JPS6310486Y2 - - Google Patents
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- JPS6310486Y2 JPS6310486Y2 JP2751687U JP2751687U JPS6310486Y2 JP S6310486 Y2 JPS6310486 Y2 JP S6310486Y2 JP 2751687 U JP2751687 U JP 2751687U JP 2751687 U JP2751687 U JP 2751687U JP S6310486 Y2 JPS6310486 Y2 JP S6310486Y2
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- Japan
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 73
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 22
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 6
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 3
- 238000005098 hot rolling Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は光学走査装置、さらに詳しくは、例え
ば熱間圧延で製造する鋼管外径を非接触で測定す
るために用いる光学走査装置に関する。
ば熱間圧延で製造する鋼管外径を非接触で測定す
るために用いる光学走査装置に関する。
上記光学走査装置の用途の例として、連続式管
圧延機あるいはマンドレルミルと呼ばれ継目無鋼
管の製造装置において、複数連設されたミルスタ
ンドにより順次管圧延を行なう際に各ミルスタン
ド間の鋼管外径(以下、バルジ幅という)を測定
し、その測定値によりマンドレルミルを制御する
装置が、特開昭54−126652号によつて提案されて
いる。該装置においては、一対のミルロールを組
込んだミルスタンドの間隔が狭く、またミルロー
ルが圧延スケジユールに応じて交換しなければな
らず、さらに、ミルスタンドの近くには他の装置
が配置されておりこれらと光学走査装置との干渉
を避けなければならず、他方、精度上の要求から
光学走査装置自身が鋼管に近接して配置されなけ
ればならないことから、光学走査装置は小型であ
ることの要求が極めて強い。
圧延機あるいはマンドレルミルと呼ばれ継目無鋼
管の製造装置において、複数連設されたミルスタ
ンドにより順次管圧延を行なう際に各ミルスタン
ド間の鋼管外径(以下、バルジ幅という)を測定
し、その測定値によりマンドレルミルを制御する
装置が、特開昭54−126652号によつて提案されて
いる。該装置においては、一対のミルロールを組
込んだミルスタンドの間隔が狭く、またミルロー
ルが圧延スケジユールに応じて交換しなければな
らず、さらに、ミルスタンドの近くには他の装置
が配置されておりこれらと光学走査装置との干渉
を避けなければならず、他方、精度上の要求から
光学走査装置自身が鋼管に近接して配置されなけ
ればならないことから、光学走査装置は小型であ
ることの要求が極めて強い。
さらにまた、この光学走査装置は、これにより
得られたバルジ幅の測定値に基づいてマンドレル
ミルの制御を行うことから、バルジ幅を高精度で
かつリアルタイムに測定する必要がある。
得られたバルジ幅の測定値に基づいてマンドレル
ミルの制御を行うことから、バルジ幅を高精度で
かつリアルタイムに測定する必要がある。
ところで、例えば熱間圧延で製造する鋼管の外
径を非接触かつ連続的に測定し、オンラインで該
鋼管製造装置を制御する装置の走査装置として
は、光学走査方式が最も良く知られている。そし
て前記光学走査方式には、スキヤニングイメージ
方式とフライングイメージ方式とがある。
径を非接触かつ連続的に測定し、オンラインで該
鋼管製造装置を制御する装置の走査装置として
は、光学走査方式が最も良く知られている。そし
て前記光学走査方式には、スキヤニングイメージ
方式とフライングイメージ方式とがある。
上記スキヤニングイメージ方式は、結像面をス
リツトによつて直接回転走査する方式である。こ
のスキヤニングイメージ方式は、走査光束が投影
レンズの光学中心を中心として回動走査する回動
形と、走査光学を投影レンズの焦点位置を中心と
して回動し被走査部において走査光学が平行走査
する平行形とがある。スキヤニングイメージ方式
は、走査範囲が比較的狭いが、機構が簡単でしか
も高精度走査に適し、また円弧誤差や正接誤差が
