JPS6275946A - Optical information recording medium - Google Patents

Optical information recording medium

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Publication number
JPS6275946A
JPS6275946A JP60214519A JP21451985A JPS6275946A JP S6275946 A JPS6275946 A JP S6275946A JP 60214519 A JP60214519 A JP 60214519A JP 21451985 A JP21451985 A JP 21451985A JP S6275946 A JPS6275946 A JP S6275946A
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JP
Japan
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layer
substrate
adhesive layer
sputtering
film
Prior art date
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Application number
JP60214519A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsutaro Ichihara
勝太郎 市原
Noburo Yasuda
安田 修朗
Yoshiaki Terajima
喜昭 寺島
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Priority to DE8686306993T priority patent/DE3675732D1/en
Publication of JPS6275946A publication Critical patent/JPS6275946A/en
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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

PURPOSE:To improve the adhesiveness between a light transmittable resin substrate and recording layer without spoiling the shape of guide grooves by interposing a light transmittable adhesive layer contg. fluoroplastic between the light transmittable substrate and the recording layer. CONSTITUTION:The recording layer 3 is formed via the adhesive layer 2 which contains the fluoroplastic and has light transmittability on the light transmittable resin substrate 1 formed with the guide grooves. An interference layer 4 and a light reflective layer 5 are successively formed on the layer 3. The adhesiveness between the substrate 1 and the layer 3 is improved without spoiling the guide grooves formed on the surface of the substrate 1 and the exfoliation of the layer 3 exposed to a high temp. and high humidity is obviated by using the layer 2, by which the long-term reliability is improved.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明はレーザビーム等の光ビームの照q4に」;り情
報の記録および再生を行なう光学式情報記録媒体に係り
、特に透光性樹脂基板−にに記録層を形成して構成され
る光学式情報記録媒体に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Technical Field of the Invention] The present invention relates to an optical information recording medium that records and reproduces information by illuminating a light beam such as a laser beam, and particularly relates to an optical information recording medium that records and reproduces information using a light beam such as a laser beam. The present invention relates to an optical information recording medium formed by forming a recording layer thereon.

〔発明の技術的背鎖どその問題貞〕[Problems with technical backbone of inventions]

半導体レーザ等からの光ピー11が照釦されることによ
って情報の記録・再生を行なう光学式情報記録媒体、い
わゆる光ディスクは、 (1)1ビツト当たりの記録エリアが光ビームのスポッ
ト径(〜1μmφ)と同程度であるため、記録密痩が極
めて高く大容論化が可能。
An optical information recording medium, a so-called optical disk, records and reproduces information by illuminating a light beam 11 emitted from a semiconductor laser or the like. ), so the recording density is extremely high and it is possible to make a large number of records.

(2情報の記録・再生を非接触で行なうので、媒体の摩
耗がない。
(2 Information is recorded and reproduced without contact, so there is no wear on the medium.

(3)  数百glSeC以下の^速アクセスが可能で
ある。     :といった利点から、次世代の周辺メ
モリとして大いに期待されている。
(3) Fast access of several hundred glSeC or less is possible. Because of these advantages, it is highly anticipated as the next generation peripheral memory.

このような光ディスクは基本的にディスク状の基板と、
光ビームの照射によって何らかの光学的変化を生じる記
録層とから構成される。ここで、記録層の光学的変化と
しては。
Such optical discs basically consist of a disc-shaped substrate,
It is composed of a recording layer that undergoes some kind of optical change when irradiated with a light beam. Here, as for the optical change of the recording layer.

(a)光ビーム照射部が変形(ビットあるいはバブルの
形成)を起こし、その変形部の光反射率が変化する。
(a) The light beam irradiation part undergoes deformation (formation of bits or bubbles), and the light reflectance of the deformed part changes.

(b)光ビーム照射部が相変化を起こし、その相変化部
の光反射率が変化する。
(b) The light beam irradiation section causes a phase change, and the light reflectance of the phase change section changes.

(C)光ビーム照射部の磁化が反転し、その磁化反転部
の偏光状態が変化する。
(C) The magnetization of the light beam irradiation section is reversed, and the polarization state of the magnetization reversal section is changed.

といった現象が挙げられる。Examples of such phenomena include:

これらの光学的変化のいずれを利用した光ディスクにお
いても、記録・再生用の光ビームは基板を介して記録層
上に照射する方式が実用的である。
For optical discs that utilize any of these optical changes, a practical method is to irradiate a recording layer with a recording/reproducing light beam through a substrate.

これは記録層の露出面側にはゴミやほこりが付着するの
で、露出面側から光ビームを照射すると書込み、読取り
エラーが増大するのに対して、記録層の基板面側にはデ
ィスク製造者が十分注意を払えばゴミの11着を防1ト
できるということと、基板の記録層と反対側の面上では
光ビームはデフォーカスであるため、この面上に付着し
たゴミ等はエラーの原因とはなり勤いということの2つ
の理由によっている。
This is because dirt and dust adhere to the exposed side of the recording layer, so writing and reading errors increase when the light beam is irradiated from the exposed side, whereas the disk manufacturer If you are careful enough, you can prevent dust from landing on the substrate, and since the light beam is defocused on the side of the substrate opposite to the recording layer, dust adhering to this side can cause errors. This is due to two reasons: work.

このように基板を介」ノて光ビームを照射する方式の場
合、光ディスクの基板には当然、透光性(透明)である
ことが要求され、さらにノイズレベルを低くする上でな
るべく複屈折率の小さい(4料であることが要求される
。また、ディスク面上の所定位置に光学ヘッドを迅速に
移動させて高速アクセスを実現する上で、光学ヘッドを
がイドするだめのグループ(案内溝)が必要であるが、
この案内溝は記録層に設けるよりは、予め基板面子に設
けた方が記録層の形成技術の立場から、はるかに有利で
ある。
In the case of this method of irradiating a light beam through a substrate, the substrate of the optical disk is naturally required to be translucent (transparent), and in order to lower the noise level, the birefringence is as high as possible. In addition, in order to quickly move the optical head to a predetermined position on the disk surface and achieve high-speed access, a group of guide grooves (guide grooves) for guiding the optical head is required. ) is required, but
It is much more advantageous from the standpoint of recording layer forming technology to provide this guide groove in advance on the substrate surface than to provide it in the recording layer.

これら3つの基本的要求(透光性、低複屈折率。These three basic requirements (translucency, low birefringence).

案内溝の成型性)を同時に満足するM板材料は、ポリメ
チルメタクリレート、ポリカーボネイ]・。
The M plate materials that simultaneously satisfy the moldability of the guide groove are polymethyl methacrylate and polycarbony.

エポキシ等を代表とする透光性樹脂基板である。This is a transparent resin substrate typically made of epoxy or the like.

