JPS6292414A - Manufacture of thick film thermal head - Google Patents

Manufacture of thick film thermal head

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JPS6292414A
JPS6292414A JP60232547A JP23254785A JPS6292414A JP S6292414 A JPS6292414 A JP S6292414A JP 60232547 A JP60232547 A JP 60232547A JP 23254785 A JP23254785 A JP 23254785A JP S6292414 A JPS6292414 A JP S6292414A
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JP
Japan
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thermal head
thick
thick film
resistor
film thermal
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Application number
JP60232547A
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Japanese (ja)
Inventor
徹 平野
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Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、厚膜型サーマルヘッドの製造方法に係り、特
に各発熱抵抗体の抵抗値のバラツキが小さくかつ長時間
にわたって安定な厚膜型サーマルヘッドを提供するため
の方法に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a method for manufacturing a thick film type thermal head, and particularly to a thick film type thermal head that has small variations in resistance value of each heating resistor and is stable over a long period of time. A method for providing a thermal head.

〔従来技術およびその問題点〕[Prior art and its problems]

プリンタあるいはファクシミリ装置等の記録部において
用いられる感熱記録ヘッド(サーマルヘッド)において
は、近年、高画質化への要求が高まっており、そのため
、各発熱抵抗体の抵抗値の均一化と共に、長期にわたる
抵抗値の安定化が重大な問題となってきている。
In recent years, there has been an increasing demand for higher image quality in heat-sensitive recording heads (thermal heads) used in recording units of printers, facsimile machines, etc. Stabilization of resistance values has become a serious problem.

殊に、厚膜ペーストをスクリーン印刷することによって
作製したパターンを焼成することによって、抵抗体層を
はじめとした周辺回路を形成してなる厚膜型のサーマル
ヘッドは、製造が容易でコストも低く機械的強度が高い
ことから、サーマルヘッドの主流となってはいるが、反
面、薄膜型のものに比べてパターン精度が悪く、抵抗値
にバラツキが生じ易い上、早期に抵抗値の劣化が生じ易
いという不都合があった。ところでこの厚膜型のサーマ
ルヘッドは、一般に、第4図に示すようなフローヂャー
トに従って製造される。
In particular, thick-film thermal heads, in which peripheral circuits including a resistor layer are formed by baking a pattern created by screen-printing a thick-film paste, are easy to manufacture and low-cost. Due to its high mechanical strength, it has become the mainstream of thermal heads, but on the other hand, compared to thin-film types, pattern accuracy is poor, resistance values are more likely to vary, and resistance values deteriorate early. The problem was that it was easy. Incidentally, this thick film type thermal head is generally manufactured according to a flowchart as shown in FIG.

すなわち、まず、グレーズ加工のなされたセラミック基
板等の絶縁基板を出発材料(Fl)とし、スクリーン印
刷法によって導体を印刷した後、焼成しくF2)、フォ
トリソエツチング法により導体をバターニングし電極を
形成する(F3)。
That is, first, an insulating substrate such as a glazed ceramic substrate is used as a starting material (F1), and a conductor is printed using a screen printing method, followed by firing (F2), and then the conductor is patterned using a photolithographic etching method to form an electrode. (F3).

この後、発熱抵抗素子を構成するための抵抗体層パター
ンを、スクリーン印刷および焼成によって形成する(F
4)。
Thereafter, a resistor layer pattern for configuring the heating resistor element is formed by screen printing and baking (F
4).

そして最後に、耐摩耗層を印刷、焼成しくF5)完成と
なる。
Finally, the wear-resistant layer is printed and fired to complete F5).

完成後のサーマルヘッドの各発熱抵抗素子の抵抗値は、
使用する抵抗ペーストのシート抵抗値、抵抗体パターン
のパターン寸法、焼成温度によって決定される。
The resistance value of each heating resistor element of the thermal head after completion is
It is determined by the sheet resistance value of the resistor paste used, the pattern dimensions of the resistor pattern, and the firing temperature.