補正可能であるから直線性走査が可能である特徴
を有する。
リツトによつて直接回転走査する方式である。こ
のスキヤニングイメージ方式は、走査光束が投影
レンズの光学中心を中心として回動走査する回動
形と、走査光学を投影レンズの焦点位置を中心と
して回動し被走査部において走査光学が平行走査
する平行形とがある。スキヤニングイメージ方式
は、走査範囲が比較的狭いが、機構が簡単でしか
も高精度走査に適し、また円弧誤差や正接誤差が
補正可能であるから直線性走査が可能である特徴
を有する。
一方、フライングイメージ方式は、走査光束を
回転鏡で反射して回動させ、結像面の固定スリツ
トの像が被走査面上を走査するものである。な
お、フライングイメージ方式で平行走査を行なう
場合は、回転鏡で反射された光束を凹面鏡で反射
させてから被走査面に送る。フライングイメージ
方式は、スキヤニングイメージ方式に比較して走
査範囲が大きくとれかつ光束走査に適する。反
面、半透鏡、回転ミラー周期系、対物レンズ系等
の配置が複雑となり、大型化するという構造上の
問題がある。
回転鏡で反射して回動させ、結像面の固定スリツ
トの像が被走査面上を走査するものである。な
お、フライングイメージ方式で平行走査を行なう
場合は、回転鏡で反射された光束を凹面鏡で反射
させてから被走査面に送る。フライングイメージ
方式は、スキヤニングイメージ方式に比較して走
査範囲が大きくとれかつ光束走査に適する。反
面、半透鏡、回転ミラー周期系、対物レンズ系等
の配置が複雑となり、大型化するという構造上の
問題がある。
ところで、小型化に適した上記スキヤニングイ
メージ方式には、二眼式回動走査形と一眼式平行
走査形とがある。
メージ方式には、二眼式回動走査形と一眼式平行
走査形とがある。
従来知られている二眼式回動走査形のスキヤニ
ングイメージ方式の装置は、複数のスリツトを有
する回動ドラム上に被走査面の像を投影し、さら
に上記スリツトを通過した光束を光電変換素子上
に投光してなる走査ユニツトを2台並置し、再走
査ユニツトの走査方向が対向するように構成され
る。本装置は2つの回動ドラムを有しこれらを同
期して回転しなければならないから、小型化に制
限がありまた装置が複雑である欠点がある。な
お、回転ドラムの小型化は、スリツト走査面の円
筒面化を招き、走査位置によつて結像関係がくず
れて走査精度が下がるので、回転ドラムの小型化
にも限度がある。
ングイメージ方式の装置は、複数のスリツトを有
する回動ドラム上に被走査面の像を投影し、さら
に上記スリツトを通過した光束を光電変換素子上
に投光してなる走査ユニツトを2台並置し、再走
査ユニツトの走査方向が対向するように構成され
る。本装置は2つの回動ドラムを有しこれらを同
期して回転しなければならないから、小型化に制
限がありまた装置が複雑である欠点がある。な
お、回転ドラムの小型化は、スリツト走査面の円
筒面化を招き、走査位置によつて結像関係がくず
れて走査精度が下がるので、回転ドラムの小型化
にも限度がある。
また、他の二眼式回動走査形のスキヤニングイ
メージ方式として実公昭40−27034号によつて提
案された光電幅計がある。本装置は、被走査物の
両端部の像を回転ドラム上に投影し、この回転ド
ラムには上記被走査物の端部の像を交互に走査す
るように複数のスリツトが設けられ、このスリツ
トを通過した光束を1個の光電変換素子上に投光
するように構成され、一つの光電変換素子に被走
査物の両端部の像を交互に検出するようにして小
型化を図つたものである。ところで、光学走査装
置の測定対象である熱間での圧延材の外径は25
mm/sec程度の速度の変動を生ずることがあり、
この場合においても精度0.1mmを得ようとすれば
1走査250Hzという高速走査で測定しなければ、
被走査物の両端を静止画像として測定できない。
メージ方式として実公昭40−27034号によつて提
案された光電幅計がある。本装置は、被走査物の
両端部の像を回転ドラム上に投影し、この回転ド
ラムには上記被走査物の端部の像を交互に走査す
るように複数のスリツトが設けられ、このスリツ
トを通過した光束を1個の光電変換素子上に投光
するように構成され、一つの光電変換素子に被走
査物の両端部の像を交互に検出するようにして小
型化を図つたものである。ところで、光学走査装
置の測定対象である熱間での圧延材の外径は25
mm/sec程度の速度の変動を生ずることがあり、
この場合においても精度0.1mmを得ようとすれば
1走査250Hzという高速走査で測定しなければ、
被走査物の両端を静止画像として測定できない。
しかしながら、実公昭40−27034号において提
案された光電幅計では、1個の光電変換素子で被
走査物の両端を時分割に測定するから回転スリツ
トの数が同じで回転ドラムの回転速度が同一であ