しかしながら、このような透光性樹脂材料は無機系材料
との密着性が極め−C悪いので、金属もしくは金属化合
物の系統からなる記録層を透光性樹脂基板上に密着性良
く形成するのは極めて困雌である。例えば現在、消去可
能型光ディスクにおける記録1どして最も期待されてい
る希土類−遷移金属非晶質フェリ磁性膜(以下、RE−
TM膜という)等も、透光性樹脂基板との密着性は乏し
く、これがRE−TM膜を記録層とする光ディスク(光
磁気ディスクともいう)の実用化を遅らせている原因の
一つとなっている。
However, since such transparent resin materials have extremely poor adhesion to inorganic materials, it is difficult to form a recording layer made of a metal or metal compound on a transparent resin substrate with good adhesion. She is extremely troublesome. For example, at present, a rare earth-transition metal amorphous ferrimagnetic film (hereinafter referred to as RE-
RE-TM films) also have poor adhesion to translucent resin substrates, and this is one of the reasons for delaying the commercialization of optical disks (also called magneto-optical disks) that use RE-TM films as recording layers. There is.

この問題を解決するため、特開昭60−79534号公
報に記載されているように基板と記録層との間に密着層
を介在させた光ディスクが提案されている。
In order to solve this problem, an optical disc in which an adhesive layer is interposed between the substrate and the recording layer has been proposed, as described in Japanese Patent Laid-Open No. 60-79534.

この公知例においては、密着層をスピンコード法に」:
り形成している。しかしながら、このようなウェット・
プロセスで密着層を形成した場合には、密着層によって
案内溝の形状が萎えてしまい、トラッキング、フォーカ
シング、ランダムアクセスといった光ディスクにおいて
重要な機能を損なうという問題があった。
In this known example, the adhesive layer is formed using a spin code method.
is formed. However, such wet
When an adhesive layer is formed in a process, there is a problem that the adhesive layer distorts the shape of the guide groove, impairing important functions in optical discs such as tracking, focusing, and random access.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明は上述した従来技術の問題点に鑑みてなされIC
もので、案内溝形状を損なうことなく、透光性樹脂基板
と記録層との密着性を向上させることができる光学式情
報記録媒体を提供づることを目的とする。
The present invention has been made in view of the problems of the prior art described above.
An object of the present invention is to provide an optical information recording medium that can improve the adhesion between a transparent resin substrate and a recording layer without damaging the shape of the guide groove.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明はこの目的を達成するl;め、透光性樹脂基板と
記録層との間に、フッソ樹脂を含む透光性を有する密着
層を介在させたことを特徴とする。
To achieve this object, the present invention is characterized in that a light-transmitting adhesive layer containing fluorocarbon resin is interposed between the light-transmitting resin substrate and the recording layer.

透光性樹脂基板の材料としては、ポリメチルメタクリレ
ート、ポリカーボネイ]・、エポキシ等が使用され、ま
た記録層としては光ビームの照!)1によって光学的変
化を起こす金属(例えばRE−1’ M膜、形状記憶合
金等)、半導体、金属酸化物等が使用される。
Polymethyl methacrylate, polycarbonate, epoxy, etc. are used as the material for the translucent resin substrate, and the recording layer is made of polymethyl methacrylate, polycarbonate, epoxy, etc. ) Metals (for example, RE-1'M films, shape memory alloys, etc.), semiconductors, metal oxides, etc. that cause optical changes due to 1 are used.

密着層はフッソ樹脂の他に、さらに3i3N4゜ANN
、S i 02 、zns、CaF2.r TO。
The adhesive layer is made of 3i3N4゜ANN in addition to fluorocarbon resin.
, S i 02 , zns, CaF2. r TO.

BN等の透光性無機材料を含有したものでもJ:い。J: Yes, even those containing translucent inorganic materials such as BN.

その場合、密着層中のフッソ横1脂の混合比Xは厚さ方
向において均一であってもよいが、厚さ方向において平
均化した値又に対して、透光性基板に近い側ではX>X
、記録層に近い側ではX〈又となるように厚さ方向に変
化している方が、密着層による信頼性の向上という観点
からより一層望ましい。
In that case, the mixing ratio X of the fluorinated resin in the adhesive layer may be uniform in the thickness direction, but compared to the averaged value in the thickness direction, >X
, on the side closer to the recording layer, it is more desirable that the thickness changes in the thickness direction so that it becomes X<or> from the viewpoint of improving reliability due to the adhesion layer.

(発明のν)宋) 本発明によれば、フッソ樹脂を含む透光性の密着層を用
いることににす、樹脂基板を使用した場合の基板と記録
層との密着性の問題が解決され、高温高湿F1.:放置
しても記録層の剥離の生じない長期信頼性の^い光学式
情報記録媒体が得られる。
(Invention ν) Song Dynasty) According to the present invention, the problem of adhesion between the substrate and the recording layer when a resin substrate is used is solved by using a light-transmitting adhesive layer containing fluorocarbon resin. , high temperature and high humidity F1. : An optical information recording medium with long-term reliability that does not cause peeling of the recording layer even after being left unused can be obtained.

また、本発明において使用されるフッソ樹脂を主体とし
て構成された密着層は、透光性、耐候性。
In addition, the adhesive layer mainly composed of fluorine resin used in the present invention has light transmittance and weather resistance.

成膜性に富むばかりでなく、スパッタリング法やプラズ
マ重合法といったドライ・プロセスによって成膜できる
ため、基板上に形成されている微細な案内溝をその形状
を損なうことなく記録層上に正しく反映させることが可
能である。従って、案内溝を利用しての1−ラッキング
、フォーカシングおよびラングlいアクセス等の各種制
御を安定に行なうことがひきるという利点がある。
Not only does it have excellent film formation properties, but it can also be formed using dry processes such as sputtering and plasma polymerization, allowing the fine guide grooves formed on the substrate to be reflected correctly on the recording layer without damaging their shape. Is possible. Therefore, there is an advantage that various controls such as one-racking, focusing, and one-way access using the guide groove can be performed stably.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

以下、本発明の詳細な説明する。第1図は本発明の一実
施例に係る光学式情報記録媒体(以下、光ディスクとい
う)の断面図であり、透光性樹脂基板1上にフッソ樹脂
を含む透光性を有する密着層2を介して記録層3が形成
され、記録層3上にさらに干渉層4および光反射層5が
順次形成されている。
The present invention will be explained in detail below. FIG. 1 is a cross-sectional view of an optical information recording medium (hereinafter referred to as an optical disk) according to an embodiment of the present invention, in which a transparent adhesive layer 2 containing fluorocarbon resin is formed on a transparent resin substrate 1. A recording layer 3 is formed therebetween, and an interference layer 4 and a light reflection layer 5 are further formed in this order on the recording layer 3.

透光性樹脂基板1としては例えばポリカーボネイト基板
が使用され、その表面は案内溝が形成されているものと
する。密着層2はフッソ樹脂として例えばテトラフロー
ロエチレンを含有したものである。記録層3は例えばT
bC0膜のようなRE−7M膜からなる。干渉層4は例
えば3i3N+膜が使用され、また光反@層5はAR膜
が使用される。
As the transparent resin substrate 1, for example, a polycarbonate substrate is used, and guide grooves are formed on the surface thereof. The adhesive layer 2 contains, for example, tetrafluoroethylene as a fluorocarbon resin. The recording layer 3 is, for example, T
It consists of RE-7M membrane like bC0 membrane. For example, a 3i3N+ film is used for the interference layer 4, and an AR film is used for the light anti-layer 5.

