JPS6282596A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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Publication number
JPS6282596A
JPS6282596A JP60224418A JP22441885A JPS6282596A JP S6282596 A JPS6282596 A JP S6282596A JP 60224418 A JP60224418 A JP 60224418A JP 22441885 A JP22441885 A JP 22441885A JP S6282596 A JPS6282596 A JP S6282596A
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JP
Japan
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transistor
gate
nmos
bit line
output
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Application number
JP60224418A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiro Tada
多田 一洋
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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Publication of JPS6282596A publication Critical patent/JPS6282596A/en
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Abstract

PURPOSE:To reduce the occupying rate of a bit line selecting circuit on the surface area of a semiconductor chip by providing a charge discharging transistor between the output node of an address circuit and the gate of the 1st transfer gate set between a bit line and an input/output line and decreasing the threshold value of said transistor compared with that of the 1st transfer gate and therefore grounding the stray capacity of this transfer gate. CONSTITUTION:The output signal of a non-selected decoder 12 is inserted to a low level and therefore a NMOS transistor TRO1 is turned off. In this case, the output signal of the decoder 12 is approximately equal to the level of an earth potential. Therefore, the potential of the source of the TRO1, i.e., the gate of a NMOS TRQ3 is higher than the earth potential by a degree equal to the threshold value of the TRO3. Here the threshold voltage of the TRO3 is set lower than those of NMOS TRs O2 and O'2. This can avoid such a case where both TRs O2 and O'2 have malfunction and are turned on.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は半導体記憶装置、特にビット線と入出力パス
とを接続する際の寄生効果を排除するためのフリップフ
ロップ回路をダイオードでanし、単位記憶容貴当りの
チップの表面の占有面積を減少させた半導体記憶装置に
関する。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] This invention relates to a semiconductor memory device, in particular, a flip-flop circuit for eliminating parasitic effects when connecting a bit line and an input/output path with a diode. The present invention relates to a semiconductor memory device that reduces the area occupied by a chip surface per unit memory capacity.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来の半導体記憶装置としては、例えば、第2図に示す
ようなものが知られている。なお、この第2図中の回路
構成素子は、以下の説明を簡単にするため、Nチャンネ
ル型のMO8素子(以下。
As a conventional semiconductor memory device, for example, one shown in FIG. 2 is known. Note that the circuit constituent elements in FIG. 2 are referred to as N-channel MO8 elements (hereinafter referred to as "MO8" elements) to simplify the following explanation.

NMO8と称する)で構成されているとして説明する。The explanation will be given assuming that it is composed of NMO8).

同図において、01)は半導体記憶!fiのビット線選
択回路の全体を表し、半導体記憶装置tはこのビット線
撰択回路(]1)を複数有している。ビット線選択回路
(11)は、アドレス信号α*)(At)・・・CAn
) <以下、符号Aで代表する)で動作するNOR型の
デコーダ(12)と、該デコーダ(12)にゲートが接
続されドレインが図外の制御信号発生回路に接続された
NMO8)ランジスタ(第1 NMO3トランジスタに
相当)(Of)と、このNM、O8)ランジスタ(01
)のソースにゲートが接続されてソース・ドレイン開音
それぞれのビットm (B) (B)と入出力バス(1
0)(10)との間に介在させた一対のNMO8)ラン
ジスタ(第2M0Sトランジスタに相当)(α) < 
o’t )と、NMOSトランジスタ(01)のソース
に接続されたフリップフロップ回路(I3)と、を有し
ている。デコーダ(12)i、複数のNMOSトランジ
スタ(Mt) (Mt)−−(Mo) (以下、符号M
で代表)のソース・ドレインtl地電圧との間で並列に
接続して成り、これらのNMO8トランジスタ(■ν1
)の共通節点(N)がNMOSトランジスタ(R1)を
介して電源電圧(V)に接続され、また。
In the figure, 01) is semiconductor memory! It represents the entire bit line selection circuit of fi, and the semiconductor memory device t has a plurality of bit line selection circuits (]1). The bit line selection circuit (11) uses an address signal α*) (At)...CAn
) <hereinafter represented by the symbol A)) and an NOR type transistor (12) whose gate is connected to the decoder (12) and whose drain is connected to a control signal generation circuit (not shown). 1 NMO3 transistor) (Of) and this NM, O8) transistor (01
), the gate is connected to the source of the source/drain open bit m (B) (B) and the input/output bus (1
0) (10) A pair of NMO8) transistors (corresponding to the second M0S transistor) (α) <
o't) and a flip-flop circuit (I3) connected to the source of the NMOS transistor (01). Decoder (12) i, a plurality of NMOS transistors (Mt) (Mt) -- (Mo) (hereinafter referred to as M
These NMO8 transistors (■ν1
) is connected to the power supply voltage (V) via an NMOS transistor (R1), and the common node (N) of

