JPS63105042A - 高分子成形品 - Google Patents

高分子成形品

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Publication number
JPS63105042A
JPS63105042A JP61251095A JP25109586A JPS63105042A JP S63105042 A JPS63105042 A JP S63105042A JP 61251095 A JP61251095 A JP 61251095A JP 25109586 A JP25109586 A JP 25109586A JP S63105042 A JPS63105042 A JP S63105042A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser
roughened
polymer
polymer material
yag
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61251095A
Other languages
English (en)
Inventor
Tomotada Tochitani
栃谷 奉忠
Yasuhiko Ogisu
康彦 荻巣
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyoda Gosei Co Ltd
Original Assignee
Toyoda Gosei Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Toyoda Gosei Co Ltd filed Critical Toyoda Gosei Co Ltd
Priority to JP61251095A priority Critical patent/JPS63105042A/ja
Publication of JPS63105042A publication Critical patent/JPS63105042A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C59/00Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
    • B29C59/16Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by wave energy or particle radiation, e.g. infrared heating
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C35/00Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
    • B29C35/02Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
    • B29C35/08Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
    • B29C35/0805Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation
    • B29C2035/0838Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation using laser

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
  • Lining Or Joining Of Plastics Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の目的 (産業上の利用分野) 本発明は特にCO2レーザー又はYAGレーザーを使用
して表面に模様を描いたり、塗料や接着剤を塗布する際
に好適な高分子成形品に関するものであり、自動車部品
用樹脂成形品その他のあらゆる成形品として使用される
(従来の技術) 従来高分子材料の表面を粗面化(エツチング)する方法
としては、サンドペーパー、やすり等を用いる物理的な
方法又は酸例えばクロム酸を用いる湿式処理方法が行わ
れていた。
(発明が解決しようとする問題点) 上記従来技術において、物理的方法により高分子材料表
面を粗面化する方法は作業に手間がかかって、自動化が
難しく、クロム酸を用いた湿式処理方法は粗面化させな
い部分をマスキングする必要があり、またクロム酸の汚
水処理設備がいるという問題点があった。
発明の構成 (問題点を解決するための手段) 本発明は上記問題点を解決するために、高分子材料の表
面がレーザーによって粗面化されるという構成を採用し
ている。
(作用) 上記構成を採用したことにより、乾式にて高分子材料表
面の粗面化が思い通りの位置、形状で容易に、自由にし
かも正確にできる。
(実施例) 以下に本発明を具体化した実施例を第1図〜第4図を用
いて説明する。
−Cにレーザーは増幅倍率によって気体レーザー、液体
レーザー、固体レーザーの3種類に分けられ、以下の実
施例で用いるCO,レーザーは気体レーザーに属し、Y
AGレーザーは固体レーザーに属するものである。
またレーザーを用いて金属加工する場合、一般に単位面
積あたりに照射するレーザーのパワー密度によって切断
、溶接、アニーリングの加工法に分類されるが、以下の
実施例においては切断と溶接の中間パワー密度を用いる
ことにより、高分子材料表面の粗面化ができる。
実施例1 本実施例ではポリアセタール(以下POMという)、ガ
ラス繊維強化プラスチック(以下FRPという)又はポ
リプロピレン(以下PPという)の表面にCO□レーザ
ーを照射した。
次にPOMの表面を粗面化するのに使用したCO2レー
ザー照射装置について説明すると、第3図に示すように
CO□レーザー発生機14で発生したレーザーは集光レ
ンズ9により被加工物11に集光される。レーザービー
ムのスポット径は通常20μmで、この焦点をポカして
(デフォーカス)スポット径0.5 mm又は1■で行
った。上記CO□レーザー照射装置を用い、次の表−1
に示す加工条件に基づいて高分子材料表面の粗面化を行
った。
レーザー照射後の樹脂表面の状態についても表−1に併
記した。
なお、CO□レーザーは、その性質から光ファ表−1 本実施例で得られた高分子成形品の表面についてみると
、第1図に示すように高分子材料1としてのPOM、F
RP又はPPの表面1aはCO。
レーザーによって粗面化されている。そして上記高分子
材料1の表面1aは第2図に示すように山部1bと谷部
1cとが明瞭に認められる。またCO□レーザー照射の
ピッチが0.5mmの場合は、11の場合に比べて高分
子材料1の表面がより平滑になる。
COtレーザーによる樹脂表面の粗面化は後述するYA
Gレーザーによる樹脂表面の粗面化に比べて低い出力で
行うことができ、同出力の場合はより広い面積を高速で
粗面化することができる。
即ち、CO,レーザーの波長は10.6#m 、 YA
Gレーザーの波長は1.06μmであり、樹脂の吸収帯
と比較するとCO2レーザーが樹脂加工には適切である
実施例2 本実施例では、固体レーザーとしてのYAGレーザーを
用いてFRP、PP又はPOMの表面の加工処理を行っ
た。
次に上記高分子材料の表面を粗面化するのに使用したY
AGレーザー照射装置について説明すると、第4図に示
すようにYAGレーザー発生機2はレーザーロッド3、
ランプ4、レーザーの増幅作用をするミラー5、電源6
及びYAGレーザー発生機2を冷却する冷却水ポンプ7
から構成されている。
YAGレーザー発生機2で発生したレーザーは光フアイ
バーケーブル8を経由し、集光レンズ9により架台10
上の被加工物11に集光される。
その際被加工物11にレーザーが集光される付近には窒
素供給配管12を通って窒素ガスが吹きつけられる。
また光フアイバーケーブル8はロボット13によって自
由自在に被加工物11に対するレーザーの照射位置を調
節できる。
なお、YAGレーザ−ビームのスポット径はデフォーカ
スしても1mm程度が限度である。
上記YAGレーザー発生機を用い、次のような順序で高
分子材料表面にYAGレーザーを照射した。
まず、被加工物11である高分子材料を架台10上に載
せる。次いで被加工物11上に描きたい模様に沿ってレ
ーザーが照射されるようにロボット13を設定する。
そして、YAGレーザー発生機2が駆動され、レーザー
が発生し、それが光フアイバーケーブル8に導かれ、集
光レンズ9で集光されて、ロボットの操作で被加工物1
1の表面上に照射され、レーザー加工が行われる。
YAGレーザーのエネルギーは高密度であるので、被加
工物であるPOMの表面を精度よく確実に加工できる。
なお、POM表面の処理面積を大きくする場合は、デフ
ォーカスして単位面積当たりのパワー密度を小さくして
実施することができる。また、YAGレーザーは光ファ
イバーを用いて任意の位置で照射することができるので
前記COZ レーザーに比較して作業がしやすいという
利点がある。
YAGレーザーによる具体的な加工条件及びYAGレー
ザー照射後の樹脂表面の状態は表−2の通りである。
表−2 上記のようにYAGレーザーを用いることにより、樹脂
表面の粗面化をはかることができ、得られた樹脂の表面
は、前記実施例1と同様第1図に示すように高分子材料
1としてのFRP、PP又はPOMの表面1aはYAG
レーザーによって粗面化され、段差がついている。そし
て高分子材料lの表面1aは、第2図に示すように、山
部tbと谷部ICとが明瞭に認られる。
上記のいずれの実施例においても高分子材料の表面は、
境い目(見切り線)が鮮明であり、しかもレーザー加工
の自動化が簡単でコストも安く、加工時間も大幅に節約
できる。
さらに、FRP、、PP又はPOMの表面に塗料や接着
剤を塗布した場合、表面の粗面化に基づくアンカー効果
によって密着性が非常に良好となる。
本発明の高分子成形品は自動車の部品、例えばバンパー
、ラジェーターグリル、モール、インストルメントパネ
ル、エンブレム、電化製品のケース、例えば洗濯機のケ
ース、冷蔵庫のケース、テレビのケース、その他あらゆ
る製品に利用される。
本発明は上記実施例に限定されず、次のように構成する
こともできる。
(1)高分子材料(1)は、上記実施例では樹脂として
POM、FRP及びPPを用いたが、それ以外にポリア
ミド、ポリカーボネート、ABS樹脂、ポリブチレンテ
レフタレート(PBT)を用いることもでき、またゴム
として天然ゴム、合成ゴムも使用することができる。
合成ゴムとしては、ブタジェン系ゴム、イソプレン系ゴ
ム等のジエン系ゴム、ポリアルキレン・スルフィド等の
多硫化物系ゴム、エチレン・プロピレン系ゴム等のオレ
フィン系ゴム、アルキル・シロキサン縮合物等の存機ケ
イ素化合物系ゴム、ビニリデンフロライド−へキサフロ
ロプロピレン共重合物等のフッ素化合物系ゴム、ポリエ
ステル・イソシアネート縮合物等のウレタン系ゴム、ア
クリル酸エステル・架橋コモノマー共重合物等のビニル
系ゴム等があげられる。
(2)レーザーは、上記実施例では気体レーザーの1種
であるCO2レーザ−、固体レーザーの1種であるYA
Gレーザーを用いたが、それ以外の種類の気体レーザー
又は固体レーザー、さらに液体レーザーも用いることが
できる。
発明の効果 本発明の高分子成形品は、その表面に接着剤や塗料を塗
布した場合、アンカー効果により密着性が格段に向上し
、かつ表面の粗面化が思い通りの位置、形状で容易に、
自由にしかも正確にできるという優れた効果を奏する。
さらに、レーザー照射の自動化が簡単にでき、作業時間
の短縮及びコストの節約ができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の粗面化された高分子成形品の表面を示
す斜視図、第2図は同じく本発明の高分子成形品の表面
の拡大断面図、第3図はCO□レーザー照射装置を示す
模式図、第4図はYAGレーザーの発生及び照射機構を
示す模式図である。 1・・・高分子材料

