JPS63102344A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
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- JPS63102344A JPS63102344A JP61248841A JP24884186A JPS63102344A JP S63102344 A JPS63102344 A JP S63102344A JP 61248841 A JP61248841 A JP 61248841A JP 24884186 A JP24884186 A JP 24884186A JP S63102344 A JPS63102344 A JP S63102344A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
本発明は半導体装置において、ヘリウムガスがチップに
触れる構造として、パッケージ全体の熱抵抗を下げ、チ
ップが冷却され易い構成としたものである。
触れる構造として、パッケージ全体の熱抵抗を下げ、チ
ップが冷却され易い構成としたものである。
本発明は半導体装置に係り、特にチップの冷却効果を高
めた半導体装置に関する。
めた半導体装置に関する。
現在、電子計算機の大型化等に伴い、各半導体装置の冷
却効果を高めることが?よれている。
却効果を高めることが?よれている。
従来の半導体装置は、半導体チップが実装されたパッケ
ージの凹部内に酸化防止のために窒素ガスが封入された
構成である。
ージの凹部内に酸化防止のために窒素ガスが封入された
構成である。
(発明が解決しようとする問題点)
窒素ガスは熱伝導率が2.43 x 102〜314x
102(+111−’ K〜1)と低く、冷却媒体と
しては好ましくない。
102(+111−’ K〜1)と低く、冷却媒体と
しては好ましくない。
本発明の半導体装置は、パッケージのキャビティ内に実
装されたチップが、ヘリウムガスにより冷却される構造
を有してなる。
装されたチップが、ヘリウムガスにより冷却される構造
を有してなる。
ヘリウムガスにより冷却する構造はパッケージ全体の熱
抵抗を下げ、チップの冷n1効果を高める。
抵抗を下げ、チップの冷n1効果を高める。
第1図は本発明の一実施例になる半導体装置1を示す。
同図中、2はパッケージ、3はパッケージ2に形成され
ているキャビティ、4はキャビティ3内に実装された半
導体チップ、5はキャビディ3を覆う蓋、6は外リード
である。
ているキャビティ、4はキャビティ3内に実装された半
導体チップ、5はキャビディ3を覆う蓋、6は外リード
である。
7はヘリウムガスであり、キャビティ3内に14人され
ている。半導体チップ4の表面はヘリウムガス7と直)
妄接触している。
ている。半導体チップ4の表面はヘリウムガス7と直)
妄接触している。
ヘリウムガスの熱伝導率は14.15 x 102〜1
7.0(i x 102(try−’ K−’ )であ
り、窒素の約6倍であり、キャビティ3内の熱伝導が高
められている。このため、半導体チップ4に発生した熱
は、ヘリウムガス7により効率良く奪われ、矢印8で示
すようにガス7中を効率良く伝導して、半導体装置1の
表面(i5の表面)に到り、ここより、矢印9で示すよ
うに外部に放出される。
7.0(i x 102(try−’ K−’ )であ
り、窒素の約6倍であり、キャビティ3内の熱伝導が高
められている。このため、半導体チップ4に発生した熱
は、ヘリウムガス7により効率良く奪われ、矢印8で示
すようにガス7中を効率良く伝導して、半導体装置1の
表面(i5の表面)に到り、ここより、矢印9で示すよ
うに外部に放出される。
上記の半導体装δ1では、半導体チップ4で発生した熱
が効率良く奪われるためパッケージ全体として熱抵抗が
下がり、半導体チップ4は効率的に冷却される。
が効率良く奪われるためパッケージ全体として熱抵抗が
下がり、半導体チップ4は効率的に冷却される。
蓋5を封止する工程をヘリウムガス雰囲気中で行なうこ
とにより、ヘリウムガス7はキャビティ3内に封入され
る。従ってヘリウムガス7の封入のために余分な工程は
必要とされない。
とにより、ヘリウムガス7はキャビティ3内に封入され
る。従ってヘリウムガス7の封入のために余分な工程は
必要とされない。
また、ヘリウムガスは不活性ガスであり、従来の窒素ガ
スと同様に、半導体チップ4.ワイAア及びボンディン
グ部等が酸化することは防止される。
スと同様に、半導体チップ4.ワイAア及びボンディン
グ部等が酸化することは防止される。
また、ヘリウムガスをキャビティ3内に封入したことに
より、半導体装置1のリーク試験の作業性を向上させる
ことも可能となる。即ら、窒素ガスが封入されている場
