JPS626784B2 - - Google Patents

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JPS626784B2
JPS626784B2 JP526182A JP526182A JPS626784B2 JP S626784 B2 JPS626784 B2 JP S626784B2 JP 526182 A JP526182 A JP 526182A JP 526182 A JP526182 A JP 526182A JP S626784 B2 JPS626784 B2 JP S626784B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、光合成物質、例えば、藻(例えば、
クロレラ、スピロリーナ等)、光合成細菌、及
び、その他の人工的に合成される光合成物質(例
えば、カルス等)等を効果的に光合成するための
光合成装置に関する。
光合成装置の一例として、例えば、クロレラ培
養装置が提案されているが、クロレラ(葉緑素を
含む単細胞微生物)を培養する場合、クロレラに
ある値以上の光を与えると葉緑素が破壊して毒素
(フエオホルバイト)を発生し、ある値以下の光
量では光合成が進行しない。そのため、光合成を
効果的に行なわせるためには、全ての光合成物質
を含む細胞に対して均一のある一定の光を与える
必要がある。また、生体は密集している場合に
は、単位体積当りの増殖能力が増大するばかりで
なく、他の菌類に対して抵抗力が増大するという
特性を持つている。このような条件を考慮する
と、光合成を行なわせる場合、培地1当りの光
照射面積がある所定の値でないと、培養効率が悪
くなるので、従来は、光合成物質(個体)の数を
少なくして光の透過をよくするようにしていた。
しかし、この従来の方法には矛盾があり、例え
ば、個体が増加した場合には、光の透過率が低下
してしまい、そのため、個体を回収しなければな
らず、他の菌類に対する抵抗力が弱くなる等の欠
点があつた。また、光源に近い所の個体に対して
は光が強すぎ、遠い所の個体に対しては光が弱く
なり、しかも、水に吸収されて光の波長成分が変
つてしまう等の欠点があつた。従つて、理想的に
は、非常に狭い間隙の間に光合成物質を通すよう
にするとともに、この間隙に対して直角方向に一
定量の光を与えるようにすればよく、このように
すれば、光の減衰が少なく、全ての光合成物質を
含む細胞に対して光の波長成分を変えることなく
十分な光を均等に与えることができる。また、光
合成を効率よく行なうためには、十分なCO2を全
体に亘つて隈無く均等に供給することであるが、
これを実現することは非常に困難であつた。
本発明は、上述のごとき実情に鑑みてなされた
もので、第1図乃至第3図にその一実施例を示
す。第1図は、本発明による光合成装置の一実施
例を説明するための側断面図(第2図の−線
断面図)、第2図は、第1図の−線断面図、
第3図は、第1図の−線断面図で、図中、1
は光合成反応槽、2は補助槽、3は光導体ケーブ
ル、4はCO2を含む空気を光合成反応槽1内に供
給するためのパイプで、光合成反応槽1内には多
数本の細管状の光ラジエータ10が図示のように
並列に立設されており、その下端部はそれぞれ単
管14に水密に嵌合されている。これらの単管1
4は、第3図に示すように、その外周部が密着し
て一体的に接合され、各単管間の間隙15は、そ
の一部の領域(第3図において黒く塗りつぶされ
ている部分)が塞がれている。従つて、パイプ4
より供給されるCO2を含んだ空気は、図示実施例
の場合、外周部近傍の間隙15を通して光ラジエ
ータ10の間を矢印A方向に上昇し、上端部にお
いて中心方向に向い、中心部を矢印B方向に下降
するが、前述のように、中心部近傍の間隙15は
塞がれているので、中心部を下降した空気は、下
端部において外周部に向い、光合成反応槽1内を
還流する。このようにすると、光ラジエータ10
の外周壁上を培地が空気と共に相当の速さで移動
するので、光ラジエータの外周壁に光合成物質が
付着するようなことはなく、これらによつて光ラ
ジエータから放出された光が遮ぎられるようなこ
とはなくなり、全ての光合成物質に光エネルギー
及びCO2を均等に供給することができる。なお、
その際、下降部の面積を上昇部の面積より小さく
しておくと、下降部の水流が速くなり、該下降部
における光ラジエータの外周壁の汚れを少なくす
ることができる。また、図には、外周部を上昇領
域、中心部を下降領域としたが、逆に、中心部を
上昇領域、周辺部を下降領域としてもよいことは
容易に理解できよう。補助槽2は、光合成反応槽
1の上端側において連通口21,22を通して該
光合成反応槽1と連通して取り付けられており、
前述のようにして生成された光合成物質は、該補
助槽2の下端部に設けられた取り出しバルブ23
を通して取り出される。この時、光合成反応槽内
