JPS6258601A - Printed resistance substrate - Google Patents

Printed resistance substrate

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JPS6258601A
JPS6258601A JP60198964A JP19896485A JPS6258601A JP S6258601 A JPS6258601 A JP S6258601A JP 60198964 A JP60198964 A JP 60198964A JP 19896485 A JP19896485 A JP 19896485A JP S6258601 A JPS6258601 A JP S6258601A
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resistor
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、印刷抵抗基板に関する。特に、印刷抵抗体の
耐熱特性を向上させ、かつ基体素材の熱劣化、収縮、反
りを防止することができる印刷抵抗基板に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to printed resistive substrates. In particular, the present invention relates to a printed resistor substrate that can improve the heat resistance properties of printed resistors and prevent thermal deterioration, shrinkage, and warping of the base material.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明の印刷抵抗基板は、基体と印刷抵抗体との間に成
る種の光硬化型感光性組成物を光硬化して形成した樹脂
層を介在させることによって、基体の変化、抵抗値の変
動などを防止し、かつ量産をも可能ならしめたものであ
る。
The printed resistor substrate of the present invention has a resin layer formed by photo-curing a photocurable photosensitive composition between the base and the printed resistor, thereby causing changes in the base and resistance value. This prevents such problems and also makes mass production possible.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来より印刷抵抗基板において、基イ本と印刷抵抗体と
の間にアンダーコートとして樹脂層を介在させることが
行われている。この樹脂材料としては、他の層(印刷抵
抗体、そのリードである銅箔、i艮ジャンパー、オーバ
ーコート、シンボル等)との密着力の関係で、熱硬化型
のエポキシ系またはフェノール系インキが主に使われて
いる。しかし従来のこの熱硬化インキは、130〜15
0℃の熱硬化上程を通る為、基イ岑素材の熱劣化、収縮
、反りが大きいという問題がある。また熱硬化時間が長
((10〜30分)、量産に適さないという問題がある
Conventionally, in printed resistor substrates, a resin layer has been interposed as an undercoat between the base and the printed resistor. As this resin material, thermosetting epoxy or phenol ink is recommended due to its adhesion to other layers (printed resistor, copper foil that is its lead, i-jumper, overcoat, symbol, etc.). Mainly used. However, this conventional thermosetting ink has a 130 to 15
Because it passes through the heat curing process at 0°C, there are problems in that the base material undergoes significant thermal deterioration, shrinkage, and warpage. Another problem is that the heat curing time is long (10 to 30 minutes), making it unsuitable for mass production.

一方従来より、印刷抵抗基板の製造過程中に半田ディツ
プを行うことが多く、これにより熱が加わるが、上記従
来の樹脂材料は熱収縮が大きいため、この収縮応力によ
り基体や抵抗体との密着力が劣化することがあり、抵抗
特性に悪影響が及ぶことがある。また、この半田デイツ
プによる熱で抵抗体のドリフト(抵抗値変動)が生ずる
ことがあり、この問題は特に基板のパターン面側に印刷
抵抗体を形成する構造で顕著である。このドリフト防止
の為にも、上記アンダーコート用樹脂材料は、熱変化に
よる変化が小さいことが望まれる。
On the other hand, conventionally, solder dipping is often performed during the manufacturing process of printed resistor boards, which adds heat, but since the conventional resin materials mentioned above have a large thermal contraction, this shrinkage stress makes it difficult to adhere to the base or resistor. The force may be degraded and the resistance properties may be adversely affected. Further, the heat generated by the solder dip may cause a drift (variation in resistance value) of the resistor, and this problem is particularly noticeable in a structure in which a printed resistor is formed on the pattern side of the substrate. In order to prevent this drift, it is desirable that the undercoat resin material has little change due to thermal changes.

しかし従来の上記熱硬化性インキは、収縮応力が高く、
抵抗値ドリフトが大きい。
However, the conventional thermosetting ink has high shrinkage stress,
The resistance value drift is large.