合には、リーク試験は、半導体装置を真空で引き、次い
でヘリウムガスを加圧し、この後試験器にセットして、
ヘリウムガスの洩れの有無を検査することにより行なわ
れるが、ヘリウムガスをキャビティ3内に封入した場合
には、真空引き及びヘリウムガス加圧の工程は不要であ
り、半導体装置を試験器にセットすれば足りるからであ
る。
より、半導体装置1のリーク試験の作業性を向上させる
ことも可能となる。即ら、窒素ガスが封入されている場
合には、リーク試験は、半導体装置を真空で引き、次い
でヘリウムガスを加圧し、この後試験器にセットして、
ヘリウムガスの洩れの有無を検査することにより行なわ
れるが、ヘリウムガスをキャビティ3内に封入した場合
には、真空引き及びヘリウムガス加圧の工程は不要であ
り、半導体装置を試験器にセットすれば足りるからであ
る。
第2図は本発明の別の実施例になる半導体装置10を示
す。同図中、第1図に示す構成部分には同一符号を付し
その説明は省略する。
す。同図中、第1図に示す構成部分には同一符号を付し
その説明は省略する。
11はキャビティ3を覆う蓋であり、孔11a。
11bが形成しである。後述するように、孔11a。
11bを通してヘリウムガスがキャビティ3内に出入り
する。蓋11はキャビティ3内を気密に封止する機能は
無く、半導体チップ4等を保護する機能を有するだけで
ある。
する。蓋11はキャビティ3内を気密に封止する機能は
無く、半導体チップ4等を保護する機能を有するだけで
ある。
半導体装置10は、第3図に示すように、気密構造のタ
ンク12内にプリント基板13上に実装されて組み込ま
れる。
ンク12内にプリント基板13上に実装されて組み込ま
れる。
タンク12内はボンベ14からのヘリウムガス7により
満たされる。ヘリウムガス7は、ファン16.17によ
りタンク12内を矢印で示すように循環される。
満たされる。ヘリウムガス7は、ファン16.17によ
りタンク12内を矢印で示すように循環される。
ヘリウムガス7は、第2図に示すように、キャビティ3
内を満たし、チップ4に触れている。これにより、チッ
プ4の熱は上記の場合と同様に、ヘリウムガス7により
効率的に奪われる。またヘリウムガス7は矢印18.1
9で示すように孔11aを通ってキャビティ3内に進入
し、孔11bを通ってキャビティ3外に抜は出し、ヘリ
ウムガス7はキャビティ3内で流動する。この流動によ
り、チップ4の熱は先の実施例に比べて効率良く奪われ
、チップ4は効率良く冷却される。
内を満たし、チップ4に触れている。これにより、チッ
プ4の熱は上記の場合と同様に、ヘリウムガス7により
効率的に奪われる。またヘリウムガス7は矢印18.1
9で示すように孔11aを通ってキャビティ3内に進入
し、孔11bを通ってキャビティ3外に抜は出し、ヘリ
ウムガス7はキャビティ3内で流動する。この流動によ
り、チップ4の熱は先の実施例に比べて効率良く奪われ
、チップ4は効率良く冷却される。
ヘリウムガス7の熱は熱交換器20により外部に放出さ
れ、ヘリウムガス7は冷却された状態でタンク12内を
循環し、チップ4及びパッケージ2から熱を奪い、半導
体装置10は効果的に冷却される。
れ、ヘリウムガス7は冷却された状態でタンク12内を
循環し、チップ4及びパッケージ2から熱を奪い、半導
体装置10は効果的に冷却される。
なお、第2図に示すように′jti11に孔11a。
11bをあけたことにより、蓋11のパッケージ2への
接着が良好となる。即ち、第1図に示すようにキャビテ
ィ3内を封止する場合には、キャビディ3内のヘリウム
ガス7の膨張によりM5がパッケージ2より浮き上がる
方向の力を受け、M5の接着強度が低下する虞れがある
が、上記の7S11の場合には、パッケージ2より浮き
上がる方向の力は受けず、閣11はパッケージ2に良好
に接着される。
接着が良好となる。即ち、第1図に示すようにキャビテ
ィ3内を封止する場合には、キャビディ3内のヘリウム
ガス7の膨張によりM5がパッケージ2より浮き上がる
方向の力を受け、M5の接着強度が低下する虞れがある
が、上記の7S11の場合には、パッケージ2より浮き
上がる方向の力は受けず、閣11はパッケージ2に良好
に接着される。
また、上記の孔あきの蓋11を使用した場合には、リー
ク不良及びバブル不良という検査項目は必要で無い。従
って、半導体装置10の歩溜りは向上する。
ク不良及びバブル不良という検査項目は必要で無い。従
って、半導体装置10の歩溜りは向上する。
また、孔あきのMllを使用したことによりチップ4は
汚染され易い状態にあるが、タンク12を気密ti’f
造とすることにより、汚染は確実に防止される。尚、第
3図において、半導体装置10の代わりに第1図の半導
体装置1を設けることもできる。
汚染され易い状態にあるが、タンク12を気密ti’f
造とすることにより、汚染は確実に防止される。尚、第
