JPS6293939A - 真空装置用加熱試料台 - Google Patents
真空装置用加熱試料台Info
- Publication number
- JPS6293939A JPS6293939A JP23321085A JP23321085A JPS6293939A JP S6293939 A JPS6293939 A JP S6293939A JP 23321085 A JP23321085 A JP 23321085A JP 23321085 A JP23321085 A JP 23321085A JP S6293939 A JPS6293939 A JP S6293939A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- stand
- heating
- heated
- vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明のネ１１用分野〕
本発明は、真空装置用加熱試（４１台に関する。
従来の装置は、例えば特開昭５７−９７６１６号公報に
記載のように、基板台１面に加熱ヒーターを取付けたも
のや、基板台内部加熱ヒータを組込んだものがあるが、
ヒーターに接した部分とそうでない部分の温度差が大き
く生ずる欠点があり、均一加熱について配慮がさｎてい
なかった。
記載のように、基板台１面に加熱ヒーターを取付けたも
のや、基板台内部加熱ヒータを組込んだものがあるが、
ヒーターに接した部分とそうでない部分の温度差が大き
く生ずる欠点があり、均一加熱について配慮がさｎてい
なかった。
本発明の目的は、従来のかかる欠点をな（し、温度分布
が均一な加熱試料台を提供することにある。
が均一な加熱試料台を提供することにある。
本発明は、加熱源により試料を加熱しつつ該試料を減圧
下で処理する装置において、前記試料が配置さｎ加熱さ
ｎる加熱試料台の形状を均熱拡散可能な形状としたもの
で、加熱試誤台を介した加熱源薯こよる試料の加熱を均
一に行えるようにしたものである。
下で処理する装置において、前記試料が配置さｎ加熱さ
ｎる加熱試料台の形状を均熱拡散可能な形状としたもの
で、加熱試誤台を介した加熱源薯こよる試料の加熱を均
一に行えるようにしたものである。
以下、大発明の一実施例を図面１こより説明する。
図面で、試料加熱台は、断熱スペーサ２を介し試料合皮
（−１に固定された試料台３の下面外周部に加熱用シー
スヒーター４がヒーターケース５により組付けら几て４
１４成されている。
（−１に固定された試料台３の下面外周部に加熱用シー
スヒーター４がヒーターケース５により組付けら几て４
１４成されている。
ここで、シースヒータ４により試料台３に伝導さｎた熱
は、シースヒータ４に対応する部分の厚さが厚く、そτ
しより遠ざかるに従って薄（なる独特な試料台３形状に
より、中央Ｍ２ｔび外周部に均等に拡散できることから
試料台３土の試料であつニー／％６を全面均等加熱でき
る。また、加熱ヒーターを試料台内部でなく外周部にヒ
ーターケースな用いて取り付けできることから交換が容
易にできる効果がある。
は、シースヒータ４に対応する部分の厚さが厚く、そτ
しより遠ざかるに従って薄（なる独特な試料台３形状に
より、中央Ｍ２ｔび外周部に均等に拡散できることから
試料台３土の試料であつニー／％６を全面均等加熱でき
る。また、加熱ヒーターを試料台内部でなく外周部にヒ
ーターケースな用いて取り付けできることから交換が容
易にできる効果がある。
本発明によれば、減圧下における試料台を全面均等に加
熱できたため、該試料台に配置さｎた試料全面を均一に
加熱できる効果がある。
熱できたため、該試料台に配置さｎた試料全面を均一に
加熱できる効果がある。
図面は、本発明による真空ＩＪ信用試料加熱台の一実施
例を示す縦断面図である。 台
例を示す縦断面図である。 台
Claims (1)
- １、加熱源により試料を加熱しつつ該試料を減圧下で処
理する装置において、前記試料が配置され加熱される加
熱試料台の形状を均熱拡散可能な形状としたことを特徴
とする真空装置用加熱試料台。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23321085A JPS6293939A (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | 真空装置用加熱試料台 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23321085A JPS6293939A (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | 真空装置用加熱試料台 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6293939A true JPS6293939A (ja) | 1987-04-30 |
Family
ID=16951480
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23321085A Pending JPS6293939A (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | 真空装置用加熱試料台 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6293939A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01169919A (ja) * | 1987-12-25 | 1989-07-05 | Hitachi Ltd | 成膜装置 |
| JPH02228486A (ja) * | 1989-03-01 | 1990-09-11 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | エッチング方法 |
| JP2010525612A (ja) * | 2007-04-27 | 2010-07-22 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 環状のバッフル |
-
1985
- 1985-10-21 JP JP23321085A patent/JPS6293939A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01169919A (ja) * | 1987-12-25 | 1989-07-05 | Hitachi Ltd | 成膜装置 |
| JPH02228486A (ja) * | 1989-03-01 | 1990-09-11 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | エッチング方法 |
| JP2010525612A (ja) * | 2007-04-27 | 2010-07-22 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 環状のバッフル |
| US8647438B2 (en) | 2007-04-27 | 2014-02-11 | Applied Materials, Inc. | Annular baffle |
| US10012248B2 (en) | 2007-04-27 | 2018-07-03 | Applied Materials, Inc. | Annular baffle |
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