NMO8トランジスタ(R1)を介して前記NMOSト
ランジスタ(OX)のゲートに接続されている。複数の
NMO8)ランジスタ(Ml) <yb)・・・・・・
(Mn)は、それぞれ、そのゲートに図外の中央処理g
e11から対応するアドレス1d号(Al)(A2)・
・・・・・(An)が入力し、また、NMOSトランジ
スタ(R1)は、ゲートに前述した制御信号発生は回路
からプリチャージ信号(φ、)が入力する。NMOSト
ランジスタ(Ol)は、デコーダ(12)から高電位(
HIGH)の信号がゲートへ入力するとON状態へ移行
し、このON状態で制御イぎ号発生回路が出力する制#
1信号(φA)をNMOSトランジスタ(Qt)(Q’
t)のゲートに印加する。NMO8トランジスタ(Qt
 ) (Q ’t )は、それぞれがゲートに入力する
制御信号(φム)がHIGHであルtq、l:’ y 
h 1m CB) CB) ト入出力ハス(IO) (
IO)とをそれぞれ接続する。7リップフロップ回路(
13)は、NMOSトランジスタ(0+)のソースにド
レインが接続ちれてソースが接地されたNMO8トラン
ジスタ(Sl)と、ドレインがNMOSトランジスタ(
S、)を介し電源電圧(V)に接続されてソースが接地
されたNMOSトランジスタ(Sりと%t″有している
0これらNMO3)ランジスタ(St)(St)は、そ
のドレインが各ゲートに交叉接続されている。NMOS
トランジスタ(Ss) n 、ベースにプリチャージ信
号(φp)が入力し、プリチャージ16号(φ、)がH
IGHレベルのときON状態へ移行する。なお、ビット
線(B)(ロ)は、差動増幅器(SA)および記憶セル
に接続されている。このような半導体記憶装置には、2
56にダイナミックRAMの場曾、以下に詳述するよう
に、512本のビットm (B) (13)のうち1本
が選択されて入出力バス(工0)(■0)に接続され、
ビット線(B)(fi)に接続された記憶セルへのデー
タの薔き込み、読み出しが行なわれる。すなわち、プリ
チャージ状態の下では、制御信号発生回路からHIGH
のプリチャージ信号(φ、)が出力され、各アドレス1
6号(A)がLOWレベルを維持し、デコーダ(]2)
はHIGHレベルの信号をNMO8)ランジスタ(0+
)のゲートに印加している。したがって、NMOSトラ
ンジスタ(Ol)はON状態にあるが、制御1E号出力
回路から出力される制御信号(φム)がLOWレベルに
あるため、各NMOSトランジス(0り (0’t )
はOFF状態を維持してビット線(B)(n)と入出力
バス(10)(■0)とを遮断している。
It is connected to the gate of the NMOS transistor (OX) via the NMO8 transistor (R1). Multiple NMO8) transistors (Ml) <yb)...
(Mn) is a central processing g (not shown) at its gate, respectively.
Corresponding address No. 1d (Al) (A2) from e11.
... (An) is input, and the precharge signal (φ, ) is input to the gate of the NMOS transistor (R1) from the control signal generation circuit described above. The NMOS transistor (Ol) receives a high potential (
When a HIGH) signal is input to the gate, it transitions to the ON state, and in this ON state, the control signal output by the control signal generation circuit is
1 signal (φA) is connected to an NMOS transistor (Qt) (Q'
t). NMO8 transistor (Qt
) (Q't) are tq,l:'y when the control signal (φm) input to each gate is HIGH.
h 1m CB) CB) Input/output lotus (IO) (
IO) respectively. 7 flip-flop circuit (
13) consists of an NMOS transistor (Sl) whose drain is connected to the source of the NMOS transistor (0+) and whose source is grounded, and an NMOS transistor (Sl) whose drain is connected to the source of the NMOS transistor (0+) and whose source is grounded.
NMOS transistors (S,) whose sources are grounded and whose drains are connected to the supply voltage (V) through the gates of each cross-connected to .NMOS
The precharge signal (φp) is input to the base of the transistor (Ss) n, and the precharge No. 16 (φ, ) is H.
When it is at IGH level, it shifts to ON state. Note that the bit line (B) (b) is connected to a differential amplifier (SA) and a memory cell. Such a semiconductor memory device has two
56 of the dynamic RAM, one of the 512 bits m (B) (13) is selected and connected to the input/output bus (0) (■0), as detailed below.
Data is written into and read from memory cells connected to bit lines (B) (fi). That is, under the precharge state, the control signal generation circuit outputs HIGH.
A precharge signal (φ,) is output, and each address 1
No. 6 (A) maintains the LOW level, and the decoder (]2)
is the HIGH level signal to the NMO8) transistor (0+
) is applied to the gate of Therefore, the NMOS transistor (Ol) is in the ON state, but since the control signal (φ) output from the control No. 1E output circuit is at the LOW level, each NMOS transistor (Ol) is in the ON state.
maintains the OFF state to cut off the bit lines (B) (n) and the input/output bus (10) (■0).