従来の印刷抵抗基板の構造には、その配線パターン面の
反対側の部分面に抵抗を形成するものと、パターン面に
抵抗を形成するものとがあるが、半田ディツプはパター
ン面について行われるので、前者の構造なら半田の熱は
直接には印刷抵抗体にかからず、熱による抵抗値変動は
それ程過大にはならない。例えばアンダーコートとして
従来の熱硬化インキを用いると、半田デイツプ後のドリ
フトは±5%以内であった(260℃で5秒ディフプ。
There are two types of conventional printed resistor board structures: one in which the resistance is formed on a partial surface opposite to the wiring pattern surface, and the other in which the resistance is formed on the pattern surface. In the former structure, the heat of the solder is not directly applied to the printed resistor, and the fluctuation in resistance value due to heat does not become so large. For example, when a conventional thermosetting ink was used as an undercoat, the drift after soldering was within ±5% (5 seconds diff at 260°C).

2回試験)。(tested twice).

しかし、パターン面に抵抗を形成する後者の構造では、
ドリフトの問題が大きい。例えば第3図(A)の構造(
構造A)は、基体1に銅によりパターン2を形成し、そ
のパターン2側に、印刷抵抗体4を形成する。印刷抵抗
体4を形成すべき部分にアンダーコート5を形成し、該
アンダーコート5上にカーボンペーストによって印刷抵
抗体4を形成し、該印刷抵抗体4と銅パターン2とにま
たがる銀電極6を形成し、これら印刷抵抗体4と銀電極
6とパターン2の一部とをおおうようにトップコート7
を施す、この構造Aについて半田ディップを行うと、半
田の熱はほぼ直接印刷抵抗体4に加わることになり、よ
って熱による抵抗値のドリフトも非常に大きい。
However, in the latter structure where resistance is formed on the pattern surface,
Drifting is a big problem. For example, the structure shown in Figure 3 (A) (
In structure A), a pattern 2 is formed of copper on a substrate 1, and a printed resistor 4 is formed on the pattern 2 side. An undercoat 5 is formed on the part where the printed resistor 4 is to be formed, the printed resistor 4 is formed on the undercoat 5 with carbon paste, and a silver electrode 6 is formed over the printed resistor 4 and the copper pattern 2. A top coat 7 is applied to cover the printed resistor 4, the silver electrode 6, and a part of the pattern 2.
When solder dipping is performed on this structure A, the heat of the solder is almost directly applied to the printed resistor 4, and therefore the drift of the resistance value due to heat is also very large.

第3図CB)に示す構造(構造B)も、パターン2の側
に印刷抵抗体4が形成されており、同様な問題がある。
The structure (Structure B) shown in FIG. 3CB) also has the printed resistor 4 formed on the pattern 2 side, and has a similar problem.

この構造Bは、構造Aと同じく基体lに銅によりパター
ン2を形成し、アンダーコート5を施すが、次いでパタ
ーン2に接続する銀電極6を形成して、2つの銀電極6
同士にわたって印刷抵抗体4を形成する。この構造Bは
、銀電極6と印刷抵抗体4との接続部分を全体として小
さくできるので、界面からの拡散の影響を小さくできる
。しかし反面、印刷抵抗体4が長いので、熱が加わった
時の収縮が大きくなってドリフトが大きくなることがあ
る。
In this structure B, a pattern 2 is formed of copper on the substrate l and an undercoat 5 is applied as in structure A, but then a silver electrode 6 connected to the pattern 2 is formed, and two silver electrodes 6 are formed.
A printed resistor 4 is formed between the two. In this structure B, since the connecting portion between the silver electrode 6 and the printed resistor 4 can be made smaller as a whole, the influence of diffusion from the interface can be reduced. However, on the other hand, since the printed resistor 4 is long, it may shrink more when heat is applied, resulting in a larger drift.