れば走査速度が半分に低下する。従つて、高速で
移動しかつ外径が変動する被測定物を測定する場
合は、測定精度は著じるしく低下することとな
る。即ち、上記の場合には被走査物の一端の測定
を行つた後、他端の測定するまでの間に被走査物
が移動してしまい、本来測定すべき径方向に対し
ずれた方向の測定を行つてしまうこととなるから
である。
案された光電幅計では、1個の光電変換素子で被
走査物の両端を時分割に測定するから回転スリツ
トの数が同じで回転ドラムの回転速度が同一であ
れば走査速度が半分に低下する。従つて、高速で
移動しかつ外径が変動する被測定物を測定する場
合は、測定精度は著じるしく低下することとな
る。即ち、上記の場合には被走査物の一端の測定
を行つた後、他端の測定するまでの間に被走査物
が移動してしまい、本来測定すべき径方向に対し
ずれた方向の測定を行つてしまうこととなるから
である。
一方、従来知られている一眼式平行走査形のス
キヤニングイメージ方式の装置は、複数のスリツ
トを設けた回転ドラムの中心位置に光路分割プリ
ズムを配置し、被走査面を投影レンズ及び上記光
路分割プリズムを介して上記回転ドラム内壁の対
称な2個所に投影する。また、上記投影レンズの
結像側焦点位置にスリツト絞りを設けるととも
に、上記回転ドラムのスリツトを通過した光束を
それぞれ2つの光電変換素子上に投光するように
構成する。上記構成において、被走査面上を走査
する光束は投影レンズに平行に入射する光束とな
る。上記一眼式平行走査形のスキヤニングイメー
ジ方式の装置は回転ドラムが一個であるから小型
化に適し回転同期が不要である長所を有するが、
平行走査であるから、投影レンズの直径が被走査
物よりも大きいことが必要である。
キヤニングイメージ方式の装置は、複数のスリツ
トを設けた回転ドラムの中心位置に光路分割プリ
ズムを配置し、被走査面を投影レンズ及び上記光
路分割プリズムを介して上記回転ドラム内壁の対
称な2個所に投影する。また、上記投影レンズの
結像側焦点位置にスリツト絞りを設けるととも
に、上記回転ドラムのスリツトを通過した光束を
それぞれ2つの光電変換素子上に投光するように
構成する。上記構成において、被走査面上を走査
する光束は投影レンズに平行に入射する光束とな
る。上記一眼式平行走査形のスキヤニングイメー
ジ方式の装置は回転ドラムが一個であるから小型
化に適し回転同期が不要である長所を有するが、
平行走査であるから、投影レンズの直径が被走査
物よりも大きいことが必要である。
本考案は上記従来の光学走査装置の問題を鑑み
なされたものであつて、小型かつ精度の高い測定
が可能な光学走査装置を提供することを目的とす
るものであつて、その構成上の特徴とするところ
は、複数のスリツトを有する回動スリツト部と、
被走査物の両端部を反射面を介し上記回動スリツ
ト上にそれぞれ独立して投影する第1光学系及び
第2光学系と、上記第1光学系により投影され上
記回動スリツトを透過した光束を第1光電変換素
子へリレーする第1リレー光学系と、上記第2光
学系により投影され上記回動スリツトを透過した
光束を第2光電変換素子へリレーする第2リレー
光学系とを有し、上記回動スリツト部の上記スリ
ツトは、上記第1光学系からの光束を第1光電変
換素子へ、また上記第2光学系からの光束を第2
光電変換素子へ同一タイミングで導くように設け
られ、かつ、上記第1光学系と上記第2光学系と
の反射面数に差をもたせることにより被走査物か
ら外側に向けて又は被走査物を挟み込む方向に同
一タイミングで走査することである。
なされたものであつて、小型かつ精度の高い測定
が可能な光学走査装置を提供することを目的とす
るものであつて、その構成上の特徴とするところ
は、複数のスリツトを有する回動スリツト部と、
被走査物の両端部を反射面を介し上記回動スリツ
ト上にそれぞれ独立して投影する第1光学系及び
第2光学系と、上記第1光学系により投影され上
記回動スリツトを透過した光束を第1光電変換素
子へリレーする第1リレー光学系と、上記第2光
学系により投影され上記回動スリツトを透過した
光束を第2光電変換素子へリレーする第2リレー
光学系とを有し、上記回動スリツト部の上記スリ
ツトは、上記第1光学系からの光束を第1光電変
換素子へ、また上記第2光学系からの光束を第2
光電変換素子へ同一タイミングで導くように設け
られ、かつ、上記第1光学系と上記第2光学系と
の反射面数に差をもたせることにより被走査物か
ら外側に向けて又は被走査物を挟み込む方向に同
一タイミングで走査することである。
以下本考案の実施例を図にもとづいて説明す
る。第1実施例の光学走査装置1は、第1図、第
2図に示すように、複数のスリツト2を有する回
転ドラム4、被走査物の端部6を回転ドラム4の
