JPS6311849A - 溶存過酸化水素センサ - Google Patents
溶存過酸化水素センサInfo
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- JPS6311849A JPS6311849A JP61154998A JP15499886A JPS6311849A JP S6311849 A JPS6311849 A JP S6311849A JP 61154998 A JP61154998 A JP 61154998A JP 15499886 A JP15499886 A JP 15499886A JP S6311849 A JPS6311849 A JP S6311849A
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Landscapes
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
゛ 本発明は液中に溶けている過酸化水素(H,O,)
濃度を測定するためのセンサに係り、特に絶縁ゲート型
電界効果トランジスタを活用した過酸化水素センサに関
する。 −(従来の技術) 従来より特定のイオン濃度を選択的に定、歇できるイオ
ン選択性電極が特定イオンのモニターや水質分析等の広
い分野で用いられてきている。近年では特に血液中のN
a“、に+、C2−等の各種イオンの定量などがイオン
選択性電極を用いてさかんに行われている。このような
イオン選択性電極の中で、従来のイオン選択性電極に代
わって、絶縁ゲート型電界効果トランジスタ(FET)
のゲート部にイオン感応膜を形成したFETイオンセン
サが注目されるようになってきた。
濃度を測定するためのセンサに係り、特に絶縁ゲート型
電界効果トランジスタを活用した過酸化水素センサに関
する。 −(従来の技術) 従来より特定のイオン濃度を選択的に定、歇できるイオ
ン選択性電極が特定イオンのモニターや水質分析等の広
い分野で用いられてきている。近年では特に血液中のN
a“、に+、C2−等の各種イオンの定量などがイオン
選択性電極を用いてさかんに行われている。このような
イオン選択性電極の中で、従来のイオン選択性電極に代
わって、絶縁ゲート型電界効果トランジスタ(FET)
のゲート部にイオン感応膜を形成したFETイオンセン
サが注目されるようになってきた。
これは、FETイオンセンサが、トランジスタやIC,
LSIなどをつくるときに用いるシリコンプロセスを用
いることにより同時に複数個つくることができ、多重化
が容易で、しかも小型化が容易であることと、大量生産
が可能なため低コスト化が期待できるなどの理由による
。
LSIなどをつくるときに用いるシリコンプロセスを用
いることにより同時に複数個つくることができ、多重化
が容易で、しかも小型化が容易であることと、大量生産
が可能なため低コスト化が期待できるなどの理由による
。
(発明が解決しようとする問題点)
ところで、生化学分析項目の中には、酵素反応によって
生成するH、O,を定量することにもとづくコレステロ
ール、リン脂質、遊離脂肪酸などの被検物質の測定方法
が多種あるが、このH3O2はイオンと異なり電気的に
中性であるために通常のxsphTではt1q定できず
、小型化、多重化が可能なl5FETの特徴を充分に発
揮することができなかった。
生成するH、O,を定量することにもとづくコレステロ
ール、リン脂質、遊離脂肪酸などの被検物質の測定方法
が多種あるが、このH3O2はイオンと異なり電気的に
中性であるために通常のxsphTではt1q定できず
、小型化、多重化が可能なl5FETの特徴を充分に発
揮することができなかった。
本発明は以上のような問題点を解決するためなされたも
ので、溶存H20,濃度を測定することができる過酸化
水素センサを提供することを目的とする。
ので、溶存H20,濃度を測定することができる過酸化
水素センサを提供することを目的とする。
(問題点を解決するための手段)
本発明は、絶縁ゲート型電界効果トランジスタのゲート
部上部に妙けられた導電層と前記導電体層上部に設けら
れたFe(If )@体を含有する電解質層と、前記電
解質層中に設けられた参照電極とを少なくとも具備する
ことを特徴とする溶存酸素センサである。
部上部に妙けられた導電層と前記導電体層上部に設けら
れたFe(If )@体を含有する電解質層と、前記電
解質層中に設けられた参照電極とを少なくとも具備する