しかし、ロフトのバラツキあるいは粘度変化等による抵
抗ペーストの成分差をはじめ、使用するスクリーンのス
クリーン張力あるいはスキージの摩耗度合等の印刷条件
、焼成プロファイルの再現性等の焼成条件等、変動要因
が多く、±10%以内の精度で各発熱抵抗素子の抵抗値
をそろえることは極めて困難であるとされてきた。
However, there are many variable factors such as differences in the composition of the resistance paste due to loft variations or viscosity changes, printing conditions such as the screen tension of the screen used or degree of wear of the squeegee, and firing conditions such as the reproducibility of the firing profile. It has been considered extremely difficult to align the resistance values of the heating resistive elements with an accuracy of within ±10%.

このため、各発熱抵抗素子の抵抗値をそろえるべく、回
転ヤスリ、サンドブラスト、レーザ等を用いて抵抗体パ
ターンを1部分削り取ることにより抵抗修正(トリミン
グ)を行なう方法が提案されており、測定器と結合した
自動トリミング装置−〇   − も開発されてはいるが、微調整は困難である上特別の装
置を準備しなければならない等の不都合があった。
For this reason, a method has been proposed in which resistance correction (trimming) is performed by removing a portion of the resistor pattern using a rotary file, sandblasting, laser, etc. in order to equalize the resistance value of each heating resistor element. Although a combined automatic trimming device has been developed, it is difficult to make fine adjustments and requires the preparation of a special device.

またこのようにして形成された厚膜型サーマルヘッドは
、厚膜抵抗体からなる発熱抵抗素子に画情報に応じて選
択的に一定の大きさく電力値)の電気パルスを印加し、
所望の温度に発熱させるようにして用いられるものであ
る。この厚膜抵抗体は、一般に印加電力に応じて抵抗値
が変化する性質を持っている。従って、使用している間
に抵抗値が変化してしまい、発熱量が変わることにより
印字濃度が変化する等の不都合が生じていた。このため
、従来は抵抗値の変化が少なくてすむように比較的小さ
な電力でしか使用できず、また、大きな電力で使用した
場合は、抵抗値変化が大きく極めて寿命が短いという欠
点があった。
In addition, the thick-film thermal head formed in this manner selectively applies electric pulses of a constant magnitude and power value to a heating resistor element made of a thick-film resistor according to image information.
It is used to generate heat to a desired temperature. This thick film resistor generally has a property that its resistance value changes depending on the applied power. Therefore, the resistance value changes during use, and the amount of heat generated changes, causing problems such as changes in print density. For this reason, in the past, it was possible to use only a relatively small amount of power so that the change in resistance value was small, and when used with a large amount of power, there was a drawback that the change in resistance value was large and the lifespan was extremely short.

また、定電圧で駆動した場合、初期抵抗値に合せ電圧を
固定してしまうため、電力印加を続けていくと抵抗値が
下がる。このため実質の印加電力が増加していき、抵抗
値の変化を加速することになり、場合によっては破壊に
いたってしまうことがあった。
Furthermore, when driving with a constant voltage, the voltage is fixed to match the initial resistance value, so as power continues to be applied, the resistance value decreases. For this reason, the actual applied power increases, accelerating the change in resistance value, and in some cases even leading to destruction.

そこで、長時間にわたって電気的負荷をかけたり、熱伝
導路を形成して蓄積された熱を放散性しめたり(特開昭
57−72875号公報、同57−72876号公報)
して各厚膜抵抗体の初期変化を小さくする試みがなされ
ている。
Therefore, it is necessary to dissipate the accumulated heat by applying an electrical load for a long time or by forming a heat conduction path (Japanese Patent Application Laid-open Nos. 57-72875 and 57-72876).
Attempts have been made to reduce the initial change in each thick film resistor.

しかしながら、長時間にわたって電気的負荷をかける方
法では、例えば8本/m+の厚膜型サーマルヘッドに適
用した場合、第5図に印加電力W/dot  (パルス
幅/m5ec、デユーティ10%とする)と抵抗変化率
を示す如く、初期変化を十分小さくすることができず安
定した画像を得ることは困難である。
However, in a method of applying electrical load over a long period of time, for example, when applied to a thick film thermal head of 8 lines/m+, the applied power W/dot (pulse width/m5ec, duty 10%) is shown in Figure 5. As shown in the resistance change rate, it is difficult to obtain a stable image because the initial change cannot be made sufficiently small.

