+00:3
) to obtain 0.6 g of the target product as an oil.

マス・スペクトルm/z : 448 (M” )上記
遊離塩基を実施例3と同様に処理して目的物のシュウ酸
塩・5/4水和物を得る。融点88〜90℃(エク/−
ルージエチルエーテルから再沈殿)実施例8 +1− [4−[N−ベンジル−N−(2−テトラヒド
ロピラニルメチル)アミノゴブチリルアミノ]−〇、I
I−ジヒドロジベンゾ[b、elチェピ/の製造−4−
[N−べ/ジルーN−(2−テトラヒドロピラニルメチ
ル)アミノ]酪#2.Og、1−エチル−3−(3−ジ
メチルアミ/プロピル)カルボジイミド塩酸塩2.2g
及びジメチルホルムアミド20−1の混合物に■−アミ
/−へ11−ジヒドロジベンゾ[b、e]チェピン1,
8gを加え、室温で3時間撹拌する。反応液を水中に注
ぎトルエンで抽出し、抽出液を水洗したのち硫酸マグネ
シウムで乾燥する。トルエンを留去し、!ilt!iを
シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホ
ルムで溶出して目的物2.2gを油状物として得る。
Mass spectrum m/z: 448 (M") The above free base is treated in the same manner as in Example 3 to obtain the target product, oxalate 5/4 hydrate. Melting point: 88-90°C (ex/-
Example 8 +1-[4-[N-benzyl-N-(2-tetrahydropyranylmethyl)aminogobutyrylamino]-〇,I
Production of I-dihydrodibenzo[b,elchepi/-4-
[N-Be/Gi-N-(2-tetrahydropyranylmethyl)amino]butyric #2. Og, 1-ethyl-3-(3-dimethylami/propyl)carbodiimide hydrochloride 2.2g
and dimethylformamide 20-1 to ■-ami/-11-dihydrodibenzo[b,e]chepin 1,
Add 8 g and stir at room temperature for 3 hours. The reaction solution is poured into water and extracted with toluene, and the extract is washed with water and then dried over magnesium sulfate. Distill toluene! ilt! I was subjected to silica gel column chromatography and eluted with chloroform to obtain 2.2 g of the desired product as an oil.

上記遊離塩基を実施例3と同様に処理して目的物のシュ
ウ酸塩・3/2水和物を得る。融点90〜93℃(エタ
ノール−ジエチルエーテルから再沈殿)実施例9 +1− [4−(N−ベンジル−N−シクロプロピルア
ミノ)ブチリルアミノ]−N−メチル−6,11−ジヒ
ドロジベンゾ[b、elチェピ/の製造:4−(N−ベ
ンジル−N−シクロプロピルアミノ)醋酸1.5g、1
−エチル−3−(3−ジメチルアミ/プロピル)カルボ
ジイミド塩酸塩1.5 g及びクロロホルム30−1の
混合物を0゛Cで1時間撹’t’l’する。これに11
−メチルアミノ−8,1に一ジヒドロジベンゾ[b、e
lチェピア1.5gを加え、室温で3時間撹拌する。反
応液を水洗したのち硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒
を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付し、クロロホルムで溶出して目的物2.0gを油状
物とじて得る。マス・スペクトルm/z : 450 
(M” )実施例10 5−[4−(N、N−ジベンジルアミ/)ブチリルアミ
ノ]−5H−ジペンゾ[a、dlシクロヘプテンの製造
: 4−(N、N−ジベンジルアミ/)酪酸1.1゜1−エ
チル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイ
ミド塩酸塩1g及びクロロホルム201の混合物を0℃
で1時間撹拌する。これに5−アミ7−5H−ジベンゾ
[a、 dlシクロヘプテン1.0gを加え、室温で2
時間撹拌する。反応液を水洗したのち硫酸マグネシウム
で乾燥する。溶媒を留去し、8渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付し、クロロホルムで溶出して目的
物1.2gを得る。融点138〜140℃(クロロホル
ム−ヘキサンから再結晶) 実施例11 11− [4−[N−ベンジル−N−(2−アセトキシ
ブチル)アミ/コブチリルアミ/]−6.Iiジヒドロ
ジベンゾ[b、eコチェビンの製造:11− [4−[
N−ベンジル−N−(2−ヒドロキシブチル)アミノ]
ブチリルアミノ]−a11ジヒドロジベンゾ[b、el
チェピン1.0 gのピリジン101溶液に無水酢酸0
.5gを加え、室温で一夜放置する。反応液を水中に注
ぎトルエンで抽出する。抽出液を水洗したのち硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、溶媒を留去して目的物0.9gを油
伏物として得る。
The above free base is treated in the same manner as in Example 3 to obtain the desired product, oxalate trihydrate. Melting point 90-93°C (reprecipitation from ethanol-diethyl ether) Example 9 +1-[4-(N-benzyl-N-cyclopropylamino)butyrylamino]-N-methyl-6,11-dihydrodibenzo[b,el Production of Chepi/: 4-(N-benzyl-N-cyclopropylamino)acetic acid 1.5 g, 1
A mixture of 1.5 g of -ethyl-3-(3-dimethylamino/propyl)carbodiimide hydrochloride and 30-1 of chloroform is stirred at 0°C for 1 hour. 11 to this
-methylamino-8,1-mono-dihydrodibenzo[b,e
Add 1.5 g of Chepia and stir at room temperature for 3 hours. The reaction solution was washed with water and then dried with magnesium sulfate. The solvent was distilled off, and the residue was subjected to silica gel column chromatography and eluted with chloroform to obtain 2.0 g of the desired product as an oil. Mass spectrum m/z: 450
