JPS6310484B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6310484B2 JPS6310484B2 JP54168998A JP16899879A JPS6310484B2 JP S6310484 B2 JPS6310484 B2 JP S6310484B2 JP 54168998 A JP54168998 A JP 54168998A JP 16899879 A JP16899879 A JP 16899879A JP S6310484 B2 JPS6310484 B2 JP S6310484B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- magnetic head
- film magnetic
- block
- head pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 52
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 12
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 9
- 239000010408 film Substances 0.000 description 7
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 5
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
本発明は、側面に薄膜磁気ヘツドパターンが側
面に形成されているスライダブロツクの浮上面に
マスク材をエツチングする際に、このスライダブ
ロツクの薄膜磁気ヘツドパターン面に、他のスラ
イダブロツクの薄膜磁気ヘツドタパターン面かま
たはダミーブロツクを突き合わせことによつて、
マスク材のまわり込みにみる薄膜磁気ヘツドパタ
ーンの短絡を防止するようにした。Detailed Description of the Invention [Summary] The present invention provides a method for etching a mask material on the air bearing surface of a slider block having a thin-film magnetic head pattern formed on its side surface. By matching the thin film magnetic header pattern surface of another slider block or a dummy block,
This prevents the thin film magnetic head pattern from shorting when it wraps around the mask material.
本発明は、磁気デイスク装置等の情報の記録／
再生に使用される薄膜磁気ヘツドの製造方法に関
する。
The present invention provides information recording/recording of magnetic disk devices, etc.
The present invention relates to a method of manufacturing a thin film magnetic head used for reproduction.
薄膜磁気ヘツドは、半導体回路素子の製造等に
使用されている薄膜製造技術を使用した微細なパ
ターンにより形成されている。 The thin film magnetic head is formed by a fine pattern using thin film manufacturing technology used in the manufacture of semiconductor circuit elements.
このような薄膜磁気ヘツドの基板及びブロツク
等を数μｍ程度にエツチングしたい場合、イオン
エツチングが使用されている。 Ion etching is used when it is desired to etch the substrate, blocks, etc. of such a thin film magnetic head to a thickness of several micrometers.
例えば、薄膜磁気ヘツドの狭トラツク化または
スライダの溝加工に利用されている。 For example, it is used to narrow the tracks of thin film magnetic heads or to process grooves in sliders.
第１図は、薄膜磁気ヘツドブロツクの説明図で
あり、同図に示されるように、スライダブロツク
１には、薄膜磁気ヘツドパターン２が形成され、
この薄膜磁気ヘツドパターン２部には保護膜３が
形成されている。さらに、複数の薄膜磁気ヘツド
パターンが形成されているスライダブロツク１を
切り出す際に薄膜ヘツドパターン２を保護するた
めのカバーガラス４が設けられている。
FIG. 1 is an explanatory diagram of a thin film magnetic head block. As shown in the figure, a thin film magnetic head pattern 2 is formed on a slider block 1.
A protective film 3 is formed on this thin film magnetic head pattern 2 portion. Furthermore, a cover glass 4 is provided to protect the thin film head patterns 2 when cutting out the slider block 1 on which a plurality of thin film magnetic head patterns are formed.
このような薄膜磁気ヘツドブロツクに対する従
来のイオンエツチング方法としては、まず、浮上
面５にエツチングマスクを成膜する。 In the conventional ion etching method for such a thin film magnetic headblock, an etching mask is first formed on the air bearing surface 5. As shown in FIG.
そして、薄膜磁気ヘツドパターン２が形成され
たブロツク１の浮上面５に所望のイオンエツチン
グ処理を施す。 Then, a desired ion etching process is performed on the air bearing surface 5 of the block 1 on which the thin film magnetic head pattern 2 is formed.
しかしながら、従来の方法では、エツチング用
マスク材を成膜する際に、このマスク材が薄膜磁
気ヘツドパターン２にまわり込むことがあり、薄
膜磁気ヘツドパターン２にマスク材が成膜されて
しまい、このマスク材がアルミニウム、チタン等
で出来ているため、薄膜磁気ヘツドパターン２が
シヨートするという問題があつた。
However, in the conventional method, when forming the etching mask material, this mask material may wrap around the thin film magnetic head pattern 2, resulting in the mask material being formed on the thin film magnetic head pattern 2, and this Since the mask material is made of aluminum, titanium, etc., there is a problem that the thin film magnetic head pattern 2 is shot.