ここで、アドレス信号(A)の1つを残して他の全てが
HIGHレベルに反転されると、このLOWレベルを継
続するアドレス信号(A)によって特定された1つのデ
コーダ(12)のみがHIGHレベルの信号の出力を維
続して他のデコーダ(12)の出力1百号がLOWレベ
ルに反転し、ま友、所定時間経過後に制御信号〔φ人〕
がHIGHレベルに反転する。
Here, when all but one of the address signals (A) are inverted to HIGH level, only one decoder (12) specified by the address signal (A) that continues to be at LOW level becomes HIGH. While maintaining the output of the level signal, the output No. 100 of the other decoder (12) is inverted to the LOW level, and after a predetermined time elapses, the control signal [φ person]
is inverted to HIGH level.

そして、この制御1ぎ号(φA)は上記1つのデコーダ
(12)の出力信号がベースに印加され九NMOSトラ
ンジスタ(Ol)を経て各NMO8)ランジスタ(0,
)(o’Jのゲートに入カレ、これらNMOSトランジ
スタ(0*) (0’t) ’1rON状態に移行させ
る。この結果、これらのNMOSトランジスタ(Ox)
 (0’x)抄してビット線(B) (a)nそれぞれ
が入出力バス(lo)(rO)に接続され、ビット線(
B)(n)に接続された記憶セルへのデータの読み込み
・書き込みが行なわれる。
The output signal of the one decoder (12) is applied to the base of this control signal (φA) and passes through nine NMOS transistors (Ol) to each NMOS transistor (0,8).
) (to the gate of o'J, these NMOS transistors (0*) (0't) '1r transition to the ON state. As a result, these NMOS transistors (Ox)
(0'x) and bit line (B) (a)n are connected to input/output buses (lo) and (rO), respectively, and the bit line (
B) Data is read/written to the memory cell connected to (n).

一方、非選択となったデコーダ(12)は、出力信号が
LOWレベルに反転するため、このデコーダ(12)の
出力信号をゲートに印加されたNMO8)ランジスタ(
0,)はOFF状態へ移行するが、このNIVI)Sト
ランジスタ(01)のソースにフリップフロップ回路(
13)により接地されている0すなわち、フリップフロ
ップ回路(13)は、プリチャージ信号(φp)がゲー
トに入力してON状態となったNMO8トランジスタ(
Ss)により′電源電圧(V)がNMO8)ランジスタ
(S、)のゲートに印加され、このNMOSトランジス
タ(S、)がON状態となってNMO8)ランジスタ(
0,)のソースti地する。したがって、NMO8)ラ
ンジスタ(Ot ) (0’Jは、OFF状態を持続し
、そのゲートとNMO8トランジスタ(O7)のソース
との間の寄生効果が排除され、誤動作が防止される。
On the other hand, since the output signal of the unselected decoder (12) is inverted to LOW level, the output signal of this decoder (12) is applied to the gate of the NMO8) transistor (
0, ) transitions to the OFF state, but a flip-flop circuit (
In other words, the flip-flop circuit (13) is grounded by the NMO8 transistor (13), which is turned on by inputting the precharge signal (φp) to the gate
Ss) applies the power supply voltage (V) to the gate of the NMO8) transistor (S,), which turns on the NMOS transistor (S,) and turns the NMO8) transistor (S,) on.
0,). Therefore, the NMO8) transistor (Ot) (0'J) remains in the OFF state, and the parasitic effects between its gate and the source of the NMO8 transistor (O7) are eliminated and malfunctions are prevented.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