ことを特徴とする溶存酸素センサである。
導電体層を構成する物質としては、導電性を示すもので
あればよい。好ましくは、Au、 Pt、ステンレス等
の腐食されにくい金属が導電体層として有効である。ま
た電解質層は、過酸化水素を透過させる電解質溶液であ
ればよい、これらの電解質層としてはアガロース、寒天
、ポリビニルアルコール(PVA) 、カルボキシメチ
ルセルロース(CMC)等でゲル状にしたものや高分子
膜中に固定したものが好ましい。
あればよい。好ましくは、Au、 Pt、ステンレス等
の腐食されにくい金属が導電体層として有効である。ま
た電解質層は、過酸化水素を透過させる電解質溶液であ
ればよい、これらの電解質層としてはアガロース、寒天
、ポリビニルアルコール(PVA) 、カルボキシメチ
ルセルロース(CMC)等でゲル状にしたものや高分子
膜中に固定したものが好ましい。
一方、電解IR層中に設けられる参照電極としては、
Ag/AgCj2電極、飽和材コウilI!極等が挙げ
られる。センサの小型化という観点からはAg/AgC
Qfjl極が好ましい。また設置する場所としては電解
質層中であればどこでもよい。
Ag/AgCj2電極、飽和材コウilI!極等が挙げ
られる。センサの小型化という観点からはAg/AgC
Qfjl極が好ましい。また設置する場所としては電解
質層中であればどこでもよい。
本発明による溶存過酸化水素センサは、電解質層の一部
、あるいは全部を露出し、他の部分全体を防水被膜によ
り覆ってもよい。このようにすることにより、被測定液
中に溶存過酸化水素センサ全体をひたし、測定すること
が可能になる。
、あるいは全部を露出し、他の部分全体を防水被膜によ
り覆ってもよい。このようにすることにより、被測定液
中に溶存過酸化水素センサ全体をひたし、測定すること
が可能になる。
また、金属錯体の酸化体の蓄積を防ぐため、電解質層中
に還元用の電極を設けてもよい。還元用電極の形状は、
網状あるいは多孔質等で、溶存酸素やイオンが自由に出
入りできる構造になっていればよい、さらに電解質層と
の液絡部を有する電解液部を設け、この中に還元電流を
与える際の対極をM!LII¥1してもよい。電解液部
は、電解液層と同様の電解質溶液を有するものでKCl
2水溶液、NaCff1水溶液あるいはこれらのゲル状
のもの等が保持された構造とする。この時、電解液部と
電解JW層の電解質溶液の濃度は等しくなっていること
が好ましい、また、液絡部の構造は電解液部と電解質層
の電解質は自由に出入りできるが、電解質層の錯体が電
解液部へはいり込まないようになっていればよい。この
ような構造としては、管状のものにろ紙、寒天等をつめ
たものが挙げられる0w1解液部の中に設けられる対極
には、腐食されにくい貴金属Au、 Ptやステンレス
等を用いる。
に還元用の電極を設けてもよい。還元用電極の形状は、
網状あるいは多孔質等で、溶存酸素やイオンが自由に出
入りできる構造になっていればよい、さらに電解質層と
の液絡部を有する電解液部を設け、この中に還元電流を
与える際の対極をM!LII¥1してもよい。電解液部
は、電解液層と同様の電解質溶液を有するものでKCl
2水溶液、NaCff1水溶液あるいはこれらのゲル状
のもの等が保持された構造とする。この時、電解液部と
電解JW層の電解質溶液の濃度は等しくなっていること
が好ましい、また、液絡部の構造は電解液部と電解質層
の電解質は自由に出入りできるが、電解質層の錯体が電
解液部へはいり込まないようになっていればよい。この
ような構造としては、管状のものにろ紙、寒天等をつめ
たものが挙げられる0w1解液部の中に設けられる対極
には、腐食されにくい貴金属Au、 Ptやステンレス
等を用いる。
(作 用)
本発明による溶存過酸化水素センサの電解質層が被測定
液に接触すると被測定液中の過酸化水素が電解質層中に
はいり込む、そしてこの電解質層中にはいり込んだ過酸
化水素は、電解質層中のFe(II)錯体を酸化し酸化
体にかえる。このため、Fe錯体の還元体と酸化体の濃
度比が変化し、これによってゲート部に設けた導電体層
の電位が変化する。この電位変化をドレイン電流として
出力し、溶存酸存濃度を測定する。この際、ソースに対
して溶液の電位を所定のレベルに保つため、つまり。
液に接触すると被測定液中の過酸化水素が電解質層中に
はいり込む、そしてこの電解質層中にはいり込んだ過酸
化水素は、電解質層中のFe(II)錯体を酸化し酸化
体にかえる。このため、Fe錯体の還元体と酸化体の濃