第2図はこの光ディスクの製造に使用されるスパッタリ
ング装置の構成例であり、11はスパッタ室、12は第
1図の透光性樹脂基板1を保持する基板ホルダ、13は
基板ホルダ12の回転治具、14はRF電源、15はマ
グネ]・ロンスパッタ用のスパッタ源、16はスパッタ
用電源、17はシャッタ、18はシールl:部材、1つ
はスパッタガス供給系、20は排気系、21は基板設置
用治具である。
FIG. 2 shows an example of the configuration of a sputtering apparatus used for manufacturing this optical disk, in which 11 is a sputtering chamber, 12 is a substrate holder that holds the transparent resin substrate 1 shown in FIG. 1, and 13 is a rotation of the substrate holder 12. jig, 14 is an RF power supply, 15 is a magnet], a sputter source for Ron sputtering, 16 is a power supply for sputtering, 17 is a shutter, 18 is a seal l: members, one is a sputtering gas supply system, 20 is an exhaust system, Reference numeral 21 denotes a board installation jig.

以下、本発明に係る光ディスクの製造工程の具体的な実
施例を述べる。
Hereinafter, specific embodiments of the optical disc manufacturing process according to the present invention will be described.

〈実施例1〉 第2図のスパッタリング装置を用いて、第1図の構造の
光ディスクを次の手順で作製した。透光性樹脂基板1と
してφ120.,1゜2mtの案内溝付きポリカーボネ
イト基板を用意した。これはフォ1−ポリマーをArイ
オンレーザにより露光、現像して得た原盤からスタンパ
を製作し、このスタンパを用いてポリカーボネイト樹脂
を射出成型することにより得られたものである。この基
板を中性洗剤溶液中にて5分間超音波洗浄に供し、純水
にて水洗後、N2ブロー乾燥、デシケータ乾燥を行なっ
てから、スパッタ室11内に入れ、基板ホルダ12にね
じ止めした。冶具21を加工してスパッタ室11を密閉
状態にし、排気系20を動作させてスパッタ室11内の
圧力を5X10−6Torrまで排気し、ガス供給系1
9より99.9<19%純度のArガスを供給し、スパ
ッタ室11内のガス圧力を5x 10−3Torr k
:相持した。次に、治具13によって基板ホルダ12を
60rplで回転させ、シャッタ17の一つを閉じた状
態でその下部にあるスパッタ源15(5インチφのテI
・ラフローロエチレン・ターゲラ]・を収納しである)
に電源16より150WのRFパワーを印加した。5分
間のプレ・スパッタ(シャッタ17を閉じた状態でのス
パッタ)を行ない、ターゲツト面を清浄化した後に、上
述のごとくシ11ツタ17を開き、約20分間のスパッ
タ成膜を行なって電+1116をオフ状態とし、スパッ
タ室11内を人気に戻した後、冶具21を上昇させて、
テトラフローロエチレンからなる密着層2が形成された
基板1を取出した。
<Example 1> Using the sputtering apparatus shown in FIG. 2, an optical disk having the structure shown in FIG. 1 was manufactured in the following procedure. The transparent resin substrate 1 is φ120. , 1°2 mt polycarbonate substrate with guide grooves was prepared. This was obtained by manufacturing a stamper from a master disk obtained by exposing and developing a photopolymer with an Ar ion laser, and injection molding a polycarbonate resin using this stamper. This substrate was subjected to ultrasonic cleaning for 5 minutes in a neutral detergent solution, washed with pure water, N2 blow drying, and desiccator drying, and then placed in the sputtering chamber 11 and screwed to the substrate holder 12. . Process the jig 21 to seal the sputtering chamber 11, operate the exhaust system 20 to exhaust the pressure inside the sputtering chamber 11 to 5X10-6 Torr, and open the gas supply system 1.
Ar gas with a purity of 99.9<19% is supplied from 9, and the gas pressure in the sputtering chamber 11 is set to 5x 10-3 Torr k.
: mutually agreed. Next, the substrate holder 12 is rotated at 60 rpm using the jig 13, and with one of the shutters 17 closed, the sputter source 15 (5 inch diameter
・It stores Lafluoroethylene Targera)
An RF power of 150 W was applied from the power source 16 to. After performing pre-sputtering (sputtering with the shutter 17 closed) for 5 minutes and cleaning the target surface, the shutter 11 was opened as described above, and sputtering was performed for about 20 minutes. After turning off the sputtering chamber 11 and restoring the inside of the sputtering chamber 11, the jig 21 is raised,
The substrate 1 on which the adhesive layer 2 made of tetrafluoroethylene was formed was taken out.

同時に基板ホルダ12に設置したガラス、ポリメチルメ
タクリレ−1へ、ポリカーボネイト、エポキシの各小片
(約151MX 25am )を利用して上記方法で形
成した密着層2の膜質を評価した結果、躾厚−10= は10 (10人、光透過率は93%(波長830 n
n+、ポリメチルメタクリ1ノーi〜基板)、耐薬品性
は30分間のアレトン中超音波洗浄で変質が皆無である
程度に良好であり、基板との密着性は粘着テープによる
ビールオフテストでポリメチルメタクリレート。
At the same time, we evaluated the film quality of the adhesive layer 2 formed by the above method using small pieces of polycarbonate and epoxy (approximately 151 MX 25 am) on glass, polymethyl methacrylate 1 installed on the substrate holder 12, and found that the thickness was - 10= is 10 (10 people, light transmittance is 93% (wavelength 830n)
n+, polymethyl methacrylate 1 no i ~ substrate), chemical resistance is good to the extent that there is no deterioration after 30 minutes of ultrasonic cleaning in aretone, and adhesion to the substrate is confirmed by beer-off test using adhesive tape. .

ポリカーボネイト、エポキシ並びにガラスのいずれも基
板から剥離しない程度に強固で、さらに65℃−90%
R,l−1,の高1高湿雰囲気下241−1 rs。
Polycarbonate, epoxy, and glass are strong enough to not peel off from the substrate, and can withstand 65℃ - 90%
R, l-1, high 1 high humidity atmosphere 241-1 rs.

←→常温雰囲気下IHr、のサイクル加速劣化試験を4
4jイクル継絖()た後にも、上記した4種類の基板の
いずれからも剥離することはなく、またテ1−ラフロー
ロエチレン膜自体の変質(光透過率の変化)も皆無であ
った。
←→IHr under room temperature atmosphere, cycle accelerated deterioration test 4
Even after bonding for 4 cycles, no peeling occurred from any of the four types of substrates described above, and there was no deterioration (change in light transmittance) of the TE1-RAfluoroethylene film itself.