3図において、半導体装置10の代わりに第1図の半導
体装置1を設けることもできる。
また、上記のように半導体装置全体をヘリウムガスで冷
却する構成は、発熱εが大きいジョセフソン素子やヘム
ト素子に適用して効果がある。
却する構成は、発熱εが大きいジョセフソン素子やヘム
ト素子に適用して効果がある。
本発明によれば、チップ、配線、及びボンディング部に
何ら悪影響を与えることなくパッケージ全体の熱抵抗を
下げ、チップを従来に比べて効果的に冷却することが出
来る。
何ら悪影響を与えることなくパッケージ全体の熱抵抗を
下げ、チップを従来に比べて効果的に冷却することが出
来る。
第1図は本発明の半導体装置の一実施例の断面図、
第2図は本発明の半導体装置の別の実施例の断面図、
第3図は第2図の半導体装置又は第1図の半導体装置の
使用時の状態を示す図である。 図において、 1.10は半導体装置、 2はパッケージ、 3はキャビティ、 4は半導体チップ、 5.11は蓋、 7はヘリウムガス、 11a、11b)!孔、 12は気密タンク、 14はボンベ、 16.17はファンである。 上伸隼本を1 イク−1/)信デー五0゛ぶ] 第1図 10?暮イ194強53騒: 実旋枦1のvml司因 第2図
使用時の状態を示す図である。 図において、 1.10は半導体装置、 2はパッケージ、 3はキャビティ、 4は半導体チップ、 5.11は蓋、 7はヘリウムガス、 11a、11b)!孔、 12は気密タンク、 14はボンベ、 16.17はファンである。 上伸隼本を1 イク−1/)信デー五0゛ぶ] 第1図 10?暮イ194強53騒: 実旋枦1のvml司因 第2図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 [1]パッケージ(2)のキャビティ(3)内に実装さ
れたチップ(4)が、ヘリウムガス(7)により冷却さ
れる構造を特徴とする半導体装置。 [2]該構造は、上記キャビティ(3)内にヘリウムガ
ス(7)が封入された構成であることを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載の半導体装置。 [3]該構造は、上記キャビティ(3)内にヘリウムガ
ス(7)が供給される構成であることを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載の半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61248841A JPS63102344A (ja) | 1986-10-20 | 1986-10-20 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61248841A JPS63102344A (ja) | 1986-10-20 | 1986-10-20 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63102344A true JPS63102344A (ja) | 1988-05-07 |
Family
ID=17184213
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61248841A Pending JPS63102344A (ja) | 1986-10-20 | 1986-10-20 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63102344A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001078137A1 (en) * | 2000-04-11 | 2001-10-18 | Hamamatsu Photonics K.K. | Semiconductor photodetector |
-
1986
- 1986-10-20 JP JP61248841A patent/JPS63102344A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001078137A1 (en) * | 2000-04-11 | 2001-10-18 | Hamamatsu Photonics K.K. | Semiconductor photodetector |
US6703598B2 (en) * | 2000-04-11 | 2004-03-09 | Hamamatsu Photonics K.K. | Semiconductor photo-detecting apparatus |
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