一方、熱伝導路を形成する方法では初期変化を低くする
ことはできるが、製造上困難であり、実用的ではなかっ
た。
On the other hand, although the method of forming a heat conduction path can reduce the initial change, it is difficult to manufacture and is not practical.

本発明は、前記実情に鑑みてなされたもので、各発熱抵
抗素子のバラツキが小さく長期にわたって安定な印字特
性を維持することのできる厚膜型サーマルヘッドを提供
することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and an object of the present invention is to provide a thick-film thermal head that can maintain stable printing characteristics over a long period of time with small variations in each heating resistor element.

(問題点を解決するための手段〕 そこで、本発明の厚膜型サーマルヘッドの製造方法では
、印刷および焼成によって厚膜抵抗体を形成した後、所
望の大きさの高電圧パルスを各厚膜抵抗体に印加して抵
抗値の調整(トリミング)を行なった後、短時間電気的
負荷をかけるようにしている。
(Means for Solving the Problems) Therefore, in the method for manufacturing a thick film thermal head of the present invention, after forming a thick film resistor by printing and baking, a high voltage pulse of a desired magnitude is applied to each thick film. After adjusting (trimming) the resistance value by applying the voltage to the resistor, an electrical load is applied for a short time.

〔作 用〕[For production]

すなわち、本発明の方法では、まず各発熱抵抗素子の発
熱抵抗体を形成した後、抵抗値を測定し、各測定値に応
じて所望の大きさの高電圧パルスを各発熱抵抗体に印加
して抵抗値の調整を行ない、均一化する。この後、短時
間電気的負荷をかけることにより、更に抵抗値の初期変
化を生ぜしめ、安定化をはかるようにしている。
That is, in the method of the present invention, first, after forming the heating resistor of each heating resistor element, the resistance value is measured, and a high voltage pulse of a desired magnitude is applied to each heating resistor according to each measured value. Adjust the resistance value and make it uniform. Thereafter, by applying an electrical load for a short period of time, an initial change in resistance value is further caused to stabilize the resistance value.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の実施例について、図面を参照しつつ詳細
に説明する。
Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

第1図および第2図(a)、(b)は、本発明実施例の
8ドツト/闇の厚膜型サーマルヘッドの製造工程を示す
フローチャート図および同厚膜型サーマルヘッドの断面
図である。(なお第2図(b)は第2図(a)のA−A
断面図)である。
1, 2(a) and 2(b) are a flowchart showing the manufacturing process of an 8-dot/dark thick-film thermal head according to an embodiment of the present invention, and a cross-sectional view of the same thick-film thermal head. . (Figure 2(b) is A-A in Figure 2(a)
sectional view).

この厚膜型サーマルヘッドは、ガラス基板1上に、所定
の間隔で配列せしめられた全厚膜パターンからなるリー
ド電極(A  >・・・Am、八m+1゜八m+2.A
m+3.Am+4.(Ao)と、この上層に配設された
酸化ルテニウムを主成分とする線状の厚膜抵抗体Rとを
具えたもので、画情報に応じて各リード電極に電流が供
給され、該厚膜抵抗体Rの所定の素子領域が選択的に発
熱せしめられるようにしたものである。
This thick film type thermal head has lead electrodes (A > Am, 8 m + 1°, 8 m + 2.A
m+3. Am+4. (Ao) and a linear thick-film resistor R mainly composed of ruthenium oxide disposed on the upper layer.A current is supplied to each lead electrode according to image information, and the thickness A predetermined element region of the film resistor R is selectively heated.

次に、この厚膜型サーマルヘッドの作製方法について説
明する。
Next, a method for manufacturing this thick film type thermal head will be explained.

