JPS63100491A - Mask pattern generation circuit - Google Patents

Mask pattern generation circuit

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Publication number
JPS63100491A
JPS63100491A JP30307286A JP30307286A JPS63100491A JP S63100491 A JPS63100491 A JP S63100491A JP 30307286 A JP30307286 A JP 30307286A JP 30307286 A JP30307286 A JP 30307286A JP S63100491 A JPS63100491 A JP S63100491A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mask
leading edge
mask pattern
trailing edge
decoder
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP30307286A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
小嶌 宏之
上田 宏之
行雄 三上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
NEC Engineering Ltd
Original Assignee
NEC Corp
NEC Engineering Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp, NEC Engineering Ltd filed Critical NEC Corp
Publication of JPS63100491A publication Critical patent/JPS63100491A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Abstract] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野] 本発明は、ビットマツプCRT制御における転送/複写
機能金実現するメモリへのデータ書込み制御回路に関し
、特にワード境界のあるメモリに対する書込み制御のビ
ット単位のマスク回路に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to a data write control circuit to a memory that realizes a transfer/copy function in bitmap CRT control, and in particular to a bit-by-bit write control circuit for a memory with a word boundary. The present invention relates to a mask circuit.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、この種のマスクパターン発生回路は、読出専用メ
モリ(以下ROM)に前縁/後縁のドツトアドレスと前
縁/後縁OSき込み制御信号に対応したマスクパターン
を格納しておく方法が採られておシ、それらO前縁/後
縁ドツトアドレスおよび前縁/後縁書込み制御信号をア
ドレスとしてROMを読出し、マスクパターンを発生さ
せている。
Conventionally, this type of mask pattern generation circuit has a method of storing mask patterns corresponding to leading edge/trailing edge dot addresses and leading edge/trailing edge OS writing control signals in a read-only memory (hereinafter referred to as ROM). The ROM is read out using these leading edge/trailing edge dot addresses and leading edge/trailing edge write control signals as addresses to generate a mask pattern.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

上述した従来のマスクパターン発生回路は、ROMを使
用していたので素子数が多く、またこの制御に必債な素
子も大規模になってしまうという欠点がある。
The above-mentioned conventional mask pattern generation circuit uses a ROM and therefore has a large number of elements, and has the disadvantage that the number of elements required for this control is also large.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明のマスクパターン発生回路は、最初の書込みビッ
トの位置をそのビットがあるワード内でのアドレスとし
て表わした前縁ドツトアドレスおよび最後の書込みビッ
トの位txt−toビットがあるワード内でのアドレス
として表わした後縁ドツトアドレスに対応したマスクパ
ターンが対応するドツトアドレスを境界として上位/下
位パターンが決定されることに注目し、前縁ドツトアド
レスを解読する前縁ドツトアドレスデコーダと、該デコ
ーダの解af!5果から前縁マスクパターンを発生する
前縁マスク発生器と、後縁ドツトアドレスを解読する後
縁ドツトアドレスデコーダと、該デコーダの解読結果か
ら後縁マスクパターンを発生する後縁マスク発生器と前
縁および後味のマスクパターンの許可または禁止、およ
び合成を行なうマスクセレクタとから構成される。
The mask pattern generation circuit of the present invention has a leading edge dot address representing the position of the first written bit as an address within a word where the bit is located, and a position txt-to of the last written bit as an address within the word where the bit is located. Note that the mask pattern corresponding to the trailing edge dot address expressed as , upper/lower patterns are determined with the corresponding dot address as the boundary. Solution af! a leading edge mask generator that generates a leading edge mask pattern from a leading edge mask pattern; a trailing edge dot address decoder that decodes a trailing edge dot address; and a trailing edge mask generator that generates a trailing edge mask pattern from the decoding result of the decoder. It consists of a mask selector that allows or prohibits leading edge and trailing mask patterns and performs compositing.

〔実施例〕〔Example〕

次に、本発明について図面を参照して説明する。 Next, the present invention will be explained with reference to the drawings.

第1図を参照すると、本発明の一実施例においてマスク
パターンのビット数は16ビツトとする。
Referring to FIG. 1, in one embodiment of the present invention, the number of bits of the mask pattern is 16 bits.