度比が変化し、これによってゲート部に設けた導電体層
の電位が変化する。この電位変化をドレイン電流として
出力し、溶存酸存濃度を測定する。この際、ソースに対
して溶液の電位を所定のレベルに保つため、つまり。
ゲート電圧を測定可能な範囲に保つために参照電極を介
してバイアス電極をかけるが、測定中のゲート電圧は次
のような値に制御されている必要がある。
してバイアス電極をかけるが、測定中のゲート電圧は次
のような値に制御されている必要がある。
また、電解質層中に還元用の電極を設けた場合、この還
元用W1極に還元電流が与えられ、過酸化水素濃度に応
じて一定の酸化体、 iI!元体の濃度比が得られるよ
うになっている。ところでHlo、自体は還元の過電圧
が2vもあり容易に還元されないがFa(■)錯体が存
在すると還元される。このときFe(II)錯体が生成
するため界面電位が変わりFETによって検出可能とな
る。
元用W1極に還元電流が与えられ、過酸化水素濃度に応
じて一定の酸化体、 iI!元体の濃度比が得られるよ
うになっている。ところでHlo、自体は還元の過電圧
が2vもあり容易に還元されないがFa(■)錯体が存
在すると還元される。このときFe(II)錯体が生成
するため界面電位が変わりFETによって検出可能とな
る。
(実 施 例)
本発明を実施例に基づきさらに詳しく説明する。
第1図を参照し、本発明の詳細な説明する。
0)は絶縁ゲート型電界効果トランジスタであり、■は
ゲート部、(3)はソース、(イ)はドレインである。
ゲート部、(3)はソース、(イ)はドレインである。
■はSiO□層、(eは5x3N4 M 、■は導電体
層としての白金黒付白金層である。(ハ)は電解質層で
、1mMのFe(Il、In)−ヘモグロビン錯体を加
えたo、1トKCQ水溶液層である。ここで錯体の酸化
体の還元体の割合は1:9である。0はAg/AgC(
lfjltl;4、(10)は過酸水素透過膜(11)
、 (12) 、 (13) 、 (14) 、 (1
7) 。
層としての白金黒付白金層である。(ハ)は電解質層で
、1mMのFe(Il、In)−ヘモグロビン錯体を加
えたo、1トKCQ水溶液層である。ここで錯体の酸化
体の還元体の割合は1:9である。0はAg/AgC(
lfjltl;4、(10)は過酸水素透過膜(11)
、 (12) 、 (13) 、 (14) 、 (1
7) 。
(18)はリード線である。(15)は対極としてPt
fl!極、(16)は液絡部としてセラミックの管に寒
天を詰めたものである。(19)は還元電位設定機構で
あり。
fl!極、(16)は液絡部としてセラミックの管に寒
天を詰めたものである。(19)は還元電位設定機構で
あり。
前記、還元電極に
Fe(III)−ヘモグロビン+e→Fe(II)−ヘ
モグロビンの反応が起こるように、還元電位をかけるた
めのものである。本センサはFe(u、m)−ヘモグロ
ビンを含む水溶液に常に所定の還元電位をかけておき常
にFe(II)−ヘモグロビンが生成しつつ、一方で過
酸化水素透過膜(10)を透過してきた溶存過酸化水素
によってFe(II)−ヘモグロビンの酸化によりFe
(III)−ヘモグロビンが生成するような条件に保っ
ておいて測定液中の溶存過酸化水素濃度を測定しようと
するものである。
モグロビンの反応が起こるように、還元電位をかけるた
めのものである。本センサはFe(u、m)−ヘモグロ
ビンを含む水溶液に常に所定の還元電位をかけておき常
にFe(II)−ヘモグロビンが生成しつつ、一方で過
酸化水素透過膜(10)を透過してきた溶存過酸化水素
によってFe(II)−ヘモグロビンの酸化によりFe
(III)−ヘモグロビンが生成するような条件に保っ
ておいて測定液中の溶存過酸化水素濃度を測定しようと
するものである。
測定液中の溶存過酸化水素が多いときにはゲート部■に
形成した白色黒付白金層■近傍でのFe(III)−ヘ
モグロビン4度が高くなる結果、電位が正の方に移行す
る。これに対し、測定液中の溶存過酸化水素が少ないと
きにはFe(II)−ヘモグロビン濃度が高くなる結果
、電位が負の方に移行する。
形成した白色黒付白金層■近傍でのFe(III)−ヘ
モグロビン4度が高くなる結果、電位が正の方に移行す
る。これに対し、測定液中の溶存過酸化水素が少ないと
きにはFe(II)−ヘモグロビン濃度が高くなる結果
、電位が負の方に移行する。
これに応じて電界効果トランジスタの出力電流が変化す
る。
る。
なお、(20)は絶縁ゲート型電界効果トランジスタ(