まず、ガラス基板1を準備しくN1)、この表面上に、
スクリーン印刷および焼成(900℃)によって全厚1
lIIWを形成したあと(N2>、フォトリソエツチン
グ法によりリード電極A1・・・八〇のパターニングを
行なう。(N3) この後、酸化ルテニウムを主成分とする抵抗ベーストを
用いてスクリーン印刷および焼成(870℃)を行ない
、線状の厚膜抵抗体Rを形成する。(N4) 続いて、この厚膜サーマルヘッドの厚膜抵抗体の各素子
領域の抵抗値を測定する。(N5)この測定値に応じて
各素子領域における抵抗値を所定の値となるように均一
化すべく、電圧値を各素子領域毎に算出し、夫々の大き
さの高電圧パルスを印加する。(N6)このときのパル
ス幅は10TrLSeC以下、電圧は1〜200Vの範
囲となるようにした。
First, prepare the glass substrate 1 (N1), and on this surface,
Full thickness 1 by screen printing and baking (900℃)
After forming IIW (N2>, lead electrode A1...80 is patterned by photolithography. (N3) After this, screen printing and baking (870 ℃) to form a linear thick film resistor R. (N4) Next, measure the resistance value of each element region of the thick film resistor of this thick film thermal head. (N5) This measured value In order to equalize the resistance value in each element region to a predetermined value according to the voltage, a voltage value is calculated for each element region, and a high voltage pulse of each size is applied.(N6) The pulse width was set to be 10TrLSeC or less, and the voltage was set to be in the range of 1 to 200V.

続いて、1.0〜1.2Wの電力をデユーティで10秒
間印加する。(N7) このようにして形成された厚膜型サーマルヘッドに対し
て、パルス幅1TrLSeC、デユーティ10%で電気
パルスを印加していくステップストレス試験を行なった
ところ、第3図に示す如く、アンダーシュート量が−2
,0%以下であると共に、抵抗変化率が+10%となる
のも1,5W以上のときであり、初期変化および強度共
に、十分に実用に供し得る程度となっている。
Subsequently, power of 1.0 to 1.2 W is applied on duty for 10 seconds. (N7) When a step stress test was performed on the thick-film thermal head thus formed by applying an electric pulse with a pulse width of 1TrLSeC and a duty of 10%, as shown in Figure 3, an undervoltage was detected. Shoot amount is -2
, 0% or less, and the resistance change rate becomes +10% when the power is 1.5 W or more, and both the initial change and the strength are at a level that can be used for practical purposes.

このように、この厚膜型サーマルヘッドは、長時間にわ
たる印字操作に対しても抵抗値が極めて安定に維持され
ており、信頼性の高いものとなっている。
In this way, this thick-film thermal head maintains an extremely stable resistance value even during long printing operations, making it highly reliable.

なお、実施例においては、リード電極に全厚膜を使用し
、また抵抗体層としては酸化ルテニウムを主成分とする
ものを用いたが、必ずしもこれらに限定されるものでは
なく、他の厚膜材料を用いた場合にも有効であることは
いうまでもない。
In the examples, a full-thick film was used for the lead electrode, and a material containing ruthenium oxide as the main component was used as the resistor layer, but the invention is not necessarily limited to these, and other thick films may be used. Needless to say, it is also effective when using other materials.

また、厚膜抵抗体の上層に耐摩耗層等の保護層を形成す
る場合にも本発明の方法は適用可能であり、この場合は
すべての層の形成後にトリミングおよび電力印加による
安定化を行なうようにしてもよいし、保護層の形成に先
立って行なうようにしてもよい。
The method of the present invention can also be applied to the case where a protective layer such as a wear-resistant layer is formed on the upper layer of a thick film resistor, and in this case, trimming and stabilization by applying power are performed after all layers are formed. Alternatively, it may be performed prior to forming the protective layer.

加えて、トリミングのために印加する電気パルスは大き
さ50〜200■の高電圧パルスである場合が良好な結
果となった。
In addition, good results were obtained when the electric pulses applied for trimming were high voltage pulses with a size of 50 to 200 square meters.

また、その後に印加する電気的負荷は10数V〜20V
の場合が良好な結果となった。
In addition, the electrical load applied after that is 10-odd V to 20 V.
Good results were obtained in this case.