レジスタlは、前縁ドツトアドレス(以下5DA)を格
納しておく4ビツトのレジスタである。デコーダ3は、
レジスタ1から出力された4ビツトの5DA=i解読す
るデコーダである。マスクパ2−ン発生器sFi、デコ
ーダ3の解読結果から前縁マスクパターンを発生する。
Register l is a 4-bit register that stores a leading edge dot address (hereinafter referred to as 5DA). Decoder 3 is
This is a decoder that decodes 4 bits of 5DA=i output from register 1. A mask pattern generator sFi generates a leading edge mask pattern from the decoding result of the decoder 3.

デコーダ3とマスクパターン発生器5の詳細な構成は第
2図に示され、SDAとデコーダ3、マスクパターン発
生器5の関係は第5図に示される。デコーダ3は5DA
4ビツトを解読した時、第5図のように1ビツトのみ1
0”となるパターンを出力する。FbitQ〜Fはある
ビットより上位のビットが′″0°のときそのビットは
、@01となシ、そのビット自身が100のときは、そ
のビットよシ下位のビットを全て“0°にする。このよ
うにし、SDAから前縁マスクパターンを発生する。
The detailed configuration of the decoder 3 and the mask pattern generator 5 is shown in FIG. 2, and the relationship between the SDA, the decoder 3, and the mask pattern generator 5 is shown in FIG. Decoder 3 is 5DA
When 4 bits are decoded, only 1 bit is 1 as shown in Figure 5.
FbitQ~F outputs a pattern that becomes @01 when the bit higher than a certain bit is 0°, and when the bit itself is 100, the bit lower than that bit is @01. Set all bits to “0°. In this way, a leading edge mask pattern is generated from SDA.

第1図においてレジスタ7は、後縁ドツトアドレス(以
下EDA)を格納しておく4ビツトのレジスタである。
In FIG. 1, register 7 is a 4-bit register that stores a trailing edge dot address (hereinafter referred to as EDA).

デコーダ9−、レジスタ7から出力された4ビツトのE
DAt−解読するデコーダである。マスクパターン発生
器11は、デコーダ9の出力結果から後縁のマスクパタ
ーンを発生する。
4-bit E output from decoder 9- and register 7
DAt - decoder for decoding. A mask pattern generator 11 generates a trailing edge mask pattern from the output result of the decoder 9.

デコーダ9とマスクパターン発生器11の詳細な構成は
第3図に示され、EDAとデコーダ9の関係は第6図に
示される。デコーダ9は、El)A4ビットをt@貌し
たとき第6図のように1ビツトのみ”θ″となるパター
ンを出力する。EbitQ〜Fは、あるビットより下位
のビットが0′″のとき、そのビットは′″0”となシ
そのビット自身が@0′″のと15は、そのビットよシ
上位のビットを全て”0”にする。このようKLEDA
から後縁マスクパターンを発生する。
The detailed configuration of the decoder 9 and mask pattern generator 11 is shown in FIG. 3, and the relationship between the EDA and the decoder 9 is shown in FIG. The decoder 9 outputs a pattern in which only one bit becomes "θ" as shown in FIG. 6 when the 4 bits of El)A are viewed as t@. For EbitQ to F, when a bit lower than a certain bit is 0'', that bit is ``0''.If the bit itself is @0'', all bits higher than that bit are Set it to “0”. Like this KLEDA
Generate a trailing edge mask pattern from.

第1図のマスクセレクタ15は、前縁/後縁のマスクパ
ターンの許可、禁止、および合成をする。
The mask selector 15 of FIG. 1 allows, disallows, and combines leading edge/trailing edge mask patterns.

第4図において、前縁マスクセレクタ15−IA〜15
−16Aは、前縁マスク許可信号(FOL)が有効な時
、前縁マスクパターン(Fb i t )を許可し、無
効な時県止する。また後敞マスク許可f6号(EUL)
  が有効の時、後縁マスクパターン(Ebit) t
−許可し、無効の時、これを禁止する。
In FIG. 4, leading edge mask selectors 15-IA to 15
-16A allows the leading edge mask pattern (Fb it ) when the leading edge mask enable signal (FOL) is valid, and disables it when it is invalid. Also, Gochang Mask Permit No. F6 (EUL)
When is enabled, trailing edge mask pattern (Ebit) t
- Allow, and prohibit when disabled.