の培地も一緒に吐出されていまうので、バルブ2
4を通して不足した分の培地及びPHコントロール
溶液を補給する。また、補助槽2の上端部には、
前述のごとくして光合成反応槽1内に圧入された
空気を排出するためのバルブ25が設けられてお
り、該バルブの開度を調整することによつて光合
成反応槽1内の圧力を調整することができる。そ
の際、圧力調整弁を用いて光合成反応槽内の圧力
を自動的に所定圧力に調整するようにすると、
CO2が水中へ溶ける量を多くして光合成反応を促
進し、同時に、光合成反応槽内の圧力が低下して
CO2が重炭酸になるのを防止することができる。
更に、補助槽2内には、温度計、圧力計、PH計、
濃度計等光合成反応状態を監視するための計器類
26が設けられており、これらによつて、光合成
が最も効果的に行なわれるように光合成反応槽1
内の状態を制御し、例えば、補助槽2内に発熱、
吸熱装置27を設け、該発熱、吸熱装置27を制
御して光合成反応槽内の温度を制御し、また、光
合成物質を取り出すべき時期が報知される。な
お、上述のように、光合成物質を補助槽を通して
取り出す時は、光合成反応を連続して行なうこと
ができるが、光合成反応を一時中断してもよいよ
うな場合には、パイプ4の図示しない先端を図示
しない真空装置等に切り換えて接続すると、該パ
イプ4を通して光合成物質を回収することができ
る。光ラジエータ10は透明体の外管11、該外
管11内に挿通される光導体ロツド12、及び下
端部内側に設けられた反射鏡13等よりなり、該
外管11の上部外壁にはねじ11aが切られてお
り、該ねじ11aが上蓋30に切られたねじ30
aに螺着されており、従つて、上蓋30を光合成
反応槽1から取り外すと、光ラジエータ10も該
上蓋30と一緒に取り出されるので、光合成反応
槽及び光ラジエータの洗浄等を容易に行なうこと
ができる。また、光ラジエータ10の前記上端部
外壁11に切られたねじ11aには、光導体ケー
ブル3の出光端側が螺着できるようになつてお
り、これらを螺合した時に、光導体ケーブル3の
光フアイバー3aの端部と光ラジエータ内の光導
体ロツド12の端部とが一致し、光導体ケーブル
3の光フアイバー3aを通して伝送されてきた光
が光導体ロツド12内に効果的に伝達されるよう
になつている。なお、光導体ロツド12は、石英
或いはプラスチツク等で構成され、図示例の場
合、その表面に所望の間隔をもつて光拡散物質す
なわちこれら石英又はプラスチツクの光屈折率よ
りも大きい屈析率の物質12aが取り付けられて
おり、光導体ロツド内を伝搬されてきた光がこれ
らの物質12a部より放射されるようになつてい
るが、本発明は、図示実施例に限定されるもので
はなく、例えば、周辺部材料の光屈折率を中心部
材料の光屈折率よりも大きくすることによつても
光導体ロツド12内を伝搬されてくる光を該光導
体ロツドの周辺部から放射するようにしてもよい
ことは容易に理解できよう。なお、その場合、図
示のように、ロツド状の光導体12を使用すると
直線性が出しやすく、光ラジエータ内への配設が
容易となる。また、光導体ケーブル3内に2本以
上の光フアイバー3aを設けておき、そのうちの
1本以上に太陽光を収集した光を導入し、残りの
1本以上に人工光を導入するようにし、これらを
同時に或いは切り換えて使用するようにすること
も可能であり、このようにすれば、太陽光が十分
にある時は太陽光のみを使用し、朝夕及び曇天時
等太陽光が十分でない時は、太陽光と人工光を同
時に使用し、夜間等太陽光が利用できない時は人
工光のみ使用し、もつて、常時効率よく光合成を
行なわせるようにすることもできる。また、光ラ
ジエータ10の外管11の断面形状も、図示例に
は円形のものを示したが、本発明は、円形のもの
に限定されるものではなく、例えば、三角形、四
角形、六角形等任意形状のものでよいことは容易
に理解できよう。
以上に、本発明の一実施例について説明した
が、本発明は、上記実施例に限定されるものでは
なく、本発明の精神から逸脱しない範囲で種々の
変形例が可能であり、以下に、それらの実施例に
ついて説明する。
第4図は、本発明の他の実施例を説明するため
の要部つまり第1図に示した光合成反応槽の下端
部の側断面図、第5図は、第4図の−線断面
図で、図示のように、光ラジエータ10群の下端
部に密接して邪魔板40を設け、該邪魔板40の
所定の領域A(第3図において黒く塗りつぶされ
ていない間隙15のある領域に相当)において、
前記間隙15のある位置に相当する位置に穴41
をあけ、残りの領域B(第3図において黒く塗り
つぶされている間隙15のある領域に相当)には
穴をあけずにおくようにし、もつて、第1図乃至
第3図に示した実施例において黒く塗りつぶして
ある部分の間隙15の閉塞を省略し得るようにし
たものである。このようにすると、空隙15の閉
塞作業が不要となり、製作が容易となる。
第6図は、本発明の他の実施例を説明するため
の要部すなわち第1図に示した光合成反応槽の下