一方、比較例1と()て密着層2に代えて513N4下
地層を形成した。スパッタガスは3%分圧N2のN2−
Ar混合ガスとし、3iターゲッ1−への投入パワーを
300W、成膜時間は20分とした。このJ:うにして
得られた5isN4下地層を上記テトラフローロエチレ
ン膜からなる密着層と同様に評価したところ、膜厚は1
000人、光透過率は91%、アセトン超音波洗浄30
分で変質なしで、基板との密着性はガラス基板の場合に
のみビールオフせず、他のポリメチルメタクリレ−1・
On the other hand, in Comparative Example 1 (2), a 513N4 underlayer was formed in place of the adhesive layer 2. The sputtering gas is N2- with a partial pressure of 3% N2.
The Ar mixed gas was used, the power input to the 3i target 1- was 300 W, and the film forming time was 20 minutes. The 5isN4 base layer obtained by J: was evaluated in the same manner as the adhesive layer made of the above-mentioned tetrafluoroethylene film, and the film thickness was 1.
000 people, light transmittance 91%, acetone ultrasonic cleaning 30
There is no deterioration in quality within minutes, and the adhesion to the substrate does not peel off only in the case of glass substrates, and other polymethylmethacrylate-1.
.

ポリイミド、エポキシ等の樹脂基板からは容易にビール
オフし、また上記と同様のり一イクル加速劣化試験を4
サイクル継続した後では、ガラス基板の場合にのみ5i
aN4下地層の剥離はなく、曲の樹脂基板上のSi3N
+下地層(iいずれも局部的な剥離(10t1m程度の
幅のシワが膜面に寄る)を発生し、この剥離に起因して
光透過率が低トした。
It can be easily removed from resin substrates such as polyimide and epoxy, and it can also be used in the same one-cycle accelerated deterioration test as above.
After continuing the cycle, 5i is required only for glass substrates.
There was no peeling of the aN4 base layer, and the Si3N on the curved resin substrate
+ Base layer (i) Local peeling (wrinkles with a width of about 10t1m near the film surface) occurred in both cases, and the light transmittance decreased due to this peeling.

次に、第2図における4つのスパッタ8115に各々S
 i、−rb、Go、Anのターゲットを設置して、T
bCo膜からなる記録H3,S ia N4膜からなる
干渉層4.およびAQ膜からなる光反射層5の形成を、
密着層2の形成されているポリカーボネイ]一基板と、
比較例である3i3N+下地層が形成されているポリカ
ーボネイ1〜基板−にに同一バッチで行なった。これら
2種の基板を基板ホルダ12にねじ止めし、治具21を
加工させてスパッタ室11中を排気系20により 5x10” 6Torrまで排気して、ガス供給系19
より99,990%純度のArガスを導入し、スパッタ
室11のガス圧力を5x 10− ’ Torrに維持
した後、RF’1ai14をオンにして基板表面を30
0WのRFパワーで5分間スパッタエツチング処理に供
して洗浄をした。
Next, each of the four sputters 8115 in FIG.
Set targets for i, -rb, Go, and An, and
Recording H3 made of bCo film, interference layer 4 made of S ia N4 film. and the formation of the light reflecting layer 5 made of AQ film,
a polycarbonate substrate on which the adhesive layer 2 is formed;
Polycarbonate 1 to substrate- on which 3i3N+ underlayers were formed as comparative examples were tested in the same batch. These two types of substrates are screwed to the substrate holder 12, the jig 21 is processed, the inside of the sputtering chamber 11 is evacuated to 5 x 10" 6 Torr by the exhaust system 20, and the gas supply system 19
After introducing Ar gas with a purity of 99,990% and maintaining the gas pressure in the sputtering chamber 11 at 5x 10-' Torr, the RF'1ai 14 was turned on and the substrate surface was
Cleaning was performed by sputter etching at 0W RF power for 5 minutes.

次に、Tbターゲット、coターゲットのスパッタ源1
5に対応するシャッタ17を閉じた状態で、両ターゲッ
トのスパッタ源15に電源16よりDC電力を供給して
Tbターゲットに0.5A。
Next, sputter source 1 for Tb target and co target
With the shutter 17 corresponding to No. 5 closed, DC power was supplied from the power source 16 to the sputtering sources 15 of both targets to give a voltage of 0.5 A to the Tb target.

Coターゲツ1〜に1.5Aの放電電流を通じ5分間の
プレスパツタを行なって各ターゲット表面を洗浄した後
、基板ホルダ12を治具13によって6゜rpmで回転
させ、Tbターゲット、Coターゲツ]・のスパッタ源
15に対応するシャッタ17を同時に開いて35秒間に
わたりTbCo膜の形成を行ない、約250ナトのTb
C0膜からなる記録層3を形成し、!1t116をオフ
にした。
After cleaning the surface of each target by applying a discharge current of 1.5 A to the Co targets 1 to 1 to perform press sputtering for 5 minutes, the substrate holder 12 was rotated at 6° rpm by the jig 13, and the Tb target, Co target]. The shutters 17 corresponding to the sputtering sources 15 were simultaneously opened to form a TbCo film for 35 seconds, and a TbCo film of about 250 nat.
A recording layer 3 made of a C0 film is formed, and! I turned off 1t116.

次に、ガスを3%分圧N2のN2−Ar混合がスに換え
、S1ターゲツ1へのスパッタ#i15に電源16より
300 WのRFパワーを投入し、プレスパツタを5分
間行なった後、スパッタ成膜を5分間行ない、記録層3
の上に約250ナトのSi3N+Il!からなる干渉層
4を形成した。
Next, the gas was changed to a N2-Ar mixture with a 3% partial pressure of N2, and 300 W of RF power was applied from the power source 16 to sputtering #i15 on the S1 target 1. After press sputtering was performed for 5 minutes, the sputtering was performed. Film formation was performed for 5 minutes, and recording layer 3 was formed.
About 250 nats of Si3N+Il on top! An interference layer 4 was formed.

次に、ガスをlllArガスに換え、へ2ターゲットの
スパッタ1I115に電m16より300WのRFパワ
ーを投入し、プレスパツタ5分間の後、スパッタ成膜を
10分間行ない、5i3Nnlllからなる干渉層4上
にAffi膜からなる光反射層5を約1000人の厚さ
形成し、電WA16をオフにするとともに基板1の回転
を停止し、スパッタ室11を大気に戻して治具21によ
って基板1を上昇させて、第1図に示した光ディスクを
取出した。
Next, the gas was changed to lllAr gas, and 300 W of RF power was applied from an electric m16 to the sputtering target 1I115, and after press sputtering for 5 minutes, sputtering was performed for 10 minutes to form a film on the interference layer 4 made of 5i3Nnllll. A light reflecting layer 5 made of an Affi film is formed to a thickness of about 1000 mm, the electric WA 16 is turned off, the rotation of the substrate 1 is stopped, the sputtering chamber 11 is returned to the atmosphere, and the substrate 1 is raised using a jig 21. Then, the optical disc shown in FIG. 1 was taken out.

一方、同時に基板ホルダ12に設置した1000人厚の
ナトラフローロエチレン膜からなる密着層を有するガラ
ス、ポリメチルメタクリレ−1・、ポリカーボネイト、
エポキシの各小片、および1000人厚のナト3N4躾
を有する同様の小片を用いて、成膜直後の性能を評価し
た結果、基板面側からtl e−N eレーザからのレ
ーザビームを照射して測定した光反射率「くお」:びカ
ー回転角θには、ポリメヂルメタクリLノー1一基板−
LにテトラフローロTチレン密着層を有するサンプルが
R−20%。
On the other hand, glass, polymethyl methacrylate 1, polycarbonate, etc., having an adhesive layer made of a 1000-layer thick Natrafluoroethylene film were installed on the substrate holder 12 at the same time.
We evaluated the performance immediately after deposition using each piece of epoxy and a similar piece with a 1000-layer thickness of Nato 3N4. Measured light reflectance "Kuo": Reflector rotation angle θ is polymethyl methacrylic L No. 1-substrate.
The sample with a tetrafluoro T tyrene adhesion layer on L is R-20%.