このような半導体記憶装置にあっては、非選択のデコー
ダ(12)にがかるN!l/IQs )ランジスタ(0
1)のソースt[地した状態に保持するためのフリップ
フロップ回路(13)が3つのNMOSトランジスタ(
Sl ) (St ) (Sm)から構成され、このフ
リップフロップ回路(13) Thそれぞれのビット線
選択回路(11)に設けなければならないため、フリッ
プフロップ回路(13)がチップ表面積に占める開会が
大きいという問題点かあっ友。
In such a semiconductor memory device, N! l/IQs) transistor (0
1) The flip-flop circuit (13) for keeping the source t [grounded] is connected to three NMOS transistors (
This flip-flop circuit (13) must be provided in each bit line selection circuit (11), so the flip-flop circuit (13) occupies a large amount of the chip surface area. That's the problem, my friend.

一方、このようなフリップフロップ回路(13)’に設
けること無く寄生効果を排除してNMO8)ランジスタ
(Oρ(0’2)の誤作動を防止するには、各NMO8
トランジスタ(Oz)(0’t)の閾値電圧を大きく設
定することも考えられるが、選択された際にヒy トH
(B)(B)ト人出’jJハス(IO) (IO) ト
に’iii続するのに要する時間が大きくなり、アクセ
スタイム(情報伝達速度)が遅くなるという問題点が生
じる。
On the other hand, in order to prevent malfunction of the NMO8) transistor (Oρ(0'2)) by eliminating parasitic effects without providing such a flip-flop circuit (13)', each NMO8
It is possible to set the threshold voltage of the transistor (Oz) (0't) large, but when selected,
(B) (B) (IO) (IO) The time required to connect to (IO) increases, resulting in a problem that the access time (information transmission speed) becomes slow.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明は上記問題点に鑑み、ピット線と入出力線との間
に介在する第1トランスファゲートのゲートとアドレス
回路の出力ノードとの間に電荷排出用トランジスタを設
け、該′電荷排出用トランジスタの閾値を第1トランス
ファゲートの閾値より小さくすることにより、第1トラ
ンスファゲートのゲートに印加される浮遊容量を電荷排
出用トランジスタを介して接地可能にし、オフ状態にあ
る第1トランスファゲートヲ不所望のオン状態への移行
から防止せんとするものである。
In view of the above problems, the present invention provides a charge discharge transistor between the gate of the first transfer gate interposed between the pit line and the input/output line and the output node of the address circuit, and the charge discharge transistor By making the threshold value smaller than the threshold value of the first transfer gate, the stray capacitance applied to the gate of the first transfer gate can be grounded via the charge draining transistor, and the first transfer gate in the off state can be undesirably grounded. This is intended to prevent the switch from transitioning to the on state.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。第1
図は、この発明にかかる半導体記憶装置の一実施例のビ
ット線選択回路を表す電気回路図である。なお、前述し
た従来のものと同一構成の部分には、同一符号を付して
説明は省略する。
Embodiments of the present invention will be described below based on the drawings. 1st
FIG. 1 is an electrical circuit diagram showing a bit line selection circuit of an embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention. Note that the same reference numerals are given to the parts having the same configuration as those of the conventional one described above, and the explanation thereof will be omitted.