端部の側断面図、第7図は、第6図の−線断
面図で、図示のように、光ラジエータ10群の下
端部に所定の間隙を置いて邪魔板40を設けたも
ので、このようにすると、下降流の一部は第4図
及び第5図に示した実施例と同様にして光ラジエ
ータ10間の間隙を通して外周方向に還流する
が、一部は直進して邪魔板40に突き当り、前記
光ラジエータ群の下端と邪魔板との間の間隙を通
して外周方向に還流するので、単管14の上端部
の汚れが少なくなる。また、この例のように、光
ラジエータ群の下端部から間隙をもつて邪魔板を
設ける場合には、単管を使用することなく、光ラ
ジエータを密着して配列することも可能であり、
このようにすれば、光ラジエータ10の外壁が汚
れるようなことはほとんどなくなる。ただし、こ
の場合には、光ラジエータの上端部の管径を小さ
くして、外周部(又は中央部)を上昇した培地が
中央部(又は周辺部)へ還流するための流路を設
ける必要がある。なお、上述のように、邪魔板を
使用する場合には、勿論、穴41の径を培地が通
過し得る程度に大きくしておいて、光合成物質回
収時、前述のように、パイプ4の図示しない端部
に設けられた真空装置等によつて該光合成物質を
回収するようにすることも可能であるが、その他
に、該穴41の径を空気は通すが培地は通さない
程度に小さくしたり、或いは、第8図に示すよう
に、穴41に球42を設けて、或いは、第9図に
示すように、穴41を先細に形成して、該穴41
に逆止弁の機能を持たせ、空気のみ該穴41を通
して光合成反応部へ導入し、光合成反応部の培地
が下降しないようにすることも可能で、このよう
にすれば、パイプ4が培地等で詰まるようなこと
はなくなる。
以上の説明から明らかなように、本発明による
簡単かつコンパクトな構成によつて、光及びCO2
を全ての光合成物質に均等にかつ効果的に供給す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明による光合成装置の一実施例
を説明するための側断面図、第2図は、第1図の
−線断面図、第3図は、第1図の−線断
面図、第4図は、本発明の他の実施例を説明する
ための要部側断面図、第5図は、第4図の−
線断面図、第6図は、本発明の更に他の実施例を
説明するための要部側断面図、第7図は、第6図
の−線断面図、第8図及び第9図は、それぞ
れ本発明の実施に使用して好適な逆止弁機構の例
を示す側断面図である。 1……光合成反応槽、2……補助槽、3……光
導体ケーブル、4……空気供給パイプ、10……
光ラジエータ、13……反射鏡、14……単管、
30……上蓋、40……邪魔板。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 光合成反応槽と、該光合成反応槽内に並列に
    立設された多数本の細管状光ラジエータ群と、該
    光ラジエータ群の下端側に該光ラジエータ群の下
    端と所定の間隙をもつて配設された邪魔板とを有
    し、該邪魔板の下側から該邪魔板にあけられた多
    数個の穴を通してCO2を含む空気を圧入するよう
    にした光合成装置であつて、前記穴が前記邪魔板
    の所定領域にのみ設けられていることを特徴とす
    る光合成装置。 2 前記所定領域が前記邪魔板の中央部であるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の光
    合成装置。 3 前記所定領域が前記邪魔板の周辺部であるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の光
    合成装置。 4 前記所定領域の面積が残りの領域の面積より
    も大きいことを特徴とする特許請求の範囲第1項
    乃至第3項のいずれか1項に記載の光合成装置。 5 前記穴が水を通す程度に十分大きいものであ
    ることを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第
    4項のいずれか1項に記載の光合成装置。 6 前記穴に逆止弁機構が設けられていることを
    特徴とする特許請求の範囲第5項に記載の光合成
    装置。 7 前記穴は、前記空気を光合成反応槽に圧入し
    得る程度に大きく、かつ、前記光合成反応槽の水
    が落下しない程度に小さいことを特徴とする特許
    請求の範囲第1項乃至第4項のいずれか1項に記
    載の光合成装置。 8 前記穴が上方に向つて先細に形成され、邪魔
    板上面における径が前記光合成反応槽内の水を落
    下させない程度に小さいことを特徴とする特許請
    求の範囲第1項乃至第4項のいずれか1項に記載
    の光合成装置。 9 前記光ラジエータの下端部が相互に密着して
    接合され、上端部が下端部に比して小径に構成さ
    れていることを特徴とする特許請求の範囲第1項