上記のように、パターン面に抵抗を形成するものは半田
ディツブによる抵抗値変動が大きいため、実際上実用化
されるに至っていない。半田ディツプに限らず、リフロ
一方式とか、トンネル炉方式とか各種の半田付は技術が
あるが、いずれにしても熱が加わるのでこの問題は避け
られず、むしろリフロ一方式の方が高温で加熱されるの
で、この問題は大きい、前記部品面に抵抗を形成する構
成は、この問題は小さいが、その分、他部品を搭載し得
るスペースが小さくなってしまい、基板の高密度化が達
成できない。従って、基板の高密度化・小型化・作動の
高速化を更に一層向上させるためには、パターン面に抵
抗体を形成した構造の実用化が望まれる。このような構
1jjiA、  Bであれば、恨ペースト用のスルホー
ルが必要なく、スルホールレスとし、かつ抵抗体の下に
銅パターンの形成が可能であり、高密度化し得、低コス
ト化も可能である。
As mentioned above, devices in which resistance is formed on the pattern surface have large resistance fluctuations due to solder dips, so they have not been put into practical use. There are various soldering techniques such as not only solder dip but also reflow one-way method, tunnel furnace method, etc., but in any case, this problem is unavoidable because heat is added, and in fact, reflow one-way method heats at a higher temperature. Therefore, this problem is large. Although this problem is small in the configuration in which the resistor is formed on the component surface, the space in which other components can be mounted becomes smaller, making it impossible to achieve higher board density. . Therefore, in order to further improve the density, size, and operation speed of the substrate, it is desired to put into practical use a structure in which a resistor is formed on the pattern surface. With such structures 1A and B, there is no need for through holes for the paste, there is no through hole, and it is possible to form a copper pattern under the resistor, allowing for higher density and lower costs. be.

上記したような半田ディツブその他の熱処理後の抵抗体
のドリフト要因は種々のものが考えられ、例えば基41
の寸法変化、ti6、アンダーコート5、印刷抵抗体4
自身の寸法変化、トップコート(半田保tri)7の変
化などがあるが、本発明ではその内のアンダーコート3
の材料を改良して、この問題を解決する。
There are various factors that can be considered to cause the drift of the resistor after heat treatment such as solder dips and other heat treatment.
dimensional change, ti6, undercoat 5, printed resistor 4
There are changes in the dimensions of itself, changes in the top coat (hander coating) 7, etc., but in the present invention, the undercoat 3
This problem can be solved by improving the material.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

上述の如〈従来の印刷抵抗基板はそのアンダーコートの
材料が熱硬化に高温を要するので基板に変化が生じ、か
つ熱硬化時間が長いので量産に向かず、また熱収縮応力
が大きいので抵抗値変化をもたらすことがあるという問
題がある。
As mentioned above, conventional printed resistance boards require high temperatures for the undercoat material to heat cure, causing changes in the board, and the long heat curing time, making them unsuitable for mass production.Also, the resistance value is low due to large heat shrinkage stress. The problem is that it can bring about change.

本発明は、このような問題点を解決した印刷抵抗基板を
提供することを目的とする。
An object of the present invention is to provide a printed resistance board that solves these problems.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明は、印刷抵抗基板の基体と印刷抵抗体との間に (a)エポキシ変性アクリレートと、 (b)不飽和ポリエステルアクリレートとを主成分とし
て含む光硬化型感光性組成物を光硬化して形成した樹脂
層を介在させる構成としたことによって、上記目的を達
成する。
In the present invention, a photocurable photosensitive composition containing as main components (a) epoxy-modified acrylate and (b) unsaturated polyester acrylate is photocured between the base of a printed resistor substrate and the printed resistor. The above object is achieved by having a structure in which the formed resin layer is interposed.

本発明によれば、 ■)光硬化であるので、硬化中の熱が過大にならず、例
えば熱順歴が80℃、10秒程度なので、基体の熱劣化
、収縮、反りが抑えられる。
According to the present invention, (1) Since photocuring is used, the heat during curing does not become excessive, and the heat cycle is, for example, 80° C. for about 10 seconds, so that thermal deterioration, shrinkage, and warping of the substrate can be suppressed.