θk 、−0,45(18!+ 、また5tiN+密着
層を有する旬〕/プルがR−25%、θk =0.45
de(Iとなり、本ブを明(3二樋づくテトラフローロ
Tチレン密@層を有する構造においても、実用−1−十
分な再生性能指数(RX Ok積)が得られることが確
認された。
θk, -0,45 (18!+, also 5tiN + layer with adhesive layer)/Pull is R-25%, θk = 0.45
It was confirmed that a sufficient regeneration performance index (RX Ok product) can be obtained even in a structure having a dense layer of tetrafluoro T ethylene with 32 layers.

また、粘着テープによるビールオフテストの結宋は、テ
]・ラフ口−ロエチレン密着層を有するサンプルでは、
ガラス、ポリメチルメタクリレート。
In addition, the strength of the beer-off test using adhesive tape was
Glass, polymethyl methacrylate.

ポリカーボネイトエポキシのいずれのものも剥離は起こ
らなかったのに対し、Si3N4下地層を有づるサンプ
ルではガラス基板のもの以外は全て剥離した。また、こ
れらの小片と前記したφ120Mの案内溝付きポリカー
ボネイト基板を用いた光ディスクとを65℃−90%R
,H,24)−1rs、←−+常11 II +’、→
65℃−90%R,H、481−1rs、の加速劣化試
験に11(シ、剥離の有無を調べた。第3図はこの加速
劣化試験後の本発明に基づく光ディスクの表面状態を示
す金属1織の顕fHM写真であり、(a)は倍率10倍
、(b ) It倍率1000倍の場合である。案内溝
(縞状の部分)のある而ど無い面を通して剥離は全く認
められないことが明らかである。これに対し、Si3N
+下地層を有する従来の光ディスクでは加速劣化によっ
て膜が基板から剥離する規象が認められた。また、第3
図の顕微鏡写真から、本発明に其づく光ディスクでは案
内溝形状が萎えることなく良好に保たれていることも明
らかである。
No delamination occurred for any of the polycarbonate epoxies, whereas all samples with Si3N4 underlayers delaminated except for those on the glass substrate. In addition, these small pieces and the optical disk using the above-mentioned φ120M polycarbonate substrate with guide grooves were heated at 65°C and 90%R.
, H, 24) -1rs, ←-+ always 11 II +', →
An accelerated aging test of 65°C, 90% R, H, 481-1rs was conducted to check for peeling. Figure 3 shows the surface condition of the optical disk according to the present invention after this accelerated aging test This is a microscopic fHM photograph of 1 weave, (a) at 10x magnification, (b) at 1000x magnification. No peeling is observed at all through the surface where there is no guide groove (striped part). On the other hand, Si3N
+ In conventional optical discs having an underlayer, a phenomenon in which the film peels off from the substrate due to accelerated deterioration has been observed. Also, the third
From the micrograph shown in the figure, it is also clear that in the optical disc according to the present invention, the shape of the guide groove is well maintained without wilting.

〈実施例2〉 実施例1ではテトラフローロ■ブレン畜着層をスパッタ
リング法により形成したが、デ1−ラフ1]−ロエチレ
ン密着層はフレオンガスをプラズマ重合する方法によっ
ても得られる。第4図はテ1へラフローロエチレン密着
層の形成に実施するプラズマ重合装置の構成例を示1図
である。第4図において、41は重合室、42は基板ホ
ルダであり、樹脂基板1例えばポリメチルメタタリレー
)−基板(φ120.案内溝付ぎ)を保持する。43は
コイル、44はRFiim、45はガス供給系、46は
排気系である。
<Example 2> In Example 1, the tetrafluoroethylene adhesion layer was formed by a sputtering method, but the de1-rough1]-roethylene adhesion layer can also be obtained by plasma polymerization of Freon gas. FIG. 4 is a diagram showing an example of the configuration of a plasma polymerization apparatus used to form a fluoroethylene adhesive layer. In FIG. 4, 41 is a polymerization chamber, and 42 is a substrate holder, which holds a resin substrate 1 (eg, polymethyl metarelay) and a substrate (φ120, with a guide groove). 43 is a coil, 44 is an RFiim, 45 is a gas supply system, and 46 is an exhaust system.

このプラズマ重合装置を用いて、以下の二F程ににリテ
トラフ[]−]ロエチレン密着を形成した。
Using this plasma polymerization apparatus, a liter trough []-]loethylene was formed in the following two F areas.

先ず重合室41を排気系46によって 5x10−6Torrまで排気した後、ガス供給系71
5よりCF 4ガスを10 secm、A rガスを1
0105e同時に供給()て、RF電[44をオンにし
、コイル43に200WのRFパワーを供給し、重合室
41内にCF4−Ar混合ガスプラズマを励起して、基
板1」ニへのプラズマ重合成膜を30分間行なって取出
した。このプラズマ重合テトラフ日−ロエチレン膜の膜
質は、耐薬品性は若干スパッタテトラフロー[1エチレ
ン躾に劣ったが、他はスパッタテトラフローロエチレン
膜と同様に良好であった。
First, the polymerization chamber 41 is evacuated to 5x10-6 Torr by the exhaust system 46, and then the gas supply system 71
5 to 10 sec of CF4 gas, 1 of Ar gas
0105e at the same time, turn on the RF power [44], supply 200 W of RF power to the coil 43, excite the CF4-Ar mixed gas plasma in the polymerization chamber 41, and perform plasma polymerization on the substrate 1''. The film was formed for 30 minutes and then taken out. The film quality of this plasma-polymerized tetrafluoroethylene film was slightly inferior to that of sputtered tetrafluoroethylene in terms of chemical resistance, but was otherwise as good as the sputtered tetrafluoroethylene film.

また、このプラズマ重合テトラフローロエチレン膜上に
、第2図に示したスパッタリング装置によってTbcO
sからなる記録層、Si3N+膜からなる干渉層および
Ag膜からなる光反射層を順数形成し、実施例1と同様
に加速劣化試験に供したところ、膜の剥離は起こらず、
また案内溝形状の劣化も認められなかった。
Further, TbcO
A recording layer made of S, an interference layer made of Si3N+ film, and a light reflection layer made of Ag film were sequentially formed and subjected to an accelerated deterioration test in the same manner as in Example 1. No peeling of the films occurred.
Further, no deterioration of the guide groove shape was observed.

〈実施例3〉 実施例1および実施例2では、密着層をフッソ樹脂(テ
i・ラフローロエチレン)のみで形成した場合について
説明したが、本発明における密着層はフッソ樹脂の他に
透光性を有する無機材料を含有してもよい。その実施例
を以下に示す。
<Example 3> In Examples 1 and 2, the case where the adhesive layer was formed only with fluorocarbon resin (Tei-Rafluoroethylene) was explained. It may contain an inorganic material having properties. Examples thereof are shown below.