    乃至第8項に記載の光合成装置。 10 前記光ラジエータの下端部が相互に所定の
    間隔をもつて接合されていることを特徴とする特
    許請求の範囲第1項乃至第8項に記載の光合成装
    置。 11 前記間隔が前記光ラジエータの下端部に密
    着嵌合された単管によつて形成されていることを
    特徴とする特許請求の範囲第10項に記載の光合
    成装置。 12 前記光ラジエータは、透明体の外管と、該
    外管内に配設された光導体ロツドとから成り、前
    記光導体ロツドに多数個の光放射部が設けられて
    いることを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至
    第11項のいずれか1項に記載の光合成装置。 13 前記光ラジエータは、透明体の外管と、該
    外管内に配設された光導体ロツドとから成り、前
    記光導体は外周部の光屈折率が中央部の屈折率よ
    り大きく構成されていることを特徴とする特許請
    求の範囲第1項乃至第11項に記載の光合成装
    置。 14 前記光ラジエータ内の光導体ロツドに光学
    的に接続される光フアイバーを有する光導体ケー
    ブルを具備し、該光導体ケーブルは少なくとも2
    以上の光フアイバーを有し、そのうちの少なくと
    も1以上に太陽光が集束された光が導入され、残
    りの少なくとも1以上に人工光が導入されるよう
    に構成されていることを特徴とする特許請求の範
    囲第1項乃至第13項のいずれか1項に記載の光
    合成装置。 15 前記光ラジエータの下端内面が反射面であ
    ることを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第
    14項のいずれか1項に記載の光合成装置。 16 前記光ラジエータの上端側が前記光合成反
    応槽の上蓋に水密に一体的に取り付けられている
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第1
    5項のいずれか1項に記載の光合成装置。 17 前記上蓋が該上蓋に前記光ラジエータを取
    り付けた状態で前記光合成反応槽に取り付け及び
    取り外し可能であることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項乃至第16項のいずれか1項に記載の
    光合成装置。 18 前記光合成反応槽の上部側壁に該光合成反
    応槽と連通した補助槽を有することを特徴とする
    特許請求の範囲第1項乃至第17項のいずれか1
    項に記載の光合成装置。 19 前記光合成反応槽と補助槽を連通する連通
    口がその高さ位置を異にして少なくとも2以上あ
    ることを特徴とする特許請求の範囲第18項に記
    載の光合成装置。 20 前記補助槽の下端部に光合成された物質を
    取り出すための取り出し口を有し、上端部に空気
    出し口及び培地供給口とを有すとことを特徴とす
    る特許請求の範囲第18項又は第19項に記載の
    光合成装置。 21 前記空気出し口に圧力調整弁を設けたこと
    を特徴とする特許請求の範囲第20項に記載の光
    合成装置。 22 前記補助槽内に放熱、吸熱装置を有するこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第21
    項に記載の光合成装置。 23 光合成反応槽と、該光合成反応槽内に並列
    に立設された多数本の細管状光ラジエータ群と、
    該光ラジエータ群の下端側に該光ラジエータの下
    端に一体的に取り付けられた邪魔板を有し、該邪
    魔板の下側から該邪摩板にあけられた多数個の穴
    を通してCO2を含む空気を圧入するようにした光
    合成装置であつて、前記穴が前記邪魔板の所定領
    域にのみ設けられていることを特徴とする光合成
    装置。 24 光合成反応槽と、該光合成反応槽内に並列
    に立設された多数本の細管状光ラジエータ群と、
    各光ラジエータの下端部に密着嵌合された単管と
    を有し、前記単管間の間隙が所定の領域に亘つて
    塞がれており、残りの塞がれていない領域から
    CO2を含む空気を圧入するようにしたことを特徴
    とする光合成装置。
JP526182A 1981-12-03 1982-01-16 光合成装置 Granted JPS58121789A (ja)

Priority Applications (10)

Application Number Priority Date Filing Date Title
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