■)硬化時間が、例えば10秒程度の短時間で済むので
、量産化が可能である。
(2) Since the curing time is short, for example, about 10 seconds, mass production is possible.

■)従来のエポキシ系、フェノール系のような収縮応力
の高い(2000〜5000 kg / d )インキ
とは異なり、低収縮応力(例えば30kg/−程度)の
材料なので、熱エージング特性に対し良好な結果を示す
■) Unlike conventional epoxy-based and phenolic-based inks that have high shrinkage stress (2000 to 5000 kg/d), this material has low shrinkage stress (for example, about 30 kg/-), so it has good thermal aging properties. Show the results.

■)各層との密着力も良好である。(2) Good adhesion to each layer.

本発明の光硬化型感光性組成物中のエポキシ変性アクリ
レートとしては、例えば下記式で示されるエポキシ変性
ウレタンアクリレートを挙げることができる。
Examples of the epoxy-modified acrylate in the photocurable photosensitive composition of the present invention include epoxy-modified urethane acrylate represented by the following formula.

A エポキシ〕 この場合、分子量は3000〜5000であることが好
ましい。なお上記〔ウレタン〕は、例えば3官能モノマ
ーから得られるポリウレタンなどである。
A. Epoxy] In this case, the molecular weight is preferably 3,000 to 5,000. Note that the above [urethane] is, for example, polyurethane obtained from a trifunctional monomer.

また、本発明の光硬化型組成物中の不飽和ポリエステル
アクリレートとしては、次の化合物を例示できる。すな
わち、2−ヒドロキシエチルアクリレート、ネオペンチ
グリコールジアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタ
クリレート、ネオベンチグリコールジメタクリレート、
エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリ
コールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリ
レート、トリエチレングリコールジメタクリレート、1
.6−ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、1.6−ヘキサンジオー
ルジアクリレート、トリメチロールプロパントリメタク
リレートなどである。その他、各種の不飽和ポリエステ
ルアクリレートを適宜採用することができる。分子量は
100〜1000程度のものが好ましい。
Further, as the unsaturated polyester acrylate in the photocurable composition of the present invention, the following compounds can be exemplified. That is, 2-hydroxyethyl acrylate, neopentyglycol diacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, neobenziglycol dimethacrylate,
Ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, 1
.. These include 6-hexanediol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, and trimethylolpropane trimethacrylate. In addition, various unsaturated polyester acrylates can be appropriately employed. The molecular weight is preferably about 100 to 1000.

本発明の光硬化型組成物は、その好ましい実施の態様に
あっては、エポキシ変性アクリレートを主成分とするベ
ースレジンと、不飽和ポリエステルアクリレートを主成
分とする希釈モノマーと、重合開始剤と、フィラーと、
消泡剤と、レベリング剤とより成る。この場合、ベース
レジンを20〜60部、希釈上ツマ−を40〜80部、
重合開始剤を1〜3部、フィーラを10〜20部、消泡
剤を0.5〜2部、レベリング剤を0.5〜2部とする
のが好ましい。
In a preferred embodiment, the photocurable composition of the present invention includes a base resin containing epoxy-modified acrylate as a main component, a diluent monomer containing unsaturated polyester acrylate as a main component, and a polymerization initiator. filler and
It consists of an antifoaming agent and a leveling agent. In this case, 20 to 60 parts of base resin, 40 to 80 parts of diluted top resin,
It is preferable to use 1 to 3 parts of a polymerization initiator, 10 to 20 parts of a feeler, 0.5 to 2 parts of an antifoaming agent, and 0.5 to 2 parts of a leveling agent.