(M”) Example 10 Preparation of 5-[4-(N,N-dibenzylami/)butyrylamino]-5H-dipenzo[a,dl cycloheptene: 4-(N,N-dibenzylami/)butyric acid 1.1°1 - A mixture of 1 g of ethyl-3-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide hydrochloride and 201 chloroform was heated at 0°C.
Stir for 1 hour. To this was added 1.0 g of 5-ami7-5H-dibenzo[a, dl cycloheptene, and 2
Stir for an hour. The reaction solution was washed with water and then dried with magnesium sulfate. The solvent was distilled off, and the residue was subjected to silica gel column chromatography and eluted with chloroform to obtain 1.2 g of the desired product. Melting point: 138-140°C (recrystallized from chloroform-hexane) Example 11 11-[4-[N-benzyl-N-(2-acetoxybutyl)ami/butyrylamide/]-6. Ii Dihydrodibenzo[b,e Preparation of cochevine: 11-[4-[
N-benzyl-N-(2-hydroxybutyl)amino]
butyrylamino]-a11 dihydrodibenzo[b,el
Add 0 acetic anhydride to a solution of 1.0 g of Chepin in 101 pyridine.
.. Add 5g and leave at room temperature overnight. The reaction solution was poured into water and extracted with toluene. After washing the extract with water, it is dried over magnesium sulfate, and the solvent is distilled off to obtain 0.9 g of the desired product as an oily substance.

上記遊離塩基を実施例3と同様に処理して目的物のシュ
ウ酸塩・1水和物を得る。融点81〜84℃(エタノ−
ルーフエチルエーテルから再沈殿)実施例12〜380 対応する原料化合物を用い、実施例1〜11と同様に反
応・処理して表6〜15に示す化合物を得る。
The above free base is treated in the same manner as in Example 3 to obtain the target product, oxalate monohydrate. Melting point 81-84℃ (ethanol
(Reprecipitation from roof ethyl ether) Examples 12 to 380 Using the corresponding raw material compounds, reactions and treatments were carried out in the same manner as in Examples 1 to 11 to obtain the compounds shown in Tables 6 to 15.

(以下余白) 表6 “) マス・スペクトルにおけるm/z (M” )(
以下同じ)“) 分解 表7 ”) マス・スペクトルにおけるm/z (M” )(
以下同じ)表 7(続き) 表7(続き) 表7(続き) 表 7 (41!き) 表8 ”)  m/z(M”)(以下同じ) ′)  再結晶又は再沈殿溶媒(以下同じ)表 8(G
!き) 表8(続き) 表8(続き) 表 8(続き) 表9 ″) マス・スペクトルにおけるm/z (M”)(以
下同じ)表 9(続き) 表9(続き) 表9(続き) 表 9(続き) 表9(続き) 表 9(I2き) (以下余白) 表10 ′) 再結晶又は再沈殿溶媒(以下同じ)“)  m/
z(M”)(以下同じ) 表 10(続き) 表11 ”) マス・スペクトルに怠けるm/z (M” )(
以下同じ)表 11 (続き) 表 11(続き) 表12 ”)  m/z(M”)(以下同じ) ”)  再結晶又は再沈殿溶#x(以下同じ)表 12
(続き) 表13 ”) 再結晶又は再沈殿溶媒(以下同じ)”)  m/
z(M”) 表14 ゝ) 再結晶又は再沈段r11媒(以下同じ)”)  
m/z (M”>(以下同じ)(以下余白) 表15 ’)m/z(M“)(以下同じ) ′)  再結晶又は再結晶沈殿溶媒(以下同じ)表 1
5(続き)
(Left below) Table 6 “) m/z in mass spectrum (M”) (
Same hereafter) ") Decomposition table 7 ") m/z in mass spectrum (M") (
Table 7 (continued) Table 7 (continued) Table 7 (continued) Table 7 (41!) Table 8 ”) m/z (M”) (same below) ’) Recrystallization or reprecipitation solvent (same below) Same) Table 8 (G
! Table 8 (continued) Table 8 (continued) Table 8 (continued) Table 9 ″) m/z in mass spectrum (M”) (same hereinafter) Table 9 (continued) Table 9 (continued) Table 9 (continued) ) Table 9 (Continued) Table 9 (Continued) Table 9 (I2) (Left below) Table 10') Recrystallization or reprecipitation solvent (same below) m/
z (M”) (same hereafter) Table 10 (continued) Table 11 ”) m/z (M”) (
(same below) Table 11 (continued) Table 11 (continued) Table 12 ”) m/z (M”) (same below) ”) Recrystallization or reprecipitation solution #x (same below) Table 12
(Continued) Table 13 ") Recrystallization or reprecipitation solvent (same below)") m/
z(M”) Table 14 ゝ) Recrystallization or reprecipitation stage r11 medium (same below)”)
m/z (M"> (same below) (margins below) Table 15 ') m/z (M") (same below) ') Recrystallization or recrystallization precipitation solvent (same below) Table 1