1)の加電圧と出力の測定回路を含めた加電圧・測定機
構である。
1)の加電圧と出力の測定回路を含めた加電圧・測定機
構である。
本センサを用い、実際に各種溶存過酸化水素濃度の液に
対して測定を行なったところ、第2図に示すような検量
線を得ることができた。
対して測定を行なったところ、第2図に示すような検量
線を得ることができた。
本発明によれば、小型化、多量化が可能なFETセンサ
を利用した溶存過酸化水素センサを得ることができる。
を利用した溶存過酸化水素センサを得ることができる。
第1図は本発明の一実施例の概要図、第2図は本発明に
よる溶存過酸化水素センサを用いて作成した検量線を表
した特性図である。 1・・・絶縁ゲート型電界効果トランジスタ部2・・・
ゲート部 3・・・ソース4・・・ドレイン
5・・・5i02層6・・・Si、 l114
M 7・・・白色黒付白金層8 ・0.1
MK(4水溶液層 9 ・=Ag/AgCffttt
極10・・・H2O,透極膜 01.12,13,14,17.18・・・リード線1
5・・・Ptfi極 16・・・セラミック
の管19・・・還元電位設定機構20・・・加電圧・測
定機摘代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 竹 花 喜久男 第1図 H20t ”、7@−(PPm ) 第2図
よる溶存過酸化水素センサを用いて作成した検量線を表
した特性図である。 1・・・絶縁ゲート型電界効果トランジスタ部2・・・
ゲート部 3・・・ソース4・・・ドレイン
5・・・5i02層6・・・Si、 l114
M 7・・・白色黒付白金層8 ・0.1
MK(4水溶液層 9 ・=Ag/AgCffttt
極10・・・H2O,透極膜 01.12,13,14,17.18・・・リード線1
5・・・Ptfi極 16・・・セラミック
の管19・・・還元電位設定機構20・・・加電圧・測
定機摘代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 竹 花 喜久男 第1図 H20t ”、7@−(PPm ) 第2図
Claims (1)
- 絶縁ゲート型電界効果トランジスタのゲート部の表面部
に設けられた導電体層と、前記導電体層上部に設けられ
たFe(II)錯体を含有する電解質層と、前記電解質層
中に設けられた参照電極と、を具備することを特徴とす
る溶存過酸化水素センサ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61154998A JPS6311849A (ja) | 1986-07-03 | 1986-07-03 | 溶存過酸化水素センサ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61154998A JPS6311849A (ja) | 1986-07-03 | 1986-07-03 | 溶存過酸化水素センサ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6311849A true JPS6311849A (ja) | 1988-01-19 |
Family
ID=15596465
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61154998A Pending JPS6311849A (ja) | 1986-07-03 | 1986-07-03 | 溶存過酸化水素センサ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6311849A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0779983A (ja) * | 1993-09-13 | 1995-03-28 | Nippon Zeon Co Ltd | 押圧止血装置 |
-
1986
- 1986-07-03 JP JP61154998A patent/JPS6311849A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0779983A (ja) * | 1993-09-13 | 1995-03-28 | Nippon Zeon Co Ltd | 押圧止血装置 |
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