また、このブロツク１の浮上面５をイオンエツ
チングする際には、同様にブロツク１の側面もエ
ツチングされる事があり、薄膜磁気ヘツドパター
ン２及び保護膜３がエツチングされてしまうとい
う問題があつた。 Furthermore, when the air bearing surface 5 of the block 1 is ion-etched, the side surfaces of the block 1 may also be etched, resulting in the problem that the thin film magnetic head pattern 2 and the protective film 3 are etched. .
本発明の目的は、前述した従来の問題に鑑み、
スライダブロツクの浮上面に対してエツチング処
理する際に、薄膜磁気ヘツドパターンがシヨート
することがなく、且つ薄膜磁気ヘツドパターンや
保護膜がエツチングされることのない薄膜磁気ヘ
ツドの製造方法を提供することにある。 In view of the above-mentioned conventional problems, an object of the present invention is to
To provide a method for manufacturing a thin film magnetic head in which the thin film magnetic head pattern is not shot and the thin film magnetic head pattern and the protective film are not etched when etching the air bearing surface of a slider block. It is in.
そして、この目的は、磁気デイスク装置等の情
報の記録再生に使用する薄膜磁気ヘツドの製造方
法であつて、薄膜磁気ヘツドスライダブロツクの
浮上面とは異なる側面に薄膜磁気ヘツドパターン
を形成する工程と、該薄膜磁気ヘツドパターンの
形成されたスライダブロツクに対し該薄膜磁気ヘ
ツドパターンを保護するように該薄膜磁気ヘツド
パターン面に他のスライダブロツクの薄膜磁気ヘ
ツドパターン面を突き合わせるか、またはダミー
ブロツクを突き合わせる工程と、突き合わされた
スライダブロツクの浮上面にエツチング用マスク
材を成膜する工程と、マスク材が成膜されたスラ
イダブロツクの浮上面をエツチング処理する工程
と、突き合わせされた他のスライダブロツクまた
はダミーブロツクを、前記スライダブロツクから
分離する工程と、を含んでなることを特徴とする
薄膜磁気ヘツドの製造方法に達成される。
This object is a method for manufacturing a thin film magnetic head used for recording and reproducing information in a magnetic disk device, etc., which includes a step of forming a thin film magnetic head pattern on a side surface different from the air bearing surface of a thin film magnetic head slider block. To protect the thin film magnetic head pattern from the slider block on which the thin film magnetic head pattern is formed, the thin film magnetic head pattern surface of another slider block is brought into contact with the thin film magnetic head pattern surface, or a dummy block is provided. A step of butting the slider blocks together, a step of forming an etching mask material on the air bearing surface of the abutted slider blocks, a step of etching the air bearing surface of the slider block on which the mask material has been formed, and another step of the butted slider blocks. A method for manufacturing a thin film magnetic head is achieved, which comprises the step of separating a block or dummy block from the slider block.
すなわち、スライダブロツクの浮上面にマスク
材を成膜する前に、薄膜磁気ヘツドパターン面に
他のスライダブロツク又はダミーブロツクを突き
合わせるようにしているので、マスク材の成膜時
に、薄膜磁気ヘツドパターン面にマスク材がまわ
り込むことがなく、また、エツチング処理も行な
われることがなく、前述したような問題は発生し
ない。
That is, before the mask material is deposited on the air bearing surface of the slider block, another slider block or a dummy block is brought into contact with the thin film magnetic head pattern surface, so that when the mask material is deposited, the thin film magnetic head pattern is The mask material does not wrap around the surface, and no etching process is performed, so the above-mentioned problems do not occur.
以下本発明に係る薄膜磁気ヘツドの製造方法の
実施例を図面を用いて詳細に説明する。
Embodiments of the method for manufacturing a thin film magnetic head according to the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.
第２図は、本発明の薄膜磁気ヘツドの製造方法
の一実施例の説明図である。 FIG. 2 is an explanatory diagram of an embodiment of the method for manufacturing a thin film magnetic head of the present invention.
図において、第１図と同一部分には、同一番号
を付し、その説明は省略する。 In the figure, the same parts as in FIG. 1 are given the same numbers, and the explanation thereof will be omitted.