この実施例に、前述した従来の第2図のフリップフロッ
プ回路(13)?ダイオードで置換したものである。す
なわち、第1図において、(Os)はダイオードとして
機能するNMO8)ランジスタであり、このNMO3)
ランジスタ(03)は、ソース−ドレイン間がNMOS
トランジスタ(0,)と並列にNMOSトランジスタ(
Oz)(0’Jのゲートとデコーダ(12)の出力端子
との間f、接続し、また、ゲートがNMOSトランジス
タ(02)(0’y)のゲートに接続されている。この
NMOSトランジスタ(Os)は、1鯛値篭圧がNMO
8トランジスタ(Ot)(0’*)の閾値電圧より小さ
な値に設定されている。
In this embodiment, is the conventional flip-flop circuit (13) of FIG. 2 mentioned above? It is replaced with a diode. That is, in FIG. 1, (Os) is an NMO8) transistor that functions as a diode, and this NMO3)
The transistor (03) has NMOS between the source and drain.
An NMOS transistor (
The gate of the NMOS transistor (Oz) (0'J) is connected to the output terminal of the decoder (12), and the gate is connected to the gate of the NMOS transistor (02) (0'y). Os) is 1 sea bream value cage pressure is NMO
It is set to a value smaller than the threshold voltage of 8 transistors (Ot) (0'*).

この実施例の半導体記憶装置のビット線選択回路(11
)は、次のように作動する。まず、前述したように、プ
リチャージ状態の下では、NMOSトランジスタ(01
)がON状態にあるが制御信号(φ人)がLOWレベル
である之め、各NMO8)ランジスタ(Ox)(0’t
)がOFF状態を維持し、また、冷tOsトランジスタ
(03)もOFF状態にある。ここで。
The bit line selection circuit (11) of the semiconductor memory device of this embodiment
) works as follows. First, as mentioned above, under the precharge state, the NMOS transistor (01
) is in the ON state, but the control signal (φ) is at the LOW level, so each NMO8) transistor (Ox) (0't
) remains in the OFF state, and the cold tOs transistor (03) is also in the OFF state. here.

アドレス信号(A)によってデコーダ(12)が選択さ
れ、この後、所定時間が経過すると、制御信号(φA)
がHIGHレベルに反転する0したがって。
The decoder (12) is selected by the address signal (A), and after a predetermined time has elapsed, the control signal (φA)
0 therefore flips to HIGH level.

前述(DLI)に、各NMOSトランジスl (ol)
 (0’2)がON状態へ移行して、ビット線(B)(
n)と入出力バス(IO) (IO)とを接続する。こ
の時、各NMO8)ランジスタ(0*)(0’Jのゲー
トがHIGHレベルであるため、NMO3)ランジスタ
(Os)モON状態へ移行するが、デコーダ(12)の
出力信号も略電源電圧(V)K等しいHIG)(レベル
であ)。
In the above (DLI), each NMOS transistor l (ol)
(0'2) transitions to the ON state, and the bit line (B) (
n) and the input/output bus (IO). At this time, since the gate of each NMO8) transistor (0*) (0'J is at HIGH level, the NMO3) transistor (Os) transitions to the ON state, but the output signal of the decoder (12) is also approximately the power supply voltage ( V) K equal HIG) (at level).

NMOSトランジスタ(0* ) (0’t)の動作に
支障が生じることは無い。
There is no problem in the operation of the NMOS transistor (0*) (0't).

一方、前述したように、非選択のデコーダ(12)につ
いてぼ、出力信号がLOWレベルに反転する友め、この
信号をゲートに印加されたNMOSトランジスタ(0,
)がOFF状態へ移行する。この時、デコーダ(12)
の出力信号は略接地電位(零)に等しいため、NMOS
 トランジスタ(0、)のソースすなわちNMOS ト
ランジスタ(03)のゲートの電位は接地電位(零)よ
りNMOSトランジスタ(Os)の閾値電圧だけ高くな
る。しかし、 NMOSトランジスタ(03)の閾値電
圧はNMOSトランジスタ(02)(0’りの閾値電圧
より小さな値に設定されているため、これらNMOSト
ランジスタ(0,)(0’2 )が誤動作してON状態
になることは無い。
On the other hand, as mentioned above, for the unselected decoder (12), when the output signal is inverted to LOW level, this signal is applied to the gate of the NMOS transistor (0,
) transitions to the OFF state. At this time, the decoder (12)
Since the output signal of is approximately equal to ground potential (zero), NMOS
The potential of the source of the transistor (0,), that is, the gate of the NMOS transistor (03), is higher than the ground potential (zero) by the threshold voltage of the NMOS transistor (Os). However, since the threshold voltage of the NMOS transistor (03) is set to a smaller value than the threshold voltage of the NMOS transistor (02) (0'), these NMOS transistors (0,) (0'2) malfunction and turn on. There will be no condition.