上面8に投影する第1光学系10、被走査物の他
の端部12を回転ドラム4の下面14に投影する
第2光学系16、第2光学系16に配置されて像
反転光学系を構成するペンタプリズム18、回転
ドラム4の上面8の下方に配置された第1リレー
光学系20及び第1光電変換素子22、回転ドラ
ム4の下面14の上方に配置された第2リレー光
学系24及び第2光電変換素子26から構成され
る。上記第1光学系10は第1投影レンズ30及
び1つの反射面を有する反射鏡32からなり、第
2光学系16は第2投影レンズ34及び2つの反
射面を有するペンタプリズム18からなり、第1
リレー光学系24は反射鏡42及び第2リレーレ
ンズ38及び光量調節フイルター40からなり、
第2リレー光学系24は反射鏡42及び第2リレ
ーレンズ44からなる。また、回転ドラム4は駆
動機構46によつて回転させられる。
る。第1実施例の光学走査装置1は、第1図、第
2図に示すように、複数のスリツト2を有する回
転ドラム4、被走査物の端部6を回転ドラム4の
上面8に投影する第1光学系10、被走査物の他
の端部12を回転ドラム4の下面14に投影する
第2光学系16、第2光学系16に配置されて像
反転光学系を構成するペンタプリズム18、回転
ドラム4の上面8の下方に配置された第1リレー
光学系20及び第1光電変換素子22、回転ドラ
ム4の下面14の上方に配置された第2リレー光
学系24及び第2光電変換素子26から構成され
る。上記第1光学系10は第1投影レンズ30及
び1つの反射面を有する反射鏡32からなり、第
2光学系16は第2投影レンズ34及び2つの反
射面を有するペンタプリズム18からなり、第1
リレー光学系24は反射鏡42及び第2リレーレ
ンズ38及び光量調節フイルター40からなり、
第2リレー光学系24は反射鏡42及び第2リレ
ーレンズ44からなる。また、回転ドラム4は駆
動機構46によつて回転させられる。
以上の構成において、被走査物の端部6と回転
ドラム4の上面8とは第1投影レンズ30に関し
て共役関係にあり、また第1投影レンズ30と光
電変換素子22とは第1リレーレンズ38に関し
て共役関係にある。また、被走査物の他端12と
回転ドラム4の下面14とは第2投影レンズ34
に関して共役関係にあり、また第2投影レンズ3
4と光電変換素子26とは第2リレーレンズ44
に関し共役関係にある。そして、回転ドラム4が
第1図の矢印Aで示す方向に回転すると、被走査
物の端部6,12においては矢印B,Cで示す方
向に走査することとなる。従つて、第1光学系1
0及び第2光学系16による走査光束は被走査物
を両外側から挟み込むように走査することにな
り、被走査物の両端部6,12における走査時期
のずれがほぼ無くなり、正確な測定が可能であ
る。光量調節フイルター40は、第1光学系10
と第2光学系16とにおける光量損失の差を補償
するものであつて、これを備えることにより2つ
の光電変換素子22,26の入射光量の均衡を保
つことができる。
ドラム4の上面8とは第1投影レンズ30に関し
て共役関係にあり、また第1投影レンズ30と光
電変換素子22とは第1リレーレンズ38に関し
て共役関係にある。また、被走査物の他端12と
回転ドラム4の下面14とは第2投影レンズ34
に関して共役関係にあり、また第2投影レンズ3
4と光電変換素子26とは第2リレーレンズ44
に関し共役関係にある。そして、回転ドラム4が
第1図の矢印Aで示す方向に回転すると、被走査
物の端部6,12においては矢印B,Cで示す方
向に走査することとなる。従つて、第1光学系1
0及び第2光学系16による走査光束は被走査物
を両外側から挟み込むように走査することにな
り、被走査物の両端部6,12における走査時期
のずれがほぼ無くなり、正確な測定が可能であ
る。光量調節フイルター40は、第1光学系10
と第2光学系16とにおける光量損失の差を補償
するものであつて、これを備えることにより2つ
の光電変換素子22,26の入射光量の均衡を保
つことができる。
第2実施例の光学走査装置50は、第3図に示
すものであるが、第1実施例と同一の構成につい
ては同一の符号を付してその説明を省略する。第
2光学系16の2つの反射面をもつペンタプリズ
ム52を有し、これは入射光軸と射出光軸とのな
す角が90゜より大きい。そして、第1光学系10
の光軸と第2光学系16の光軸とが回転ドラム4
の中心において交差するように反射鏡54及びペ
ンタプリズム52が配置される。回転ドラム4の
内部における第1光学系10の光軸の延長上に第
1リレーレンズ56及び光電変換素子58が配置
され、また、回転ドラム4の内部における第2光
学系16の光軸の延長上に第2リレーレンズ6
0、光量調節フイルター62及び光電変換素子6
4が配置される。第2実施例は光学系を一平面内