第１図に示される如く薄膜磁気ヘツドパターン
２が形成されたスライダブロツク１は、第２図に
示されるように、複数のブロツク１をカバーガラ
ス４を介して隙間なく突き合わされる。 As shown in FIG. 1, a plurality of slider blocks 1 on which a thin film magnetic head pattern 2 is formed are butted against each other with a cover glass 4 interposed therebetween, as shown in FIG.
そして、この状態で、マスク材を成膜し、その
後、イオンエツチング処理を施す。 Then, in this state, a mask material is formed into a film, and then an ion etching process is performed.
その後、複数のブロツク１を分離して夫々次の
工程が行なわれる。 Thereafter, the plurality of blocks 1 are separated and subjected to the next process.
このように、本実施例によれば、マスク材が薄
膜磁気ヘツドパターン２に流れ込むこともなく、
また、イオンエツチングの際にエツチングされる
こともない。 In this way, according to this embodiment, the mask material does not flow into the thin film magnetic head pattern 2.
Furthermore, it is not etched during ion etching.
第３図は、本発明の薄膜磁気ヘツドの製造方法
の他の実施例の説明図である。 FIG. 3 is an explanatory diagram of another embodiment of the method for manufacturing a thin film magnetic head of the present invention.
図において、第１図と同一部分には、同一番号
を付し、その説明は省略する他、６はダミーブロ
ツクであり、第３図に示すように、複数のブロツ
ク１を隙間なく突き合わせた場合に、薄膜磁気ヘ
ツドパターンが側面に出る場合に、図のように設
けられるものである。 In the figure, the same parts as in Figure 1 are given the same numbers and their explanations are omitted. In addition, 6 is a dummy block, and as shown in Figure 3, when multiple blocks 1 are butted together without any gaps, In particular, when the thin film magnetic head pattern is exposed on the side, it is provided as shown in the figure.
従つて、第２図と同様に、マスク材の成膜、イ
オンエツチングからパターンを保護することがで
きる。 Therefore, as in FIG. 2, the pattern can be protected from mask material film formation and ion etching.
以上説明したように、本発明によれば、薄膜磁
気ヘツドパターンが側面に露出しているスライダ
ブロツクの浮上面にイオンエツチングを行なう際
に、薄膜磁気ヘツドパターンが短絡したり、保護
膜がエツチングされたりすることがない。
As explained above, according to the present invention, when ion etching is performed on the air bearing surface of a slider block where the thin film magnetic head pattern is exposed on the side surface, the thin film magnetic head pattern may be short-circuited or the protective film may be etched. There is nothing to do.
第１図は本発明に係る薄膜磁気ヘツドブロツク
の一例を示す図、第２図、第３図は本発明に係る
薄膜磁気ヘツドの製造方法の実施例の説明図であ
る。
図において、１はスライダブロツク、２は薄膜
磁気ヘツドパターン、３は保護膜、４はカバーガ
ラス、５は浮上面（エツチング部）、６はダミー
ブロツクを示す。
FIG. 1 is a diagram showing an example of a thin film magnetic head block according to the present invention, and FIGS. 2 and 3 are explanatory diagrams of an embodiment of the method for manufacturing a thin film magnetic head according to the present invention. In the figure, 1 is a slider block, 2 is a thin film magnetic head pattern, 3 is a protective film, 4 is a cover glass, 5 is an air bearing surface (etched part), and 6 is a dummy block.