重合開始剤としては、本発明の光硬化型組成物を硬化さ
せるべく重合を開始させる機能を有するものは何でも使
用できるが、例えばベンゾインエーテル、イソプロピル
ベンゾインエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベン
ゾインメチルエーテル、α−アクリルオキシムエーテル
、ベンジルケタール、ヒドロキシシクロへキシルフェニ
ルケトン、アセトフェノン誘導体、ベンジル、ベンゾフ
ェノン、メチル−〇−ベンゾインベンゾエート、チオキ
サントン誘導体などを挙げることができる。
As the polymerization initiator, anything that has the function of initiating polymerization to cure the photocurable composition of the present invention can be used, such as benzoin ether, isopropyl benzoin ether, benzoin ethyl ether, benzoin methyl ether, α- Examples include acryl oxime ether, benzyl ketal, hydroxycyclohexylphenyl ketone, acetophenone derivatives, benzyl, benzophenone, methyl-0-benzoin benzoate, and thioxanthone derivatives.

フィラーとしては、微粒炭酸カルシウム、シリカ、シラ
ンカップリング剤コーティング、タルク、MgO、アル
ミナ、ベンゾグアナミン樹脂球状微粉体、架橋ポリスチ
レンビーズなどを例示できる。
Examples of fillers include finely divided calcium carbonate, silica, silane coupling agent coating, talc, MgO, alumina, benzoguanamine resin spherical fine powder, and crosslinked polystyrene beads.

消泡剤としては、アクリル系のもの、シリコーン系のも
の、フッ素系のものを例示できる。
Examples of antifoaming agents include acrylic-based, silicone-based, and fluorine-based defoaming agents.

レベリング剤としては、アクリル系のものや、流動パラ
フィンを例示できる。
Examples of leveling agents include acrylic ones and liquid paraffin.

本発明の光硬化型樹脂組成物として、紫外線硬化型の組
成物を好ましく用いることができる。
As the photocurable resin composition of the present invention, an ultraviolet curable composition can be preferably used.

例えば上記したエポキシ変性ウレタンアクリレート含む
組成物は、例えばメタルハライドランプ、もしくは水銀
ランプで3灯(300W)で光硬化させることができる
For example, the composition containing the above-mentioned epoxy-modified urethane acrylate can be photocured using, for example, three metal halide lamps or a mercury lamp (300 W).

また印刷抵抗基板のその他の部分の構成材料としては、
基体については祇−フェノール、祇−エポキシ、ガラス
エポキシ、コンポジット等、銀電極としてはエポキシベ
ースの銀ペースト例えばXA−208(藤倉化成)その
他熱硬化樹脂ベースのもの等、カーボンペーストとして
はフェノール系カーボンペースト例えばTU−100−
5゜TU−IK−5,Tu−ioK−s  (7サヒ化
研)、その他フェノール、エポキシ等熱硬化型樹脂系の
ペーストなど、トップコートとしては上記アンダーコー
トとして用いるエポキシ変性ウレタンアクリレートなど
が使用可能である。
In addition, the constituent materials for other parts of the printed resistance board include:
Substrates include phenol, epoxy, glass epoxy, composites, etc. Silver electrodes include epoxy-based silver pastes such as XA-208 (Fujikura Kasei) and other thermosetting resin-based ones; carbon pastes include phenolic carbon. Paste e.g. TU-100-
5゜TU-IK-5, Tu-ioK-s (7 Sahi Kaken), other thermosetting resin pastes such as phenol and epoxy, etc. As the top coat, epoxy-modified urethane acrylate used as the undercoat is used. It is possible.

以上のような構成材料により、基体と印刷抵抗体との間
のアンダーコートとして光硬化型感光組成物を用いるこ
とにより、上述した如き有利な印刷抵抗基板を得ること
ができる。
By using the above constituent materials and using a photocurable photosensitive composition as an undercoat between the substrate and the printed resistor, it is possible to obtain the advantageous printed resistor substrate as described above.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

以下、本発明の実施例について説明する。なお当然のこ
とではあるが、以下に示す実施例により本発明が限定さ
れるものではない。
Examples of the present invention will be described below. It should be noted that, as a matter of course, the present invention is not limited to the Examples shown below.