に配置することができるから、第1実施例に比較
してより小型化できる。
すものであるが、第1実施例と同一の構成につい
ては同一の符号を付してその説明を省略する。第
2光学系16の2つの反射面をもつペンタプリズ
ム52を有し、これは入射光軸と射出光軸とのな
す角が90゜より大きい。そして、第1光学系10
の光軸と第2光学系16の光軸とが回転ドラム4
の中心において交差するように反射鏡54及びペ
ンタプリズム52が配置される。回転ドラム4の
内部における第1光学系10の光軸の延長上に第
1リレーレンズ56及び光電変換素子58が配置
され、また、回転ドラム4の内部における第2光
学系16の光軸の延長上に第2リレーレンズ6
0、光量調節フイルター62及び光電変換素子6
4が配置される。第2実施例は光学系を一平面内
に配置することができるから、第1実施例に比較
してより小型化できる。
本考案の光学走査装置は以上のように構成され
るから、小型で簡単な構造であり、また精度の高
い測定が可能であり、マンドレルミルにおけるバ
ルジ幅測定にも具合よく使用できるものである。
るから、小型で簡単な構造であり、また精度の高
い測定が可能であり、マンドレルミルにおけるバ
ルジ幅測定にも具合よく使用できるものである。
第1図は第1実施例の説明図、第2図は第1実
施例の回転ドラム内部の説明図、第3図は第2実
施例の説明図である。 1……光学走査装置、2……スリツト、4……
回転ドラム、10……第1光学系、16……第2
光学系、18……ペンタプリズム、20……第1
リレー光学系、22……第1光電変換素子、24
……第2リレー光学系、26……第2光電変換素
子、40……光量調節フイルター。
施例の回転ドラム内部の説明図、第3図は第2実
施例の説明図である。 1……光学走査装置、2……スリツト、4……
回転ドラム、10……第1光学系、16……第2
光学系、18……ペンタプリズム、20……第1
リレー光学系、22……第1光電変換素子、24
……第2リレー光学系、26……第2光電変換素
子、40……光量調節フイルター。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 複数のスリツトを有する回動スリツト部と、被
走査物の両端部を反射面を介し上記回動スリツト
上にそれぞれ独立して投影する第1光学系及び第
2光学系と、 上記第1光学系により投影され上記回動スリツ
トを透過した光束を第1光電変換素子へリレーす
る第1リレー光学系と、 上記第2光学系により投影され上記回動スリツ
トを透過した光束を第2光電変換素子へリレーす
る第2リレー光学系とを有し、 上記回動スリツト部の上記スリツトは、上記第
1光学系からの光束を第1光電変換素子へ、また
上記第2光学系からの光束を第2光電変換素子へ
同一タイミングで導くように設けられ、かつ、 上記第1光学系と上記第2光学系との反射面数
に差をもたせることにより被走査物から外側に向
けて又は被走査物を挟み込む方向に同一タイミン
グで走査することを特徴とする光学走査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2751687U JPS6310486Y2 (ja) | 1987-02-26 | 1987-02-26 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2751687U JPS6310486Y2 (ja) | 1987-02-26 | 1987-02-26 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62146904U JPS62146904U (ja) | 1987-09-17 |
JPS6310486Y2 true JPS6310486Y2 (ja) | 1988-03-29 |
Family
ID=30829622
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2751687U Expired JPS6310486Y2 (ja) | 1987-02-26 | 1987-02-26 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6310486Y2 (ja) |
-
1987
- 1987-02-26 JP JP2751687U patent/JPS6310486Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62146904U (ja) | 1987-09-17 |
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