すなわち、NMOS)ランジスタ(01)のソースとN
MOSトランジスタ(0□)(0’t)のゲートとの間
の配線等の寄生効果を排除することができ、ブートスト
ラップ効果等[!るN′MOSトランジスタ(0,)(
0’2 )の誤動作を防止できる。
That is, the source of NMOS) transistor (01) and N
Parasitic effects such as wiring between the gate of the MOS transistor (0□) (0't) can be eliminated, and bootstrap effects etc. [! N′MOS transistor (0,)(
0'2) can be prevented from malfunctioning.

このように、この半導体記憶装置のビット線選択回路(
11)にあっては、従来の7リツプ70ツブ回路をダイ
オードで置換して寄生効果による誤動作を防止するため
、半導体チップの表面種に占めるビット線選択回路(1
1)の割合を小さくすることができる。
In this way, the bit line selection circuit (
11), in order to replace the conventional 7-lip 70-tub circuit with a diode and prevent malfunctions due to parasitic effects, the bit line selection circuit (1
The ratio of 1) can be reduced.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明してきたように、この発明によれば、半導体チ
ップの表面種に占めるビット線選択回路の割tを小さく
することが可能となる。したがって、製造の歩留を向上
させることができ、また、動作マージンを拡大すること
ができるようになる。
As described above, according to the present invention, it is possible to reduce the ratio t of the bit line selection circuit to the surface type of the semiconductor chip. Therefore, manufacturing yield can be improved and the operating margin can be expanded.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの発明にかかる半導体記憶装置の一実施例金
示す電気回路図、第2図は従来の半導体記憶装置を示す
電気回路図である。 】1・・・・・・ビット線選択回路、12・・・・・・
デコーダ、01・・・・・・第1 MOS トランジス
タ、 O,、Q/、・・・・・・第2M0Sトランジス
タs03・・・・・・ダイオード、A 、AI 、A2
・・・・・・+An・・・・・・アドレス信号、φ^・
・・・・・制御信号。 代理人 弁理士  内  原    二〇゛“・艷2−
FIG. 1 is an electric circuit diagram showing an embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention, and FIG. 2 is an electric circuit diagram showing a conventional semiconductor memory device. ]1...Bit line selection circuit, 12...
Decoder, 01...First MOS transistor, O,, Q/,...Second MOS transistor s03...Diode, A, AI, A2
・・・・・・+An・・・Address signal, φ^・
·····Control signal. Agent Patent Attorney Uchihara 20゛“・艷2−
grip

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 出力ノードを有し、選択時には出力ノードが基準電位と
なり非選択時には出力ノードが接地されるアドレス回路
と、ビット線と入出力線との間に介在する第1トランス
ファゲートと、アドレス回路の出力ノードに接続された
ゲートを有し出力ノードが基準電位のときにはビット線
選択活性化信号を前記第1トランスファゲートのゲート
に印加し出力ノードが接地されているときはビット線選
択活性化信号を遮断する第2トランスファゲートとを備
えた半導体記憶装置において、前記出力ノードと第1ト
ランスファゲートのゲートとの間に電荷排出用トランジ
スタを介在させ、該電荷排出用トランジスタの閾値を第
1トランスファゲートの閾値より小さくしたことを特徴
とする半導体記憶装置。
an address circuit having an output node, the output node being at a reference potential when selected and being grounded when not selected; a first transfer gate interposed between the bit line and the input/output line; and an output node of the address circuit. When the output node is at the reference potential, a bit line selection activation signal is applied to the gate of the first transfer gate, and when the output node is grounded, the bit line selection activation signal is cut off. a second transfer gate, a charge discharging transistor is interposed between the output node and the gate of the first transfer gate, and the threshold of the charge discharging transistor is set to be lower than the threshold of the first transfer gate. A semiconductor memory device characterized by being small.
JP60224418A 1985-10-07 1985-10-07 Semiconductor storage device Pending JPS6282596A (en)

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JP60224418A JPS6282596A (en) 1985-10-07 1985-10-07 Semiconductor storage device

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JP60224418A Pending JPS6282596A (en) 1985-10-07 1985-10-07 Semiconductor storage device

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