マスク合成器15−IC−15−16Cは、前縁マスク
パターンと後縁マスクパターンの合成をする。前縁マス
ク許可信号(FOL)と後縁マスク許可信号(EOL)
は、独立に動作するので第7図のように前縁/後縁マス
ク許可、前縁マスクのみ許可、後縁マスクのみ許可、前
縁/後縁マスク禁止の4つの状態で全てのマスクパター
ンを発生する。
The mask synthesizer 15-IC-15-16C synthesizes the leading edge mask pattern and the trailing edge mask pattern. Leading edge mask enable signal (FOL) and trailing edge mask enable signal (EOL)
operate independently, so all mask patterns can be displayed in four states: leading edge/trailing edge masking allowed, leading edge masking only, trailing edge masking only, and leading edge/trailing edge masking prohibited, as shown in Figure 7. Occur.

次に、本発明の一実施例のうち、前縁マスク発生器5お
よび後縁マスク発生器を改良した実施例を以下に詳細に
説明する。なおここでマスクパターン発生器のアンドゲ
ート入力は、最大4人力とする。デコーダ3は、5DA
4ビツトを解読した時、第5図の前縁ドツトアドレスデ
コーダ3の出力のように1ビツトのみ@0@となるパタ
ーンを出力する。この出力結果を利用し、前縁マスク発
生器5は、前縁マスクパターンを発生する。このパター
ンは、5DA3〜0を16進数で表わした時SDAがO
Mのとき前縁マスク発生器50出力L1全て@l゛とな
り、SDAがIHのときの出力は、FbitOが10”
でそれ以外は、@1”となる。このようにしてSDAが
FMの時の1出力は、FbitFが11″″でそれ以外
が@θ″というパターンになる。この様子は第5図に示
される。
Next, an embodiment of the present invention in which the leading edge mask generator 5 and the trailing edge mask generator are improved will be described in detail below. Here, the AND gate input of the mask pattern generator is assumed to be performed by a maximum of four people. Decoder 3 is 5DA
When 4 bits are decoded, a pattern in which only 1 bit becomes @0@ is output, as shown in the output of the leading edge dot address decoder 3 in FIG. Using this output result, the leading edge mask generator 5 generates a leading edge mask pattern. This pattern shows that when 5DA3~0 is expressed in hexadecimal, SDA is 0.
When M, the leading edge mask generator 50 output L1 is all @l゛, and when SDA is IH, the output is FbitO is 10''
The other outputs are @1''. In this way, when SDA is FM, one output has a pattern in which FbitF is 11'' and other outputs are @θ''. This situation is shown in FIG.

ζこでアンドゲートは第8図のように多入力ゲートを使
用し、最大でも3段にしかならない。
ζHere, the AND gate uses a multi-input gate as shown in FIG. 8, and has only three stages at most.

第1図においてレジスタ7は、後縁ドツトアトL/ス(
EDA)を格納しておく4ビツトのレジスタである。デ
コーダ9は、レジスタ7から出力された4ビツトのED
Aを解読するデコーダである。
In FIG. 1, the register 7 is connected to the trailing edge dot L/S (
This is a 4-bit register that stores the data (EDA). The decoder 9 receives the 4-bit ED output from the register 7.
This is a decoder that decodes A.

デコーダ7と後縁マスク発生器11の詳細な構成は第9
図に示されている。EDAとデコーダ7、後縁マスク発
生器のアンドゲートの入力は、最大4人力とする。デコ
ーダ7は、EDA4ビットを解読したとき、第6図の後
縁ドツトアドレスデコーダ出力のように、1ビツトのみ
@0”となるパターンを出力する。仁の出力結果を利用
し、後縁iスク発生器11は、後縁マスクパターンを発
生する。このパターンは、EDA3SOを16進数で表
わしたとき、EDAからFHOとき後縁マスク発生器1
1の出力は、全て”l”となり、EDAがEHのときの
出力は、EbitFが”O”でそれ以外は、全て@l”
となる。このようにして、E D A:OE O+4O
N#O出カバ、Eb l t Oカ” 1 ”’ Tそ
れ以外が10“というパターンになる。この様子は第6
図に示される。こζでANDゲートは第9図のように多
入力ゲートを使用し、最大でも3段にしかならない。
The detailed configuration of the decoder 7 and the trailing edge mask generator 11 is described in the ninth section.
As shown in the figure. The input of the EDA, decoder 7, and AND gate of the trailing edge mask generator requires a maximum of four people. When the decoder 7 decodes the 4 bits of EDA, it outputs a pattern in which only 1 bit is @0'', as shown in the output of the trailing edge dot address decoder in FIG. Generator 11 generates a trailing edge mask pattern.This pattern is expressed by trailing edge mask generator 1 when EDA to FHO when EDA3SO is expressed in hexadecimal
1 outputs are all “l”, and when EDA is EH, EbitF is “O” and all other outputs are @l”
becomes. In this way, E D A: OE O+4O
N#O out cover, Eb l t Oka" 1 "' T Others are 10". This situation is seen in the 6th
As shown in the figure. In this case, the AND gate uses a multi-input gate as shown in FIG. 9, and has only three stages at maximum.