[効 果] 以上説明してきたように、本発明によれば、多数のリー
ド電極と、厚膜抵抗体とから形成され、複数の発熱抵抗
素子領域を構成してなる厚膜型サークルヘッドを作製す
るに際し、印刷および焼成によって発熱抵抗素子領域を
形成した後、各素子領域の厚膜抵抗体パターンに対し、
夫々、所望の大きさの電気パルスを印加して抵抗値の調
整を行ない、更に短時間電気的負荷をかけて抵抗値の安
定化をはかるようにしているため、各素子領域の抵抗値
は均一で長期にわたって安定であり、極めて容易に長寿
命であってかつ信頼性の高い厚膜型サーマルヘッドを形
成することが可能となる。
[Effects] As explained above, according to the present invention, a thick film circle head can be manufactured which is formed from a large number of lead electrodes and a thick film resistor, and which constitutes a plurality of heat generating resistor element regions. After forming the heat generating resistor element area by printing and baking, the thick film resistor pattern of each element area is
The resistance value is adjusted by applying an electric pulse of the desired size to each element, and then an electrical load is applied for a short time to stabilize the resistance value, so the resistance value of each element area is uniform. It is possible to form a thick-film thermal head that is stable over a long period of time, has a long life, and is highly reliable.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図および第2図(a)、(b)は、夫々、本発明実
施例の厚膜梨サーマルヘッドの製造工程を示すフローチ
ャート図、および同厚WA望サーマルヘッドの部分概要
図、第3図は、同厚膜型サーマルヘッドのステップスト
レス試験結果を示す図、第4図は従来例の厚膜型サーマ
ルヘッドの製造工程を示すフローチャート図、第5図は
、同厚膜型サーマルヘッドのステップストレス試験結果
を示す図である。 <A  )、−Am、Am+1.Am+2゜八m+3.
Am+4.(A )・・・リード電極、R・・・厚膜抵
抗体。 第5図 =67一
FIG. 1 and FIGS. 2(a) and 2(b) are a flowchart showing the manufacturing process of a thick-film thermal head according to an embodiment of the present invention, a partial schematic diagram of a same-thickness WA thermal head, and a third The figure shows the step stress test results of the thick film thermal head, Figure 4 is a flowchart showing the manufacturing process of the conventional thick film thermal head, and Figure 5 shows the results of the thick film thermal head. It is a figure showing a step stress test result. <A), -Am, Am+1. Am+2°8m+3.
Am+4. (A)...Lead electrode, R...Thick film resistor. Figure 5 = 671

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)絶縁基板上に厚膜抵抗体からなる多数の発熱抵抗
素子を配設した厚膜型サーマルヘッドの製造方法におい
て、 印刷および焼成によつて多数の発熱抵抗素子を構成する
厚膜抵抗体のパターンを形成する工程と、各発熱抵抗素
子の抵抗値が一定となるように調整すべく、 夫々所望の電気パルスを各発熱抵抗素子の発熱抵抗体に
印加するトリミング工程と、 更に、前記各発熱抵抗体に短時間電気的負荷をかけるこ
とにより抵抗値を安定化させる安定化工程とを 含むようにした厚膜型サーマルヘッドの製造方法。
(1) In a method for manufacturing a thick film thermal head in which a large number of heat generating resistive elements made of thick film resistors are arranged on an insulating substrate, a thick film resistor that constitutes a large number of heat generating resistive elements by printing and firing is used. a trimming step of applying desired electric pulses to the heat generating resistor of each heat generating resistor element in order to adjust the resistance value of each heat generating resistor element to be constant; A method for manufacturing a thick-film thermal head, including a stabilization step of stabilizing a resistance value by applying an electrical load to a heating resistor for a short time.
(2)前記発熱抵抗体は酸化ルテニウムを主成分とする
ものである特許請求の範囲第(1)項記載の厚膜型サー
マルヘッドの製造方法。
(2) The method for manufacturing a thick-film thermal head according to claim (1), wherein the heating resistor has ruthenium oxide as a main component.
(3)前記電気パルスは、大きさ50〜200Vの高電
圧短パルスである特許請求の範囲第(1)項記載の厚膜
型サーマルヘッドの製造方法。
(3) The method for manufacturing a thick film thermal head according to claim (1), wherein the electric pulse is a high voltage short pulse having a magnitude of 50 to 200V.
(4)前記電気的負荷は10数V〜20V程度である特
許請求の範囲第(1)項記載の厚膜型サーマルヘッドの
製造方法。
(4) The method for manufacturing a thick-film thermal head according to claim (1), wherein the electrical load is about 10-odd volts to about 20 volts.
JP60232547A 1985-10-18 1985-10-18 Manufacture of thick film thermal head Pending JPS6292414A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS6418651A (en) * 1987-07-14 1989-01-23 Fuji Xerox Co Ltd Thick film thermal head and production thereof
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