5 (continued)

Claims (1)

【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R_1は ▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式
、表等があります▼ で示される基を意味し、 A環はベンゼン環又はシクロヘキサン環を意味し、 Y及びZは共に水素原子を意味するか、あるいはYとZ
が一緒になって、−O−、−S−、−CH=CH−、−
CH_2CH_2−、▲数式、化学式、表等があります
▼、−CH_2O−又は▲数式、化学式、表等がありま
す▼を形成し、 R_2は水素原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ
基を意味し、 R_3は水素原子、低級アルコキシ基、アルキル基、ア
ルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、1〜2
個の置換基を有するシクロアルキル基(該置換基はハロ
ゲン原子、ヒドロキシ基、低級アルキル基、シクロアル
キル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、アシ
ルオキシ基、アシルチオ基、ジ置換アミノ基、アシルア
ミノ基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、
カルバモイル基、低級アルキルカルバモイル基、ジ低級
アルキルカルバモイル基、オキソ基又はアセタール化も
しくはケタール化されたオキソ基である)、飽和複素環
基、1〜2個の置換基を有する飽和複素環基(該置換基
はハロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトロ基、低級アルキ
ル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、アシル
オキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ置換ア
ミノ基、アシルアミノ基、シアノ基、カルボキシ基、低
級アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、低級アル
キルカルバモイル基又はジ低級アルキルカルバモイル基
である)、アリール基、1〜4個の置換基を有するアリ
ール基(該置換基はハロゲン原子、ヒドロキシ基、ニト
ロ基、低級アルキル基、トリフルオロメチル基、低級ア
ルコキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ基、低級アル
キルアミノ基、ジ置換アミノ基、アシルアミノ基、シア
ノ基。 カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、カルバモ
イル基、低級アルキルカルバモイル基又はジ低級アルキ
ルカルバモイル基であり、2個の置換基が隣接するとき
は一緒になってアルキレンジオキシ基を形成していても
よい)、アリール基と縮合したシクロアルケニル基 (該アリール部分及び/又はシクロアルケニル部分は置
換されていてもよい)、ヘテロアリール基、1〜3個の
置換基を有するヘテロアリール基(該置換基はハロゲン
原子、ヒドロキシ基、ニトロ基、低級アルキル基、低級
アルコキシ基、低級アルキルチオ基、アシルオキシ基、
アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ置換アミノ基、ア
シルアミノ基、シアノ基、カルボキシ基、低級アルコキ
シカルボニル基、カルバモイル基、低級アルキルカルバ
モイル基又はジ低級アルキルカルバモイル基である)、
置換基を有する低級アルキル基(該置換基はハロゲン原
子、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、低級アルキルチ
オ基、オキソ基、アセタール化もしくはケタール化され
たオキソ基、ジ置換アミノ基、アシルアミノ基、アシル
オキシ基、アシルチオ基、カルボキシ基、低級アルコキ
シカルボニル基、カルバモイル基、低級アルキルカルバ
モイル基、ジ低級アルキルカルバモイル基、シクロアル
キル基、1〜2個の置換基を有するシクロアルキル基、
飽和複素環基、1〜2個の置換基を有する飽和複素環基
、アリール基、1〜4個の置換基を有するアリール基、
ヘテロアリール基又は1〜3個の置換基を有するヘテロ
アリール基である)、置換基を有するアルケニル基もし
くはアルキニル基(該置換基はハロゲン原子、ヒドロキ
シ基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、アシル
オキシ基又はアシルチオ基である)、アシル基、低級ア
ルコキシカルボニル基、カルバモイル基、低級アルキル
カルバモイル基又はジ低級アルキルカルバモイル基を意
味し、 R_4はアリール基、1〜4個の置換基を有するアリー
ル基(該置換基はハロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトロ
基、低級アルキル基、トリフルオロメチル基、低級アル
コキシ基、低級アルキルチオ基、アシルオキシ基、アミ
ノ基、低級アルキルアミノ基、ジ置換アミノ基、アシル
アミノ基、シアノ基、カルボキシ基、低級アルコキシカ
ルボニル基、カルバモイル基、低級アルキルカルバモイ
ル基又はジ低級アルキルカルバモイル基であり、2個の
置換基が隣接するときは一緒になってアルキレンジオキ
シ基を形成していてもよい)、ヘテロアリール基又は1
〜3個の置換基を有するヘテロアリール基(該置換基は
ハロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトロ基、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、アミノ基
、低級アルキルアミノ基、ジ置換アミノ基、アシルアミ
ノ基、シアノ基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、低級アルキルカルバモイル基
又はジ低級アルキルカルバモイル基である)を意味し、 R_5は同一又は異なって水素原子、ハロゲン原子、ヒ
ドロキシ基、ニトロ基、低級アルキル基、トリフルオロ
メチル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ア
シルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ置
換アミノ基、アシルアミノ基、シアノ基、カルボキシ基
、低級アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、低級
アルキルカルバモイル基又はジ低級アルキルカルバモイ
ル基を意味し、R_6は同一又は異なって水素原子、ハ
ロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトロ基、低級アルキル基
、トリフルオロメチル基、低級アルコ 基、低級アルキルチオ基、アシルオキシ基又はシアノ基
を意味し、 Vはカルボニル基又はスルホニル基を意味し、Wはアル
キレン基を意味し、 Xは単結合、低級アルキレン基、低級アルコキシカルボ
ニル、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、ジ低
級アルキルカルバモイルもしくは▲数式、化学式、表等
があります▼(式中、R_7は水素原子、低級アルキル
基又はアシル基を意味し、dは1又は2を意味する)で
置換された低級アルキレン基、又は−CO−(ケタール
化された形であってもよい)、−O−、−S−、−NR
_8−(式中、R_8は低級アルキル基又はアシル基を
