JPS6279872U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6279872U JPS6279872U JP17069885U JP17069885U JPS6279872U JP S6279872 U JPS6279872 U JP S6279872U JP 17069885 U JP17069885 U JP 17069885U JP 17069885 U JP17069885 U JP 17069885U JP S6279872 U JPS6279872 U JP S6279872U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- disk
- vacuum evaporation
- hook
- evaporation apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims 1
Landscapes
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
第１図はこの考案の実施例である真空蒸着装置
のウエハ支持台の平面図、第２図は従来のウエハ
支持台を配置したプラネタリ支持体１の平面図、
第３図は真空蒸着装置の内部機構を説明するため
の縦断面概略正面図、第４図は従来のウエハ支持
台の平面図、第５図は同ウエハ支持台の縦断面正
面図、第６図は同ウエハ支持台に取り付けたウエ
ハが傾斜している場合の平面図である。 ７……ウエハ、８……オリエンテーシヨンフラ
ツト面、９……バネ、１０……案内溝、１１……
フツク。
のウエハ支持台の平面図、第２図は従来のウエハ
支持台を配置したプラネタリ支持体１の平面図、
第３図は真空蒸着装置の内部機構を説明するため
の縦断面概略正面図、第４図は従来のウエハ支持
台の平面図、第５図は同ウエハ支持台の縦断面正
面図、第６図は同ウエハ支持台に取り付けたウエ
ハが傾斜している場合の平面図である。 ７……ウエハ、８……オリエンテーシヨンフラ
ツト面、９……バネ、１０……案内溝、１１……
フツク。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 円盤上に載置したウエハのオリエンテーシヨン
フラツト面をバネに引かれ案内溝にガイドされた
フツクで係止押圧するとともにこのウエハの他方
側を２箇所以上係止することにより支持して、真
空蒸着装置内においてウエハに遊星運動を行わせ
る真空蒸着装置のウエハ支持台において、 ウエハのオリエンテーシヨンフラツト面にフツ
クを係止するために円盤の一方側の周端から半径
方向に形成された案内溝を、円盤の中心を扇中心
としてフツクのウエハ把持可能な扇形範囲内で複
数設けたことを特徴とする真空蒸着装置のウエハ
支持台。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985170698U JPH0248425Y2 (ja) | 1985-11-05 | 1985-11-05 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985170698U JPH0248425Y2 (ja) | 1985-11-05 | 1985-11-05 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6279872U true JPS6279872U (ja) | 1987-05-21 |
| JPH0248425Y2 JPH0248425Y2 (ja) | 1990-12-19 |
Family
ID=31105656
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1985170698U Expired JPH0248425Y2 (ja) | 1985-11-05 | 1985-11-05 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0248425Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013166966A (ja) * | 2012-02-14 | 2013-08-29 | Mitsubishi Electric Corp | ウェハ保持構造およびそれを備えた蒸着装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61194175A (ja) * | 1985-02-21 | 1986-08-28 | Murata Mfg Co Ltd | 薄膜形成装置 |
-
1985
- 1985-11-05 JP JP1985170698U patent/JPH0248425Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61194175A (ja) * | 1985-02-21 | 1986-08-28 | Murata Mfg Co Ltd | 薄膜形成装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013166966A (ja) * | 2012-02-14 | 2013-08-29 | Mitsubishi Electric Corp | ウェハ保持構造およびそれを備えた蒸着装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0248425Y2 (ja) | 1990-12-19 |