透光性樹脂基板1として実施例1と同様の案内溝付きポ
リカーボネイト基板を用意し、中性洗剤溶液中にて5分
間超音波洗浄に供し、純水にて水洗後、N2ブロー乾燥
、デシケータ乾燥を行なってから、スパッタ室11内に
入れ、基板ボルダ12にねじ止めした。冶具21を加工
してスパッタ室11を密閉状態にし、排気系20を動作
させてスパッタ室11内の圧力を5x10−6Torr
まで排気した後、ガス供給系19より3%分圧N2・N
2−Arガスを供給して、スパッタ室11内のガス圧力
を5X10−3TorrにM持した。
A polycarbonate substrate with guide grooves similar to that in Example 1 was prepared as the translucent resin substrate 1, subjected to ultrasonic cleaning for 5 minutes in a neutral detergent solution, washed with pure water, dried with N2 blow drying, and dried in a desiccator. After that, it was put into the sputtering chamber 11 and screwed to the substrate boulder 12. Process the jig 21 to seal the sputtering chamber 11, and operate the exhaust system 20 to reduce the pressure inside the sputtering chamber 11 to 5x10-6 Torr.
After exhausting the air to
2-Ar gas was supplied to maintain the gas pressure in the sputtering chamber 11 at 5×10 −3 Torr.

次に、i/’1613によって基板ホルダ12を6or
III11で回転ざぜ、シ1/ツタ17の2つを閉じた
状態でそれらの下部にあるスパッタ源15(5インチφ
のテトラフロー日エチレン・ターゲラ1〜およびS1タ
ーゲットをそれぞれを収納しである)に電源16より各
々150 W、 120 W(7)RFハ’)−’Fr
印加した。5分間のプレ・スパッタ(シャッタ17を閉
じた状態でのスパッタ)を行ない、ターゲット面を清浄
化した後に、上記2つのシャッタ17を開き、約10分
間のスパッタ成膜を行なって電源16をオフ状態とし、
スパッタ室11内を大気に戻した後、冶具21を上昇さ
せて、テ]−ラフロー口エチレン75vo1.%−3i
 3 N425vol、%からなる密着層2が形成され
た基板1を取出した。同時に基板ホルダ12に設置した
ガラス、ポリメチルメタクリレ−1−、ポリカーボネイ
1〜.エポキシの各小片(約15IHX 25g )を
利用して上記方法で形成した密着層2の膜質を評価した
結束、膜厚は1000人、光透過率は91%(波長83
0 nm、ポリメチルメタクリレート基板)、耐薬品性
は30分間のアセ]〜ン中超音波洗浄で変質が皆無であ
る程度に良好であり、基板との密着性は粘着テープによ
るビールオフテストでポリメチルメタクリレ−1・。
Next, the substrate holder 12 is set to 6or by i/'1613.
With the two shutters 1/17 closed, the sputtering source 15 (5 inch φ
150 W and 120 W, respectively, from the power supply 16 to the tetraflow day Ethylene Targera 1 ~ and S1 targets (7) RF) - 'Fr
applied. After performing pre-sputtering (sputtering with the shutter 17 closed) for 5 minutes and cleaning the target surface, the two shutters 17 are opened, sputtering film formation is performed for about 10 minutes, and the power supply 16 is turned off. state,
After returning the inside of the sputtering chamber 11 to the atmosphere, the jig 21 is raised and the trough flow port ethylene 75vol. %-3i
The substrate 1 on which the adhesive layer 2 made of 25% of N4 was formed was taken out. At the same time, glass, polymethyl methacrylate 1-, polycarbonate 1-, etc. were placed on the substrate holder 12. The film quality of the adhesive layer 2 formed by the above method using each small piece of epoxy (approximately 15 IH x 25 g) was evaluated.The film thickness was 1000, and the light transmittance was 91% (wavelength
0 nm, polymethyl methacrylate substrate), chemical resistance is good to the extent that no deterioration occurred after 30 minutes of ultrasonic cleaning in an acetic acid bath, and adhesion to the substrate was confirmed by a beer-off test using adhesive tape. Le-1.

ポリカーボネイト、エポ4;シ並びにガラスのいずれも
基板から剥離しない程度に強固で、ざらに65℃−90
%R,ト1.の高温高湿雰囲気下2411rs。
Polycarbonate, Epo 4, and glass are strong enough to not peel off from the substrate, and can be roughly heated to 65℃-90℃.
%R, t1. 2411rs under a high temperature and high humidity atmosphere.

←→常濡雰囲気下1l−1r、のサイクル加速劣化試験
を4サイクル継続した後にも、上記した4種類の基板の
いずれからも剥離することはなく、またテトラフローロ
エチレン膜自体の変質(光透過率の変化)も皆無であっ
た。
←→Even after 4 cycles of 1l-1r cycle accelerated deterioration test in a constantly wet atmosphere, there was no peeling from any of the four types of substrates mentioned above, and there was no deterioration of the tetrafluoroethylene film itself (photo-induced deterioration). There was also no change in transmittance.

このように本発明においては、密着層が°:ノツソ樹脂
と無機材料との混合物からなる場合でb、フッソ樹脂単
体の場合とほぼ同様の効宋が得られる。
As described above, in the present invention, when the adhesion layer is made of a mixture of a fluorine resin and an inorganic material, almost the same effectiveness as in the case of a single fluorine resin can be obtained.

〈実施例4〉 実施例3ではテ]−ラフローロTチ【ノンとSi3N<
との混合物からなる密着層におけるテトラフローロエチ
レンの混合比が75vol、%一様の場合を説明したが
、発明考等はより厳しい環境下でより長時間の加速劣化
試験を繰返したところ、このJ:うな混合物からなる密
着層では、密着層の厚さ方向にフッソ樹脂の混合比の変
化を持たせた方が、より信頼性が向上することを見出し
た。この場合、フッソ樹脂の混合比Xの変化のさせ方は
、密着層と基板および記録層との熱膨張率や吸水膨張係
数の差をできるだけ近付ける意味で、Xを厚さ方向にお
いて平均化した値kに対して、基板に近い側では×〉又
、記録層に近い側ではx<xとなるJうにするのが適当
である。
<Example 4> In Example 3, Te] - Rafloro T Chi [Non and Si3N<
We have explained the case where the mixing ratio of tetrafluoroethylene in the adhesion layer consisting of a mixture of J: It has been found that the reliability of the adhesion layer made of the eel mixture is improved by varying the mixing ratio of the fluorocarbon resin in the thickness direction of the adhesion layer. In this case, the mixing ratio X of the fluorocarbon resin is changed to a value obtained by averaging X in the thickness direction in order to bring the difference in thermal expansion coefficient and water absorption expansion coefficient between the adhesive layer, the substrate, and the recording layer as close as possible. For k, it is appropriate to set J such that x> on the side closer to the substrate and x<x on the side closer to the recording layer.