Claims (1)
する薄膜磁気ヘツドの製造方法であつて、 薄膜磁気ヘツドスライダブロツクの浮上面とは
異なる側面に薄膜磁気ヘツドパターンを形成する
工程と、 該薄膜磁気ヘツドパターンの形成されたスライ
ダブロツクに対し該薄膜磁気ヘツドパターンを保
護するように該薄膜磁気ヘツドパターン面に他の
スライダブロツクの薄膜磁気ヘツドパターン面を
突き合わせるか、またはダミーブロツクを突き合
わせる工程と、 突き合わされたスライダブロツクの浮上面にエ
ツチング用マスク材を成膜する工程と、 マスク材が成膜されたスライダブロツクの浮上
面をエツチング処理する工程と、 突き合わせされた他のスライダブロツクまたは
ダミーブロツクを、前記スライダブロツクから分
離する工程と、 を含んでなることを特徴とする薄膜磁気ヘツドの
製造方法。[Scope of Claims] 1. A method for manufacturing a thin film magnetic head used for recording and reproducing information in a magnetic disk device, etc., comprising a step of forming a thin film magnetic head pattern on a side surface different from the air bearing surface of a thin film magnetic head slider block. and, in order to protect the thin film magnetic head pattern from the slider block on which the thin film magnetic head pattern is formed, abut the thin film magnetic head pattern surface of another slider block against the thin film magnetic head pattern surface, or place a dummy block on the thin film magnetic head pattern surface of another slider block. a step of forming an etching mask material on the air bearing surfaces of the abutted slider blocks; a step of etching the air bearing surfaces of the slider blocks on which the mask material has been formed; A method for manufacturing a thin film magnetic head, comprising the step of separating a slider block or a dummy block from the slider block.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16899879A JPS5693112A (en) | 1979-12-25 | 1979-12-25 | Production of thin-film magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16899879A JPS5693112A (en) | 1979-12-25 | 1979-12-25 | Production of thin-film magnetic head |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5693112A JPS5693112A (en) | 1981-07-28 |
| JPS6310484B2 true JPS6310484B2 (en) | 1988-03-07 |
Family
ID=15878450
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16899879A Granted JPS5693112A (en) | 1979-12-25 | 1979-12-25 | Production of thin-film magnetic head |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5693112A (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3139595B2 (en) * | 1994-04-15 | 2001-03-05 | ティーディーケイ株式会社 | Magnetic head, magnetic recording / reproducing device, and magnetic head manufacturing method |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS48104516A (en) * | 1972-04-12 | 1973-12-27 | ||
| JPS5214410A (en) * | 1975-07-23 | 1977-02-03 | Fujitsu Ltd | Film magnetic head |
| JPS52148812A (en) * | 1976-06-07 | 1977-12-10 | Chiyoda Chem Eng & Constr Co Ltd | Atomization of liquid and apparatus therefor |
-
1979
- 1979-12-25 JP JP16899879A patent/JPS5693112A/en active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS48104516A (en) * | 1972-04-12 | 1973-12-27 | ||
| JPS5214410A (en) * | 1975-07-23 | 1977-02-03 | Fujitsu Ltd | Film magnetic head |
| JPS52148812A (en) * | 1976-06-07 | 1977-12-10 | Chiyoda Chem Eng & Constr Co Ltd | Atomization of liquid and apparatus therefor |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5693112A (en) | 1981-07-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS63173213A (en) | Manufacture of thin film magnetic head | |
| JP3394266B2 (en) | Method of manufacturing magnetic write / read head | |
| JPH0785289B2 (en) | Method of manufacturing magnetic head | |
| JPS6310484B2 (en) | ||
| JP2658908B2 (en) | Method for manufacturing thin-film magnetic head | |
| JPH04205705A (en) | Thin film magnetic head and magnetic disk device | |
| US5225033A (en) | Process for producing magnetic head of the floating type | |
| JPS5860421A (en) | Thin-film magnetic head | |
| JPS6364613A (en) | Manufacture of thin film magnetic head | |
| JPH0214411A (en) | Manufacture of magnetic head | |
| JP2680750B2 (en) | Manufacturing method of magnetic head | |
| JPS62217416A (en) | Manufacture of thin film magnetic head | |
| JPH05242412A (en) | Manufacture of magnetic head | |
| JPS62234214A (en) | Production of magnetic head | |
| JPH10334412A (en) | Thin film magnetic head and magnetic disk device | |
| JPH0337809A (en) | Production of thin-film magnetic head | |
| JPS6029916A (en) | Magnetic head core and its production | |
| JPS60107715A (en) | Thin film magnetic head | |
| JPH064846A (en) | Magnetic head slider | |
| JPH06150246A (en) | Production of thin film magnetic head | |
| JPH0411320A (en) | Production of floating type magnetic head | |
| JPH06195642A (en) | Composite type thin-film magnetic head | |
| JPH01227211A (en) | Manufacture of thin film magnetic head | |
| JPH0636221A (en) | Magnetic head and its manufacture | |
| JPH064813A (en) | Production of magnetic head |