実施例−1 この実施例は、本発明を前記構造Aの印刷抵抗基板に適
用したものである。また本実施例では、基体と印刷抵抗
体との間に介在させる層の材料である光硬化性組成物と
して、UV(紫外光)硬化型エポキシ変性ウレタンアク
リレート系インキを用いた。
Example 1 In this example, the present invention is applied to the printed resistor substrate of structure A described above. Further, in this example, a UV (ultraviolet light) curable epoxy-modified urethane acrylate ink was used as the photocurable composition that is the material of the layer interposed between the substrate and the printed resistor.

第1図を参照して、本実施例をその製造工程順に説明す
る。まず第1図の符号aで示す如く、基板の基体1にパ
ターン2を形成する。本例の基体はその素材として、紙
−フェノール(XPC−PR)を用いた。なお基体1は
片面、両面基板、多層板でもよく、各種の態様で実施す
ることができる。
With reference to FIG. 1, this embodiment will be explained in the order of its manufacturing steps. First, as shown by reference numeral a in FIG. 1, a pattern 2 is formed on a base 1 of a substrate. Paper-phenol (XPC-PR) was used as the material for the substrate in this example. Note that the substrate 1 may be a single-sided or double-sided substrate, or a multilayer board, and can be implemented in various embodiments.

パターン2は、銅(銅箔)その他パターン形成可能な材
質により行う、パターン形成はエツチングにより行うこ
とができる。
The pattern 2 is made of copper (copper foil) or other material capable of forming a pattern, and the pattern can be formed by etching.

以上のパターン形成の後、符号すで示す如く、基体1の
上にアンダーコート3を印刷する。このアンダーコート
3が、基体1と印刷抵抗体4との間に介在することにな
る。本例では、材料として次の組成の光硬化性組成物を
用いた。
After the above pattern formation, an undercoat 3 is printed on the substrate 1 as shown by the reference numerals. This undercoat 3 is interposed between the base 1 and the printed resistor 4. In this example, a photocurable composition having the following composition was used as the material.

ベース; エポキシ変性ウレタンアクリレート  40部特に エポキシ〕 希釈モノマー; トリエチレングリコールジアクリレート60部 重合開始剤;ベンゾインエーテル     2部フィラ
ー; シランカップリング剤コーティングタルク15部 その他;消泡剤 1部、   レベリング剤 1部この
組成物を、紫外光を用いて、120 W/ca!、3灯
、3 m / Mの条件で、80℃、10秒硬化させた
。紫外光源としては、水銀またはハライドランプを用い
た。膜厚はここでは10〜20μとして形成した。この
アンダーコート3は、隔離すべきパターン2に施したも
のである。
Base: 40 parts of epoxy-modified urethane acrylate (especially epoxy) Diluent monomer: 60 parts of triethylene glycol diacrylate Polymerization initiator: 2 parts of benzoin ether Filler: 15 parts of talc, coating with silane coupling agent Other: 1 part of antifoaming agent, 1 part of leveling agent 120 W/ca! of this composition using ultraviolet light. , 3 lamps, 3 m/M, 80°C, 10 seconds. A mercury or halide lamp was used as the ultraviolet light source. Here, the film thickness was set to 10 to 20 μm. This undercoat 3 is applied to the pattern 2 to be isolated.

次に、符号Cで示す如く、このアンダーコート3上にカ
ーボンペーストを印刷して、印刷抵抗体4とした0本例
では材料としてフェノール系カーボンペーストTU−1
0に−5(アサヒ化研、IQkΩ/口)を用い、180
℃で1時間硬化させた。膜厚は10〜20μとした。
Next, as shown by symbol C, carbon paste is printed on this undercoat 3 to form a printed resistor 4. In this example, the material is phenolic carbon paste TU-1.
Using -5 (Asahi Kaken, IQkΩ/mouth) for 0, 180
Cure for 1 hour. The film thickness was 10 to 20μ.