第5図はフッソ樹脂混合比を密着層の厚さ方向に変化さ
せて形成する場合の態様を示すもので、(’a)は混合
比をステップ状に変化させる方式、(b)はグラデュア
ルに変化させる方式である。
Figure 5 shows the method of forming the adhesion layer by changing the mixing ratio of the fluorine resin in the thickness direction. This is a method that changes the

これら第5図(a)(b)のような混合比の変化を持つ
密着層は、例えば第2図に示したスパッタリング装置に
おいて、テ1〜ラフロー〇エチレン・ターゲラ:〜と3
iターゲツ1〜への入力パワー比を時間的に変化させる
ことにより形成できる。これらの密着層の上に実施例3
と同様に、TbCo!l!からなる記録層、Si3N+
1mからなる干渉層、2l− Al1膜からなる光反射層を順次積層した光ディスクを
製造し、実施例3で説明したテ]〜ラフロー[]エチレ
ンの混合比が75vo I 、%一様の、テ]・ラフロ
ー〇エチレンと5iaN+との混合物からなる密着層を
有する光ディスクと共に、80℃−90%R6)1.2
41−(rs、←→常m I Hr、4 Itイクル→
80℃−90%R0H096)1rs、どいつ、実施例
3の場合よりも厳しい条件の加速劣化試験に供した。
For example, in the sputtering apparatus shown in FIG. 2, the adhesion layer having a change in mixing ratio as shown in FIGS. 5(a) and 5(b) can be formed by
It can be formed by temporally changing the input power ratio to the i-targets 1 to 1. Example 3
Similarly, TbCo! l! A recording layer consisting of Si3N+
An optical disk was manufactured in which an interference layer of 1 m thick and a light reflective layer of 2 l-Al1 film were sequentially laminated. ]・Raflo〇 80℃-90%R6) 1.2 with an optical disk having an adhesive layer made of a mixture of ethylene and 5iaN+
41-(rs, ←→ regular m I Hr, 4 It cycle →
The sample was subjected to an accelerated deterioration test at 80° C.-90% R0H096) 1rs under conditions more severe than those in Example 3.

第6図および第7図は、この加速劣化試験後の光ディス
クの表面状態を示す金属組織の写真である。第6図(a
)は第5図(a)のステップ状の混合比変化を持つ密着
層を有する光ディスクの表面状態、第6図(b)は第5
図(b)のグラデコエント状の混合比変化を持つ密着層
を有する光ディスクの表面状態、第7図(a)(b)は
テトラフローロエチレン混合比が75vo l 、%一
様の密着層を有する光ディスクの表面状態であり、第6
図(a)(b)および第7図(a ) 1.を倍率10
倍、第7図(b)は倍率1000倍である。
FIGS. 6 and 7 are photographs of the metal structure showing the surface condition of the optical disk after this accelerated deterioration test. Figure 6 (a
) shows the surface condition of an optical disc having an adhesive layer with a step-like mixture ratio change as shown in FIG. 5(a), and FIG.
Figure 7(b) shows the surface state of an optical disc having an adhesive layer with a gradient-like mixture ratio change, and Figures 7(a) and 7(b) show an optical disc with a tetrafluoroethylene mixture ratio of 75 vol and an adhesive layer with a uniform percentage. This is the surface condition of the optical disc, and the sixth
Figures (a) and (b) and Figure 7 (a) 1. magnification 10
The magnification in FIG. 7(b) is 1000 times.

テトラフローロエチレン混合比が一様の密着層を4ji
す゛る光ディスクは実施例3で行なった65℃−90%
R,i1.下でのリイクル加速劣化試験ではディスク全
面にわたり剥離は見られなかったが、本実施例4で行な
った80°C−90%R,H,下でのより長時間のけイ
クル加速劣化試験によっては、局部的に筋状の剥離を生
じることが第7図(a>(b)より明らかである。同様
の現象は、実施例1で説明したテトラフローロエチレン
単体からなる密着層を形成した光ディスクにおいても観
測された。
4ji adhesion layer with uniform tetrafluoroethylene mixing ratio
The optical disc was heated at 65°C - 90% as in Example 3.
R, i1. In the recycle accelerated deterioration test under the conditions below, no peeling was observed over the entire surface of the disk, but in the longer recycle accelerated deterioration test conducted in Example 4 at 80°C and 90% R, H, no peeling was observed. It is clear from FIG. 7 (a>(b)) that stripe-like peeling occurs locally.A similar phenomenon was observed in the case of the optical disk in which the adhesive layer made of tetrafluoroethylene alone was formed as described in Example 1. It was also observed in

これに対し、ステップ状の混合比変化を持つ密着層を有
する光ディスクでは、第6図(a)に示されるJ:うに
剥離部が案内溝のない面の極く一部に発生づ−るのみで
、またグラデコエント状の混合比変化を持つ密着層を有
する光ディスクにあっては、第6図(b)示されるよう
に全く剥離を生じないことがわかった。従って、オフィ
ス等の環境下では一様な混合比の密着層でもモ分な信頼
性が期待できるが、J:り厳しい環境下で長時間にわた
り光ディスクを保存するような場合には、密着層の厚さ
方向にフッソ樹脂の混合比を変化させた密着層の方が、
より高い信頼性が得られる。
On the other hand, in an optical disc having an adhesive layer with a step-like mixture ratio change, the J: sea urchin peeling shown in Fig. 6(a) occurs only in a very small part of the surface without guide grooves. Furthermore, it has been found that in the case of an optical disk having an adhesive layer having a gradient-like mixture ratio change, no peeling occurs at all, as shown in FIG. 6(b). Therefore, in environments such as offices, even an adhesive layer with a uniform mixing ratio can be expected to be highly reliable, but when storing optical discs for long periods of time in harsh environments, The adhesion layer in which the mixing ratio of fluorocarbon resin is changed in the thickness direction is better.
Higher reliability can be obtained.

なお、第5図(a)に示したようなステップ状の混合比
変化を持つ密着層であって、テ]〜ラフ【]−]ロエチ
レン100の層を含lυだ密着層を形成する場合には、
テ1−ラフ口一口エチレン100%の層についてはCF
4ガスを用いたプラズマ重合法によっても形成が可能で
ある。テトラフ口−ロエチレンと無機材料との混合物の
層についても、CF4ガスのプラズマ重合と無IJl料
ターゲツ[−のスパッタとを同時進行することによって
形成可能であるが、製造条件が難しくなるのC1テ1ヘ
ラフロ一口エチレン・ターゲットと無機材料ターゲット
の同時スパッタの方が好ましい。
In addition, when forming an adhesion layer having a step-like change in the mixing ratio as shown in FIG. teeth,
CF for the 100% ethylene layer
It can also be formed by a plasma polymerization method using four gases. A layer of a mixture of tetrafluoroethylene and an inorganic material can also be formed by simultaneous plasma polymerization of CF4 gas and sputtering of a non-IJl material target, but the manufacturing conditions are difficult. Simultaneous sputtering of a single flow one-shot ethylene target and an inorganic material target is preferred.