第1図のマスクセレクタ15は、前縁/後縁のマスクパ
ターンの許可、禁止および合成をする。
The mask selector 15 of FIG. 1 allows, inhibits, and combines leading edge/trailing edge mask patterns.

第4図において前縁マスクセレクタ15−IA〜15−
16Aは、前縁マスク許可信号(FOL)が有効な時、
前縁マスクパターン(Fbit) を許可し、無効な時
禁止する。また、後縁マスク許可信号(]!;OL)が
有効の時、後縁マスクパターン(Ebtt)を許可し、
無効の時、これを禁止する。
In FIG. 4, leading edge mask selectors 15-IA to 15-
16A, when the leading edge mask enable signal (FOL) is enabled,
Enables leading edge mask pattern (Fbit) and disables it when disabled. Also, when the trailing edge mask permission signal (]!;OL) is valid, the trailing edge mask pattern (Ebtt) is enabled,
This is prohibited when disabled.

マスク合成器15−ICへ15−16cは、前縁マスク
パターンと後縁マスクパターンの合成をする。前縁マス
ク許可信号(FOL)と後縁マスク許可信号(EOL)
は独立に動作するので第7図のように前縁/後縁マスク
許可、前縁マスクのみ許可、後縁マスクのみ許可、前縁
/後縁マスク禁止の4つの状態で全てのマスクパターン
を発生する。
The mask synthesizer 15-IC 15-16c synthesizes the leading edge mask pattern and the trailing edge mask pattern. Leading edge mask enable signal (FOL) and trailing edge mask enable signal (EOL)
operate independently, so all mask patterns are generated in four states: leading edge/trailing edge masking enabled, leading edge masking only, trailing edge masking only, and leading edge/trailing edge masking prohibited, as shown in Figure 7. do.