意味する)、▲数式、化学式、表等があります▼(式中
、R_7は前掲に同じものを意味する)、−CH=CH
−及び−C≡C−から選ばれる基で中断されているか、
又はこれらの基を介してR_4と結合する低級アルキレ
ン基を意味し、 a及びbはそれぞれ1〜4の整数を意味し、cは0〜2
の整数を意味する。 但し、A環がシクロヘキサン環のとき、Y及びZは共に
水素原子を意味するか、あるいはYとZが一緒になって
▲数式、化学式、表等があります▼を形成し、R_6は
水素原子を意味する。] で表されるアミン化合物及びその塩類。
[Claims] General formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ [In the formula, R_1 is a group represented by ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ or ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ A ring means a benzene ring or a cyclohexane ring, Y and Z both mean a hydrogen atom, or Y and Z
together, -O-, -S-, -CH=CH-, -
CH_2CH_2-, ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼, -CH_2O- or ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼, R_2 means a hydrogen atom, a lower alkyl group, or a lower alkoxy group, and R_3 is Hydrogen atom, lower alkoxy group, alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group, 1-2
A cycloalkyl group having 1 substituent (the substituent is a halogen atom, a hydroxy group, a lower alkyl group, a cycloalkyl group, a lower alkoxy group, a lower alkylthio group, an acyloxy group, an acylthio group, a di-substituted amino group, an acylamino group, Carboxy group, lower alkoxycarbonyl group,
carbamoyl group, lower alkylcarbamoyl group, di-lower alkylcarbamoyl group, oxo group or acetalized or ketalized oxo group), saturated heterocyclic group, saturated heterocyclic group having 1 to 2 substituents ( Substituents include halogen atom, hydroxy group, nitro group, lower alkyl group, lower alkoxy group, lower alkylthio group, acyloxy group, amino group, lower alkylamino group, di-substituted amino group, acylamino group, cyano group, carboxy group, lower an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, a lower alkylcarbamoyl group, or a di-lower alkylcarbamoyl group), an aryl group, an aryl group having 1 to 4 substituents (the substituents include a halogen atom, a hydroxy group, a nitro group, a lower Alkyl group, trifluoromethyl group, lower alkoxy group, lower alkylthio group, amino group, lower alkylamino group, disubstituted amino group, acylamino group, cyano group. Carboxy group, lower alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, lower alkylcarbamoyl group or a di-lower alkylcarbamoyl group, and when two substituents are adjacent, they may form an alkylenedioxy group together), a cycloalkenyl group condensed with an aryl group (the aryl moiety and/or or the cycloalkenyl moiety may be substituted), a heteroaryl group, a heteroaryl group having 1 to 3 substituents (the substituents are a halogen atom, a hydroxy group, a nitro group, a lower alkyl group, a lower alkoxy group) , lower alkylthio group, acyloxy group,
amino group, lower alkylamino group, di-substituted amino group, acylamino group, cyano group, carboxy group, lower alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, lower alkylcarbamoyl group or di-lower alkylcarbamoyl group),
A lower alkyl group having a substituent (the substituent is a halogen atom, a hydroxy group, a lower alkoxy group, a lower alkylthio group, an oxo group, an acetalized or ketalized oxo group, a disubstituted amino group, an acylamino group, an acyloxy group, Acylthio group, carboxy group, lower alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, lower alkylcarbamoyl group, di-lower alkylcarbamoyl group, cycloalkyl group, cycloalkyl group having 1 to 2 substituents,