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、高分子材料(1)の表面がレーザーによって粗面化
    された高分子成形品。 2、レーザーはCO_2レーザーである特許請求の範囲
    第1項に記載の高分子成形品。 3、レーザーはYAGレーザーである特許請求の範囲第
    1項に記載の高分子成形品。 4、高分子材料(1)はポリアセタール、ガラス繊維強
    化プラスチック又はポリオレフィンである特許請求の範
    囲第1項に記載の高分子成形品。
JP61251095A 1986-10-21 1986-10-21 高分子成形品 Pending JPS63105042A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03502587A (ja) * 1988-02-05 1991-06-13 レイケム・リミテッド ポリマーのレーザー加工
EP0600256A1 (en) * 1992-11-05 1994-06-08 SHARP Corporation Electrophotographic photoreceptor, method of producing the photoreceptor, and image-correcting method using the photoreceptor
FR2837135A1 (fr) * 2002-03-13 2003-09-19 Qualipac Sa Procede de fabrication d'une piece en matiere plastique presentant un decor metal duquel se detache visuellement un motif
JP2010180919A (ja) * 2009-02-04 2010-08-19 Uchiyama Manufacturing Corp ガスケット構造体
CN110871566A (zh) * 2018-08-31 2020-03-10 空中客车防卫和太空有限责任公司 用于将基于硫和芳香烃的纤维复合塑料中的碳纤维表面纳米结构化的方法

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