このように前縁、後縁マスク発生器を構成しているアン
ドゲートの接続を変えることによシマスフパターンか確
定する時間が短かくなる。
By changing the connection of the AND gates constituting the leading edge and trailing edge mask generators in this way, the time for determining a striped pattern can be shortened.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように本発明は、論理ゲートにより前縁、
後縁のマスクパターンを発生させることくよ)、小規模
の論理素子でマスクパターンを発生できるという効果が
ある。
As explained above, the present invention uses logic gates to
(In addition to generating a trailing edge mask pattern), the mask pattern can be generated using a small-scale logic element.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、本発明の一実施例を示す図、第2図は、第1
図の前縁ドツトアドレスデコーダ3および前縁マスク発
生器5の詳細な構成を示す図、第3図は、第1図の後縁
ドツトアドレスデコーダ4および後縁マスク発注器11
40詳細な構成を示す図、第4図は、第1図のiスフセ
レクタ15の詳細な111!成を示す図、第5図は、前
縁マスクパターンと前縁ドツトアドレスデコーダ3およ
び、前縁マスクパターンの関係を説明するための図、第
6図は、後縁ドツトアドレスを後縁ドツトアドレスデコ
ーダ9および後縁マスクパターンの関係を説明するため
の図、および第7図は、ワード内でのマスクパターンの
発生の様子を示す図、第8図は第2図の構成の変形例を
示す図および、第9図は第3図の構成の変形例金示す図
である。 図中において、1・・・・・・レジスタ、2・・・・・
・前縁ド、ドアドレス、3・・・・・・前縁ドツトアド
レスデコーダ、3−1.3−2・・・・−・デコーダ、
3−3・・・・・・インバータ、4・・・・・・前縁ド
ツトアドレスデコード出力、5・・・・・・前縁マスク
発生器15−1〜5−14・・・・・・マスクパターン
発生器、6・°・・−・前縁マスクパターン、7・・・
・・・レジスタ、8・・・・・・後縁ドツトアドレス、
9・・・・・・後縁ドツトアドレスデコーダ、9−1.
9−2・・・・・・デコーダ、9−3・・・・・・イン
バータ、10・・・・・・後縁ドツトアドレスデコーダ
、11・−・・・・稜縁マスク発止器、11−1〜11
−14・・・・・・マスクパターン発生器、12・・川
・俊縁マスクパターン、13・・・・・・前縁マスク許
可信号(FOL)、14・・・・・・後はマスク許可信
号(EOL)、15°°。 パ・マスクセレクタ、15−IA〜15−16A・・パ
°°繭縁マスクセレクタ、15−IB〜15−16B・
・・・・・稜縁マスクセレクタ、15−ICへ15−1
6C・・・・・・−vxりo成a、16・・・・・・マ
スクパターン出力を示す。 第2図 l−÷−FbltF 第3凹 第4図 第g図 第q図
FIG. 1 is a diagram showing one embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a diagram showing an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a diagram showing a detailed configuration of the leading edge dot address decoder 3 and the leading edge mask generator 5 shown in FIG.
40 is a diagram showing the detailed configuration of the i screen selector 15 shown in FIG. 1. FIG. 5 is a diagram for explaining the relationship between the leading edge mask pattern, the leading edge dot address decoder 3, and the leading edge mask pattern, and FIG. A diagram for explaining the relationship between the decoder 9 and the trailing edge mask pattern, FIG. 7 is a diagram showing how a mask pattern is generated within a word, and FIG. 8 is a diagram showing a modification of the configuration of FIG. 2. This figure and FIG. 9 are views showing a modification of the configuration of FIG. 3. In the figure, 1... register, 2...
・Leading edge dot, door address, 3...Leading edge dot address decoder, 3-1.3-2...decoder,
3-3... Inverter, 4... Leading edge dot address decode output, 5... Leading edge mask generator 15-1 to 5-14... Mask pattern generator, 6·°...- Leading edge mask pattern, 7...
...Register, 8... Trailing edge dot address,
9... Trailing edge dot address decoder, 9-1.
9-2... Decoder, 9-3... Inverter, 10... Trailing edge dot address decoder, 11... Edge mask generator, 11 -1 to 11
-14...Mask pattern generator, 12...Kawa/Shunen mask pattern, 13...Leading edge mask permission signal (FOL), 14...Mask permission afterward Signal (EOL), 15°°. Pa mask selector, 15-IA to 15-16A...Pa°° cocoon edge mask selector, 15-IB to 15-16B.
...edge mask selector, 15-1 to 15-IC
6C...-vxreoforma, 16... Indicates mask pattern output. Figure 2 l-÷-FbltF 3rd depression Figure 4 Figure g Figure q

Claims (1)

【特許請求の範囲】 CRT制御装置におけるマスクパターン発生回路であっ
て、 前縁ドットアドレスを解読する前縁ドットアドレス解読
手段と、 この解読手段の出力結果から前縁マスクパターンを発生
する前縁マスク発生手段と、 後縁ドットアドレスを解読する後縁ドットアドレス解読
手段と、 該解読手段の出力結果から後縁マスクパターンを発生す
る後縁マスク発生手段と、 前縁および後縁のマスクパターンの許可または禁止、お
よび合成を行なうマスク選択手段とを含むことを特徴と
するマスクパターン発生回路。
[Scope of Claims] A mask pattern generation circuit in a CRT control device, comprising a leading edge dot address decoding means for decoding a leading edge dot address, and a leading edge mask for generating a leading edge mask pattern from the output result of the decoding means. generating means; trailing edge dot address decoding means for decoding a trailing edge dot address; trailing edge mask generating means for generating a trailing edge mask pattern from the output result of the decoding means; and permission for leading edge and trailing edge mask patterns. 1. A mask pattern generation circuit comprising: a mask selection means for inhibiting or inhibiting a pattern, and a mask selection means for performing synthesis.
JP30307286A 1986-06-27 1986-12-19 Mask pattern generation circuit Pending JPS63100491A (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61-152051 1986-06-27
JP15205186 1986-06-27

Publications (1)

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JPS63100491A true JPS63100491A (en) 1988-05-02

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ID=15531974

Family Applications (1)

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JP30307286A Pending JPS63100491A (en) 1986-06-27 1986-12-19 Mask pattern generation circuit

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JP (1) JPS63100491A (en)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5952290A (en) * 1982-09-20 1984-03-26 株式会社東芝 Video ram writing controller

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5952290A (en) * 1982-09-20 1984-03-26 株式会社東芝 Video ram writing controller

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