Saturated heterocyclic group, saturated heterocyclic group having 1 to 2 substituents, aryl group, aryl group having 1 to 4 substituents,
a heteroaryl group or a heteroaryl group having 1 to 3 substituents), an alkenyl group or an alkynyl group having a substituent (the substituent is a halogen atom, a hydroxy group, a lower alkoxy group, a lower alkylthio group, an acyloxy group) or an acylthio group), an acyl group, a lower alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, a lower alkylcarbamoyl group, or a di-lower alkylcarbamoyl group; Substituents include halogen atom, hydroxy group, nitro group, lower alkyl group, trifluoromethyl group, lower alkoxy group, lower alkylthio group, acyloxy group, amino group, lower alkylamino group, disubstituted amino group, acylamino group, cyano group , a carboxy group, a lower alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, a lower alkylcarbamoyl group or a di-lower alkylcarbamoyl group, and when two substituents are adjacent, they may be taken together to form an alkylenedioxy group. ), heteroaryl group or 1
A heteroaryl group having ~3 substituents (the substituents are a halogen atom, a hydroxy group, a nitro group, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a lower alkylthio group, an amino group, a lower alkylamino group, a di-substituted amino group, acylamino group, cyano group, carboxy group, lower alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, lower alkylcarbamoyl group, or di-lower alkylcarbamoyl group), and R_5 is the same or different and represents a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxy group, a nitro group, lower alkyl group, trifluoromethyl group, lower alkoxy group, lower alkylthio group, acyloxy group, amino group, lower alkylamino group, disubstituted amino group, acylamino group, cyano group, carboxy group, lower alkoxycarbonyl group, carbamoyl group group, lower alkylcarbamoyl group, or di-lower alkylcarbamoyl group, and R_6 is the same or different and is a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxy group, a nitro group, a lower alkyl group, a trifluoromethyl group, a lower alkyl group, or a lower alkylthio group. , means an acyloxy group or a cyano group, V means a carbonyl group or a sulfonyl group, W means an alkylene group, X means a single bond, lower alkylene group, lower alkoxycarbonyl, carbamoyl, lower alkylcarbamoyl, di-lower a lower alkylene group substituted with alkylcarbamoyl or ▲a mathematical formula, chemical formula, table, etc.▼ (in the formula, R_7 means a hydrogen atom, a lower alkyl group, or an acyl group, and d means 1 or 2), or -CO- (may be in ketalized form), -O-, -S-, -NR
_8- (In the formula, R_8 means a lower alkyl group or acyl group), ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (In the formula, R_7 means the same as above), -CH=CH
- and -C≡C-,
or a lower alkylene group bonded to R_4 through these groups, a and b each mean an integer of 1 to 4, and c is 0 to 2.
means an integer of However, when the A ring is a cyclohexane ring, Y and Z both represent a hydrogen atom, or Y and Z together form ▲Numerical formula, chemical formula, table, etc.▼, and R_6 represents a hydrogen atom. means. ] An amine compound and its salts represented by these.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06145126A (en) * 1992-11-09 1994-05-24 Shimadzu Corp Dibenzosuberyl and dibenzosuberenyl compounds

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