本発明はさらに、次のような種々の実施態様をとること
が可能である。例えば以上の実施例では記録層として光
磁気効果を利用するT b Co膜を例示したが、他の
RE −T M Illであってもよく、またR E−
T M膜以外の記録層を有する光ディスク、例えば形状
記憶効果を利用するC LI A ff膜等、結晶構造
変化を利用する5eTe膜、InSb膜等を記録層とす
る光ディスクにも本発明による密着層を適用することが
でき、先の実施例と同様の効果を期待することができる
The present invention can further take on various embodiments as described below. For example, in the above embodiments, a T b Co film that utilizes the magneto-optical effect was used as the recording layer, but other RE-TMIlls may be used, and RE-
The adhesion layer according to the present invention can also be applied to optical discs having a recording layer other than a TM film, such as a CLI A ff film that utilizes a shape memory effect, and an optical disc that has a recording layer of a 5eTe film, an InSb film, etc. that utilizes a change in crystal structure. can be applied, and the same effects as in the previous embodiment can be expected.

また、実施例3ではフッソ樹脂(テトラフローロエチレ
ン)と混合される透光性無機材料としてSi3N+を示
したが、3i3N4以外の無機材料、例えばS i 0
2 、S i O,AffiN、ZnS。
Further, in Example 3, Si3N+ was shown as a translucent inorganic material to be mixed with fluorocarbon resin (tetrafluoroethylene), but inorganic materials other than 3i3N4, such as Si0
2, S i O, AffiN, ZnS.

CaF2.rTO等を使用しても同様の効果を得ること
ができる。実際、これらの無機材料のターゲットを使用
して、テトラフローロエチレン・ターゲットと同時にス
パッタを行ない、これらの混合物からなる密着層をポリ
メチルメタクリレート。
CaF2. A similar effect can be obtained by using rTO or the like. In fact, using targets made of these inorganic materials, sputtering was performed at the same time as a tetrafluoroethylene target, and an adhesion layer made of a mixture of these materials was formed using polymethyl methacrylate.

ポリカーボネイト、エポキシ、ガラスの4種類の基板上
に形成し、ビールオフテストに供したところ、混合比が
厚さ方向に一様の密着層ではテトラフローロエチレン混
合比が50vol、%以上のものは全ての基板から剥離
せず、グラデュエント状の混合比変化を持つ密着層では
全く剥離は認められなかった。
When formed on four types of substrates: polycarbonate, epoxy, and glass, and subjected to beer-off tests, it was found that in adhesive layers with a uniform mixing ratio in the thickness direction, those with a tetrafluoroethylene mixing ratio of 50 vol.% or more No peeling occurred from any of the substrates, and no peeling was observed in the adhesive layer with a gradient-like mixture ratio change.

その他、本発明1ま要旨を逸脱しない範囲で種々変形し
て実施することができる。
In addition, the present invention 1 can be implemented with various modifications without departing from the gist thereof.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例に係る光学式情報記録媒体(
光ディスク)の断面図、第2図は本弁明の光ディスクの
製造に使用される装置の一例としてのスパッタリング装
置の構成図、第3図(a)(b)は本発明の一実施例に
係るテ]−ラフローロエチレン単体からなる密W層を有
する光ディスクの加速劣化試験後の表面金属組織を示す
顕m鏡写真、第4図は本発明の光ディスクの製造に使用
される装置の他の例としてのプラズマ重合装置の構成図
、第5図は本発明の他の実施例に係る光ディスクにおけ
るテトラフローロエチレンと透光性無機材料との混合物
からなる密着層の厚さ方向におけるテトラフローロエチ
レン混合比の変化の例を示す図、第6図(a)(b)は
テトラフローロエチレン混合比を厚さ方向にステップ状
およびグラデュエント状に変化させた密着層を有する光
ディスクの表面金属組織を示す顕fMM写真、第7図−
26= (a)(b)はテl〜ラフローロエチレン混合比が厚さ
方向において一様なテトラフローロエチレンと無機材料
との混合物からなる密着層を有する光ディスクの表面金
属組織を示す顕微鏡写真である。 1・・・透光性樹脂基板、2・・・密着層、3・・・記
録層、4・・・干渉層、5・・・光反射層。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第1図 Qll お卸會
FIG. 1 shows an optical information recording medium (
FIG. 2 is a block diagram of a sputtering device as an example of the device used for manufacturing the optical disk of the present invention, and FIGS. ] - A microscopic photograph showing the surface metallographic structure after an accelerated deterioration test of an optical disk having a dense W layer consisting of a simple substance of lafluoroethylene, FIG. 4 is another example of the apparatus used for manufacturing the optical disk of the present invention. FIG. 5 is a block diagram of a plasma polymerization apparatus according to another embodiment of the present invention, and FIG. Figures 6(a) and 6(b), which are diagrams showing examples of ratio changes, show the surface metallographic structure of an optical disk having an adhesion layer in which the tetrafluoroethylene mixing ratio was changed stepwise and gradiently in the thickness direction. Microscope fMM photograph, Figure 7-
26 = (a) and (b) are micrographs showing the surface metal structure of an optical disc having an adhesive layer made of a mixture of tetrafluoroethylene and an inorganic material with a uniform mixing ratio of tetrafluoroethylene in the thickness direction. It is. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Transparent resin substrate, 2... Adhesive layer, 3... Recording layer, 4... Interference layer, 5... Light reflective layer. Applicant's agent Patent attorney Takehiko Suzue Figure 1 Qll Wholesale meeting

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)透光性樹脂基板と、光ビームの照射により光学的
変化を生じる記録層とを有する光学式情報記録媒体にお
いて、前記透光性樹脂基板と前記記録層との間にフッソ
樹脂を含む透光性を有する密着層を介在させたことを特
徴とする光学式情報記録媒体。
(1) An optical information recording medium having a translucent resin substrate and a recording layer that causes an optical change upon irradiation with a light beam, including a fluorocarbon resin between the translucent resin substrate and the recording layer. An optical information recording medium characterized by interposing a light-transmitting adhesive layer.
(2)前記密着層はさらに透光性無機材料を含有したも
のであることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
光学式情報記録媒体。
(2) The optical information recording medium according to claim 1, wherein the adhesive layer further contains a translucent inorganic material.
(3)前記密着層はフッソ樹脂の混合比xが、xを厚さ
方向において平均化した値@x@に対して、前記透光性
基板に近い側ではx>@x@、前記記録層に近い側では
x<@x@となるように厚さ方向に変化していることを
特徴とする特許請求の範囲第2項記載の光学式情報記録
媒体。
(3) In the adhesion layer, the mixing ratio x of the fluorocarbon resin is the average value of x in the thickness direction @x@, and on the side closer to the transparent substrate, x>@x@, and the recording layer 3. The optical information recording medium according to claim 2, wherein the thickness changes in the thickness direction so that x<@x@ on the side closer to .
JP60214519A 1985-09-30 1985-09-30 Optical information recording medium Pending JPS6275946A (en)

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JP60214519A JPS6275946A (en) 1985-09-30 1985-09-30 Optical information recording medium
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EP86306993A EP0218380B1 (en) 1985-09-30 1986-09-10 Optical recording medium with pre-groove
DE8686306993T DE3675732D1 (en) 1985-09-30 1986-09-10 OPTICAL RECORDING MEDIUM WITH TRACK.

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62205553A (en) * 1986-03-06 1987-09-10 Toshiba Corp Optical disk
JPS62219244A (en) * 1986-03-19 1987-09-26 Hitachi Maxell Ltd Optical information recording medium

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