次に符号dの如<、銀電極6を印刷した。本例では材料
としてXA−208(藤倉化成)を用い、150℃で3
0分硬化させ、銀電極6とした。膜厚は10〜20μと
した。
Next, a silver electrode 6 was printed as indicated by the symbol d. In this example, XA-208 (Fujikura Kasei) was used as the material, and the
After curing for 0 minutes, a silver electrode 6 was obtained. The film thickness was 10 to 20μ.

次に符号eで示すように、トップコート7を印刷した。Next, as indicated by symbol e, a top coat 7 was printed.

本例では、このトップコート7には、前記アンダコート
3に用いた光硬化性組成物を使用した。硬化も同様な条
件で行った。
In this example, the photocurable composition used for the undercoat 3 was used for the top coat 7. Curing was also carried out under similar conditions.

本実施例により得られた印刷抵抗体の特性評価は、下表
に示すとおりであった。同表には、比較例として、同し
構造であるがアンダーコート3は従来のエポキシ系樹脂
を用いた例のデータを示す(比較例の他の部分は上記実
施例と同じである)・表 表中、半田耐熱ドリフトは、260tで5秒間半田デイ
ツプする試験を2回行い、抵抗値変動を%で示した。熱
エージング後のドリフトは、85℃で1000時間試験
して、抵抗値変動を測定したものである。基体の熱変化
は、色変化その他の変化を目視観察した。基体の収縮は
三次元測定したもので、第4図のXとyを測定して収縮
率を求めた。基体の反りは、第5図のXより求めた。な
お、試料は250 X 250 mmの大きさである。
Characteristic evaluation of the printed resistor obtained in this example was as shown in the table below. As a comparative example, the table shows data for an example that has the same structure but uses a conventional epoxy resin for undercoat 3 (other parts of the comparative example are the same as the above example). In the table, the solder heat resistance drift is determined by performing a solder dip test at 260 t for 5 seconds twice, and the resistance value fluctuation is expressed in %. The drift after thermal aging was measured by testing at 85° C. for 1000 hours and measuring resistance value fluctuations. Thermal changes in the substrate were visually observed for color changes and other changes. The shrinkage of the substrate was measured in three dimensions, and the shrinkage rate was determined by measuring X and y in FIG. The warpage of the substrate was determined from X in FIG. Note that the sample has a size of 250 x 250 mm.

各層との密着力は、アンダーコートの、下地である基体
1、および印刷抵抗体4に対する密着力である。
The adhesion force with each layer is the adhesion force of the undercoat to the substrate 1, which is the base, and the printed resistor 4.

表より明らかなように、本発明の実施例は、いずれの点
においても従来例より優れてるか、少なくとも同等に優
秀である。特に従来例よりも、熱エージング後のドリフ
トや、基体の各種変化が小さいという点に優れる。なお
各層との密着力は、他の本発明外のUV硬化インキでは
、50/100程度である。
As is clear from the table, the examples of the present invention are superior to, or at least as excellent as, the conventional examples in every respect. In particular, it is superior to conventional examples in that drift after thermal aging and various changes in the substrate are smaller. Note that the adhesion strength with each layer is about 50/100 with other UV curable inks other than those of the present invention.

実施例−2 次に第2図を参照して、本発明の実施例−2を説明する
。この例は、本発明を前記構造Bの印刷抵抗基板に適用
したものである。
Example 2 Next, Example 2 of the present invention will be described with reference to FIG. In this example, the present invention is applied to the printed resistor substrate of Structure B described above.

まず第2図のa′の如く基イ本の素材 にパターン2を
形成する。次にこの上にb′の如くアンダーコート3を
印刷する。このアンダーコート3は、実施例−1で用い
たのと同じUV硬化型エポキシ変性ウレタンアクリレー
トを用いて形成した。次に本例では、必要な銀電極6を
ここで印刷して形成する(図のc’)。次いで、図の2
つの銀電極6にわたって、アンダーコート3上にカーボ
ンペーストを印刷し、印刷抵抗体4を形成する。次に、
トップコート7を形成した。形成の諸条件は前記実施例
−1と同様である。
First, a pattern 2 is formed on a basic material as shown in a' in Fig. 2. Next, undercoat 3 is printed on this as shown in b'. This undercoat 3 was formed using the same UV-curable epoxy-modified urethane acrylate as used in Example-1. Next, in this example, the necessary silver electrode 6 is printed and formed here (c' in the figure). Next, 2 in the figure
Carbon paste is printed on the undercoat 3 over two silver electrodes 6 to form a printed resistor 4. next,
Top coat 7 was formed. The conditions for formation are the same as in Example-1.

その他、各工程の条件や、布本1の素材 、パターン2
、アンダーコート3、印刷抵抗体4、銀電極6の材質等
については、実施例−1において述べたのと同様である
In addition, the conditions of each process, the material of cloth book 1, pattern 2
, the materials of the undercoat 3, the printed resistor 4, the silver electrode 6, etc. are the same as those described in Example-1.

本実施例も、実施例−1と同じ効果が得られた。In this example, the same effects as in Example-1 were obtained.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

上述の如く本発明の印刷抵抗基板は、硬化時間が短く 
(例えば10秒)、よって量産性に富み、かつ硬化時に
基イ本に反りその他の変化が生じにくく、各層との密着
力が充分であり、かつ低収縮性(例えば1000 kg
/−以下)であり、よって抵抗変化を抑制することがで
きる。
As mentioned above, the printed resistance substrate of the present invention has a short curing time.
(e.g. 10 seconds), which makes it easy to mass-produce, is basically hard to cause warping or other changes during curing, has sufficient adhesion with each layer, and has low shrinkage (e.g. 1000 kg).
/- or less), and therefore resistance changes can be suppressed.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例の製造プロセスを示す工程図
、第2図は同じく他の実施例の製造プロセスを示す工程
図である。第3図(A、)  (B)は従来例を示す。 第4図、第5図は各々評価方法を説明するための略示図
である。 1・・・・・・−基体、 2・・・−パターン、 3−
−−−−・アンダーコート、 4−・・・印刷抵抗体。 特許出願人   ソニー株式会社 代理人弁理士   高  月    亨實蔚渕−1 (A) イえ禾例 第3図 Wう)チ襲咽g 第4図 1和hオ渋4楚明2 第5図
FIG. 1 is a process diagram showing the manufacturing process of one embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a process diagram showing the manufacturing process of another embodiment. FIGS. 3(A) and 3(B) show a conventional example. FIG. 4 and FIG. 5 are schematic diagrams for explaining the evaluation method, respectively. 1...-Base, 2...-Pattern, 3-
----Undercoat, 4---Printed resistor. Patent Applicant Sony Corporation Patent Attorney Takazuki Takami Ubuchi-1 (A) Figure 3 W) Chi Assault Figure 4 1 Waho Shibu 4 Chumei 2 Figure 5

Claims (1)

【特許請求の範囲】  印刷抵抗基板の基体と印刷抵抗体との間に、(a)エ
ポキシ変性アクリレートと、 (b)不飽和ポリエステルアクリレート とを主成分として含む光硬化型感光性組成物を光硬化し
て形成した樹脂層を介在させる構成としたことを特徴と
する印刷抵抗基板。
[Claims] A photocurable photosensitive composition containing as main components (a) epoxy-modified acrylate and (b) unsaturated polyester acrylate is placed between the base of the printed resistor substrate and the printed resistor. A printed resistance board characterized by having a structure in which a resin layer formed by curing is interposed.
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5253273A (en) * 1975-10-24 1977-04-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd Printed circuit board
JPS5951962A (en) * 1982-09-20 1984-03-26 Taiyo Ink Seizo Kk Photocurable ink composition

Patent Citations (2)

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